JPH11276961A - 浸漬塗工装置 - Google Patents
浸漬塗工装置Info
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- JPH11276961A JPH11276961A JP10100269A JP10026998A JPH11276961A JP H11276961 A JPH11276961 A JP H11276961A JP 10100269 A JP10100269 A JP 10100269A JP 10026998 A JP10026998 A JP 10026998A JP H11276961 A JPH11276961 A JP H11276961A
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- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/06—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface with a blast of gas or vapour
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- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
- B05C3/09—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 浸漬塗工により膜厚ムラや塗膜荒れのない塗
膜を基体上に形成することができる浸漬塗工装置を提供
する。特に電子写真感光体の製造に適した浸漬塗工装置
を提供する。 【解決手段】 塗布液面に向けた下降気流を発生する送
気機能を備えた被塗工基体保持治具３に被塗工基体を保
持し、該被塗工基体を塗工槽内の塗布液に浸漬する浸漬
塗工装置において、塗工槽７が塗工槽の内径と同じ或い
は塗工槽の内径より大きい内径の穴の開口する塗工槽蓋
８を有するものとする。
膜を基体上に形成することができる浸漬塗工装置を提供
する。特に電子写真感光体の製造に適した浸漬塗工装置
を提供する。 【解決手段】 塗布液面に向けた下降気流を発生する送
気機能を備えた被塗工基体保持治具３に被塗工基体を保
持し、該被塗工基体を塗工槽内の塗布液に浸漬する浸漬
塗工装置において、塗工槽７が塗工槽の内径と同じ或い
は塗工槽の内径より大きい内径の穴の開口する塗工槽蓋
８を有するものとする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、浸漬塗工装置に関
し、更に詳しくは、塗布液面に向けた下降気流を発生す
る送気機能を備えた被塗工基体保持治具に基体を保持
し、該基体を塗布液中に浸漬して基体上に塗膜を形成す
る、特に電子写真感光体の製造に適した浸漬塗工装置に
関するものである。
し、更に詳しくは、塗布液面に向けた下降気流を発生す
る送気機能を備えた被塗工基体保持治具に基体を保持
し、該基体を塗布液中に浸漬して基体上に塗膜を形成す
る、特に電子写真感光体の製造に適した浸漬塗工装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】円筒状の基体外周囲に感光体塗布液を塗
布する代表的な方法として浸漬塗工法が広く実用化され
ている。しかし、浸漬塗工法により塗布された感光体塗
膜には、塗布開始端である塗工上端部が薄くなるいわゆ
るタレ現象が生じるという問題がある。このような塗布
開始端でのタレをなくす方法が特許公開公報に種々開示
されているが、いずれも塗工装置が複雑になる、塗膜ム
ラが生じ易い、タレ対策効果が充分でないなどの欠点を
有している。例えば、特開昭５９−１２７０４９号公報
には、円筒状基体を感光体塗布液から引き上げる際、感
光体塗布液から発生する溶媒蒸気を減少させる方法が示
されているが、この方法によると、溶媒蒸気濃度を減少
させる為の気体通路を塗工槽上部に取り付けねばなら
ず、塗工装置が複雑となり、また気流の流れ方向は円筒
状基体に対して横方向であり、従って、風上側と風下側
で円筒状基体に対して気流の当たり方が異なり、塗布ム
ラが生じ易いという問題がある。特開昭５９−２２５７
７１号公報には、円筒状基体引き上げ時に塗工槽内部の
塗布液面上に位置させたリング状エアードクターから気
流を円筒状基体に当てる方法が開示されているが、この
方法では塗工槽内部の気流の乱れと、塗膜へ直接当たる
気流により塗膜ムラが発生するという問題がある。特開
昭６３−７８７３号公報には、塗工槽上部に設けた伸縮
フードにより蒸気濃度を上から下へ減少させることが開
示されているが、この方法では装置が複雑になり、品種
交換等の手間も多くなって、実施が困難であるという不
具合がある。特開平１−１０７８７４号公報では、円筒
状基体の引き上げ時に水平方向の気流を発生させている
が、これも特開昭５９−１２７０４９号公報と同様の原
因で塗布ムラが生じ易いという問題がある。特開平３−
２１３１７１号公報には、円筒状基体引き上げ時に、塗
工槽上部で周方向に回転する気流を吹き付ける方法が開
示されているが、この方法では装置が複雑になり、ま
た、気流が当たることによる塗布ムラが生じ易いという
問題がある。
布する代表的な方法として浸漬塗工法が広く実用化され
ている。しかし、浸漬塗工法により塗布された感光体塗
膜には、塗布開始端である塗工上端部が薄くなるいわゆ
るタレ現象が生じるという問題がある。このような塗布
開始端でのタレをなくす方法が特許公開公報に種々開示
されているが、いずれも塗工装置が複雑になる、塗膜ム
ラが生じ易い、タレ対策効果が充分でないなどの欠点を
有している。例えば、特開昭５９−１２７０４９号公報
には、円筒状基体を感光体塗布液から引き上げる際、感
光体塗布液から発生する溶媒蒸気を減少させる方法が示
されているが、この方法によると、溶媒蒸気濃度を減少
させる為の気体通路を塗工槽上部に取り付けねばなら
ず、塗工装置が複雑となり、また気流の流れ方向は円筒
状基体に対して横方向であり、従って、風上側と風下側
で円筒状基体に対して気流の当たり方が異なり、塗布ム
ラが生じ易いという問題がある。特開昭５９−２２５７
７１号公報には、円筒状基体引き上げ時に塗工槽内部の
塗布液面上に位置させたリング状エアードクターから気
流を円筒状基体に当てる方法が開示されているが、この
方法では塗工槽内部の気流の乱れと、塗膜へ直接当たる
気流により塗膜ムラが発生するという問題がある。特開
昭６３−７８７３号公報には、塗工槽上部に設けた伸縮
フードにより蒸気濃度を上から下へ減少させることが開
示されているが、この方法では装置が複雑になり、品種
交換等の手間も多くなって、実施が困難であるという不
具合がある。特開平１−１０７８７４号公報では、円筒
状基体の引き上げ時に水平方向の気流を発生させている
が、これも特開昭５９−１２７０４９号公報と同様の原
因で塗布ムラが生じ易いという問題がある。特開平３−
２１３１７１号公報には、円筒状基体引き上げ時に、塗
工槽上部で周方向に回転する気流を吹き付ける方法が開
示されているが、この方法では装置が複雑になり、ま
た、気流が当たることによる塗布ムラが生じ易いという
問題がある。
【０００３】特開平４−２９７７３号公報には、円筒状
基体引き上げ時に円筒状基体の接線方向にノズルから気
流を吹き付ける方法が開示されているが、この方法では
ノズルからの気流の当たった部分の液が流れ、塗膜ムラ
となるという問題がある。その他に塗工上端部のタレ防
止を目的とする方法としては、特開平５−７８１２号公
報、特開平５−８８３８５号公報などに数多く開示され
ているが、いずれも装置の構造が複雑になる、塗膜のム
ラが生じ易い等の欠点を有している。また、電子写真感
光体の感光体塗布液の溶媒として塩化メチレン等の塩素
系溶媒が使用されることがあるが、塩素系溶媒は地球の
オゾン層を破壊する等の問題があるため、その使用の削
減、全廃が要請されている。そこで、感光体塗布液の溶
媒として使用可能な溶媒を検討してみると、バインダー
樹脂の溶解性、および人体に対する安全性等を満足する
溶媒は少なく、使用可能な溶媒はテトラヒドロフラン等
に限られる。しかし、これらの溶媒は、現在電子写真感
光体に使用されている塩素系溶媒に比べ、溶媒の沸点が
低い為、塗工時に塗膜の乾燥が遅くなり、塗工時の塗膜
上端部のタレが現状より大きくなるという問題がある。
基体引き上げ時に円筒状基体の接線方向にノズルから気
流を吹き付ける方法が開示されているが、この方法では
ノズルからの気流の当たった部分の液が流れ、塗膜ムラ
となるという問題がある。その他に塗工上端部のタレ防
止を目的とする方法としては、特開平５−７８１２号公
報、特開平５−８８３８５号公報などに数多く開示され
ているが、いずれも装置の構造が複雑になる、塗膜のム
ラが生じ易い等の欠点を有している。また、電子写真感
光体の感光体塗布液の溶媒として塩化メチレン等の塩素
系溶媒が使用されることがあるが、塩素系溶媒は地球の
オゾン層を破壊する等の問題があるため、その使用の削
減、全廃が要請されている。そこで、感光体塗布液の溶
媒として使用可能な溶媒を検討してみると、バインダー
樹脂の溶解性、および人体に対する安全性等を満足する
溶媒は少なく、使用可能な溶媒はテトラヒドロフラン等
に限られる。しかし、これらの溶媒は、現在電子写真感
光体に使用されている塩素系溶媒に比べ、溶媒の沸点が
低い為、塗工時に塗膜の乾燥が遅くなり、塗工時の塗膜
上端部のタレが現状より大きくなるという問題がある。
【０００４】更に、電子写真感光体を複写機、プリンタ
ーあるいはファクシミリ等の感光体として使用すると、
繰り返し使用するに伴って電子写真感光体の感光体塗膜
が摩滅して薄くなり、それが電子写真感光体の短寿命化
の原因となるため、感光体塗膜の構成樹脂成分として耐
摩耗性のある高分子物質を用いる、あるいは電荷輸送剤
を高分子化して耐摩耗性を持たせることが試みられてい
る。電子写真感光体の高耐久化法としてこのような方法
を取った場合、従来の塗布液処方と同じ固形分濃度では
塗布液粘度が上昇する為、固形分濃度を下げて塗工しな
ければならないが、この場合、塗工時に塗膜上端付近で
のタレが多くなるという問題が発生する。このような問
題点を解決し、円筒状基体表面上の感光体塗膜の塗膜ム
ラや塗膜上端付近でのタレをなくし、均一な感光体塗膜
を有する電子写真感光体を製造することができる浸漬塗
工装置として、特開平９−２６５１９３号公報には、被
塗工基体保持治具に円筒状多孔質体からなる送気孔部を
設け、送気孔部から放出された気体を塗布液面に向けた
下降気流とするようにした浸漬塗工装置が開示されてい
る。しかしながら、この浸漬塗工装置を用いて電子写真
感光体を製造した場合においても、基体表面上の感光体
塗膜に膜厚ムラや塗膜荒れが発生する場合があるという
不具合がみられた。
ーあるいはファクシミリ等の感光体として使用すると、
繰り返し使用するに伴って電子写真感光体の感光体塗膜
が摩滅して薄くなり、それが電子写真感光体の短寿命化
の原因となるため、感光体塗膜の構成樹脂成分として耐
摩耗性のある高分子物質を用いる、あるいは電荷輸送剤
を高分子化して耐摩耗性を持たせることが試みられてい
る。電子写真感光体の高耐久化法としてこのような方法
を取った場合、従来の塗布液処方と同じ固形分濃度では
塗布液粘度が上昇する為、固形分濃度を下げて塗工しな
ければならないが、この場合、塗工時に塗膜上端付近で
のタレが多くなるという問題が発生する。このような問
題点を解決し、円筒状基体表面上の感光体塗膜の塗膜ム
ラや塗膜上端付近でのタレをなくし、均一な感光体塗膜
を有する電子写真感光体を製造することができる浸漬塗
工装置として、特開平９−２６５１９３号公報には、被
塗工基体保持治具に円筒状多孔質体からなる送気孔部を
設け、送気孔部から放出された気体を塗布液面に向けた
下降気流とするようにした浸漬塗工装置が開示されてい
る。しかしながら、この浸漬塗工装置を用いて電子写真
感光体を製造した場合においても、基体表面上の感光体
塗膜に膜厚ムラや塗膜荒れが発生する場合があるという
不具合がみられた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題は
このような問題点を解決し、浸漬塗工により膜厚ムラや
塗膜荒れのない塗膜を基体上に形成することができる浸
漬塗工装置、特に電子写真感光体の製造に適した浸漬塗
工装置を提供することにある。
このような問題点を解決し、浸漬塗工により膜厚ムラや
塗膜荒れのない塗膜を基体上に形成することができる浸
漬塗工装置、特に電子写真感光体の製造に適した浸漬塗
工装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、塗
布液面に向けた下降気流を発生する送気機能を備えた被
塗工基体保持治具に被塗工基体を保持し、該被塗工基体
を塗工槽内の塗布液に浸漬する浸漬塗工装置において、
塗工槽が塗工槽の内径と同じ或いは塗工槽の内径より大
きい内径の穴の開口する塗工槽蓋を有することを特徴と
する浸漬塗工装置によって達成される。本発明によれ
ば、浸漬塗工時に塗布液面に向けた下降気流を発生せて
塗工を行った場合、被塗工基体の近傍での気流の乱れの
発生を防止することができ、浸漬塗工により膜厚ムラや
塗膜荒れのない塗膜を被塗工基体に上に形成することが
できる。
布液面に向けた下降気流を発生する送気機能を備えた被
塗工基体保持治具に被塗工基体を保持し、該被塗工基体
を塗工槽内の塗布液に浸漬する浸漬塗工装置において、
塗工槽が塗工槽の内径と同じ或いは塗工槽の内径より大
きい内径の穴の開口する塗工槽蓋を有することを特徴と
する浸漬塗工装置によって達成される。本発明によれ
ば、浸漬塗工時に塗布液面に向けた下降気流を発生せて
塗工を行った場合、被塗工基体の近傍での気流の乱れの
発生を防止することができ、浸漬塗工により膜厚ムラや
塗膜荒れのない塗膜を被塗工基体に上に形成することが
できる。
【０００７】以下に本発明を図面によりさらに詳しく説
明する。図１は本発明の浸漬塗工装置の一例を模式的に
示す断面図である。図１において、符号１は送気ガス供
給源、２は送気ガス制御弁、３は塗工液面に向けた下降
気流を発生する送気機能を有する被塗工基体保持治具、
４は被塗工基体、５は塗布液、６はボールネジ、６Ａは
昇降モーター、７は塗工槽、８は塗工槽蓋、９は塗布液
回収室、１０は塗工槽からの戻り配管、１１は塗布液回
収タンク、１２はフィルター、１３は塗工槽への塗布液
供給配管、１４塗布液の循環を行う循環ポンプを示し、
塗工槽蓋８には塗工槽の内径より大きい内径の穴が開口
している。
明する。図１は本発明の浸漬塗工装置の一例を模式的に
示す断面図である。図１において、符号１は送気ガス供
給源、２は送気ガス制御弁、３は塗工液面に向けた下降
気流を発生する送気機能を有する被塗工基体保持治具、
４は被塗工基体、５は塗布液、６はボールネジ、６Ａは
昇降モーター、７は塗工槽、８は塗工槽蓋、９は塗布液
回収室、１０は塗工槽からの戻り配管、１１は塗布液回
収タンク、１２はフィルター、１３は塗工槽への塗布液
供給配管、１４塗布液の循環を行う循環ポンプを示し、
塗工槽蓋８には塗工槽の内径より大きい内径の穴が開口
している。
【０００８】図１において、昇降モーター６Ａを運転さ
せると、ボールネジ６を介して、塗工液面に向けた下降
気流を発生する送気機能を有する被塗工基体保持治具３
に保持された被塗工基体４を上昇あるいは下降させるこ
とができる。被塗工基体４を塗工槽内の塗布液に浸漬し
て該基体上に塗膜を形成するには、まず被塗工基体４を
上記のような送気機能を有する被塗工基体保持治具３に
保持させた後、昇降モーター６Ａを運転して下降させ、
被塗工基体４を塗工槽７内の塗布液５に浸漬させる。こ
の降下降動作中に送気ガス制御弁２を開き、送気ガス供
給源１からの送気ガスを、被塗工基体保持治具３から放
出させ塗工液面に向けた下降気流を発生させる。これに
より、塗布液５の表面近傍の塗布液溶媒蒸気濃度を制御
することができるとともに、塗布液５の表面の溶媒の蒸
発を促進し、その固形分濃度を上昇させることが可能と
なる。
せると、ボールネジ６を介して、塗工液面に向けた下降
気流を発生する送気機能を有する被塗工基体保持治具３
に保持された被塗工基体４を上昇あるいは下降させるこ
とができる。被塗工基体４を塗工槽内の塗布液に浸漬し
て該基体上に塗膜を形成するには、まず被塗工基体４を
上記のような送気機能を有する被塗工基体保持治具３に
保持させた後、昇降モーター６Ａを運転して下降させ、
被塗工基体４を塗工槽７内の塗布液５に浸漬させる。こ
の降下降動作中に送気ガス制御弁２を開き、送気ガス供
給源１からの送気ガスを、被塗工基体保持治具３から放
出させ塗工液面に向けた下降気流を発生させる。これに
より、塗布液５の表面近傍の塗布液溶媒蒸気濃度を制御
することができるとともに、塗布液５の表面の溶媒の蒸
発を促進し、その固形分濃度を上昇させることが可能と
なる。
【０００９】次に、昇降モーター６Ａを運転して、被塗
工基体４を上昇させ、その表面に塗布液５を塗工するこ
とにより、該基体上に塗膜を形成することができる。被
塗工基体保持治具３から送気ガスを放出させるタイミン
グとしては、被塗工基体の塗工過程のどこで行っても良
いが、被塗工基体が塗布液に降下浸漬する過程で行うの
が最も効果的である。被塗工基体が塗布液に降下浸漬し
た下端停止位置あるいは、被塗工基体の塗布液からの引
き上げ過程に行ってもかまわない。
工基体４を上昇させ、その表面に塗布液５を塗工するこ
とにより、該基体上に塗膜を形成することができる。被
塗工基体保持治具３から送気ガスを放出させるタイミン
グとしては、被塗工基体の塗工過程のどこで行っても良
いが、被塗工基体が塗布液に降下浸漬する過程で行うの
が最も効果的である。被塗工基体が塗布液に降下浸漬し
た下端停止位置あるいは、被塗工基体の塗布液からの引
き上げ過程に行ってもかまわない。
【００１０】被塗工基体４上に塗膜を形成した後、循環
ポンプ１４を動作させて、塗工槽７からオーバーフロー
して塗布液回収室９から塗布液回収タンク１１に回収さ
れた塗布液をフィルター１２を通して塗工槽７へ送液し
循環させる。この際、塗布液回収タンク１１内での塗布
液の撹伴、粘度調整も行なわれる。また、図１中には記
載していないが、付属した装置により、塗布液の温度調
整、粘度調整、塗布液の均一化が行われる。
ポンプ１４を動作させて、塗工槽７からオーバーフロー
して塗布液回収室９から塗布液回収タンク１１に回収さ
れた塗布液をフィルター１２を通して塗工槽７へ送液し
循環させる。この際、塗布液回収タンク１１内での塗布
液の撹伴、粘度調整も行なわれる。また、図１中には記
載していないが、付属した装置により、塗布液の温度調
整、粘度調整、塗布液の均一化が行われる。
【００１１】図２は塗工槽の内径より大きい内径の穴が
開口している塗工槽蓋が設けられた本発明の浸漬塗工装
置において、送気機能を有する被塗工基体保持治具３か
ら放出され塗布液面に向かった下降気流の流れを模式的
に示す説明図である。図２において、被塗工基体４は送
気機能を有する被塗工基体保持治具３に保持されて、塗
工槽の内径より大きい内径の穴が開口している塗工槽蓋
８の開口部を通って、塗工槽７内の塗布液５に浸漬され
る。被塗工基体４が塗布液５に浸漬される降下動作中に
送気機能を有する被塗工基体保持治具３から送気ガスが
放出され塗布液面に向かった下降気流Ａが発生する。
開口している塗工槽蓋が設けられた本発明の浸漬塗工装
置において、送気機能を有する被塗工基体保持治具３か
ら放出され塗布液面に向かった下降気流の流れを模式的
に示す説明図である。図２において、被塗工基体４は送
気機能を有する被塗工基体保持治具３に保持されて、塗
工槽の内径より大きい内径の穴が開口している塗工槽蓋
８の開口部を通って、塗工槽７内の塗布液５に浸漬され
る。被塗工基体４が塗布液５に浸漬される降下動作中に
送気機能を有する被塗工基体保持治具３から送気ガスが
放出され塗布液面に向かった下降気流Ａが発生する。
【００１２】下降気流Ａは被塗工基体４に沿って降下
し、ついで気流Ｂで示したように塗布液５の面で水平方
向に外側に広がって流れ、更に気流Ｃで示したように塗
工槽内壁に沿って上昇して流れる。そして塗工槽の内径
より大きい内径の穴が開口している塗工槽蓋が塗工槽に
設けられている場合には、気流は塗工槽蓋に遮られるこ
となく気流Ｄで示したように塗工槽蓋より上に流出す
る。塗工槽の内径と同じ内径の穴が開口している塗工槽
蓋が塗工槽に設けられている場合にも、上記ＡからＤの
気流と同様な流れが発生し、気流は塗工槽蓋に遮られる
ことはない。
し、ついで気流Ｂで示したように塗布液５の面で水平方
向に外側に広がって流れ、更に気流Ｃで示したように塗
工槽内壁に沿って上昇して流れる。そして塗工槽の内径
より大きい内径の穴が開口している塗工槽蓋が塗工槽に
設けられている場合には、気流は塗工槽蓋に遮られるこ
となく気流Ｄで示したように塗工槽蓋より上に流出す
る。塗工槽の内径と同じ内径の穴が開口している塗工槽
蓋が塗工槽に設けられている場合にも、上記ＡからＤの
気流と同様な流れが発生し、気流は塗工槽蓋に遮られる
ことはない。
【００１３】このような気流の流れとすることによっ
て、被塗工基体４の近傍での気流の乱れの発生を防止で
き、浸漬塗工により膜厚ムラや塗膜荒れのない塗膜を被
塗工基体４に上に形成することができる。
て、被塗工基体４の近傍での気流の乱れの発生を防止で
き、浸漬塗工により膜厚ムラや塗膜荒れのない塗膜を被
塗工基体４に上に形成することができる。
【００１４】塗工槽蓋の穴の内径が塗工槽の内径より大
きい本発明の浸漬塗工装置において、塗工槽蓋の穴の内
径と塗工槽の内径の差は最大でも２０ｍｍ有れば良く、
好ましくは５ｍｍから１０ｍｍの範囲である。塗工槽蓋
の穴と塗工槽開口部とは同芯円上に位置することが好ま
しいが、気流の流れを遮らない限りにおいては、同芯円
上に位置しなくとも支障はない。図１は１本の被塗工基
体を塗工する浸漬塗工装置の例であるが、複数本の被塗
工基体を塗工する浸漬塗工装置においても同様にすれば
よい。
きい本発明の浸漬塗工装置において、塗工槽蓋の穴の内
径と塗工槽の内径の差は最大でも２０ｍｍ有れば良く、
好ましくは５ｍｍから１０ｍｍの範囲である。塗工槽蓋
の穴と塗工槽開口部とは同芯円上に位置することが好ま
しいが、気流の流れを遮らない限りにおいては、同芯円
上に位置しなくとも支障はない。図１は１本の被塗工基
体を塗工する浸漬塗工装置の例であるが、複数本の被塗
工基体を塗工する浸漬塗工装置においても同様にすれば
よい。
【００１５】また、上記の浸漬塗工装置により電子写真
感光体を製造する場合、例えば、電荷輸送層塗布液に使
用する樹脂としてはビスフェノールＡタイプのポリカー
ボネート、ビスフェノールＺタイプのポリカーボネート
等が使用できる。また電荷輸送層塗布液としては、樹脂
などの高分子化合物と電荷輸送剤及び溶剤からなる塗布
液の他に、電荷輸送剤の重合物と溶剤からなる塗布液、
あるいは高分子化合物と電荷輸送剤の重合物及び溶剤か
らなる塗布液、あるいは高分子化合物と電荷輸送剤と電
荷輸送剤の重合物及び溶剤からなる塗布液などを用いる
ことができる。溶剤としては塩化メチレン等のハロゲン
系溶剤、トルエン等の芳香族系溶剤、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の環状エーテル系溶剤などを使用する
ことができる。
感光体を製造する場合、例えば、電荷輸送層塗布液に使
用する樹脂としてはビスフェノールＡタイプのポリカー
ボネート、ビスフェノールＺタイプのポリカーボネート
等が使用できる。また電荷輸送層塗布液としては、樹脂
などの高分子化合物と電荷輸送剤及び溶剤からなる塗布
液の他に、電荷輸送剤の重合物と溶剤からなる塗布液、
あるいは高分子化合物と電荷輸送剤の重合物及び溶剤か
らなる塗布液、あるいは高分子化合物と電荷輸送剤と電
荷輸送剤の重合物及び溶剤からなる塗布液などを用いる
ことができる。溶剤としては塩化メチレン等のハロゲン
系溶剤、トルエン等の芳香族系溶剤、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等の環状エーテル系溶剤などを使用する
ことができる。
【００１６】図３は比較例として示した図であり、塗工
槽蓋の穴の内径が塗工槽の内径より小さな浸漬塗工装置
において、送気機能を有する被塗工基体保持治具３から
放出され塗布液面に向かった気流の流れを模式的に示す
説明図である。図３でわかるように、塗工槽蓋の穴の内
径が塗工槽の内径より小さな場合、被塗工基体保持治具
３から放出された気流Ａは被塗工基体４に沿って降下
し、ついで気流Ｂで示したように塗布液５の面で水平方
向に外側に広がって流れ、更に気流Ｃで示したように塗
工槽内壁に沿って上昇して流れるが、気流Ｃは塗工槽蓋
に遮ぎられ、気流に乱れが生じる。複数本の被塗工基体
の塗工を行う装置の場合には、この気流の乱れはより大
きくなる。このような気流の乱れによって、被塗工基体
４の近傍での気流が乱れ、被塗工基体４に上に形成され
る塗膜に膜厚ムラや塗膜荒れが発生するようになる。
槽蓋の穴の内径が塗工槽の内径より小さな浸漬塗工装置
において、送気機能を有する被塗工基体保持治具３から
放出され塗布液面に向かった気流の流れを模式的に示す
説明図である。図３でわかるように、塗工槽蓋の穴の内
径が塗工槽の内径より小さな場合、被塗工基体保持治具
３から放出された気流Ａは被塗工基体４に沿って降下
し、ついで気流Ｂで示したように塗布液５の面で水平方
向に外側に広がって流れ、更に気流Ｃで示したように塗
工槽内壁に沿って上昇して流れるが、気流Ｃは塗工槽蓋
に遮ぎられ、気流に乱れが生じる。複数本の被塗工基体
の塗工を行う装置の場合には、この気流の乱れはより大
きくなる。このような気流の乱れによって、被塗工基体
４の近傍での気流が乱れ、被塗工基体４に上に形成され
る塗膜に膜厚ムラや塗膜荒れが発生するようになる。
【００１７】
【実施例】以下に本発明を実施例により説明する。 実施例１ １）図１に示す浸漬塗工装置において塗工槽７の内径が
６０ｍｍ、塗工槽蓋８の穴の内径が５５ｍｍの浸漬塗工
装置を用い、送気機能を有する被塗工基体保持治具３か
らの送気ガスの放出を行わないで、下記のようにして外
径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍ、長さ２５０ｍｍのアルミニウ
ム製円筒状基体上に下引き層及び電荷発生層を形成し
た。 ［下引き層の形成］可溶性ナイロン（アラミンＣＭ−８
０００、東レ社製）５重量部をメタノール９５重量部に
溶解して下引き層塗布液を調合し、これをアルミニウム
製円筒状基体に浸漬塗工し、１００℃で１０分間乾燥さ
せて厚さ０．３μｍの下引き層を形成した。 ［電荷発生層の形成］下記構造式（１）に示す電荷発生
剤１０重量部、ポリビニルブチラール７重量部およびテ
トラヒドロフラン１４５重量部をボールミルに入れ、７
２時間ミリングし、更にシクロヘキサノン２００重量部
を加えて１時間分散を行い、これに更にシクロヘキサノ
ンを加えて希釈、調整して電荷発生層塗布液を調合し
た。
６０ｍｍ、塗工槽蓋８の穴の内径が５５ｍｍの浸漬塗工
装置を用い、送気機能を有する被塗工基体保持治具３か
らの送気ガスの放出を行わないで、下記のようにして外
径３０ｍｍ、厚さ１ｍｍ、長さ２５０ｍｍのアルミニウ
ム製円筒状基体上に下引き層及び電荷発生層を形成し
た。 ［下引き層の形成］可溶性ナイロン（アラミンＣＭ−８
０００、東レ社製）５重量部をメタノール９５重量部に
溶解して下引き層塗布液を調合し、これをアルミニウム
製円筒状基体に浸漬塗工し、１００℃で１０分間乾燥さ
せて厚さ０．３μｍの下引き層を形成した。 ［電荷発生層の形成］下記構造式（１）に示す電荷発生
剤１０重量部、ポリビニルブチラール７重量部およびテ
トラヒドロフラン１４５重量部をボールミルに入れ、７
２時間ミリングし、更にシクロヘキサノン２００重量部
を加えて１時間分散を行い、これに更にシクロヘキサノ
ンを加えて希釈、調整して電荷発生層塗布液を調合し
た。
【００１８】
【化１】
【００１９】この電荷発生層塗布液を下引き層を形成し
た上記アルミニウム製円筒状基体上に浸漬塗工し、１０
０℃で１０分間乾燥させて厚さ０．１μｍの電荷発生層
を形成した。
た上記アルミニウム製円筒状基体上に浸漬塗工し、１０
０℃で１０分間乾燥させて厚さ０．１μｍの電荷発生層
を形成した。
【００２０】２）次に、図１に示す浸漬塗工装置におい
て塗工槽７の内径が６０ｍｍ、塗工槽蓋８の穴の内径が
７０ｍｍの浸漬塗工装置を用い、下記のようにして上記
の電荷発生層を形成したアルミニウム製円筒状基体上に
電荷輸送層を形成した。 ［電荷輸送層の形成］下記構造式（２）に示す電荷輪送
剤７重量部およびポリカーボネート（パンライトＣ−１
４００、帝人社製）１０重量部をテトラヒドロフラン８
３重量部に溶解して電荷輸送層塗布液を調合した。
て塗工槽７の内径が６０ｍｍ、塗工槽蓋８の穴の内径が
７０ｍｍの浸漬塗工装置を用い、下記のようにして上記
の電荷発生層を形成したアルミニウム製円筒状基体上に
電荷輸送層を形成した。 ［電荷輸送層の形成］下記構造式（２）に示す電荷輪送
剤７重量部およびポリカーボネート（パンライトＣ−１
４００、帝人社製）１０重量部をテトラヒドロフラン８
３重量部に溶解して電荷輸送層塗布液を調合した。
【００２１】
【化２】
【００２２】次に、電荷発生層を形成したアルミニウム
製円筒状基体を被塗工基体保持治具３で保持し、上記浸
漬塗工装置における塗工槽７中の２４℃に保った電荷輸
送層塗布液中に降下浸漬させ、基体降下時に送気ガス制
御弁２を開き、送気機能を有する被塗工基体保持治具３
から窒素ガスを１００ｍｌ／ｓｅｃの流量で放出させて
塗工液面に向けた下降気流を発生させた。このとき、塗
工環境の温度は２２±１℃であった。また使用した窒素
ガスの温度は２２±１℃であった。
製円筒状基体を被塗工基体保持治具３で保持し、上記浸
漬塗工装置における塗工槽７中の２４℃に保った電荷輸
送層塗布液中に降下浸漬させ、基体降下時に送気ガス制
御弁２を開き、送気機能を有する被塗工基体保持治具３
から窒素ガスを１００ｍｌ／ｓｅｃの流量で放出させて
塗工液面に向けた下降気流を発生させた。このとき、塗
工環境の温度は２２±１℃であった。また使用した窒素
ガスの温度は２２±１℃であった。
【００２３】被塗工基体の塗工範囲が完全に電荷輸送層
塗布液中に浸漬した後、昇降モーター１５を動作させ
て、基体を塗布液中から引き上げ電荷発生層上に電荷輸
送層を形成し、ついで被塗工基体保持治具３から基体を
取り外し乾燥機に入れ１２０℃で３０分間乾燥させ、乾
燥後に暗所で自然冷却して電子写真感光体を作成した。
塗布液中に浸漬した後、昇降モーター１５を動作させ
て、基体を塗布液中から引き上げ電荷発生層上に電荷輸
送層を形成し、ついで被塗工基体保持治具３から基体を
取り外し乾燥機に入れ１２０℃で３０分間乾燥させ、乾
燥後に暗所で自然冷却して電子写真感光体を作成した。
【００２４】上記のようにして３本の電子写真感光体を
作成し、それぞれの電子写真感光体について、塗工上端
から２０ｍｍ〜５０ｍｍの範囲を、長さ方向に１０ｍｍ
おき、周方向に４分割した箇所の電荷輸送層の膜厚を電
子マイクロメーター（ＨＦＴ−５０、アンリツ計器社
製）によって測定した。測定した結果について、最大膜
厚、最小膜厚、平均膜厚、最大膜厚と最小膜厚の差を下
記表１に示す。
作成し、それぞれの電子写真感光体について、塗工上端
から２０ｍｍ〜５０ｍｍの範囲を、長さ方向に１０ｍｍ
おき、周方向に４分割した箇所の電荷輸送層の膜厚を電
子マイクロメーター（ＨＦＴ−５０、アンリツ計器社
製）によって測定した。測定した結果について、最大膜
厚、最小膜厚、平均膜厚、最大膜厚と最小膜厚の差を下
記表１に示す。
【００２５】比較例１ 電荷輸送層の形成に、図１に示す浸漬塗工装置にける塗
工槽７の内径が６０ｍｍ、塗工槽蓋８の穴の内径が５５
ｍｍの浸漬塗工装置を用いた以外は、実施例１と同様に
して３本の電子写真感光体を作成した。得られた電子写
真感光体について、実施例１と同様にして電荷輸送層の
膜厚を測定した。その結果を下記表１に示す。
工槽７の内径が６０ｍｍ、塗工槽蓋８の穴の内径が５５
ｍｍの浸漬塗工装置を用いた以外は、実施例１と同様に
して３本の電子写真感光体を作成した。得られた電子写
真感光体について、実施例１と同様にして電荷輸送層の
膜厚を測定した。その結果を下記表１に示す。
【００２６】
【表１】
【００２７】表１から明らかなように、実施例に比べ比
較例では膜厚のムラが大きく、塗膜の均一性が劣ってい
る。
較例では膜厚のムラが大きく、塗膜の均一性が劣ってい
る。
【００２８】
【発明の効果】本発明の浸漬塗工装置によれば、浸漬塗
工時に塗布液面に向けた下降気流を発生せて塗工を行っ
た場合、塗工槽蓋が気流を遮ることがなく気流に乱れが
生じないので、被塗工基体上に膜厚ムラや塗膜荒れのな
い塗膜を形成することができる。本発明の浸漬塗工装置
により浸漬塗工することにより、膜厚ムラや塗膜荒れの
ない均一な品質の塗膜を有する電子写真感光体を製造す
ることができる。
工時に塗布液面に向けた下降気流を発生せて塗工を行っ
た場合、塗工槽蓋が気流を遮ることがなく気流に乱れが
生じないので、被塗工基体上に膜厚ムラや塗膜荒れのな
い塗膜を形成することができる。本発明の浸漬塗工装置
により浸漬塗工することにより、膜厚ムラや塗膜荒れの
ない均一な品質の塗膜を有する電子写真感光体を製造す
ることができる。
【図１】本発明の浸漬塗工装置の一例を模式的に示す断
面図である。
面図である。
【図２】本発明の浸漬塗工装置において、送気機能を有
する被塗工基体保持治具３から放出され塗布液面に向か
った下降気流の流れを模式的に示す説明図である。
する被塗工基体保持治具３から放出され塗布液面に向か
った下降気流の流れを模式的に示す説明図である。
【図３】塗工槽蓋の穴の内径が塗工槽の内径より小さな
比較例の浸漬塗工装置において、被塗工基体保持治具か
ら放出され塗布液面に向かった気流の流れを模式的に示
す説明図である。
比較例の浸漬塗工装置において、被塗工基体保持治具か
ら放出され塗布液面に向かった気流の流れを模式的に示
す説明図である。
１ 送気ガス供給源 ２ 送気ガス制御弁 ３ 被塗工基体保持治具 ４ 被塗工基体 ５ 塗布液 ６ ボールネジ ６Ａ 昇降モーター ７ 塗工槽 ８ 塗工槽蓋 ９ 塗布液回収室 １０ 塗工槽からの戻り配管 １１ 塗布液回収タンク １２ フィルター １３ 塗工槽への塗布液供給配管 １４ 循環ポンプ
Claims (1)
- 【請求項１】 塗布液面に向けた下降気流を発生する送
気機能を備えた被塗工基体保持治具に被塗工基体を保持
し、該被塗工基体を塗工槽内の塗布液に浸漬する浸漬塗
工装置において、塗工槽が塗工槽の内径と同じ或いは塗
工槽の内径より大きい内径の穴の開口する塗工槽蓋を有
することを特徴とする浸漬塗工装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10100269A JPH11276961A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 浸漬塗工装置 |
| GB9907132A GB2335618B (en) | 1998-03-27 | 1999-03-26 | Dip coating apparatus |
| US09/277,225 US6296704B1 (en) | 1998-03-27 | 1999-03-26 | Dip coating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10100269A JPH11276961A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 浸漬塗工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11276961A true JPH11276961A (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=14269495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10100269A Pending JPH11276961A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 浸漬塗工装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6296704B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11276961A (ja) |
| GB (1) | GB2335618B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005334879A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Xerox Corp | 排気アセンブリ |
| US7288349B2 (en) | 2001-03-02 | 2007-10-30 | Ricoh Company, Ltd. | Method of coating a cylindrical photoconductive element for an electrophotographic image forming apparatus and apparatus for the same |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4552349B2 (ja) * | 2001-04-26 | 2010-09-29 | 株式会社デンソー | ガスセンサ素子の製造方法 |
| JP4093459B2 (ja) | 2001-09-19 | 2008-06-04 | 株式会社リコー | 電子写真画像形成装置用部材表面の突起等の検出方法、検出装置および前記画像形成装置用部材の生産システム |
| JP2004038034A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Ricoh Co Ltd | 帯電装置、プロセスカートリッジ、画像形成装置および複写機 |
| JP4662893B2 (ja) * | 2005-11-28 | 2011-03-30 | 株式会社リコー | 電子写真感光体の評価方法 |
| GB0908375D0 (en) | 2009-05-15 | 2009-06-24 | Element Six Ltd | A super-hard cutter element |
| KR101425781B1 (ko) * | 2013-04-22 | 2014-08-01 | 한국기초과학지원연구원 | 정밀부품의 침지식 방청액 자동 도포장치 |
| JP6190756B2 (ja) * | 2014-05-19 | 2017-08-30 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 画像形成装置 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59127049A (ja) | 1983-01-11 | 1984-07-21 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法 |
| JPS59225771A (ja) | 1983-06-06 | 1984-12-18 | Fuji Xerox Co Ltd | 塗布方法 |
| JPS637873A (ja) | 1986-06-30 | 1988-01-13 | Ricoh Co Ltd | 浸漬塗工方法 |
| US5185187A (en) * | 1987-06-02 | 1993-02-09 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Method and apparatus for dip coating a hollow cylindrical body |
| JPH01107874A (ja) | 1987-10-20 | 1989-04-25 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体の製造方法 |
| JP2721193B2 (ja) * | 1988-09-08 | 1998-03-04 | 株式会社東芝 | 循環塗工方法 |
| JP2844784B2 (ja) | 1990-01-12 | 1999-01-06 | 富士ゼロックス株式会社 | 浸漬塗布装置 |
| JP2822603B2 (ja) | 1990-05-28 | 1998-11-11 | 富士ゼロックス株式会社 | 浸漬塗布装置 |
| JP3064524B2 (ja) | 1991-07-04 | 2000-07-12 | 富士ゼロックス株式会社 | 浸漬塗布装置 |
| JPH0588385A (ja) | 1991-07-31 | 1993-04-09 | Fuji Xerox Co Ltd | 浸漬塗布装置 |
| JPH09218525A (ja) | 1996-02-09 | 1997-08-19 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体の製造装置 |
| JP3604486B2 (ja) | 1996-02-13 | 2004-12-22 | 株式会社リコー | 電子写真感光体の製造方法および電子写真感光体塗工用チャック |
| US5725667A (en) * | 1996-03-01 | 1998-03-10 | Xerox Corporation | Dip coating apparatus having a single coating vessel |
| JP3449452B2 (ja) | 1996-03-28 | 2003-09-22 | 株式会社リコー | 電子写真感光体及びその製造装置 |
| JPH09325506A (ja) | 1996-06-03 | 1997-12-16 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体の製造方法及び装置 |
| JPH1020525A (ja) | 1996-07-04 | 1998-01-23 | Ricoh Co Ltd | 浸漬塗工装置及びこれを用いる電子写真感光体の製造方法 |
-
1998
- 1998-03-27 JP JP10100269A patent/JPH11276961A/ja active Pending
-
1999
- 1999-03-26 US US09/277,225 patent/US6296704B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-26 GB GB9907132A patent/GB2335618B/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7288349B2 (en) | 2001-03-02 | 2007-10-30 | Ricoh Company, Ltd. | Method of coating a cylindrical photoconductive element for an electrophotographic image forming apparatus and apparatus for the same |
| JP2005334879A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Xerox Corp | 排気アセンブリ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6296704B1 (en) | 2001-10-02 |
| GB2335618A (en) | 1999-09-29 |
| GB9907132D0 (en) | 1999-05-19 |
| GB2335618B (en) | 2000-05-10 |
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