JPS637873A - 浸漬塗工方法 - Google Patents
浸漬塗工方法Info
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- JPS637873A JPS637873A JP15325586A JP15325586A JPS637873A JP S637873 A JPS637873 A JP S637873A JP 15325586 A JP15325586 A JP 15325586A JP 15325586 A JP15325586 A JP 15325586A JP S637873 A JPS637873 A JP S637873A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0525—Coating methods
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は円筒状の被塗布基体、例えば電子写真複写機の
感光体ドラムに感光層材料等の塗工液を浸漬脆工する方
法に関する。
感光体ドラムに感光層材料等の塗工液を浸漬脆工する方
法に関する。
従来技術
円筒状の被塗布基体の外周面にある種の塗工液を盪布す
る代表的な手段として浸漬塗工方法が知られている。浸
漬塗工方法は円筒状の被塗布基体表面に簡便に所望の塗
膜を形成することができるため、感光体等の製造に広く
実施されている。一般に、浸漬塗工方法は塗工液の入っ
た塗工槽内に被塗布基体を浸漬した後、引き上げて指触
乾燥し被塗布基体外表面上に塗膜を形成するものである
。
る代表的な手段として浸漬塗工方法が知られている。浸
漬塗工方法は円筒状の被塗布基体表面に簡便に所望の塗
膜を形成することができるため、感光体等の製造に広く
実施されている。一般に、浸漬塗工方法は塗工液の入っ
た塗工槽内に被塗布基体を浸漬した後、引き上げて指触
乾燥し被塗布基体外表面上に塗膜を形成するものである
。
しかしながら，上記のような浸漬塗工方法にあっては基
体表面上に浸漬塗工された塗工液が指触乾燥するまでの
間に液ダレ、塗エムラ、膜厚ムラを発生することがあり
、特に電子写真感光材料等の揮発性の高い有機溶媒を含
むような塗工液を用いる場合には塗工槽内の塗工液面上
の有機溶媒蒸気と基体表面上からの有機溶媒蒸発量の変
化により、塗エムラ、膜厚ムラを発生し易い問題点を有
するものである。
体表面上に浸漬塗工された塗工液が指触乾燥するまでの
間に液ダレ、塗エムラ、膜厚ムラを発生することがあり
、特に電子写真感光材料等の揮発性の高い有機溶媒を含
むような塗工液を用いる場合には塗工槽内の塗工液面上
の有機溶媒蒸気と基体表面上からの有機溶媒蒸発量の変
化により、塗エムラ、膜厚ムラを発生し易い問題点を有
するものである。
目 的
本発明は上記の如き従来の問題点を解消し、塗エムラ、
膜厚ムラ等の塗膜欠陥を防止し得る浸漬塗工方法を提供
することを目的とするものである。
膜厚ムラ等の塗膜欠陥を防止し得る浸漬塗工方法を提供
することを目的とするものである。
構成
本発明の浸漬塗工方法は、円筒状の被塗布基体を塗工液
中に浸漬して前記基体表面上に塗膜を形成する方法にお
いて、前記基体な塗工液から引き上げ乾燥する際に基体
周囲に伸縮フードを設け、基体周囲の塗工液蒸気濃度を
上部より下部にかけて減少させることを特徴とするもの
である。
中に浸漬して前記基体表面上に塗膜を形成する方法にお
いて、前記基体な塗工液から引き上げ乾燥する際に基体
周囲に伸縮フードを設け、基体周囲の塗工液蒸気濃度を
上部より下部にかけて減少させることを特徴とするもの
である。
第１図〜第３図は本発明を実施するのに好適な装置の一
例を示したものであり、第１図は浸漬前、第２図は浸漬
中、第３図は引き上げ時の状態をそれぞれ示すものであ
る。図において、ｌは被塗布基体、２はドラムチャッキ
ング治具、３は流入空気中のゴミを取り除くための空気
流出フィルター、４は伸縮フード、５はフードストッパ
ーであり、これらは全て一体に形成されていて上部は密
閉されている。また、６は空気流入ホース、７はファン
モーター、８はフード受け台、９は塗工槽、１０は塗工
液をそれぞれ示すものである。これらの図において、被
塗布基体ｌはモーター１１によりスパーギア１２を介し
てゼールスクリューｌ３で上下動し得るようになってい
る。そして、第１図の状態から被塗布基体ｌを塗工槽９
内の塗工液１０中に浸漬すると、第２図に示されるよう
に被塗布基体ｌの周囲に設けられた伸縮フード４はその
先端の７−ドストツノぞ−５がフード受台８に当接した
後さらに下降すると、フードストツノ−５とフード受台
８との間隙を残し、伸縮フード４が重ね合わされて縮少
する。この状態から被塗布基体ｌの引き上げを開始する
とともにファンモーター７を作動させ、フード内の密閉
空間内に空気を空気流出フィルター３を介して被塗布基
体１の周囲に均等風景でかつ垂直に流出させる。この状
態を第３図に示す。第３図に示されるように、この空気
の流出により、被塗布基体工の表面上に膜状に塗布され
た塗工液１０の有機溶媒蒸気ｌ４が被塗布基体ｌ周囲の
上部から下部にいくに従って減少され、蒸気濃度の勾配
が生じるとともに蒸気１４が除去され乾燥速度が速めら
れる。それと同時に窒気の流出は塗工槽９の塗工液１０
の液面から蒸発する蒸気をも排出させる。この空気の流
出風量は適宜設定するが、塗工液１０の種類により変化
させることが好ましく、特に０．２〜９．５ ｍ／ｍで
空気温度２２〜２５℃の範囲とすることが好ましい。空
気流出のタイミングは揮発性の高い有機溶媒を含む塗工
液の場合は引き上げ後早めに、反対に揮発性の低い有機
溶媒を含む塗工液の場合は引き上げ後遅めに流出させる
ことが好ましい。なお、菟気流出フィルター３は塗膜の
欠陥防止のため０． ５〜５μ程度のボア径を有する耐
溶剤性フィルターを用いることが好ましい。
例を示したものであり、第１図は浸漬前、第２図は浸漬
中、第３図は引き上げ時の状態をそれぞれ示すものであ
る。図において、ｌは被塗布基体、２はドラムチャッキ
ング治具、３は流入空気中のゴミを取り除くための空気
流出フィルター、４は伸縮フード、５はフードストッパ
ーであり、これらは全て一体に形成されていて上部は密
閉されている。また、６は空気流入ホース、７はファン
モーター、８はフード受け台、９は塗工槽、１０は塗工
液をそれぞれ示すものである。これらの図において、被
塗布基体ｌはモーター１１によりスパーギア１２を介し
てゼールスクリューｌ３で上下動し得るようになってい
る。そして、第１図の状態から被塗布基体ｌを塗工槽９
内の塗工液１０中に浸漬すると、第２図に示されるよう
に被塗布基体ｌの周囲に設けられた伸縮フード４はその
先端の７−ドストツノぞ−５がフード受台８に当接した
後さらに下降すると、フードストツノ−５とフード受台
８との間隙を残し、伸縮フード４が重ね合わされて縮少
する。この状態から被塗布基体ｌの引き上げを開始する
とともにファンモーター７を作動させ、フード内の密閉
空間内に空気を空気流出フィルター３を介して被塗布基
体１の周囲に均等風景でかつ垂直に流出させる。この状
態を第３図に示す。第３図に示されるように、この空気
の流出により、被塗布基体工の表面上に膜状に塗布され
た塗工液１０の有機溶媒蒸気ｌ４が被塗布基体ｌ周囲の
上部から下部にいくに従って減少され、蒸気濃度の勾配
が生じるとともに蒸気１４が除去され乾燥速度が速めら
れる。それと同時に窒気の流出は塗工槽９の塗工液１０
の液面から蒸発する蒸気をも排出させる。この空気の流
出風量は適宜設定するが、塗工液１０の種類により変化
させることが好ましく、特に０．２〜９．５ ｍ／ｍで
空気温度２２〜２５℃の範囲とすることが好ましい。空
気流出のタイミングは揮発性の高い有機溶媒を含む塗工
液の場合は引き上げ後早めに、反対に揮発性の低い有機
溶媒を含む塗工液の場合は引き上げ後遅めに流出させる
ことが好ましい。なお、菟気流出フィルター３は塗膜の
欠陥防止のため０． ５〜５μ程度のボア径を有する耐
溶剤性フィルターを用いることが好ましい。
このようにして本発明では被塗布基体１の周囲に伸縮フ
ードを設けたため、横風の影響が防止され、またこの伸
縮フード内に上部から下部に被塗布基体の表面に垂直に
空気を流出させることにより基体周囲の塗工液蒸気濃度
が上部より下部にかけて減少するようになる。
ードを設けたため、横風の影響が防止され、またこの伸
縮フード内に上部から下部に被塗布基体の表面に垂直に
空気を流出させることにより基体周囲の塗工液蒸気濃度
が上部より下部にかけて減少するようになる。
次に実施例を示す。
実施例
電子写真感光体用のＭドラムに下記処方の塗工液Ａおよ
びＢをそれぞれ図示したような装置を用いた本発明方法
および従来方法によって浸漬塗工した。
びＢをそれぞれ図示したような装置を用いた本発明方法
および従来方法によって浸漬塗工した。
塗工液Ａ
塗工液Ｂ
その結果を次表に示す。
効果
以上のような本発明によれば、被塗布基体上の塗膜表面
付近の塗工液蒸気量を上部から下部にかけて減少させる
ため、塗膜の上端部タレ、塗エムラ、膜厚ムラが防止さ
れ均一な塗膜を得ることができるという効果を有する。
付近の塗工液蒸気量を上部から下部にかけて減少させる
ため、塗膜の上端部タレ、塗エムラ、膜厚ムラが防止さ
れ均一な塗膜を得ることができるという効果を有する。
第１図乃至第３図は本発明を実施する場合の好適な装置
例を示すもので、第１図は被塗布基体な塗工液中に浸漬
する前の説明図であり、第２図は浸漬図の説明図であり
、第３図は引き上げ中の説明図である。 １・・・被塗布基体 ４・・・伸縮フード５・・・
フードストッパー ６・・・空気流入ホース７・・
・ファンモーター ８・・・フード受ケ台９・・・
塗工槽 ｌＯ・・・塗工液ｌ４・・・有機溶媒
蒸気
例を示すもので、第１図は被塗布基体な塗工液中に浸漬
する前の説明図であり、第２図は浸漬図の説明図であり
、第３図は引き上げ中の説明図である。 １・・・被塗布基体 ４・・・伸縮フード５・・・
フードストッパー ６・・・空気流入ホース７・・
・ファンモーター ８・・・フード受ケ台９・・・
塗工槽 ｌＯ・・・塗工液ｌ４・・・有機溶媒
蒸気
Claims (1)
- １、円筒状の被塗布基体を塗工液中に浸漬して前記基体
表面上に塗膜を形成する方法において、前記基体を塗工
液から引き上げ乾燥する際に基体周囲に伸縮フードを設
け、基体周囲の塗工液蒸気濃度を上部より下部にかけて
減少させることを特徴とする浸漬塗工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15325586A JPS637873A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 浸漬塗工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15325586A JPS637873A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 浸漬塗工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS637873A true JPS637873A (ja) | 1988-01-13 |
Family
ID=15558458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15325586A Pending JPS637873A (ja) | 1986-06-30 | 1986-06-30 | 浸漬塗工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS637873A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6296704B1 (en) | 1998-03-27 | 2001-10-02 | Ricoh Company, Ltd. | Dip coating apparatus |
| US6328800B1 (en) | 1998-03-27 | 2001-12-11 | Ricoh Company, Ltd. | Dip coating apparatus |
| EP1239333A1 (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Ricoh Company | Method and apparatus for coating a cylindrical photoconductive element for an electrophotographic image forming apparatus |
| WO2010044475A1 (en) | 2008-10-15 | 2010-04-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Dip-coating process and method for making electrophotographic photosensitive member |
-
1986
- 1986-06-30 JP JP15325586A patent/JPS637873A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6296704B1 (en) | 1998-03-27 | 2001-10-02 | Ricoh Company, Ltd. | Dip coating apparatus |
| US6328800B1 (en) | 1998-03-27 | 2001-12-11 | Ricoh Company, Ltd. | Dip coating apparatus |
| EP1239333A1 (en) * | 2001-03-02 | 2002-09-11 | Ricoh Company | Method and apparatus for coating a cylindrical photoconductive element for an electrophotographic image forming apparatus |
| US6852166B2 (en) | 2001-03-02 | 2005-02-08 | Ricoh Company, Ltd. | Method for coating a cylindrical photoconductive element for an electrophotographic image forming apparatus and apparatus for the same |
| US7022451B2 (en) | 2001-03-02 | 2006-04-04 | Ricoh Company, Ltd. | Method of coating a cylindrical photoconductive element for an electrophotographic image forming apparatus and apparatus for the same |
| US7288349B2 (en) | 2001-03-02 | 2007-10-30 | Ricoh Company, Ltd. | Method of coating a cylindrical photoconductive element for an electrophotographic image forming apparatus and apparatus for the same |
| WO2010044475A1 (en) | 2008-10-15 | 2010-04-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Dip-coating process and method for making electrophotographic photosensitive member |
| JP2010115641A (ja) * | 2008-10-15 | 2010-05-27 | Canon Inc | 浸漬塗布方法および電子写真感光体の製造方法 |
| JP4494513B2 (ja) * | 2008-10-15 | 2010-06-30 | キヤノン株式会社 | 浸漬塗布方法および電子写真感光体の製造方法 |
| US20110200743A1 (en) * | 2008-10-15 | 2011-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Dip-coating process and method for making electrophotographic photosensitive member |
| CN102186605A (zh) * | 2008-10-15 | 2011-09-14 | 佳能株式会社 | 浸渍涂布方法和电子照相感光构件的制造方法 |
| US8741391B2 (en) | 2008-10-15 | 2014-06-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Dip-coating process and method for making electrophotographic photosensitive member |
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