JPH1043652A - 浸漬塗布方法および浸漬塗布装置 - Google Patents
浸漬塗布方法および浸漬塗布装置Info
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- JPH1043652A JPH1043652A JP8208348A JP20834896A JPH1043652A JP H1043652 A JPH1043652 A JP H1043652A JP 8208348 A JP8208348 A JP 8208348A JP 20834896 A JP20834896 A JP 20834896A JP H1043652 A JPH1043652 A JP H1043652A
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- coating liquid
- tank
- cylindrical substrate
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
- B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
- B05C3/09—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles
- B05C3/10—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating separate articles the articles being moved through the liquid or other fluent material
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S118/00—Coating apparatus
- Y10S118/11—Pipe and tube outside
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S118/00—Coating apparatus
- Y10S118/13—Pipe and tube miscellaneous
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子写真感光体等の基体の製造に際して、液
ダレによる膜厚の不均一さと塗液の劣化を防止し、安定
した浸漬塗布を行うための浸漬塗布方法および浸漬塗布
装置の提供。 【解決手段】 塗布液槽３内の塗布液１中に電子写真感
光体等の円筒状基体２を浸漬し、この円筒状基体２を引
き上げることによって円筒状基体２の外周面に塗布液を
塗布する。この場合、塗布液槽３から常時、塗布液１を
オーバーフローさせて循環可能となっている。塗布液槽
３の塗布液面上に設けられた円筒状基体２が通過可能な
開口部７を有する蓋８を配置する。この蓋８は、垂直方
向に間隔において複数配置したプレートを有し、開口部
７を通して円筒状基体２を塗布液１中に浸漬し、円筒状
基体２を引き上げる。
ダレによる膜厚の不均一さと塗液の劣化を防止し、安定
した浸漬塗布を行うための浸漬塗布方法および浸漬塗布
装置の提供。 【解決手段】 塗布液槽３内の塗布液１中に電子写真感
光体等の円筒状基体２を浸漬し、この円筒状基体２を引
き上げることによって円筒状基体２の外周面に塗布液を
塗布する。この場合、塗布液槽３から常時、塗布液１を
オーバーフローさせて循環可能となっている。塗布液槽
３の塗布液面上に設けられた円筒状基体２が通過可能な
開口部７を有する蓋８を配置する。この蓋８は、垂直方
向に間隔において複数配置したプレートを有し、開口部
７を通して円筒状基体２を塗布液１中に浸漬し、円筒状
基体２を引き上げる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は浸漬塗布方法および
浸漬塗布装置に関し、特に電子写真感光体の製造におい
て円筒状基体の外周面に感光層を塗布形成するのに好適
な浸漬塗布方法、浸漬塗布装置に関するものである。
浸漬塗布装置に関し、特に電子写真感光体の製造におい
て円筒状基体の外周面に感光層を塗布形成するのに好適
な浸漬塗布方法、浸漬塗布装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子写真感光体の感光層を構成す
る光導電材料としては、セレン、硫化カドミウム、酸化
亜鉛等の無機化合物およびポリビニルカルバゾールに代
表される有機化合物が提案されており、また、感光層を
電荷発生層と電荷輸送層とに分離した積層型電子写真感
光体においては、電荷発生材料および電荷輸送材料とし
て、種々の有機化合物が提案され、有機感光体として実
用化されている。従来、このような有機感光体の製造方
法としては、浸漬塗布法、スプレー塗布法、スピン塗布
法、ビード塗布法、ワイヤーバー塗布法、ブレード塗布
法、ローラー塗布法、押出し塗布法、カーテン塗布法等
の各種塗布方法が知られているが、特に円筒状基体の外
周面に均一な感光層を形成する方法としては、浸漬塗布
が広く用いられている。
る光導電材料としては、セレン、硫化カドミウム、酸化
亜鉛等の無機化合物およびポリビニルカルバゾールに代
表される有機化合物が提案されており、また、感光層を
電荷発生層と電荷輸送層とに分離した積層型電子写真感
光体においては、電荷発生材料および電荷輸送材料とし
て、種々の有機化合物が提案され、有機感光体として実
用化されている。従来、このような有機感光体の製造方
法としては、浸漬塗布法、スプレー塗布法、スピン塗布
法、ビード塗布法、ワイヤーバー塗布法、ブレード塗布
法、ローラー塗布法、押出し塗布法、カーテン塗布法等
の各種塗布方法が知られているが、特に円筒状基体の外
周面に均一な感光層を形成する方法としては、浸漬塗布
が広く用いられている。
【０００３】電子写真感光体の浸漬塗布においては、生
産性向上の観点から、複数の円筒状基体を塗布液中に浸
漬し、かつ、同時に塗布液から引き上げる多数本同時浸
漬塗布方法が一般的に採用されている。そのため塗布液
循環機構を有する浸漬塗布方法では、循環に必要な塗布
液量も多くなり、ポットライフが短い塗布液の場合は、
短期間で廃却する塗布液量も必然的に多くなり、材料使
用効率の悪化につながっていた。一般的に、浸漬塗布方
法の場合、塗布液のポットライフは、重要になるが、感
光体の要求特性よりポットライフの短い材料系を使用し
なければならない場合もしばしば発生する。
産性向上の観点から、複数の円筒状基体を塗布液中に浸
漬し、かつ、同時に塗布液から引き上げる多数本同時浸
漬塗布方法が一般的に採用されている。そのため塗布液
循環機構を有する浸漬塗布方法では、循環に必要な塗布
液量も多くなり、ポットライフが短い塗布液の場合は、
短期間で廃却する塗布液量も必然的に多くなり、材料使
用効率の悪化につながっていた。一般的に、浸漬塗布方
法の場合、塗布液のポットライフは、重要になるが、感
光体の要求特性よりポットライフの短い材料系を使用し
なければならない場合もしばしば発生する。
【０００４】浸漬塗布方法において、塗布液のポットラ
イフが短くなる要因としては、酸化反応や空気中の水分
吸着による加水分解反応等を起こし易い材料系を使用し
た場合に塗布液が外気と接触することにより生じやす
く、これにより塗布液が劣化する。そこで、特に塗布液
循環機構を有する浸漬塗布方法において、塗布液の劣化
を防止するために、塗布液槽におけるオーバーフロー面
あるいは塗布液槽からオーバーフローする塗布液を回収
する液受け槽等で塗布液が外気と接触することを抑制す
ることが必要となる。
イフが短くなる要因としては、酸化反応や空気中の水分
吸着による加水分解反応等を起こし易い材料系を使用し
た場合に塗布液が外気と接触することにより生じやす
く、これにより塗布液が劣化する。そこで、特に塗布液
循環機構を有する浸漬塗布方法において、塗布液の劣化
を防止するために、塗布液槽におけるオーバーフロー面
あるいは塗布液槽からオーバーフローする塗布液を回収
する液受け槽等で塗布液が外気と接触することを抑制す
ることが必要となる。
【０００５】従来、塗布液と外気との接触を抑制する手
段として、オーバーフロー面上に蓋を設置し、塗布液に
は、常時、円筒状基体が浸漬されるため、蓋の部分には
円筒状基体が通過可能な開口部を小さくし、この開口部
にシャッター等を設置し円筒状基体の塗布液に対する浸
漬動作がない時に開口部を閉にする手段等が提案されて
いるが、装置が複雑化する嫌いがある。
段として、オーバーフロー面上に蓋を設置し、塗布液に
は、常時、円筒状基体が浸漬されるため、蓋の部分には
円筒状基体が通過可能な開口部を小さくし、この開口部
にシャッター等を設置し円筒状基体の塗布液に対する浸
漬動作がない時に開口部を閉にする手段等が提案されて
いるが、装置が複雑化する嫌いがある。
【０００６】また、オーバーフロー面の上方にフードを
設置し塗布液から揮散する溶剤ガスをフード部分に滞留
させる手段等が提案されている（特開昭５９−９０６６
２号）。この公報では、フード内部に遮へい板を設けた
多段構造とし、各段の壁面に開口を設け、溶剤ガス濃度
勾配をフード内で付けて、急激な塗布膜乾燥を抑制する
ことが開示されている。しかし、この方法は、各段に濃
度勾配を付けるための開口部を有するため、円筒状基体
を塗布液に浸漬する時においては、外気と各段に滞留し
た溶剤ガスの置換が促進され、外気と塗布液の接触の抑
制という観点からは不利となる。塗布液の外気との接触
の抑制を実現する場合は、フード高さを十分に高くし、
フード径も極力小さくしなければその効果は、期待でき
ない。しかしながら、フード径を小さく、高くすると塗
膜の乾燥速度が遅くなり過ぎ、円筒状基体表面における
塗布膜厚が不均一となる、所謂、ダレ現象が大きくなる
等の成膜特性の悪化を招く問題があった。
設置し塗布液から揮散する溶剤ガスをフード部分に滞留
させる手段等が提案されている（特開昭５９−９０６６
２号）。この公報では、フード内部に遮へい板を設けた
多段構造とし、各段の壁面に開口を設け、溶剤ガス濃度
勾配をフード内で付けて、急激な塗布膜乾燥を抑制する
ことが開示されている。しかし、この方法は、各段に濃
度勾配を付けるための開口部を有するため、円筒状基体
を塗布液に浸漬する時においては、外気と各段に滞留し
た溶剤ガスの置換が促進され、外気と塗布液の接触の抑
制という観点からは不利となる。塗布液の外気との接触
の抑制を実現する場合は、フード高さを十分に高くし、
フード径も極力小さくしなければその効果は、期待でき
ない。しかしながら、フード径を小さく、高くすると塗
膜の乾燥速度が遅くなり過ぎ、円筒状基体表面における
塗布膜厚が不均一となる、所謂、ダレ現象が大きくなる
等の成膜特性の悪化を招く問題があった。
【０００７】一方、実開昭６２ー２０５３に記載されて
いる塗布液循環機構を有しない塗布液槽は、塗布操作に
より液面が上下変動するために、塗布液槽の上部に塗布
液の乾燥による固形物が付着する事を防止する目的で、
塗布液槽内に、多段構造の邪魔板を設け、円筒状基体を
引き上げる際に液面が下降した時に、溶剤蒸気を塗布槽
上部に滞留させ、乾燥を抑制するものである。しかし、
円筒状基体を塗布液中に浸漬する操作の時は、液面上昇
があるため、塗布液槽上部の空間において、溶剤蒸気と
外気が置換されることなく、ダレ現象が極端に悪化す
る。
いる塗布液循環機構を有しない塗布液槽は、塗布操作に
より液面が上下変動するために、塗布液槽の上部に塗布
液の乾燥による固形物が付着する事を防止する目的で、
塗布液槽内に、多段構造の邪魔板を設け、円筒状基体を
引き上げる際に液面が下降した時に、溶剤蒸気を塗布槽
上部に滞留させ、乾燥を抑制するものである。しかし、
円筒状基体を塗布液中に浸漬する操作の時は、液面上昇
があるため、塗布液槽上部の空間において、溶剤蒸気と
外気が置換されることなく、ダレ現象が極端に悪化す
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】塗布液と外気との接触
を抑制することは、塗膜乾燥ゾーンの溶剤ガス濃度を高
くすることであり、結果としてダレ現象が大きくなる。
したがって、塗布液と外気との接触を抑制し、且つこの
ダレ現象もできるだけ抑制することが要望されている。
を抑制することは、塗膜乾燥ゾーンの溶剤ガス濃度を高
くすることであり、結果としてダレ現象が大きくなる。
したがって、塗布液と外気との接触を抑制し、且つこの
ダレ現象もできるだけ抑制することが要望されている。
【０００９】そこで、本発明の目的は、塗布液と外気と
の接触を抑制し、且つこのダレ現象も防止して成膜特性
の悪化も抑制しつつ、膜厚の不均一さを防止することが
できる浸漬塗布方法及び浸漬塗布装置を提供することに
ある。
の接触を抑制し、且つこのダレ現象も防止して成膜特性
の悪化も抑制しつつ、膜厚の不均一さを防止することが
できる浸漬塗布方法及び浸漬塗布装置を提供することに
ある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために、本発明の浸漬塗布方法は、塗布液内の塗布液中
に円筒状基体を浸漬し、前記円筒状基体を引き上げるこ
とによって円筒状基体の外周面に塗布液を塗布する浸漬
塗布方法において、前記塗布液槽から常時塗布液をオー
バーフローさせ、前記塗布液槽の塗布液面上に設けられ
円筒状基体が通過可能な開口部を有し垂直方向に間隔に
おいて複数配置したプレートを有する蓋の開口部を通し
て前記円筒状基体を塗布液中に浸漬し、前記円筒状基体
を引き上げることを特徴とする。また、前記各々のプレ
ートが複数の開口部を有し、円筒状基体が通過可能なよ
うに各開口部が隣接するプレートに設けられた開口部が
垂直方向において対応することが好ましく、また、複数
本の円筒状基体を塗布液中に同時に浸漬し、かつ引き上
げることが好ましい。
ために、本発明の浸漬塗布方法は、塗布液内の塗布液中
に円筒状基体を浸漬し、前記円筒状基体を引き上げるこ
とによって円筒状基体の外周面に塗布液を塗布する浸漬
塗布方法において、前記塗布液槽から常時塗布液をオー
バーフローさせ、前記塗布液槽の塗布液面上に設けられ
円筒状基体が通過可能な開口部を有し垂直方向に間隔に
おいて複数配置したプレートを有する蓋の開口部を通し
て前記円筒状基体を塗布液中に浸漬し、前記円筒状基体
を引き上げることを特徴とする。また、前記各々のプレ
ートが複数の開口部を有し、円筒状基体が通過可能なよ
うに各開口部が隣接するプレートに設けられた開口部が
垂直方向において対応することが好ましく、また、複数
本の円筒状基体を塗布液中に同時に浸漬し、かつ引き上
げることが好ましい。
【００１１】さらに上記した目的を達成するために、本
発明の浸漬塗布装置は、塗布液を保持し、円筒状基体を
浸漬する塗布液槽を有する浸漬塗布装置において、前記
塗布液槽の周囲に設けられた前記塗布液槽からオーバー
フローした塗布液を回収する液受けと、この液受けから
の塗布液を回収するタンクと、このタンク内の塗布液を
前記塗布液槽に供給する手段と、前記塗布液槽と前記液
受けとの上方に円筒状基体が通過可能な開口部を有し垂
直方向に間隔において複数配置したプレートを有する蓋
と、を設けたことを特徴とする。また各々のプレートが
複数の開口部を有し、円筒状機会が通過可能なように各
開口部が隣接するプレートに設けられた開口部が対応す
ることが好ましい。
発明の浸漬塗布装置は、塗布液を保持し、円筒状基体を
浸漬する塗布液槽を有する浸漬塗布装置において、前記
塗布液槽の周囲に設けられた前記塗布液槽からオーバー
フローした塗布液を回収する液受けと、この液受けから
の塗布液を回収するタンクと、このタンク内の塗布液を
前記塗布液槽に供給する手段と、前記塗布液槽と前記液
受けとの上方に円筒状基体が通過可能な開口部を有し垂
直方向に間隔において複数配置したプレートを有する蓋
と、を設けたことを特徴とする。また各々のプレートが
複数の開口部を有し、円筒状機会が通過可能なように各
開口部が隣接するプレートに設けられた開口部が対応す
ることが好ましい。
【００１２】本発明に使用する円筒状基体としては、電
子写真感光体に用いる導電性の公知のものが使用され
る。また、本発明に使用する塗布液としては、例えば、
電子写真感光体の電荷発生層、電荷輸送層、下引き層及
び保護層を形成させるために塗布される公知の塗布液等
が挙げられる。
子写真感光体に用いる導電性の公知のものが使用され
る。また、本発明に使用する塗布液としては、例えば、
電子写真感光体の電荷発生層、電荷輸送層、下引き層及
び保護層を形成させるために塗布される公知の塗布液等
が挙げられる。
【００１３】また、本発明に用いる溶剤としては、例え
ば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタ
ノール等のアルコール類、ヘキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、エチレングリコール等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジメチル
ホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等が挙げられる。これらの溶剤は、いずれも
比重が空気よりも重いものである。塗布液の粘度は、
０．０１ｍＰａｓ〜１０００ｍＰａｓの範囲が好まし
く、より好ましくは１ｍＰａｓ〜６００ｍＰａｓの範囲
であるが、塗布膜厚及び塗布速度等に応じて適宜選定す
ることが望ましい。円筒状基体に塗布される感光層形成
用塗布液として、公知の材料ならばいずれも使用可能で
ある。
ば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタ
ノール等のアルコール類、ヘキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、エチレングリコール等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジメチル
ホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等が挙げられる。これらの溶剤は、いずれも
比重が空気よりも重いものである。塗布液の粘度は、
０．０１ｍＰａｓ〜１０００ｍＰａｓの範囲が好まし
く、より好ましくは１ｍＰａｓ〜６００ｍＰａｓの範囲
であるが、塗布膜厚及び塗布速度等に応じて適宜選定す
ることが望ましい。円筒状基体に塗布される感光層形成
用塗布液として、公知の材料ならばいずれも使用可能で
ある。
【００１４】本発明の浸漬塗布方法及び装置では、塗布
液槽から常時塗布液をオーバーフローさせ、前記塗布液
槽の塗布液面上に設けられた円筒状基体が通過可能な開
口部を有し垂直方向に間隔において複数配置したプレー
トを有する蓋の開口部を通して前記円筒状基体を塗布液
中に浸漬し、前記円筒状基体を引き上げる。この場合、
塗布液槽の液面は、円筒状基体の浸漬、及び引き上げ時
にもほぼ一定しており、円筒状基体が下降するとき、蓋
内に滞留する溶剤ガスと外気とは、段を構成するプレー
ト間隙が抵抗となり置換され難くなる。一方、円筒状基
体を引上げるときは、溶剤ガスは、液面に近い段プレー
ト間の間隙に満たされて、上部の段側ほど満たされ難く
なる。このため、乾燥速度は速くなり、薄膜のダレ現象
が少なく成膜特性が悪化がない。
液槽から常時塗布液をオーバーフローさせ、前記塗布液
槽の塗布液面上に設けられた円筒状基体が通過可能な開
口部を有し垂直方向に間隔において複数配置したプレー
トを有する蓋の開口部を通して前記円筒状基体を塗布液
中に浸漬し、前記円筒状基体を引き上げる。この場合、
塗布液槽の液面は、円筒状基体の浸漬、及び引き上げ時
にもほぼ一定しており、円筒状基体が下降するとき、蓋
内に滞留する溶剤ガスと外気とは、段を構成するプレー
ト間隙が抵抗となり置換され難くなる。一方、円筒状基
体を引上げるときは、溶剤ガスは、液面に近い段プレー
ト間の間隙に満たされて、上部の段側ほど満たされ難く
なる。このため、乾燥速度は速くなり、薄膜のダレ現象
が少なく成膜特性が悪化がない。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の多数本同
時浸漬塗布装置の概略の一実施の形態を示すものであ
り、円筒状基体を塗布液槽から引き上げ途中の状態を示
すものである。この浸漬塗布装置は、塗布液１を保持
し、円筒状基体２を浸漬する塗布液槽３を有し、塗布液
槽３からオーバーフローした塗布液１を回収する液受け
４と、この液受け４からの塗布液１を回収するタンク５
と、このタンク５内の塗布液１を塗布液槽３に供給する
手段としての供給配管６と、塗布液槽３と液受け４との
上方には円筒状基体２が通過可能な開口部７を有し垂直
方向に間隔において複数配置したプレートを有する蓋８
と、から主として構成される。
態を図面に基づいて説明する。図１は本発明の多数本同
時浸漬塗布装置の概略の一実施の形態を示すものであ
り、円筒状基体を塗布液槽から引き上げ途中の状態を示
すものである。この浸漬塗布装置は、塗布液１を保持
し、円筒状基体２を浸漬する塗布液槽３を有し、塗布液
槽３からオーバーフローした塗布液１を回収する液受け
４と、この液受け４からの塗布液１を回収するタンク５
と、このタンク５内の塗布液１を塗布液槽３に供給する
手段としての供給配管６と、塗布液槽３と液受け４との
上方には円筒状基体２が通過可能な開口部７を有し垂直
方向に間隔において複数配置したプレートを有する蓋８
と、から主として構成される。
【００１６】塗布液槽３は、断面逆ロート状の２つの底
部を備えており、それらの各々に供給管６の一端部にそ
れぞれ連通しており、その底部の上方には多数の孔部を
有する整流板９が設置されている。液受け４は、塗布液
槽３の外周囲に形成されており、この液受け４は、この
液受け４の下方に位置するタンク５とオーバーフロー管
１０を介して接続されている。このタンク５と塗布液槽
３とを接続する供給管６の途中にはポンプ１１及びフイ
ルター１２が介設されている。
部を備えており、それらの各々に供給管６の一端部にそ
れぞれ連通しており、その底部の上方には多数の孔部を
有する整流板９が設置されている。液受け４は、塗布液
槽３の外周囲に形成されており、この液受け４は、この
液受け４の下方に位置するタンク５とオーバーフロー管
１０を介して接続されている。このタンク５と塗布液槽
３とを接続する供給管６の途中にはポンプ１１及びフイ
ルター１２が介設されている。
【００１７】また、塗布液槽３は、水平方向断面が矩形
状をなしており、この塗布液槽３とその外周囲の液受け
４を覆うように蓋８が設けられており、液受け４の外側
上端部は、塗布液槽３の上端部よりも高い位置に設定さ
れている。蓋８は、複数段（図では６段）のプレートが
設置され、最下段のプレートは液受け４の外側上端部に
接している。蓋８内の各々のプレートは、図２に示すよ
うに、複数の開口部７（図では１４個）が形成されてお
り、１つのプレートに形成されたそれぞれの開口部７
は、円筒状基体が通過可能なように隣接するプレートの
それぞれの開口部の位置に対応するようになっている。
状をなしており、この塗布液槽３とその外周囲の液受け
４を覆うように蓋８が設けられており、液受け４の外側
上端部は、塗布液槽３の上端部よりも高い位置に設定さ
れている。蓋８は、複数段（図では６段）のプレートが
設置され、最下段のプレートは液受け４の外側上端部に
接している。蓋８内の各々のプレートは、図２に示すよ
うに、複数の開口部７（図では１４個）が形成されてお
り、１つのプレートに形成されたそれぞれの開口部７
は、円筒状基体が通過可能なように隣接するプレートの
それぞれの開口部の位置に対応するようになっている。
【００１８】次に上記の構成される浸漬塗布装置による
浸漬塗布方法を説明する。塗布液１は、タンク５から供
給配管６を通してポンプ１１により圧送され、フイルタ
ー１２を介して塗布液槽３内に供給される。塗布液槽３
内に供給された塗布液は整流板９で水平方向に対して均
一に供給され、塗布液槽３をオーバーフローし、塗布液
槽３の上端周辺に設けられた液受け４で捕集された後、
オーバーフロー管１０に流出しタンク５に回収される。
浸漬塗布方法を説明する。塗布液１は、タンク５から供
給配管６を通してポンプ１１により圧送され、フイルタ
ー１２を介して塗布液槽３内に供給される。塗布液槽３
内に供給された塗布液は整流板９で水平方向に対して均
一に供給され、塗布液槽３をオーバーフローし、塗布液
槽３の上端周辺に設けられた液受け４で捕集された後、
オーバーフロー管１０に流出しタンク５に回収される。
【００１９】即ち、この浸漬塗布装置は、円筒状基体２
が塗布液槽３に浸漬され、その後、引き上げられた時、
塗布液槽液面（オーバーフロー面）１３を一定に保持す
るために、常にオーバーフローするように循環機構を有
している。この浸漬塗布装置による塗布方法では、円筒
状基体２が塗布液槽３内の塗布液中に浸漬されるとき、
即ち、円筒状基体２が蓋８の外上部より蓋８内に下降す
るとき、蓋８内に滞留する溶剤ガスと外気とは、段を構
成するプレート間隙が抵抗となり置換され難くなる。一
方、円筒状基体２を引上げるときは、塗布液槽３内の液
面及び円筒状基体２の表面に形成された膜からの溶剤ガ
スは、液面に近い段プレート間の間隙に満たされて、上
部の段側ほど満たされ難くなる。このため、乾燥速度は
速くなり、薄膜のダレ現象が少なく成膜特性が悪化がな
い。
が塗布液槽３に浸漬され、その後、引き上げられた時、
塗布液槽液面（オーバーフロー面）１３を一定に保持す
るために、常にオーバーフローするように循環機構を有
している。この浸漬塗布装置による塗布方法では、円筒
状基体２が塗布液槽３内の塗布液中に浸漬されるとき、
即ち、円筒状基体２が蓋８の外上部より蓋８内に下降す
るとき、蓋８内に滞留する溶剤ガスと外気とは、段を構
成するプレート間隙が抵抗となり置換され難くなる。一
方、円筒状基体２を引上げるときは、塗布液槽３内の液
面及び円筒状基体２の表面に形成された膜からの溶剤ガ
スは、液面に近い段プレート間の間隙に満たされて、上
部の段側ほど満たされ難くなる。このため、乾燥速度は
速くなり、薄膜のダレ現象が少なく成膜特性が悪化がな
い。
【００２０】因みに多段構造にしない場合、即ち、図３
の装置の場合、円筒状基体の浸漬は、通常設定されたイ
ンターバルで行われる。円筒状基体が浸漬される時は、
蓋２０の外上部より蓋２０内に下降の際、蓋２０内に滞
留する溶剤ガスと外気エアーとは、置換され易くオーバ
ーフロー面１３、液受け４の液面は、空気と接触し易く
なる。一方、円筒状基体２を引上げる時は液面、形成塗
布膜からの溶剤ガスが蓋２０内に満たされ易く、形成塗
布膜は乾燥が遅くなりダレ現象が大きくなる。
の装置の場合、円筒状基体の浸漬は、通常設定されたイ
ンターバルで行われる。円筒状基体が浸漬される時は、
蓋２０の外上部より蓋２０内に下降の際、蓋２０内に滞
留する溶剤ガスと外気エアーとは、置換され易くオーバ
ーフロー面１３、液受け４の液面は、空気と接触し易く
なる。一方、円筒状基体２を引上げる時は液面、形成塗
布膜からの溶剤ガスが蓋２０内に満たされ易く、形成塗
布膜は乾燥が遅くなりダレ現象が大きくなる。
【００２１】図１における蓋８内に形成されるプレート
の数（段数）は、２段以上とし（図１は６段）、オーバ
ーフロー面から蓋天板までの高さａ、段間隔ｂは塗布液
の物性や膜厚特性の要求値等により、任意に選択される
べきものである。また、段間隔ｂは、それぞれの段で異
なってよい。同様に、プレート開口径ｃも円筒状基体の
径等に対応し、各々任意に選択されるべきものである。
の数（段数）は、２段以上とし（図１は６段）、オーバ
ーフロー面から蓋天板までの高さａ、段間隔ｂは塗布液
の物性や膜厚特性の要求値等により、任意に選択される
べきものである。また、段間隔ｂは、それぞれの段で異
なってよい。同様に、プレート開口径ｃも円筒状基体の
径等に対応し、各々任意に選択されるべきものである。
【００２２】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。 実施例１ 有機ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックスＺＣ
５４０、松本製薬（株）社製）１００重量部、シランカ
ップリング剤（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー
（株）製）１４重量部、ポリビニブチラール樹脂（商品
名：ＢＭＳ，積水化学（株）製）７重量部、ｎ−ブタノ
ール２３２重量部からなる混合溶液を用意し、図１の多
数本同時浸漬塗布装置を用いてアルミニウムパイプ
（０．７５ｍｍｔ×３０ｍｍφ×３４０ｍｍ）上に塗布
した。その時の塗布液温度は２４℃とした。アルミニウ
ムパイプを塗布液から引き上げる速度は２５０ｍｍ／ｍ
ｉｎとした。同時塗布本数は１４本とし、その時のアル
ミニウムパイプの配列を図２に示した。この時の塗布循
環系への上記塗布液の投入量は、２５リットルとした。
図１における段数は１０段とし、高さａを２１０ｍｍ、
段間隔ｂをすべて２０ｍｍ、プレート開口径ｃをすべて
３９ｍｍとした。
する。 実施例１ 有機ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックスＺＣ
５４０、松本製薬（株）社製）１００重量部、シランカ
ップリング剤（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー
（株）製）１４重量部、ポリビニブチラール樹脂（商品
名：ＢＭＳ，積水化学（株）製）７重量部、ｎ−ブタノ
ール２３２重量部からなる混合溶液を用意し、図１の多
数本同時浸漬塗布装置を用いてアルミニウムパイプ
（０．７５ｍｍｔ×３０ｍｍφ×３４０ｍｍ）上に塗布
した。その時の塗布液温度は２４℃とした。アルミニウ
ムパイプを塗布液から引き上げる速度は２５０ｍｍ／ｍ
ｉｎとした。同時塗布本数は１４本とし、その時のアル
ミニウムパイプの配列を図２に示した。この時の塗布循
環系への上記塗布液の投入量は、２５リットルとした。
図１における段数は１０段とし、高さａを２１０ｍｍ、
段間隔ｂをすべて２０ｍｍ、プレート開口径ｃをすべて
３９ｍｍとした。
【００２３】塗布液ライフに寄与する条件は、循環流量
１０リットル／ｍｉｎ、ディップ槽周辺外気の温湿度２
４℃、３５％Ｒ．Ｈ．、蓋上部風速０．０５ｍ／ｓｅｃ
とした。塗布したパイプは風乾した後、乾燥機に入れ、
１７０℃において、１０分間加熱乾燥し、下引き層を形
成した。それぞれの膜厚ダレ値は表１に示した。ここ
で、膜厚ダレ値は、塗布膜上端から５０ｍｍ，１６０ｍ
ｍ，３００ｍｍのそれぞれの箇所の円周方向４点（９０
°間隔）、合計１２点の膜厚値の平均値から塗布膜上端
から２０ｍｍの箇所の円周方向４点（９０°間隔）の最
小値の差とした。
１０リットル／ｍｉｎ、ディップ槽周辺外気の温湿度２
４℃、３５％Ｒ．Ｈ．、蓋上部風速０．０５ｍ／ｓｅｃ
とした。塗布したパイプは風乾した後、乾燥機に入れ、
１７０℃において、１０分間加熱乾燥し、下引き層を形
成した。それぞれの膜厚ダレ値は表１に示した。ここ
で、膜厚ダレ値は、塗布膜上端から５０ｍｍ，１６０ｍ
ｍ，３００ｍｍのそれぞれの箇所の円周方向４点（９０
°間隔）、合計１２点の膜厚値の平均値から塗布膜上端
から２０ｍｍの箇所の円周方向４点（９０°間隔）の最
小値の差とした。
【００２４】膜厚計は、干渉型膜厚計を用いた。液劣化
度は、塗布液の４１５ｎｍの吸光度値が代用特性値とな
り、数値が大きくなる程劣化が進んでいる。塗布循環系
に塗布液を投入直後、１６８時間後、３３６時間後で吸
光度を測定し劣化度を調べた。それぞれの吸光度値は表
１に示した。尚、この間は連続循環運転である。膜厚ダ
レ値を調べるための塗布は、塗布液を投入直後と３３６
時間後で実施した。
度は、塗布液の４１５ｎｍの吸光度値が代用特性値とな
り、数値が大きくなる程劣化が進んでいる。塗布循環系
に塗布液を投入直後、１６８時間後、３３６時間後で吸
光度を測定し劣化度を調べた。それぞれの吸光度値は表
１に示した。尚、この間は連続循環運転である。膜厚ダ
レ値を調べるための塗布は、塗布液を投入直後と３３６
時間後で実施した。
【００２５】
【表１】
【００２６】比較例１ なお、比較のために、図３に示すような多段構造でない
蓋形状に変えた以外は、実施例１と同一の条件で塗布操
作し膜厚ダレと連続循環中の液劣化度を測定した。その
結果を表２に示した。蓋形状として、オーバーフロー面
からの高さｄを２１０ｍｍ、プレート開口径ｅを３９ｍ
ｍとした。
蓋形状に変えた以外は、実施例１と同一の条件で塗布操
作し膜厚ダレと連続循環中の液劣化度を測定した。その
結果を表２に示した。蓋形状として、オーバーフロー面
からの高さｄを２１０ｍｍ、プレート開口径ｅを３９ｍ
ｍとした。
【００２７】
【表２】
【００２８】実施例２ 実施例１において、多段プレートの段数を５段、高さａ
を１１０ｍｍとした以外は、すべて実施例１と同一の条
件で、膜厚ダレ、液劣化度を調べた。結果を表３に示し
た。
を１１０ｍｍとした以外は、すべて実施例１と同一の条
件で、膜厚ダレ、液劣化度を調べた。結果を表３に示し
た。
【００２９】
【表３】
【００３０】比較例２ なお、比較のために、図３に示す様な多段構造でない蓋
形状に変えた以外は、すべて実施例２と同一の条件で、
膜厚ダレ、液劣化度を調べた。蓋形状として、オーバー
フロー面からの高さｄを１１０ｍｍ、プレート開口径ｅ
を３９ｍｍとした。結果を表４に示した。
形状に変えた以外は、すべて実施例２と同一の条件で、
膜厚ダレ、液劣化度を調べた。蓋形状として、オーバー
フロー面からの高さｄを１１０ｍｍ、プレート開口径ｅ
を３９ｍｍとした。結果を表４に示した。
【００３１】
【表４】
【００３２】表１〜表４から、塗布液の循環機構を有し
ても、多段構造を有しない蓋（比較例１）の場合と比較
して、多段構造からなる蓋（実施例１）を有する場合、
経時的に液の劣化が少なく、かつ、膜厚ダレ値は初期及
び経時後も極めて少ないことがわかる。
ても、多段構造を有しない蓋（比較例１）の場合と比較
して、多段構造からなる蓋（実施例１）を有する場合、
経時的に液の劣化が少なく、かつ、膜厚ダレ値は初期及
び経時後も極めて少ないことがわかる。
【００３３】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、各円筒状
基体に形成される膜厚ダレを抑制し、且つ液劣化速度を
抑制することができ、円筒状基体の対する安定した浸漬
塗布を行うことができる。
基体に形成される膜厚ダレを抑制し、且つ液劣化速度を
抑制することができ、円筒状基体の対する安定した浸漬
塗布を行うことができる。
【図１】本発明の浸漬塗布装置の好ましい一実施の形態
を示す概略的構成図である。
を示す概略的構成図である。
【図２】本発明の浸漬塗布装置における円筒状基体を通
過可能な開口部の設置状態の好ましい一実施の形態を示
す概略的平面図である。
過可能な開口部の設置状態の好ましい一実施の形態を示
す概略的平面図である。
【図３】従来の浸漬塗布装置の一例を示す概略的構成図
である。
である。
１ 塗布液 ２ 円筒状基体 ３ 塗布液槽 ４ 液受け ５ タンク ６ 供給配管 ７ 開口部 ８ 蓋 ９ 整流板 １０ オーバーフロー管 １１ ポンプ １２ フィルター １３ オーバーフロー面 ２０ 多段構造でない蓋
フロントページの続き (72)発明者 橋本 潔 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス 株式会社内 (72)発明者 川島 弘史 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス 株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 塗布液内の塗布液中に円筒状基体を浸漬
し、前記円筒状基体を引き上げることによって円筒状基
体の外周面に塗布液を塗布する浸漬塗布方法において、
前記塗布液槽から常時塗布液をオーバーフローさせ、前
記塗布液槽の塗布液面上に設けられ円筒状基体が通過可
能な開口部を有し垂直方向に間隔において複数配置した
プレートを有する蓋の開口部を通して前記円筒状基体を
塗布液中に浸漬し、前記円筒状基体を引き上げることを
特徴とする浸漬塗布方法。 - 【請求項２】 前記プレートが各々複数の開口部を有
し、円筒状基体が通過可能なように各開口部が隣接する
プレートに設けられた開口部に対応していることを特徴
とする請求項１に記載の浸漬塗布方法。 - 【請求項３】 前記円筒状基体の複数本を、塗布液中に
同時に浸漬し、かつ引き上げることを特徴とする請求項
２に記載の浸漬塗布方法。 - 【請求項４】 塗布液を保持し、円筒状基体を浸漬する
塗布液槽を有する浸漬塗布装置において、前記塗布液槽
の周囲に設けられた前記塗布液槽からオーバーフローし
た塗布液を回収する液受けと、この液受けからの塗布液
を回収するタンクと、このタンク内の塗布液を前記塗布
液槽に供給する手段と、前記塗布液槽と前記液受けとの
上方に円筒状基体が通過可能な開口部を有し垂直方向に
間隔において複数配置したプレートを有する蓋と、を設
けたことを特徴とする浸漬塗布装置。 - 【請求項５】 前記各々のプレートが複数の開口部を有
し、円筒状基体が通過可能なように各開口部が隣接する
プレートに設けられた開口部に対応していることを特徴
とする請求項４に記載の浸漬塗布装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8208348A JPH1043652A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 浸漬塗布方法および浸漬塗布装置 |
| US08/901,208 US6010572A (en) | 1996-08-07 | 1997-07-28 | Dip coating apparatus for manufacturing electrophotographic photoreceptor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8208348A JPH1043652A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 浸漬塗布方法および浸漬塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1043652A true JPH1043652A (ja) | 1998-02-17 |
Family
ID=16554797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8208348A Pending JPH1043652A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 浸漬塗布方法および浸漬塗布装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6010572A (ja) |
| JP (1) | JPH1043652A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005334879A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Xerox Corp | 排気アセンブリ |
| JP2007127922A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体製造装置及び製造方法 |
| JP2008289982A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 塗布装置、塗布方法及び電子写真感光体 |
| KR101348342B1 (ko) * | 2012-10-11 | 2014-01-10 | 주식회사 대흥알앤티 | 액맺힘 방지를 위한 자동차 부품 디핑 장치 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1478152A (zh) * | 2000-12-05 | 2004-02-25 | ��ʽ�����ɵ��о��� | 涂布装置 |
| JP4010536B2 (ja) * | 2001-03-02 | 2007-11-21 | 株式会社リコー | 塗工方法、塗工装置及び該塗工方法によって作成された電子写真感光体、画像形成方法並びに画像形成装置 |
| US6921435B2 (en) * | 2001-08-10 | 2005-07-26 | Konica Corporation | Apparatus and method for coating electro-photographic sensitive members, and electro-photographic sensitive members made thereby |
| CN100373261C (zh) * | 2004-05-07 | 2008-03-05 | 株式会社理光 | 电子照相感光体制造装置及制造方法 |
| JP5211642B2 (ja) * | 2007-10-31 | 2013-06-12 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 溶融亜鉛めっき鋼板の製造設備及び溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法 |
| JP5451253B2 (ja) * | 2008-09-09 | 2014-03-26 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体の製造装置および電子写真感光体の製造方法 |
| TWI460305B (zh) * | 2010-11-30 | 2014-11-11 | Ind Tech Res Inst | 化學水浴法鍍膜設備 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5990662A (ja) * | 1982-11-16 | 1984-05-25 | Canon Inc | 塗布装置 |
| JPS6220530U (ja) * | 1985-07-24 | 1987-02-06 |
-
1996
- 1996-08-07 JP JP8208348A patent/JPH1043652A/ja active Pending
-
1997
- 1997-07-28 US US08/901,208 patent/US6010572A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005334879A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Xerox Corp | 排気アセンブリ |
| JP2007127922A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体製造装置及び製造方法 |
| JP4568674B2 (ja) * | 2005-11-07 | 2010-10-27 | 株式会社リコー | 電子写真感光体製造装置及び製造方法 |
| JP2008289982A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Fuji Xerox Co Ltd | 塗布装置、塗布方法及び電子写真感光体 |
| KR101348342B1 (ko) * | 2012-10-11 | 2014-01-10 | 주식회사 대흥알앤티 | 액맺힘 방지를 위한 자동차 부품 디핑 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6010572A (en) | 2000-01-04 |
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