JP2889513B2 - 浸漬塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
浸漬塗布装置及び塗布方法Info
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- Coating Apparatus (AREA)
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、塗布装置および塗布方
法に関し、特に電子写真感光体の製造において、円筒状
基体の外周面に有機感光層を形成するのに適した浸漬塗
布装置および塗布方法に関するものである。
法に関し、特に電子写真感光体の製造において、円筒状
基体の外周面に有機感光層を形成するのに適した浸漬塗
布装置および塗布方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子写真用有機感光体の製造方法として
は、浸漬塗布法、スプレー塗布法、プレード塗布法、押
出し塗布法等の各種塗布方法が知られているが、特に円
筒状基体の外周面に均一な感光層を形成する方法として
は、浸漬塗布法が広く用いられている。近年、電子写真
感光体が使用される複写機、プリンター、ファクシミリ
等の装置に対して、小型化、軽量化の要求が強く、これ
に伴って電子写真感光体も、年々小径化が計られてい
る。例えば、直径３０ｍｍφ以下の小径の円筒状基体に
浸漬塗布を施して電子写真感光体を作製する場合、生産
における多品種対応およびその為の設備投資の抑制を目
的として、従来から使用されている６０〜８０ｍｍφ程
度の直径の円筒状基体を浸漬塗布する塗布装置を共有し
て使用することが行われている。さらに塗布装置の小型
化や装置構造の簡易化、或いは、塗布される円筒状基体
の径および本数に対して自在に対応する、所謂、生産に
おける多品種対応の目的で、一つの浸漬槽に複数の円筒
状基体を同時に浸漬塗布する塗布装置を使用する方法が
採用されている。
は、浸漬塗布法、スプレー塗布法、プレード塗布法、押
出し塗布法等の各種塗布方法が知られているが、特に円
筒状基体の外周面に均一な感光層を形成する方法として
は、浸漬塗布法が広く用いられている。近年、電子写真
感光体が使用される複写機、プリンター、ファクシミリ
等の装置に対して、小型化、軽量化の要求が強く、これ
に伴って電子写真感光体も、年々小径化が計られてい
る。例えば、直径３０ｍｍφ以下の小径の円筒状基体に
浸漬塗布を施して電子写真感光体を作製する場合、生産
における多品種対応およびその為の設備投資の抑制を目
的として、従来から使用されている６０〜８０ｍｍφ程
度の直径の円筒状基体を浸漬塗布する塗布装置を共有し
て使用することが行われている。さらに塗布装置の小型
化や装置構造の簡易化、或いは、塗布される円筒状基体
の径および本数に対して自在に対応する、所謂、生産に
おける多品種対応の目的で、一つの浸漬槽に複数の円筒
状基体を同時に浸漬塗布する塗布装置を使用する方法が
採用されている。
【０００３】図４は従来の浸漬塗布装置の一例を示す概
略図であり、図５は複数の円筒状基体を同時に塗布する
従来の浸漬塗布装置の一例を示す概略図であり、複数の
円筒状基体を浸漬槽から同時に引き上げ、円筒状基体の
下端部が塗布液面を離れた直後の状態を示すものであ
る。図において、塗布液１はタンク２から供給配管３を
通してポンプ４によって圧送され、フィルター５を介し
て浸漬槽６内に供給される。塗布液１は浸漬槽６の上部
からオーバーフローし、浸漬槽６の周囲に設けられたオ
ーバーフロー受け７および戻り配管８を通って、タンク
２に回収される。オーバーフロー受け７の上部にはフー
ド１６が設けられており、円筒状基体９（９−１〜９−
ｎ）が通過する開口部を形成している。
略図であり、図５は複数の円筒状基体を同時に塗布する
従来の浸漬塗布装置の一例を示す概略図であり、複数の
円筒状基体を浸漬槽から同時に引き上げ、円筒状基体の
下端部が塗布液面を離れた直後の状態を示すものであ
る。図において、塗布液１はタンク２から供給配管３を
通してポンプ４によって圧送され、フィルター５を介し
て浸漬槽６内に供給される。塗布液１は浸漬槽６の上部
からオーバーフローし、浸漬槽６の周囲に設けられたオ
ーバーフロー受け７および戻り配管８を通って、タンク
２に回収される。オーバーフロー受け７の上部にはフー
ド１６が設けられており、円筒状基体９（９−１〜９−
ｎ）が通過する開口部を形成している。
【０００４】しかしながら、これらの塗布装置あるいは
塗布方法により、小径の円筒状基体の塗布を行った場
合、円筒状基体の径の減少による断面積の減少分だけ、
浸漬槽の塗布液の表面積が増加するため、塗布液からの
溶剤蒸気の蒸発量も増加する。これにより、塗布中の円
筒状基体周囲の溶剤蒸気濃度が高くなるので、円筒状基
体の外周面に塗布された膜は、乾燥が遅くなり、湿潤状
態に保たれている時間が長くなる。その結果、円筒状基
体の引き上げ方向のダレを生じるという欠点がある。さ
らに、周囲の風等によって影響を受ける時間も長くな
り、円筒状基体の円周方向の膜厚ムラも生じやすいとい
う欠点があり、これらの問題は、一つの浸漬槽で複数の
円筒状基体を同時に塗布する場合、特に顕著である。
塗布方法により、小径の円筒状基体の塗布を行った場
合、円筒状基体の径の減少による断面積の減少分だけ、
浸漬槽の塗布液の表面積が増加するため、塗布液からの
溶剤蒸気の蒸発量も増加する。これにより、塗布中の円
筒状基体周囲の溶剤蒸気濃度が高くなるので、円筒状基
体の外周面に塗布された膜は、乾燥が遅くなり、湿潤状
態に保たれている時間が長くなる。その結果、円筒状基
体の引き上げ方向のダレを生じるという欠点がある。さ
らに、周囲の風等によって影響を受ける時間も長くな
り、円筒状基体の円周方向の膜厚ムラも生じやすいとい
う欠点があり、これらの問題は、一つの浸漬槽で複数の
円筒状基体を同時に塗布する場合、特に顕著である。
【０００５】これらを改善するものとして、特開平４−
８０３８３号公報には、円筒状基体を通過させる開口部
を有するフードを浸漬上に設けた蓋の上に設け、このフ
ードの下側に溶剤蒸気を逃す隙間、孔、網等を設けたも
のが提案されている。しかしながら、この塗布装置にお
いては、溶剤蒸気を逃す隙間、孔、網等が円筒状基体に
隣接して設けられているため、外界からの風の影響を受
けてしまい、膜厚ムラが生じると言う問題がある。
８０３８３号公報には、円筒状基体を通過させる開口部
を有するフードを浸漬上に設けた蓋の上に設け、このフ
ードの下側に溶剤蒸気を逃す隙間、孔、網等を設けたも
のが提案されている。しかしながら、この塗布装置にお
いては、溶剤蒸気を逃す隙間、孔、網等が円筒状基体に
隣接して設けられているため、外界からの風の影響を受
けてしまい、膜厚ムラが生じると言う問題がある。
【０００６】また、他のものとして、特開平５−３３７
４３０号公報には、浸漬槽上の溶剤蒸気層の高さを規制
する浸漬塗布方法が提案されている。この方法は、浸漬
槽の外周を取り囲むオーバーフロー受けの上面に、円筒
状基体が通過する開口部を有するフードを設け、このフ
ードの高さを３０ｍｍ以下とすることにより、浸漬槽の
液面上に生じる溶剤蒸気層の高さを３０ｍｍ以下にする
ものである。しかしながら、小径の円筒状基体の塗布を
行った場合、浸漬槽の塗布液の表面積の増加により、塗
布中の基体周囲の溶剤蒸気濃度が高くなることは避けら
れず、さらに、繰り返し塗布を行った場合は、浸漬槽の
塗布液の表面から蒸発する溶剤蒸気に加えて、円筒状基
体の外周面に塗布された膜から蒸発する溶剤蒸気も、フ
ード内に蓄積、滞留する為、連続生産において、安定的
にダレを抑えることは困難であることが判明した。ま
た、フードの高さにより、浸漬槽の液面上に生じる溶剤
蒸気層の高さを３０ｍｍ以下にした場合、円筒状基体の
外周面に塗布された膜が、塗布された直後とほぼ同じ湿
潤状態のまま、フードの外に出てしまうため、周囲の僅
かな空気の流れの影響を受けやすくなり、円周方法の膜
厚ムラも大きくなるという欠点を有している。
４３０号公報には、浸漬槽上の溶剤蒸気層の高さを規制
する浸漬塗布方法が提案されている。この方法は、浸漬
槽の外周を取り囲むオーバーフロー受けの上面に、円筒
状基体が通過する開口部を有するフードを設け、このフ
ードの高さを３０ｍｍ以下とすることにより、浸漬槽の
液面上に生じる溶剤蒸気層の高さを３０ｍｍ以下にする
ものである。しかしながら、小径の円筒状基体の塗布を
行った場合、浸漬槽の塗布液の表面積の増加により、塗
布中の基体周囲の溶剤蒸気濃度が高くなることは避けら
れず、さらに、繰り返し塗布を行った場合は、浸漬槽の
塗布液の表面から蒸発する溶剤蒸気に加えて、円筒状基
体の外周面に塗布された膜から蒸発する溶剤蒸気も、フ
ード内に蓄積、滞留する為、連続生産において、安定的
にダレを抑えることは困難であることが判明した。ま
た、フードの高さにより、浸漬槽の液面上に生じる溶剤
蒸気層の高さを３０ｍｍ以下にした場合、円筒状基体の
外周面に塗布された膜が、塗布された直後とほぼ同じ湿
潤状態のまま、フードの外に出てしまうため、周囲の僅
かな空気の流れの影響を受けやすくなり、円周方法の膜
厚ムラも大きくなるという欠点を有している。
【０００７】さらに、一つの浸漬槽で複数の円筒状基体
を同時に塗布する場合には、浸漬槽の外周を取り囲むオ
ーバーフロー受けの上面に、円筒状基体が通過する開口
部を有するフードを設けると、フード内の溶剤蒸気の濃
度分布にムラを生じ易くなる為、円筒状基体個々の間で
塗布膜厚のバラツキを生じるという欠点を有している。
これを防止する為に、複数の円筒状基体を同時に塗布す
る場合にも、浸漬塗布槽を円筒状基体の数だけ別々に設
けることが考えられるが、この方法では、塗布装置の小
型化や装置構造の簡易化、および生産における多品種対
応に対して不利になってしまう。
を同時に塗布する場合には、浸漬槽の外周を取り囲むオ
ーバーフロー受けの上面に、円筒状基体が通過する開口
部を有するフードを設けると、フード内の溶剤蒸気の濃
度分布にムラを生じ易くなる為、円筒状基体個々の間で
塗布膜厚のバラツキを生じるという欠点を有している。
これを防止する為に、複数の円筒状基体を同時に塗布す
る場合にも、浸漬塗布槽を円筒状基体の数だけ別々に設
けることが考えられるが、この方法では、塗布装置の小
型化や装置構造の簡易化、および生産における多品種対
応に対して不利になってしまう。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
における上記の欠点を解消するためになされたものであ
る。すなわち、本発明の目的は、円筒状基体の断面積に
比べ、浸漬槽の塗布液の表面積が大きく、溶剤の蒸発量
が比較的多い浸漬槽を有する浸漬塗布装置において、円
筒状基体の引き上げ方向のダレや膜厚ムラのない良好な
塗布膜を形成することのできる浸漬塗布装置およびそれ
を用いる塗布方法を提供することにある。本発明の他の
目的は、円筒状基体の径の変更に対しても、浸漬槽の切
替えをせずに対応可能な浸漬塗布装置をおよびそれを用
いる塗布方法を提供することにある。本発明の更に他の
目的は、一つの浸漬槽で複数の円筒状基体を同時に塗布
する浸漬塗布装置においても、浸漬槽の塗布液の表面か
ら蒸発する溶剤蒸気や、円筒状基体の外周面に塗布され
た膜から蒸発する溶剤蒸気および周囲の風等により発生
するダレや膜厚ムラのない良好な塗布膜を形成すること
ができ、かつ小型で簡易な構造の浸漬塗布装置およびそ
れを用いる塗布方法を提供することにある。
における上記の欠点を解消するためになされたものであ
る。すなわち、本発明の目的は、円筒状基体の断面積に
比べ、浸漬槽の塗布液の表面積が大きく、溶剤の蒸発量
が比較的多い浸漬槽を有する浸漬塗布装置において、円
筒状基体の引き上げ方向のダレや膜厚ムラのない良好な
塗布膜を形成することのできる浸漬塗布装置およびそれ
を用いる塗布方法を提供することにある。本発明の他の
目的は、円筒状基体の径の変更に対しても、浸漬槽の切
替えをせずに対応可能な浸漬塗布装置をおよびそれを用
いる塗布方法を提供することにある。本発明の更に他の
目的は、一つの浸漬槽で複数の円筒状基体を同時に塗布
する浸漬塗布装置においても、浸漬槽の塗布液の表面か
ら蒸発する溶剤蒸気や、円筒状基体の外周面に塗布され
た膜から蒸発する溶剤蒸気および周囲の風等により発生
するダレや膜厚ムラのない良好な塗布膜を形成すること
ができ、かつ小型で簡易な構造の浸漬塗布装置およびそ
れを用いる塗布方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、塗布液を収容
する浸漬槽と、この浸漬槽の外周に設けられ、浸漬槽よ
りオーバーフローした塗布液を回収するオーバーフロー
受けとを設けてなり、円筒状基体を前記塗布液に浸漬
し、引き上げて塗布する塗布装置において、前記浸漬槽
及びオーバーフロー受けを覆い、円筒状基体が通過する
開口部を有する第１のフードと、この第１のフードを覆
い、円筒状基体が通過する開口部を有する第２のフード
とを有し、前記第１のフードの外周と前記第２のフード
の内周との間に、前記塗布液の蒸気排出用の隙間を設け
たことを特徴とする。
する浸漬槽と、この浸漬槽の外周に設けられ、浸漬槽よ
りオーバーフローした塗布液を回収するオーバーフロー
受けとを設けてなり、円筒状基体を前記塗布液に浸漬
し、引き上げて塗布する塗布装置において、前記浸漬槽
及びオーバーフロー受けを覆い、円筒状基体が通過する
開口部を有する第１のフードと、この第１のフードを覆
い、円筒状基体が通過する開口部を有する第２のフード
とを有し、前記第１のフードの外周と前記第２のフード
の内周との間に、前記塗布液の蒸気排出用の隙間を設け
たことを特徴とする。
【００１０】本発明の塗布装置においては、第２のフー
ドの下端が浸漬槽の液面よりも低い位置にあるのが好ま
しい。また、第１フードの開口部が浸漬槽の塗布液面上
近傍に設けられていることが好ましい。本発明の塗布装
置は、複数の円筒状基体を同時に浸漬塗布できるように
構成されていてもよい。その場合、第１のフードの開口
部と第２のフードの開口部とがそれぞれ複数個存在し、
かつ円筒状基体が通過できるように対応して設けた構造
にすればよい。また、第１のフードの開口部および第２
のフードの開口部が等間隔に設けられているのが好まし
い。
ドの下端が浸漬槽の液面よりも低い位置にあるのが好ま
しい。また、第１フードの開口部が浸漬槽の塗布液面上
近傍に設けられていることが好ましい。本発明の塗布装
置は、複数の円筒状基体を同時に浸漬塗布できるように
構成されていてもよい。その場合、第１のフードの開口
部と第２のフードの開口部とがそれぞれ複数個存在し、
かつ円筒状基体が通過できるように対応して設けた構造
にすればよい。また、第１のフードの開口部および第２
のフードの開口部が等間隔に設けられているのが好まし
い。
【００１１】また、本発明は、上記の塗布装置を用い
て、円筒状基体を浸漬槽の塗布液中に浸漬し、引き上げ
て塗布する塗布方法において、第１のフードの外周と前
記第２のフードの内周との間の隙間から前記塗布液の溶
剤蒸気を排気させることを特徴とする。本発明は、塗布
液における溶剤として、その溶剤蒸気の比重が空気より
も重いものを使用する場合に有効である。また、複数の
円筒状基体を同時に塗布液中に浸漬し、同時に引き上げ
て塗布してもよい。また、本発明は、感光体層形成用塗
布液を用いて円筒状支持体上に感光層を形成する場合に
適用するのが好適である。
て、円筒状基体を浸漬槽の塗布液中に浸漬し、引き上げ
て塗布する塗布方法において、第１のフードの外周と前
記第２のフードの内周との間の隙間から前記塗布液の溶
剤蒸気を排気させることを特徴とする。本発明は、塗布
液における溶剤として、その溶剤蒸気の比重が空気より
も重いものを使用する場合に有効である。また、複数の
円筒状基体を同時に塗布液中に浸漬し、同時に引き上げ
て塗布してもよい。また、本発明は、感光体層形成用塗
布液を用いて円筒状支持体上に感光層を形成する場合に
適用するのが好適である。
【００１２】本発明に使用する円筒状基体としては、電
子写真感光体に用いる導電性の公知のものが使用され
る。また、本発明に使用する塗布液としては、円筒状基
体の外周面に塗布する場合に使用する公知の塗布液が使
用できるが、特に電子写真感光体の電荷発生層、電荷輸
送層、下引き層および保護層を形成させるために塗布さ
れる公知の塗布液を用いるのが好ましく、これらの塗布
液はいずれも使用することができる。
子写真感光体に用いる導電性の公知のものが使用され
る。また、本発明に使用する塗布液としては、円筒状基
体の外周面に塗布する場合に使用する公知の塗布液が使
用できるが、特に電子写真感光体の電荷発生層、電荷輸
送層、下引き層および保護層を形成させるために塗布さ
れる公知の塗布液を用いるのが好ましく、これらの塗布
液はいずれも使用することができる。
【００１３】また、塗布液に用いる溶剤としては、例え
ば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタ
ノール等のアルコール類、ヘキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、エチレングリコール等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、アノン等のケトン類、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、
ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド等があげられる。これらの溶剤は、
いずれも比重が空気よりも重いものである。塗布液の粘
度は、０．０１ｍＰａｓ〜１０００ｍＰａｓの範囲が好
ましく、より好ましくは、１ｍＰａｓ〜６００ｍＰａｓ
の範囲であるが、塗布膜厚および塗布速度等によって、
適宜選択することが好ましい。円筒状基体に塗布される
感光層形成用塗布液としては、公知の材料ならどのよう
なものでも使用可能である。
ば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタ
ノール等のアルコール類、ヘキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素、ジクロロメタン、ジクロ
ロエタン、四塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化
炭化水素、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、エチレングリコール等のエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、アノン等のケトン類、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、
ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド等があげられる。これらの溶剤は、
いずれも比重が空気よりも重いものである。塗布液の粘
度は、０．０１ｍＰａｓ〜１０００ｍＰａｓの範囲が好
ましく、より好ましくは、１ｍＰａｓ〜６００ｍＰａｓ
の範囲であるが、塗布膜厚および塗布速度等によって、
適宜選択することが好ましい。円筒状基体に塗布される
感光層形成用塗布液としては、公知の材料ならどのよう
なものでも使用可能である。
【００１４】本発明の塗布装置では、浸漬槽の液面近傍
で、かつ、塗布液に接触しない位置に第１のフードを設
けることにより、浸漬槽の塗布液の表面から蒸発する溶
剤蒸気の蒸発量を低減することができる。これにより、
塗布中の基体周囲の溶剤蒸気濃度を低く抑えることがで
き、円筒状基体の外周面に塗布された膜からの溶剤蒸発
が抑制されることがない。さらにまた、浸漬槽を取り囲
む第２のフードの下端内周と浸漬槽のオーバーフロー受
けを覆う第１のフードの下端外周との間に、下方に向か
って隙間を開けることにより、浸漬槽の塗布液の表面お
よび円筒状基体の外周面に塗布された湿潤状態の膜から
蒸発する溶剤蒸気は、その自重によって、その隙間から
自然に第２のフード外へ流れ、第２のフード内の溶剤蒸
気の蓄積、滞留を防ぐことが可能となり、第２のフード
内の溶剤蒸気濃度をさらに低減することが可能となる。
これにより、第２のフードの高さに対する制約も緩和さ
れ、円筒状基体の外周面に塗布された湿潤状態の膜が、
周囲の僅かな空気の流れに対して影響を受けにくくなる
まで、第２のフード内で溶剤蒸発を促進することが可能
となり、ダレや膜厚ムラのない良好な塗布膜が形成され
る。一つの浸漬槽に複数の円筒状基体を同時に塗布する
浸漬塗布装置においても、同様の作用が働き、さらに、
第２のフード上部の天板は、円筒状基体が通過する部分
のみ開口部を有しているので、第２のフードの外からの
風等の影響も受けにくい。
で、かつ、塗布液に接触しない位置に第１のフードを設
けることにより、浸漬槽の塗布液の表面から蒸発する溶
剤蒸気の蒸発量を低減することができる。これにより、
塗布中の基体周囲の溶剤蒸気濃度を低く抑えることがで
き、円筒状基体の外周面に塗布された膜からの溶剤蒸発
が抑制されることがない。さらにまた、浸漬槽を取り囲
む第２のフードの下端内周と浸漬槽のオーバーフロー受
けを覆う第１のフードの下端外周との間に、下方に向か
って隙間を開けることにより、浸漬槽の塗布液の表面お
よび円筒状基体の外周面に塗布された湿潤状態の膜から
蒸発する溶剤蒸気は、その自重によって、その隙間から
自然に第２のフード外へ流れ、第２のフード内の溶剤蒸
気の蓄積、滞留を防ぐことが可能となり、第２のフード
内の溶剤蒸気濃度をさらに低減することが可能となる。
これにより、第２のフードの高さに対する制約も緩和さ
れ、円筒状基体の外周面に塗布された湿潤状態の膜が、
周囲の僅かな空気の流れに対して影響を受けにくくなる
まで、第２のフード内で溶剤蒸発を促進することが可能
となり、ダレや膜厚ムラのない良好な塗布膜が形成され
る。一つの浸漬槽に複数の円筒状基体を同時に塗布する
浸漬塗布装置においても、同様の作用が働き、さらに、
第２のフード上部の天板は、円筒状基体が通過する部分
のみ開口部を有しているので、第２のフードの外からの
風等の影響も受けにくい。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面によって説明
する。図１は本発明の浸漬塗布装置一例を示す概略図で
あり、図において、塗布液１はタンク２から供給配管３
を通してポンプ４によって圧送され、フィルター５を介
して浸漬槽６内に供給される。塗布液１は浸漬槽６の上
部からオーバーフローし、浸漬槽６の周囲に設けられた
オーバーフロー受け７および戻り配管８を通って、タン
ク２に回収される。オーバーフロー受け７の上部は、円
筒状基体９が通過する開口部１０を有する第１のフード
１１で覆われており、それによって浸漬槽６内にある塗
布液１の液面が覆われている。また、円筒状基体９とオ
ーバーフロー受け７を取り囲むように第２のフード１２
が設けられている。この第２のフード１２は、円筒状基
体が通過する開口部１４を有しており、そしてその下端
の内周と第１フード１１の下端外周との間に、下方に向
かって隙間１５を開けて設けられている。円筒状基体９
は、昇降装置に直結した把持具（図示せず）により、浸
漬槽６内の塗布液１に浸漬され、次いで所定の速度で引
き上げられるように構成されている。
する。図１は本発明の浸漬塗布装置一例を示す概略図で
あり、図において、塗布液１はタンク２から供給配管３
を通してポンプ４によって圧送され、フィルター５を介
して浸漬槽６内に供給される。塗布液１は浸漬槽６の上
部からオーバーフローし、浸漬槽６の周囲に設けられた
オーバーフロー受け７および戻り配管８を通って、タン
ク２に回収される。オーバーフロー受け７の上部は、円
筒状基体９が通過する開口部１０を有する第１のフード
１１で覆われており、それによって浸漬槽６内にある塗
布液１の液面が覆われている。また、円筒状基体９とオ
ーバーフロー受け７を取り囲むように第２のフード１２
が設けられている。この第２のフード１２は、円筒状基
体が通過する開口部１４を有しており、そしてその下端
の内周と第１フード１１の下端外周との間に、下方に向
かって隙間１５を開けて設けられている。円筒状基体９
は、昇降装置に直結した把持具（図示せず）により、浸
漬槽６内の塗布液１に浸漬され、次いで所定の速度で引
き上げられるように構成されている。
【００１６】図２は本発明の塗布装置の別の一例を示す
概略図であり、複数の円筒状基体を浸漬槽から同時に引
き上げ、円筒状基体の下端部が塗布液面を離れた直後の
状態を示すものである。塗布装置の浸漬槽６の周囲に設
けられたオーバーフロー受け７には、円筒状基体９（９
−１〜９−ｎ）が通過する開口部１０（１０−１〜１０
−ｎ）を有する第１のフード１１が、オーバーフロー受
け７を取り囲むように配置され、浸漬槽６内にある塗布
液１の液面を覆っている。また、浸漬槽６およびその周
囲に設けられたオーバーフロー受け７の周囲には、第２
のフード１２が設けられており、さらに、第２のフード
１２の上部には、円筒状基体９が通過する開口部１４
（１４−１〜１４−ｎ）を有する天板１３が設けられて
いる。第２のフード１２の下端内周とオーバーフロー受
け７を覆う第１のフードの下端外周には、下方に向かっ
て隙間１５が開けられている。円筒状基体９は昇降装置
に直結した把持具（図示せず）により、浸漬槽６内の塗
布液１に浸漬され、次いで所定の速度で引き上げられる
ように構成されている。
概略図であり、複数の円筒状基体を浸漬槽から同時に引
き上げ、円筒状基体の下端部が塗布液面を離れた直後の
状態を示すものである。塗布装置の浸漬槽６の周囲に設
けられたオーバーフロー受け７には、円筒状基体９（９
−１〜９−ｎ）が通過する開口部１０（１０−１〜１０
−ｎ）を有する第１のフード１１が、オーバーフロー受
け７を取り囲むように配置され、浸漬槽６内にある塗布
液１の液面を覆っている。また、浸漬槽６およびその周
囲に設けられたオーバーフロー受け７の周囲には、第２
のフード１２が設けられており、さらに、第２のフード
１２の上部には、円筒状基体９が通過する開口部１４
（１４−１〜１４−ｎ）を有する天板１３が設けられて
いる。第２のフード１２の下端内周とオーバーフロー受
け７を覆う第１のフードの下端外周には、下方に向かっ
て隙間１５が開けられている。円筒状基体９は昇降装置
に直結した把持具（図示せず）により、浸漬槽６内の塗
布液１に浸漬され、次いで所定の速度で引き上げられる
ように構成されている。
【００１７】第１のフードの開口部１０は、円筒状基体
に対応して個々に設け、その開口部の穴径が小さい方
が、溶剤蒸気の上昇を抑える上で望ましく、円筒状基体
の径により、適した穴径が選ばれるが、円筒状基体表面
と開口端部の距離は、２ｍｍから２０ｍｍの範囲が好ま
しい。例えば、３０ｍｍφの円筒状基体の場合、第１フ
ードの穴径は３４ｍｍφから７０ｍｍφの範囲が好まし
い。また、オレンジピール等の表面欠陥の発生を防ぐた
めに、第１フード１１と浸漬槽の塗布液の表面との距離
は、４ｍｍから５０ｍｍの範囲が好ましい。また、浸漬
槽を取り囲むオーバーフロー受け７を覆う第１のフード
の下端外周と第２のフード１２の下端内周との間の、下
方に向けて開いている隙間１５は、第２のフード内の円
筒状基体９が周囲の風に影響を受けず、かつ、第２のフ
ード１２内の溶剤蒸気が、自重によって自然に排気でき
る間隔であることが必要であり、１ｍｍから３０ｍｍの
範囲で選択することができる。また、隙間１５の下端部
は、塗布液の液面より下に位置することが好ましい。第
２のフード１２の高さは、塗布直後の湿潤状態の膜が、
周囲の風に影響されることがないように考慮して決める
必要があるが、第２のフードの上端部と液面との距離は
１０ｍｍから５００ｍｍ程度の範囲が好ましく、さらに
好ましくは、２０ｍｍから２００ｍｍの範囲である。し
かし、これらの寸法は上記の値に限定されるものではな
く、円筒状基体の長さ、塗布速度、塗布液温度、塗布液
中の溶剤の蒸発速度、湿潤膜厚等によって適宜選択する
ことが好ましい。
に対応して個々に設け、その開口部の穴径が小さい方
が、溶剤蒸気の上昇を抑える上で望ましく、円筒状基体
の径により、適した穴径が選ばれるが、円筒状基体表面
と開口端部の距離は、２ｍｍから２０ｍｍの範囲が好ま
しい。例えば、３０ｍｍφの円筒状基体の場合、第１フ
ードの穴径は３４ｍｍφから７０ｍｍφの範囲が好まし
い。また、オレンジピール等の表面欠陥の発生を防ぐた
めに、第１フード１１と浸漬槽の塗布液の表面との距離
は、４ｍｍから５０ｍｍの範囲が好ましい。また、浸漬
槽を取り囲むオーバーフロー受け７を覆う第１のフード
の下端外周と第２のフード１２の下端内周との間の、下
方に向けて開いている隙間１５は、第２のフード内の円
筒状基体９が周囲の風に影響を受けず、かつ、第２のフ
ード１２内の溶剤蒸気が、自重によって自然に排気でき
る間隔であることが必要であり、１ｍｍから３０ｍｍの
範囲で選択することができる。また、隙間１５の下端部
は、塗布液の液面より下に位置することが好ましい。第
２のフード１２の高さは、塗布直後の湿潤状態の膜が、
周囲の風に影響されることがないように考慮して決める
必要があるが、第２のフードの上端部と液面との距離は
１０ｍｍから５００ｍｍ程度の範囲が好ましく、さらに
好ましくは、２０ｍｍから２００ｍｍの範囲である。し
かし、これらの寸法は上記の値に限定されるものではな
く、円筒状基体の長さ、塗布速度、塗布液温度、塗布液
中の溶剤の蒸発速度、湿潤膜厚等によって適宜選択する
ことが好ましい。
【００１８】
【実施例】以下、本発明を更に詳細な実施例によって説
明する。 実施例１ 図１の塗布装置で、第１のフード１１の上面と塗布液の
液面からの距離（ｃ）を２５ｍｍ、第１のフード１１の
開口部１０の径を４０ｍｍφ、第２のフード１２の上部
開口部１４の径を３７ｍｍφ、第２のフード１２の上端
部と第２のフード１２下部（Ａ）との距離（ａ）を８５
ｍｍ、第１のフード１１と第２のフード１２下部（Ａ）
との距離（ｂ）を１０ｍｍ、第２のフード下端の内周と
第１のフード下端の外周との隙間１５を１２ｍｍとし
た。塗布液として、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−
ビス（３−ビフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−
４，４′ジアミン１０部とポリ（４，４−シクロヘキシ
リデンジフェニレンカーボネート）樹脂１３部をモノク
ロルベンゼン２３部とテトラヒドロフラン５４部の混合
物に溶解して塗布液をを用意した。円筒状基体９とし
て、アルミニウムパイプ（０．７５ｍｍｔ×３０ｍｍφ
×３４０ｍｍ）を使用し、把持装置（図示せず）に把持
し、昇降装置（図示せず）により塗布液１に浸漬し、次
いで２００ｍｍ／分の速度で引き上げた。風乾した後、
１１０℃の熱風乾燥機に４０分間入れて加熱乾燥し、膜
厚２４μｍの電荷輸送層を形成した。また、塗布の安定
性を確認するために、同じ条件にて５分間隔で連続して
１４本のアルミニウムパイプ上に塗布を行った。得られ
た塗布膜厚の測定結果を表１に示す。塗布膜厚は、塗布
の塗り始めから２０ｍｍ、５０ｍｍ、１６０ｍｍ、３０
０ｍｍのそれぞれの箇所の円周方向４箇所（９０°間
隔）の、合計１６箇所について測定し、その平均を平均
膜厚とし、１６箇所の最大値と最小値との差を膜厚ムラ
とした。また、塗布の塗り始めから２０ｍｍでの円周方
向４箇所（９０°間隔）の最小膜厚と平均膜厚との差を
ダレとした。
明する。 実施例１ 図１の塗布装置で、第１のフード１１の上面と塗布液の
液面からの距離（ｃ）を２５ｍｍ、第１のフード１１の
開口部１０の径を４０ｍｍφ、第２のフード１２の上部
開口部１４の径を３７ｍｍφ、第２のフード１２の上端
部と第２のフード１２下部（Ａ）との距離（ａ）を８５
ｍｍ、第１のフード１１と第２のフード１２下部（Ａ）
との距離（ｂ）を１０ｍｍ、第２のフード下端の内周と
第１のフード下端の外周との隙間１５を１２ｍｍとし
た。塗布液として、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−
ビス（３−ビフェニル）−［１，１′−ビフェニル］−
４，４′ジアミン１０部とポリ（４，４−シクロヘキシ
リデンジフェニレンカーボネート）樹脂１３部をモノク
ロルベンゼン２３部とテトラヒドロフラン５４部の混合
物に溶解して塗布液をを用意した。円筒状基体９とし
て、アルミニウムパイプ（０．７５ｍｍｔ×３０ｍｍφ
×３４０ｍｍ）を使用し、把持装置（図示せず）に把持
し、昇降装置（図示せず）により塗布液１に浸漬し、次
いで２００ｍｍ／分の速度で引き上げた。風乾した後、
１１０℃の熱風乾燥機に４０分間入れて加熱乾燥し、膜
厚２４μｍの電荷輸送層を形成した。また、塗布の安定
性を確認するために、同じ条件にて５分間隔で連続して
１４本のアルミニウムパイプ上に塗布を行った。得られ
た塗布膜厚の測定結果を表１に示す。塗布膜厚は、塗布
の塗り始めから２０ｍｍ、５０ｍｍ、１６０ｍｍ、３０
０ｍｍのそれぞれの箇所の円周方向４箇所（９０°間
隔）の、合計１６箇所について測定し、その平均を平均
膜厚とし、１６箇所の最大値と最小値との差を膜厚ムラ
とした。また、塗布の塗り始めから２０ｍｍでの円周方
向４箇所（９０°間隔）の最小膜厚と平均膜厚との差を
ダレとした。
【００１９】
【表１】
【００２０】実施例２ 図２の塗布装置で、第１のフード１１の液面からの距離
を２５ｍｍ、第１のフード１１の開口部１０の径を４０
ｍｍφ、第２のフード１２上部の天板１３の開口部１４
の径を３７ｍｍφ、天板１３と第１のフード１１との距
離を８５ｍｍ、第２のフード下端の内周と第１のフード
下端の外周との隙間１５を１２ｍｍにした。円筒状基体
９として、実施例１と同様のアルミニウムパイプを使用
し、図３の概略図に示すように、それぞれ等間隔となる
ような正三角形状に１４本を配置した。塗布液としては
実施例１と同じものを使用し、また、浸漬塗布の条件お
よび塗布膜厚の評価方法も実施例１と同様とした。得ら
れた塗布膜厚の測定結果を表２に示す。
を２５ｍｍ、第１のフード１１の開口部１０の径を４０
ｍｍφ、第２のフード１２上部の天板１３の開口部１４
の径を３７ｍｍφ、天板１３と第１のフード１１との距
離を８５ｍｍ、第２のフード下端の内周と第１のフード
下端の外周との隙間１５を１２ｍｍにした。円筒状基体
９として、実施例１と同様のアルミニウムパイプを使用
し、図３の概略図に示すように、それぞれ等間隔となる
ような正三角形状に１４本を配置した。塗布液としては
実施例１と同じものを使用し、また、浸漬塗布の条件お
よび塗布膜厚の評価方法も実施例１と同様とした。得ら
れた塗布膜厚の測定結果を表２に示す。
【表２】
【００２１】比較例１ 比較のために、図４に示す塗布装置を使用する以外は、
実施例１と同じ条件で塗布膜を形成した。図４におい
て、フード１６の上部開口部の径を４０ｍｍφ、フード
１６の下端部と液面との距離を２５ｍｍ、フード１６の
上端部と液面との距離を１１０ｍｍとし、５分間隔で連
続して１４本のアルミニウムパイプ上に塗布を行った。
得られた塗布膜厚の測定結果を表３に示す。
実施例１と同じ条件で塗布膜を形成した。図４におい
て、フード１６の上部開口部の径を４０ｍｍφ、フード
１６の下端部と液面との距離を２５ｍｍ、フード１６の
上端部と液面との距離を１１０ｍｍとし、５分間隔で連
続して１４本のアルミニウムパイプ上に塗布を行った。
得られた塗布膜厚の測定結果を表３に示す。
【表３】
【００２２】比較例２ さらに、一つの浸漬槽に複数の円筒状基体を同時に浸漬
塗布する装置の比較のために、図５に示す塗布装置を使
用する以外は、実施例２と同じ条件で塗布膜を形成し
た。図５において、フード１６の下端部と液面との距離
を２５ｍｍ、フード１６の上端部と液面との距離を１１
０ｍｍとした。得られた塗布膜厚の測定結果を表４に示
す。
塗布する装置の比較のために、図５に示す塗布装置を使
用する以外は、実施例２と同じ条件で塗布膜を形成し
た。図５において、フード１６の下端部と液面との距離
を２５ｍｍ、フード１６の上端部と液面との距離を１１
０ｍｍとした。得られた塗布膜厚の測定結果を表４に示
す。
【表４】
【００２３】
【発明の効果】上記の比較から明らかなように、本発明
の塗布装置によれば、一つの浸漬槽での複数の円筒状基
体の浸漬塗布においても、浸漬槽およびオーバーフロー
受けの塗布液の表面からの溶剤蒸気の蒸発量を低減する
第１のフードを設けるとともに、浸漬槽を取り囲む第２
のフードの内周と第１のフード外周との間に、下方に向
かって隙間を開けることにより、周囲の僅かな空気の流
れの影響を防ぐとともに、第２のフード内の溶剤蒸気の
蓄積、滞留を防止することが可能となり、ダレや膜厚ム
ラのない良好な塗布膜が形成でき、また、連続塗布にお
いても、非常に安定した膜厚の塗布層を形成することが
可能となる。したがって、本発明は、電子写真感光体の
製造に極めて好適である。
の塗布装置によれば、一つの浸漬槽での複数の円筒状基
体の浸漬塗布においても、浸漬槽およびオーバーフロー
受けの塗布液の表面からの溶剤蒸気の蒸発量を低減する
第１のフードを設けるとともに、浸漬槽を取り囲む第２
のフードの内周と第１のフード外周との間に、下方に向
かって隙間を開けることにより、周囲の僅かな空気の流
れの影響を防ぐとともに、第２のフード内の溶剤蒸気の
蓄積、滞留を防止することが可能となり、ダレや膜厚ム
ラのない良好な塗布膜が形成でき、また、連続塗布にお
いても、非常に安定した膜厚の塗布層を形成することが
可能となる。したがって、本発明は、電子写真感光体の
製造に極めて好適である。
【図１】 本発明の塗布装置による塗布時の状態を示す
概略図である。
概略図である。
【図２】 本発明の塗布装置の他の一例を示す概略図で
ある。
ある。
【図３】 本発明の塗布装置を使用して、一つの浸漬槽
に複数の円筒状基体を同時に浸漬塗布する際の、円筒状
基体の配置例を示す概略上面図である。
に複数の円筒状基体を同時に浸漬塗布する際の、円筒状
基体の配置例を示す概略上面図である。
【図４】 従来の浸漬塗布装置の一例を示す概略図であ
る。
る。
【図５】 従来の浸漬塗布装置の他の一例を示す概略図
である。
である。
１…塗布液、２…タンク、３…供給配管、４…ポンプ、
５…フィルター、６…浸漬槽、７…オーバーフロー受
け、８…戻り配管、９、９−１〜９−ｎ…円筒状基体、
１０、１０−１〜１０−ｎ…第１のフードの開口部、１
１…第１のフード、１２…第２のフード、１３…天板、
１４、１４−１〜１４−ｎ…第２のフードの開口部、１
５…第２フード下端内周と第１のフード下端外周との隙
間、１６…フード。
５…フィルター、６…浸漬槽、７…オーバーフロー受
け、８…戻り配管、９、９−１〜９−ｎ…円筒状基体、
１０、１０−１〜１０−ｎ…第１のフードの開口部、１
１…第１のフード、１２…第２のフード、１３…天板、
１４、１４−１〜１４−ｎ…第２のフードの開口部、１
５…第２フード下端内周と第１のフード下端外周との隙
間、１６…フード。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−254459（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−194468（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B05C 3/00 - 3/109 B05D 1/18 B05D 7/14 G03G 5/05
Claims (11)
- 【請求項１】 塗布液を収容する浸漬槽と、この浸漬槽
の外周に設けられ、浸漬槽よりオーバーフローした塗布
液を回収するオーバーフロー受けとを設けてなり、円筒
状基体を前記塗布液に浸漬し、引き上げて塗布する塗布
装置において、前記浸漬槽及びオーバーフロー受けを覆
い、円筒状基体が通過する開口部を有する第１のフード
と、該第１のフードを覆い、円筒状基体が通過する開口
部を有する第２のフードとを有し、前記第１のフードの
外周と前記第２のフードの内周との間に、前記塗布液の
蒸気排出用の隙間を設けたことを特徴とする塗布装置。 - 【請求項２】 第２のフードの下端が浸漬槽の液面より
も低い位置にあることを特徴とする請求項１記載の塗布
装置。 - 【請求項３】 第１のフードの開口部が浸漬槽の塗布液
面上近傍に設けられたことを特徴とする請求項１記載の
塗布装置。 - 【請求項４】 第１のフードの開口部と第２のフードの
開口部とがそれぞれ複数個存在し、かつ円筒状基体が通
過できるように対応して設けられていることを特徴とす
る請求項１記載の塗布装置。 - 【請求項５】 第１のフードの開口部および第２のフー
ドの開口部が等間隔に設けられていることを特徴とする
請求項１記載の塗布装置。 - 【請求項６】 前記第１および第２のフードが、上面部
及び側面部を備えたフードである請求項１記載の塗布装
置。 - 【請求項７】 前記第１のフードの開口部が、前記第２
のフードの開口部より小さい請求項１記載の塗布装置。 - 【請求項８】 塗布液を収容する浸漬槽と、この浸漬槽
の外周に設けられ、浸漬槽よりオーバーフローした塗布
液を回収するオーバーフロー受けとを設けてなる塗布装
置の該塗布液に、円筒状基体を浸漬し、引き上げて塗布
する塗布方法において、前記塗布装置が、前記浸漬槽及
びオーバーフロー受けを覆い、円筒状基体が通過する第
１の開口部を有する第１のフードと、この第１のフード
を覆い、円筒状基体が通過する開口部を有する第２のフ
ードとを有し、前記第１のフードの外周と前記第２のフ
ードの内周との間に、前記塗布液の蒸気排出用の隙間を
設けたものであり、該隙間から塗布液の溶剤蒸気を排気
させることを特徴とする塗布方法。 - 【請求項９】 塗布液の溶剤蒸気の比重が空気よりも重
いことを特徴とする請求項８記載の塗布方法。 - 【請求項１０】 複数の円筒状基体を同時に塗布液中に
浸漬し、同時に引き上げて塗布することを特徴とする請
求項８記載の塗布方法。 - 【請求項１１】 塗布液が感光体層形成用塗布液である
ことを特徴とする請求項８記載の塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7200208A JP2889513B2 (ja) | 1995-07-14 | 1995-07-14 | 浸漬塗布装置及び塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7200208A JP2889513B2 (ja) | 1995-07-14 | 1995-07-14 | 浸漬塗布装置及び塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0929152A JPH0929152A (ja) | 1997-02-04 |
| JP2889513B2 true JP2889513B2 (ja) | 1999-05-10 |
Family
ID=16420612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7200208A Expired - Fee Related JP2889513B2 (ja) | 1995-07-14 | 1995-07-14 | 浸漬塗布装置及び塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2889513B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007225679A (ja) * | 2006-02-21 | 2007-09-06 | Ricoh Co Ltd | 塗工装置、感光体の製造方法、感光体、及び画像形成装置 |
| JP4210291B2 (ja) | 2006-04-12 | 2009-01-14 | シャープ株式会社 | 電子写真感光体の層形成装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0543896Y2 (ja) * | 1986-05-31 | 1993-11-05 | ||
| JPH0824868B2 (ja) * | 1994-02-07 | 1996-03-13 | キヤノン株式会社 | 浸漬塗布による電子写真感光体の製造方法 |
-
1995
- 1995-07-14 JP JP7200208A patent/JP2889513B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0929152A (ja) | 1997-02-04 |
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