JPH04245619A - レジスト形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明はガラス基板等にレジス
トを形成するレジスト形成装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図４はレジスト形成装置を示す概略図で
ある。図において、１は洗浄装置、２はスピンコータ、
３は加熱装置、４は露光装置、５は現像装置、６はレジ
ストが形成されるべきガラス基板等を搬送する搬送装置
である。

【０００３】図５は従来のレジスト形成装置のスピンコ
ータの一部を示す概略図である。図において、７は回収
容器、８は一端が回収容器７に接続された回収管で、回
収管８の他端は回収ポット（図示せず）に接続されてい
る。９は回転軸で、回転軸９は回収容器７を貫通してお
り、また回転軸９はモータ（図示せず）によって回転さ
れる。１０は回転軸９の上部に取り付けられた真空チャ
ックで、真空チャック１０は回転軸９の内部を介して真
空ポンプ（図示せず）に接続されている。３４は真空チ
ャック１０に吸引されたガラス基板で、ガラス基板３４
は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）有するアクティブ・マト
リックス方式の液晶表示装置の基板として用いられる。

【０００４】このスピンコータにおいては、真空チャッ
ク１０によりガラス基板３４を吸引した状態で、ガラス
基板３４の上面に注入ノズル（図示せず）を介してレジ
ストを供給したのち、回転軸９を回転すれば、遠心力に
よりレジストがガラス基板３４の上面に塗布される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、このようなレ
ジスト形成装置のスピンコータにおいては、ガラス基板
３４から飛散した余剰のレジストが回収容器７に衝突し
、回収容器７から跳ね返ったレジストがガラス基板３４
に再付着するから、レジスト膜の厚さが均一にならず、
またレジスト膜に異物が付着することがある。さらに、
ガラス基板３４から飛散したレジストが回収容器７に衝
突してミストとなり、一方真空チャック１０、ガラス基
板３４の回転によって回収容器７内に対流が発生し、こ
の対流によってミストとなったレジストがガラス基板３
４に再付着するから、レジスト膜に異物が付着すること
がある。また、ガラス基板３４の角部と回収容器７との
相対速度が大きいから、ガラス基板３４の角部表面上の
空気の速度が大きいので、ガラス基板３４の角部表面上
のレジストが他の部分表面上のレジストより早く乾燥す
るから、ガラス基板３４の角部表面上のレジストの厚さ
が大きくなり、レジスト膜の厚さが均一にならない。

【０００６】この発明は上述の課題を解決するためにな
されたもので、レジストの厚さを均一にすることができ
、またレジスト膜に異物が付着することがないレジスト
形成装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
、この発明においては、被形成板の保持手段と、上記保
持手段を回転する回転手段と、上記保持手段とともに回
転し、内壁が上記被形成板の端部の近傍に位置しかつ上
記内壁の上記被形成板の近傍に位置した部分の下部が外
方に向かっている回収ガイドとを具備するスピンコータ
を設ける。

【０００８】

【作用】このレジスト形成装置においては、回収ガイド
が被形成板とともに回転し、しかも回収ガイドの内壁が
被形成板の端部の近傍に位置しているから、レジストが
回収ガイドから跳ね返らず、また回収ガイドが被形成板
とともに回転するから、回収ガイド内に対流が発生する
ことがない。さらに、回収ガイドが被形成板とともに回
転するから、被形成板と回収ガイドとの相対速度がない
。

【０００９】

【実施例】図１はこの発明に係るレジスト形成装置のス
ピンコータを示す概略図である。図において、１１は基
台、１２は基台１１にベアリング１３によって回転可能
に支持された回転軸、１４は回転軸１２に取り付けられ
たベルト車、１５は基台１１に取り付けられたモータ、
１６はモータ１５の出力軸に取り付けられたベルト車、
１７はベルト車１４、１６に掛けられたベルト、１８は
回転軸１２に内に設けられた昇降軸で、昇降軸１８は回
転軸１２に対して紙面上下方向のみ移動可能である。１
９は昇降軸１８を昇降するエアシリンダ、２０は昇降軸
１８に設けられた真空チャック、２１は真空チャック２
０と真空ポンプ（図示せず）とを接続する真空接続装置
、２２は回転軸１２に取り付けられた回収ガイドで、回
収ガイド２２の内壁は真空チャック２０に保持されたガ
ラス基板３４の端部の近傍に位置し、かつ回収ガイド２
２の内壁のガラス基板３４の近傍に位置した部分の下部
が外方に向かっており、回収ガイド２２の外方先端部は
下方に開口している。２３は回収ガイド２２の蓋、２４
は蓋２３を昇降するためのエアシリンダ、２５はエアシ
リンダ２４のピストンロッドに蓋２３を回転可能に支持
する回転支持装置、２６はレジストタンク、２７はレジ
ストタンク２６に入れられたレジスト、２８は下端がレ
ジスト２７内に浸漬された注入ノズルで、注入ノズル２
８は紙面上下方向部分を中心にして回動可能である。 ２９は注入ノズル２８に設けられた電磁弁、３０は一端
がレジストタンク２６の上部に接続されたガス供給管で
、ガス供給管３０の他端は窒素ガスを加圧供給する窒素
ガス加圧供給装置（図示せず）に接続されている。３１
はドーナツ状の回収受で、回収ガイド２２の外方先端部
は回収受３１内に挿入されている。３２は回収ポット、
３３は回収受３１と回収ポット３２とを接続する回収管
である。

【００１０】このレジスト形成装置においては、まずエ
アシリンダ２４を縮小して蓋２３を上昇し、真空チャッ
ク２０によりガラス基板３４を吸引し、図２、図３に示
すように、注入ノズル２８の注入口をガラス基板３４の
上方に位置させ、ガス供給管３０を介して窒素ガスをレ
ジストタンク２６に加圧供給すれば、ガラス基板３４の
上面にレジストが供給される。つぎに、エアシリンダ２
４を伸長して図１に示す状態としたのち、モータ１５に
より回転軸１２を回転すれば、ガラス基板３４、回収ガ
イド２２がともに回転し、遠心力によりレジストがガラ
ス基板３４の上面に塗布される。そして、ガラス基板３
４から飛散した余剰のレジストは遠心力により回収ガイ
ド２２の内壁に沿って流れ、回収受３１に流入し、さら
に回収管３３を介して回収ポット３２に溜る。

【００１１】このようなレジスト形成装置においては、
回収ガイド２２がガラス基板３４とともに回転し、しか
も回収ガイド２２の内壁がガラス基板３４の端部の近傍
に位置しているから、レジストが回収ガイド２２から跳
ね返らず、また回収ガイド２２がガラス基板３４ととも
に回転するから、回収ガイド２２内に対流が発生するこ
とがないので、レジストがガラス基板３４に再付着しな
い。このため、レジストの厚さが均一になり、またレジ
スト膜に異物が付着しない。さらに、回収ガイド２２が
ガラス基板３４とともに回転するから、ガラス基板３４
と回収ガイド２２との相対速度がないので、レジストが
均一に乾燥するため、レジストの厚さが均一になる。ま
た、ガラス基板３４を回転するときに蓋２３により回収
ガイド２２をほぼ密閉することができるから、回収ガイ
ド２２内にレジストの溶剤の蒸気が充満した状態となる
ので、レジストがゆっくりと均一に乾燥するため、レジ
ストの厚さがより均一になる。

【００１２】なお、上述実施例においては、被形成板が
ガラス基板３４の場合について説明したが、被形成板が
半導体ウェハ等の場合にもこの発明を適用することがで
きる。また、上述実施例においては、保持手段として真
空チャック２０を用いたが、他の保持手段を用いてもよ
い。

【００１３】

【発明の効果】以上説明したように、この発明に係るレ
ジスト形成装置においては、レジストが回収ガイドから
跳ね返らず、また回収ガイド内に対流が発生することが
ないから、レジストが被形成板に再付着しないので、レ
ジストの厚さが均一になり、またレジスト膜に異物が付
着しない。さらに、被形成板と回収ガイドとの相対速度
がないから、レジストが均一に乾燥するので、レジスト
の厚さが均一になる。このように、この発明の効果は顕
著である。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係るレジスト形成装置のスピンコー
タを示す概略図である。

【図２】図１に示したレジスト形成装置のスピンコータ
の動作説明図である。

【図３】図１に示したレジスト形成装置のスピンコータ
の動作説明図である。

【図４】レジスト形成装置を示す概略図である。

【図５】従来のレジスト形成装置のスピンコータの一部
を示す概略図である。

【符号の説明】

２…スピンコータ １２…回転軸 ２０…真空チャック ２２…回収ガイド ３４…ガラス基板

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】被形成板の保持手段と、上記保持手段を回
   転する回転手段と、上記保持手段とともに回転し、内壁
   が上記被形成板の端部の近傍に位置しかつ上記内壁の上
   記被形成板の近傍に位置した部分の下部が外方に向かっ
   ている回収ガイドとを具備するスピンコータを有するこ
   とを特徴とするレジスト形成装置。