JPH09325505A - 感光体の浸漬塗布方法及び浸漬塗布装置 - Google Patents
感光体の浸漬塗布方法及び浸漬塗布装置Info
- Publication number
- JPH09325505A JPH09325505A JP14578496A JP14578496A JPH09325505A JP H09325505 A JPH09325505 A JP H09325505A JP 14578496 A JP14578496 A JP 14578496A JP 14578496 A JP14578496 A JP 14578496A JP H09325505 A JPH09325505 A JP H09325505A
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- JP
- Japan
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- coating
- tank
- end surface
- coating solution
- coating tank
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- Coating Apparatus (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 上端タレの改善され、画像欠陥の少ない電子
写真感光体の浸漬塗布方法及び浸漬塗布装置を提供す
る。 【解決手段】 感光層用塗布溶液を収容する塗布槽中に
円筒状の基体を該円筒の軸を鉛直方向として浸漬し、引
上げることにより、該基体の外周面に感光体層を形成す
る方法であって、少なくとも１度は、塗布溶液を塗布槽
中に供給して塗布槽の上端面から塗布溶液を溢流させる
と共に、塗布槽の上端面から溢流した該塗布溶液を、前
記塗布槽の上端周囲に設けられ、且つ該塗布槽の上端面
と同一または上端面より低い外周壁高さを有する液受け
機構にて捕集することを特徴とする感光体の浸漬塗布方
法及びその浸漬塗布装置。
写真感光体の浸漬塗布方法及び浸漬塗布装置を提供す
る。 【解決手段】 感光層用塗布溶液を収容する塗布槽中に
円筒状の基体を該円筒の軸を鉛直方向として浸漬し、引
上げることにより、該基体の外周面に感光体層を形成す
る方法であって、少なくとも１度は、塗布溶液を塗布槽
中に供給して塗布槽の上端面から塗布溶液を溢流させる
と共に、塗布槽の上端面から溢流した該塗布溶液を、前
記塗布槽の上端周囲に設けられ、且つ該塗布槽の上端面
と同一または上端面より低い外周壁高さを有する液受け
機構にて捕集することを特徴とする感光体の浸漬塗布方
法及びその浸漬塗布装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真感光体の
感光層を浸漬塗布により形成する方法及びその装置に関
するものである。
感光層を浸漬塗布により形成する方法及びその装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、塗布によって基体上に樹脂層や感
光層を設けて電子写真感光体を製造することは広く行わ
れているが、そのうち、基体を塗布溶液に浸漬させ、次
いで引き上げることにより塗膜を基体の外周面に形成す
る浸漬塗布方法は、簡易に塗布できるため工業的に広く
採用されている。
光層を設けて電子写真感光体を製造することは広く行わ
れているが、そのうち、基体を塗布溶液に浸漬させ、次
いで引き上げることにより塗膜を基体の外周面に形成す
る浸漬塗布方法は、簡易に塗布できるため工業的に広く
採用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、該浸漬
塗布方法の場合、基体の円筒軸を鉛直方向として引き上
げられるため、塗膜が乾燥して固定されるまでに、塗布
液の自重により液垂れを生じて、基体の上部の膜厚は薄
く、下部は厚くなるというタレ現象が生じやすい。特に
この上部の膜厚が薄くなるという現象（以下、「上端タ
レ」という）が、基体の画像形成に必要な領域にまで及
ぶと、感光体の膜厚ムラに因る画像ムラを生じることと
なり問題である。
塗布方法の場合、基体の円筒軸を鉛直方向として引き上
げられるため、塗膜が乾燥して固定されるまでに、塗布
液の自重により液垂れを生じて、基体の上部の膜厚は薄
く、下部は厚くなるというタレ現象が生じやすい。特に
この上部の膜厚が薄くなるという現象（以下、「上端タ
レ」という）が、基体の画像形成に必要な領域にまで及
ぶと、感光体の膜厚ムラに因る画像ムラを生じることと
なり問題である。
【０００４】従来、このような問題を解決するために種
々の方法が提案されており、例えば、特開昭５７−５０
４８号公報や特開平３−７８７５１号公報では、塗布液
に浸漬されたドラムの塗布液からの退出速度を変化させ
る方法を開示している。又、特開昭５９−８０３６４号
公報には、上端を２度塗りすることにより厚くする方
法、特開平１−１０７８７４号公報には上端部に風を吹
き付け、乾燥を早める方法等が開示されているが、いず
れの方法も操作が複雑になるにつれ、膜厚やその他の要
因の制御が複雑になるという課題を有している。本発明
は上記課題を解決しようとするものであり、その目的
は、上端タレの改善された電子写真用感光体を提供する
ための浸漬塗布方法及び装置を提供することにある。そ
して、該上端タレの発生率が軽減した感光体を得ること
により、画像欠陥のない画像形成をすることにある。
々の方法が提案されており、例えば、特開昭５７−５０
４８号公報や特開平３−７８７５１号公報では、塗布液
に浸漬されたドラムの塗布液からの退出速度を変化させ
る方法を開示している。又、特開昭５９−８０３６４号
公報には、上端を２度塗りすることにより厚くする方
法、特開平１−１０７８７４号公報には上端部に風を吹
き付け、乾燥を早める方法等が開示されているが、いず
れの方法も操作が複雑になるにつれ、膜厚やその他の要
因の制御が複雑になるという課題を有している。本発明
は上記課題を解決しようとするものであり、その目的
は、上端タレの改善された電子写真用感光体を提供する
ための浸漬塗布方法及び装置を提供することにある。そ
して、該上端タレの発生率が軽減した感光体を得ること
により、画像欠陥のない画像形成をすることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】しかしてかかる目的を解
決すべく、本願発明者等は鋭意検討した結果、意外にも
この問題は、少なくとも一度は塗布液が塗布槽よりオー
バーフローさせると共に、塗布層の上端面の高さと、該
上端面から溢流する塗布液を受ける受けとい機構の外周
壁の高さの位置関係を変更することにより、改善される
ことを見出し、本発明に到達した。
決すべく、本願発明者等は鋭意検討した結果、意外にも
この問題は、少なくとも一度は塗布液が塗布槽よりオー
バーフローさせると共に、塗布層の上端面の高さと、該
上端面から溢流する塗布液を受ける受けとい機構の外周
壁の高さの位置関係を変更することにより、改善される
ことを見出し、本発明に到達した。
【０００６】即ち、本発明の第一の要旨は、感光層用塗
布溶液を収容する塗布槽中に円筒状の基体を該円筒の軸
を鉛直方向として浸漬し、引上げることにより、該基体
の外周面に感光体層を形成する方法であって、少なくと
も１度は、塗布溶液を塗布槽中に供給して塗布槽の上端
面から塗布溶液を溢流させると共に、塗布槽の上端面か
ら溢流した該塗布溶液を、前記塗布槽の上端周囲に設け
られ、且つ該塗布槽の上端面と同一または上端面より低
い外周壁高さを有する液受け機構にて捕集することを特
徴とする感光体の浸漬塗布方法に存する。
布溶液を収容する塗布槽中に円筒状の基体を該円筒の軸
を鉛直方向として浸漬し、引上げることにより、該基体
の外周面に感光体層を形成する方法であって、少なくと
も１度は、塗布溶液を塗布槽中に供給して塗布槽の上端
面から塗布溶液を溢流させると共に、塗布槽の上端面か
ら溢流した該塗布溶液を、前記塗布槽の上端周囲に設け
られ、且つ該塗布槽の上端面と同一または上端面より低
い外周壁高さを有する液受け機構にて捕集することを特
徴とする感光体の浸漬塗布方法に存する。
【０００７】また、本発明の第２の要旨は、感光層用塗
布溶液を収容する塗布槽、該塗布槽中に塗布溶液を供給
する液供給機構、及び該塗布槽の上端周囲に設けられた
該塗布槽の上端面から溢流する塗布溶液を捕集するため
の受けとい機構を有する感光体の浸漬塗布装置におい
て、該受けとい機構の外周壁の高さが、前記塗布槽の上
端面と同一または上端面より低く設けてなることを特徴
とする感光体の浸漬塗布装置に存する。
布溶液を収容する塗布槽、該塗布槽中に塗布溶液を供給
する液供給機構、及び該塗布槽の上端周囲に設けられた
該塗布槽の上端面から溢流する塗布溶液を捕集するため
の受けとい機構を有する感光体の浸漬塗布装置におい
て、該受けとい機構の外周壁の高さが、前記塗布槽の上
端面と同一または上端面より低く設けてなることを特徴
とする感光体の浸漬塗布装置に存する。
【０００８】
【発明の実施の態様】以下、本発明を詳細に説明する。
図１は、本発明の浸漬塗布装置の一例を示す概略図であ
る。円筒状の感光体用基体１０は、塗布溶液１を収容す
る塗布槽２内に浸漬されて引き上げられることにより、
基体外周面に塗膜が形成される。基体１０は、図示しな
い適当なチャッキング装置により円筒の軸が鉛直方向に
保持されており、又、円筒の下端から液が進入してこな
い様に、内部で密閉されていると好ましい。本発明にお
いてはかかる基体が塗布槽に対し昇降することにより塗
布を行っても良いし、基体に対して塗布槽を含む浸漬塗
布装置が昇降することにより塗布を行っても良い。
図１は、本発明の浸漬塗布装置の一例を示す概略図であ
る。円筒状の感光体用基体１０は、塗布溶液１を収容す
る塗布槽２内に浸漬されて引き上げられることにより、
基体外周面に塗膜が形成される。基体１０は、図示しな
い適当なチャッキング装置により円筒の軸が鉛直方向に
保持されており、又、円筒の下端から液が進入してこな
い様に、内部で密閉されていると好ましい。本発明にお
いてはかかる基体が塗布槽に対し昇降することにより塗
布を行っても良いし、基体に対して塗布槽を含む浸漬塗
布装置が昇降することにより塗布を行っても良い。
【０００９】塗布槽の下端部には、塗布液を供給するた
めの液供給機構３が設けられている。具体的には、塗布
槽の下端側面に塗布液の供給管が配設されており、該供
給管から供給される塗布液は、好ましくは整流板や渦機
構等の整流作用を受けて、塗布槽の上方へ通流される。
又、塗布槽の上端部には、塗布槽の上端面９から溢流し
た塗布溶液を受けて、捕集するための受けとい機構４が
設けられる。図２に受けとい機構の一例の概略図を示
す。該受けとい機構は、塗布槽の上端の周囲に設けられ
ており、塗布液を受ける底部５と、外周壁６と、該底部
５から集まった液を図示しない溶液槽へ戻すための管７
を有している。ここで、本発明においては、該外周壁６
の上端面８の高さを、前記の塗布槽の上端面９の高さと
同一または低くして設置することを特徴とする。従来、
この様に塗布槽の上端面から溢流した塗布溶液を受ける
受けとい機構を設けることは知られていたが、いずれも
溢流した塗布溶液を受けるという機構に鑑み該外周壁の
上端面の高さは塗布槽の上端面９の高さより高いのが通
常であった（特開昭５９−１７４８４３号公報参照）。
本願発明は、これに対し、受けとい機構の外周壁の上端
面の高さを塗布槽の上端面の高さより低く、好ましくは
０〜３０ｍｍ、更には５〜１５ｍｍ低くすることによ
り、基体の上端を引き上げる際に、該基体の上端部の乾
燥が早まり上端タレが防止できるという効果を見出し、
到達したものである。
めの液供給機構３が設けられている。具体的には、塗布
槽の下端側面に塗布液の供給管が配設されており、該供
給管から供給される塗布液は、好ましくは整流板や渦機
構等の整流作用を受けて、塗布槽の上方へ通流される。
又、塗布槽の上端部には、塗布槽の上端面９から溢流し
た塗布溶液を受けて、捕集するための受けとい機構４が
設けられる。図２に受けとい機構の一例の概略図を示
す。該受けとい機構は、塗布槽の上端の周囲に設けられ
ており、塗布液を受ける底部５と、外周壁６と、該底部
５から集まった液を図示しない溶液槽へ戻すための管７
を有している。ここで、本発明においては、該外周壁６
の上端面８の高さを、前記の塗布槽の上端面９の高さと
同一または低くして設置することを特徴とする。従来、
この様に塗布槽の上端面から溢流した塗布溶液を受ける
受けとい機構を設けることは知られていたが、いずれも
溢流した塗布溶液を受けるという機構に鑑み該外周壁の
上端面の高さは塗布槽の上端面９の高さより高いのが通
常であった（特開昭５９−１７４８４３号公報参照）。
本願発明は、これに対し、受けとい機構の外周壁の上端
面の高さを塗布槽の上端面の高さより低く、好ましくは
０〜３０ｍｍ、更には５〜１５ｍｍ低くすることによ
り、基体の上端を引き上げる際に、該基体の上端部の乾
燥が早まり上端タレが防止できるという効果を見出し、
到達したものである。
【００１０】尚、浸漬塗布時において、基体の引上げに
伴う塗膜乾燥に及ぼす種々の環境要因を排除するため
に、可動式のフードを基体の引上げに伴い上昇させる方
法が知られているが、本発明においても引上げ当初にお
いて本発明の条件を満たしていれば、適宜このフード１
１を上昇させる方法を採用することができる。本発明に
用いられる円筒状の基体としては、浸漬塗布し得るもの
であれば公知の種々の物が使用できるが、特にアルミニ
ウムが好ましい。該アルミニウムは通常のアルミニウム
単体の他、公知の各種のアルミニウム合金が用いられ
る。
伴う塗膜乾燥に及ぼす種々の環境要因を排除するため
に、可動式のフードを基体の引上げに伴い上昇させる方
法が知られているが、本発明においても引上げ当初にお
いて本発明の条件を満たしていれば、適宜このフード１
１を上昇させる方法を採用することができる。本発明に
用いられる円筒状の基体としては、浸漬塗布し得るもの
であれば公知の種々の物が使用できるが、特にアルミニ
ウムが好ましい。該アルミニウムは通常のアルミニウム
単体の他、公知の各種のアルミニウム合金が用いられ
る。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。なお、以下において
「部」は「重量部」を示す。 ［実施例１］直径３０ｍｍ、長さ２５０ｍｍの円筒状ア
ルミニウム基体に、予め膜厚０．４μｍの電荷発生層を
塗布して形成し、その上に図１に示す塗布装置により、
電荷輸送層を形成する塗布溶液を塗布した。なお、電荷
発生層は、下記の構造式を有するビスアゾ化合物の電荷
発生剤１０部とフェノキシ樹脂（ユニオンカーバイド社
製「ＰＫＨＨ」）５部、ポリビニルブチラール樹脂（積
水化学工業社製「ＢＨ−３」）５部に、４−メトキシ−
４−メチルペンタノン−２ ２００部を加え、サンドグ
ラインドミルで粉砕分散処理を行って得られた塗布液を
用いて形成した。
するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実
施例に限定されるものではない。なお、以下において
「部」は「重量部」を示す。 ［実施例１］直径３０ｍｍ、長さ２５０ｍｍの円筒状ア
ルミニウム基体に、予め膜厚０．４μｍの電荷発生層を
塗布して形成し、その上に図１に示す塗布装置により、
電荷輸送層を形成する塗布溶液を塗布した。なお、電荷
発生層は、下記の構造式を有するビスアゾ化合物の電荷
発生剤１０部とフェノキシ樹脂（ユニオンカーバイド社
製「ＰＫＨＨ」）５部、ポリビニルブチラール樹脂（積
水化学工業社製「ＢＨ−３」）５部に、４−メトキシ−
４−メチルペンタノン−２ ２００部を加え、サンドグ
ラインドミルで粉砕分散処理を行って得られた塗布液を
用いて形成した。
【００１２】
【化１】
【００１３】電荷輸送層形成用の塗布溶液は、Ｎ−メチ
ルカルバゾール−３−アルデヒドジフェニルヒドラゾン
９０部、ポリカーボネート樹脂１００部、下記構造のシ
アノ化合物４．５部を
ルカルバゾール−３−アルデヒドジフェニルヒドラゾン
９０部、ポリカーボネート樹脂１００部、下記構造のシ
アノ化合物４．５部を
【００１４】
【化２】
【００１５】１，４−ジオキサン９００部に溶解して形
成した。塗布槽２の大きさは直径５０ｍｍで、受けとい
機構４の外周壁上端面８の高さは、塗布槽９の上端面の
高さと同一に設置した。塗布槽２にはその下部から塗布
溶液を、予め基体を浸漬した時に溢流する量だけ供給し
ておいた。次に、基体を内部で把持し密封するチャッキ
ング装置にて把持し、鉛直状にして塗布槽へ浸漬し、
３．８ｍｍ／秒にて引上げを行った。基体の浸漬時に塗
布槽の上端面から溢流した塗布溶液は受けとい機構４で
捕集し、液供給機構へ循環した。乾燥後に得られた電荷
移動層の膜厚を渦電流方式で測定を実施した。この結
果、上端タレは基体上端から１３ｍｍの位置まで発生し
ていた。なお、この上端タレの評価は通常の膜厚より２
μｍ以上薄い場所を上端タレとして評価した。
成した。塗布槽２の大きさは直径５０ｍｍで、受けとい
機構４の外周壁上端面８の高さは、塗布槽９の上端面の
高さと同一に設置した。塗布槽２にはその下部から塗布
溶液を、予め基体を浸漬した時に溢流する量だけ供給し
ておいた。次に、基体を内部で把持し密封するチャッキ
ング装置にて把持し、鉛直状にして塗布槽へ浸漬し、
３．８ｍｍ／秒にて引上げを行った。基体の浸漬時に塗
布槽の上端面から溢流した塗布溶液は受けとい機構４で
捕集し、液供給機構へ循環した。乾燥後に得られた電荷
移動層の膜厚を渦電流方式で測定を実施した。この結
果、上端タレは基体上端から１３ｍｍの位置まで発生し
ていた。なお、この上端タレの評価は通常の膜厚より２
μｍ以上薄い場所を上端タレとして評価した。
【００１６】［比較例１］受けとい機構の外周壁上端面
の高さを、塗布槽上端より３７ｍｍ高くした以外は実施
例１と同様に行なった結果、上端タレは基体上端から１
７ｍｍの位置まで発生していた。
の高さを、塗布槽上端より３７ｍｍ高くした以外は実施
例１と同様に行なった結果、上端タレは基体上端から１
７ｍｍの位置まで発生していた。
【００１７】［実施例２］直径３０ｍｍ、長さ２５５ｍ
ｍのアルミニウム基体に実施例１と同様の膜厚０．４μ
ｍの電荷発生層を塗布、形成した。一方、図１の塗布槽
を直径６０ｍｍとし、受けとい機構の外周壁上端面を塗
布槽の上端面の高さより１０ｍｍ低い位置に設置した。
この塗布槽の下部にある液供給機構から実施例１と同様
の電荷輸送層形成用の塗布溶液を１．７リットル／分の
速度で常時供給し、塗布槽の上端面から溢流した塗布溶
液を受けとい機構で捕集し、液供給機構、更には塗布槽
へ循環させておいた。この塗布槽へ実施例１と同様に把
持したアルミニウム基体を浸漬し、速度３．７ｍｍ／秒
にて引上げた。得られた平均膜厚１９μｍの電荷輸送層
の上端タレは基体上端から１５ｍｍの位置まで発生して
いた。
ｍのアルミニウム基体に実施例１と同様の膜厚０．４μ
ｍの電荷発生層を塗布、形成した。一方、図１の塗布槽
を直径６０ｍｍとし、受けとい機構の外周壁上端面を塗
布槽の上端面の高さより１０ｍｍ低い位置に設置した。
この塗布槽の下部にある液供給機構から実施例１と同様
の電荷輸送層形成用の塗布溶液を１．７リットル／分の
速度で常時供給し、塗布槽の上端面から溢流した塗布溶
液を受けとい機構で捕集し、液供給機構、更には塗布槽
へ循環させておいた。この塗布槽へ実施例１と同様に把
持したアルミニウム基体を浸漬し、速度３．７ｍｍ／秒
にて引上げた。得られた平均膜厚１９μｍの電荷輸送層
の上端タレは基体上端から１５ｍｍの位置まで発生して
いた。
【００１８】［比較例２］受けとい機構の外周壁上端面
を塗布槽の上端面より１５０ｍｍ高い位置とする以外は
実施例２と同様にして電荷輸送層を形成した。上端タレ
は基体上端から１８ｍｍの位置まで発生していた。
を塗布槽の上端面より１５０ｍｍ高い位置とする以外は
実施例２と同様にして電荷輸送層を形成した。上端タレ
は基体上端から１８ｍｍの位置まで発生していた。
【００１９】
【発明の効果】以上詳述した通り本発明によれば、極め
て上端タレの改善された電子写真用感光体を得ることが
でき、特に画像欠陥の少ない特性の良好な電子写真感光
体が得られる。又、該欠陥部分の範囲が減少することに
より、不良品が減少し、電子写真用感光体の製造効率が
向上する。
て上端タレの改善された電子写真用感光体を得ることが
でき、特に画像欠陥の少ない特性の良好な電子写真感光
体が得られる。又、該欠陥部分の範囲が減少することに
より、不良品が減少し、電子写真用感光体の製造効率が
向上する。
【図１】本発明の浸漬塗布装置の一例を示す概略図
【図２】本発明の装置における受けとい機構の一例の概
略図
略図
１ 塗布溶液 ２ 塗布槽 ３ 液供給機構 ４ 受けとい機構 ５ 受けとい底部 ６ 外周壁 ７ 戻り配管 ８ 受けとい機構上端面 ９ 塗布槽上端面 １０ 基体 １１ フード
Claims (2)
- 【請求項１】 感光層用塗布溶液を収容する塗布槽中に
円筒状の基体を該円筒の軸を鉛直方向として浸漬し、引
上げることにより、該基体の外周面に感光体層を形成す
る方法であって、少なくとも１度は、塗布溶液を塗布槽
中に供給して塗布槽の上端面から塗布溶液を溢流させる
と共に、塗布槽の上端面から溢流した該塗布溶液を、前
記塗布槽の上端周囲に設けられ、且つ該塗布槽の上端面
と同一または上端面より低い外周壁高さを有する液受け
機構にて捕集することを特徴とする感光体の浸漬塗布方
法。 - 【請求項２】 感光層用塗布溶液を収容する塗布槽、該
塗布槽中に塗布溶液を供給する液供給機構、及び該塗布
槽の上端周囲に設けられた該塗布槽の上端面から溢流す
る塗布溶液を捕集するための受けとい機構を有する感光
体の浸漬塗布装置において、該受けとい機構の外周壁の
高さが、前記塗布槽の上端面と同一または上端面より低
く設けてなることを特徴とする感光体の浸漬塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14578496A JPH09325505A (ja) | 1996-06-07 | 1996-06-07 | 感光体の浸漬塗布方法及び浸漬塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14578496A JPH09325505A (ja) | 1996-06-07 | 1996-06-07 | 感光体の浸漬塗布方法及び浸漬塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09325505A true JPH09325505A (ja) | 1997-12-16 |
Family
ID=15393090
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14578496A Pending JPH09325505A (ja) | 1996-06-07 | 1996-06-07 | 感光体の浸漬塗布方法及び浸漬塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09325505A (ja) |
-
1996
- 1996-06-07 JP JP14578496A patent/JPH09325505A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040831 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050104 |