JPH11271982A - スクリ―ン印刷用ステンシルの製造 - Google Patents
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/14—Forme preparation for stencil-printing or silk-screen printing
- B41C1/147—Forme preparation for stencil-printing or silk-screen printing by imagewise deposition of a liquid, e.g. from an ink jet; Chemical perforation by the hardening or solubilizing of the ink impervious coating or sheet
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
- C09D4/06—Organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond in combination with a macromolecular compound other than an unsaturated polymer of groups C09D159/00 - C09D187/00
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
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- Printing Methods (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】感光性物質を含まず、安全照明を用いる必要の
ないポジティブ法により、スクリーン印刷用ステンシル
を製造する。 【解決手段】被覆層１１’と支持層１２’を有する被覆
受容フィルム１０’は、インクジェットプリンタまたは
プロッタを用いて、開放ステンシル領域１９’に対応す
る領域１４’に画像形成される。次いで、メッシュ１
５’および塗布された乳剤１６’に上記フィルムが施さ
れる。非画像形成領域でこの乳剤の硬化が起こる。次い
で、上記フィルムの支持層１２’を除去し、非硬化乳剤
を洗い去ることにより、上記ステンシルが製造される。
この受容フィルムはプロフィール１８’を形成するため
にステンシル層に組み込まれる層を含んでもよい。スク
リーン製造法の他、被覆フィルム、被覆組成物および画
像を形成するよう塗布するための組成物を開示する。
ないポジティブ法により、スクリーン印刷用ステンシル
を製造する。 【解決手段】被覆層１１’と支持層１２’を有する被覆
受容フィルム１０’は、インクジェットプリンタまたは
プロッタを用いて、開放ステンシル領域１９’に対応す
る領域１４’に画像形成される。次いで、メッシュ１
５’および塗布された乳剤１６’に上記フィルムが施さ
れる。非画像形成領域でこの乳剤の硬化が起こる。次い
で、上記フィルムの支持層１２’を除去し、非硬化乳剤
を洗い去ることにより、上記ステンシルが製造される。
この受容フィルムはプロフィール１８’を形成するため
にステンシル層に組み込まれる層を含んでもよい。スク
リーン製造法の他、被覆フィルム、被覆組成物および画
像を形成するよう塗布するための組成物を開示する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はスクリーン印刷用ス
テンシルの製造に関する。
テンシルの製造に関する。
【０００２】
【関連する背景技術】スクリーン印刷用ステンシルの製
造は、一般に当業者には十分公知である。スクリーン印
刷用ステンシルを製造する一つの方法は「直接法」と呼
ばれ、スクリーンメッシュ上を液体感光性乳剤で直接被
覆する。乾燥後、スクリーン全面を、真空フレーム中の
スクリーンに接触させて固定したポジフィルムを通して
化学線で露光する。ポジの黒い部分は、乳剤へと光を透
過させないので、その領域の乳剤は硬化しない。露光さ
れた領域では、該乳剤は、硬化して不溶性になり、その
結果、適当な溶媒で洗浄した後には、非露光領域は、次
に続く印刷工程で支持体にインクを通過させる。
造は、一般に当業者には十分公知である。スクリーン印
刷用ステンシルを製造する一つの方法は「直接法」と呼
ばれ、スクリーンメッシュ上を液体感光性乳剤で直接被
覆する。乾燥後、スクリーン全面を、真空フレーム中の
スクリーンに接触させて固定したポジフィルムを通して
化学線で露光する。ポジの黒い部分は、乳剤へと光を透
過させないので、その領域の乳剤は硬化しない。露光さ
れた領域では、該乳剤は、硬化して不溶性になり、その
結果、適当な溶媒で洗浄した後には、非露光領域は、次
に続く印刷工程で支持体にインクを通過させる。
【０００３】もう一つの方法は「直接／間接法」と呼ば
れ、支持体基板上にプレコートされた非感光乳剤が被覆
されたフィルムを、この平坦なフィルム上にスクリーン
メッシュを置くことにより、当該スクリーンメッシュと
接触させる。次いで、感光した乳剤を反対側から該メッ
シュを通して押し出し、かくしてスクリーンにフィルム
を積層し、同時にそのフィルムの乳剤を感光させる。乾
燥後、基板支持体を剥離し、次いでこのスクリーンを直
接法と同様の方法で処理する。
れ、支持体基板上にプレコートされた非感光乳剤が被覆
されたフィルムを、この平坦なフィルム上にスクリーン
メッシュを置くことにより、当該スクリーンメッシュと
接触させる。次いで、感光した乳剤を反対側から該メッ
シュを通して押し出し、かくしてスクリーンにフィルム
を積層し、同時にそのフィルムの乳剤を感光させる。乾
燥後、基板支持体を剥離し、次いでこのスクリーンを直
接法と同様の方法で処理する。
【０００４】「間接法」では、フィルム基板を予め感光
させた乳剤で予め被覆する。この被覆フィルムに接触さ
せて固定したポジを通して、該フィルムを化学線で露光
させる。露光した乳剤を化学的に固化した後、未露光乳
剤を洗い流す。次いで、製造したステンシルをスクリー
ンメッシュ上に取り付け、直接法に関して前記したごと
くに印刷に使用する。
させた乳剤で予め被覆する。この被覆フィルムに接触さ
せて固定したポジを通して、該フィルムを化学線で露光
させる。露光した乳剤を化学的に固化した後、未露光乳
剤を洗い流す。次いで、製造したステンシルをスクリー
ンメッシュ上に取り付け、直接法に関して前記したごと
くに印刷に使用する。
【０００５】「毛管直接法」では、予め被覆し、かつ、
予め感光させたフィルム基板を、メッシュの一方の表面
に、メッシュの反対表面に施した水の毛管作用により接
着させる。乾燥後、該フィルムを剥離し、次いで該スク
リーンを処理し、直接法に関して記載したごとくに使用
する。前記方法に加え、ハンドカットステンシルを用い
ることができる。ハンドカットステンシルは、必要とさ
れるステンシルデザインをフィルム基板支持体上の乳剤
被覆までカッティングすることにより製造される。カッ
トされる領域は、フィルムをメッシュに付着させる前
に、基板から取り除かれる。次いで乳剤を軟化させて、
メッシュに接着させる。乾燥後、基板を剥離する。これ
により、スクリーンは、印刷に使用可能となる。この方
法は、単純な印刷物のみに適するに過ぎない。
予め感光させたフィルム基板を、メッシュの一方の表面
に、メッシュの反対表面に施した水の毛管作用により接
着させる。乾燥後、該フィルムを剥離し、次いで該スク
リーンを処理し、直接法に関して記載したごとくに使用
する。前記方法に加え、ハンドカットステンシルを用い
ることができる。ハンドカットステンシルは、必要とさ
れるステンシルデザインをフィルム基板支持体上の乳剤
被覆までカッティングすることにより製造される。カッ
トされる領域は、フィルムをメッシュに付着させる前
に、基板から取り除かれる。次いで乳剤を軟化させて、
メッシュに接着させる。乾燥後、基板を剥離する。これ
により、スクリーンは、印刷に使用可能となる。この方
法は、単純な印刷物のみに適するに過ぎない。
【０００６】上述の先行技術の方法に総じて伴う一つの
問題は、スクリーンを製造するのに多くの工程が必要で
あるということであり、そのために、スクリーンの製造
に時間がかかり、多大な労力を要することである。もう
一つの問題は、ハンドカッティングを除く何れの方法で
も、スクリーン製造工程中には、通常の照明を用いるこ
とができないということである。これはステンシル材料
が感光性を持つためである。さらに、ステンシルを露光
させるための化学線（通常は紫外線）の光源を設ける必
要がある。このことは、通常、イニシャルコスト、空間
利用率および稼働維持コストについての不利をもたら
す。
問題は、スクリーンを製造するのに多くの工程が必要で
あるということであり、そのために、スクリーンの製造
に時間がかかり、多大な労力を要することである。もう
一つの問題は、ハンドカッティングを除く何れの方法で
も、スクリーン製造工程中には、通常の照明を用いるこ
とができないということである。これはステンシル材料
が感光性を持つためである。さらに、ステンシルを露光
させるための化学線（通常は紫外線）の光源を設ける必
要がある。このことは、通常、イニシャルコスト、空間
利用率および稼働維持コストについての不利をもたら
す。
【０００７】他の印刷用スクリーン製造方法も利用可能
である。CA-A-2088400(Gerber Scientific Products, I
nc.)は、所望の画像を表すデータに従って予めプログラ
ムされた態様で、ブロッキング組成物をスクリーンメッ
シュ表面上に直接噴出する方法および装置について記載
している。該ブロッキング組成物は、スクリーンメッシ
ュの部分を直接塞いで、所望のステンシルパターンを規
定する。
である。CA-A-2088400(Gerber Scientific Products, I
nc.)は、所望の画像を表すデータに従って予めプログラ
ムされた態様で、ブロッキング組成物をスクリーンメッ
シュ表面上に直接噴出する方法および装置について記載
している。該ブロッキング組成物は、スクリーンメッシ
ュの部分を直接塞いで、所望のステンシルパターンを規
定する。
【０００８】EP-A-0492351(Gerber Scientific Product
s, Inc.)に記載された方法では、未露光の感光性乳剤層
をスクリーンメッシュ表面上に塗布し、印刷機構によっ
てグラフィックを乳剤層に直接インクジェット印刷し
て、スクリーンをさらに処理する前に乳剤を露光するた
めのマスクを設けるようになっている。前記の両方法は
極めて特殊な装置の使用を要し、これには一定のコスト
がかかるとともに、特にスクリーンのサイズおよびその
解像度の点における装置の限界から生じる制限が課せら
れる。第二の方法はまた、感光フィルムと乳剤を要し、
これには露光装置と真空フレームが必要である。
s, Inc.)に記載された方法では、未露光の感光性乳剤層
をスクリーンメッシュ表面上に塗布し、印刷機構によっ
てグラフィックを乳剤層に直接インクジェット印刷し
て、スクリーンをさらに処理する前に乳剤を露光するた
めのマスクを設けるようになっている。前記の両方法は
極めて特殊な装置の使用を要し、これには一定のコスト
がかかるとともに、特にスクリーンのサイズおよびその
解像度の点における装置の限界から生じる制限が課せら
れる。第二の方法はまた、感光フィルムと乳剤を要し、
これには露光装置と真空フレームが必要である。
【０００９】インクジェットプリンタは、密に配置され
たインク滴を制御されたパターンで受容支持体に噴出す
ることにより作動する。インク滴のパターンを選択的に
調節することにより、インクジェットプリンタを用い
て、広範な支持体上のテキスト、グラフィックおよび画
像をはじめとする、広範な印刷物を提供することができ
る。多くのインクジェット印刷システムでは、インクが
最終の受容支持体の表面に直接印刷される。画像が中間
画像転写面に印刷され、続いて最終の受容支持体へと転
写されるインクジェット印刷システムが、US-A-4538156
（AT&T TeletypeCorp.)に記載されている。さらに、US-
A-5380769 (Tektronix Inc.)は、別々に受容支持体に施
されるベースインク成分および硬化成分の少なくとも２
つの反応性組成物を含む反応性インク組成物について記
載している。好ましくは、該ベースインク成分は、イン
クジェット印刷技術を用いて受容支持体に施され、次い
で該ベースインク成分を硬化成分に曝すと、耐久性のあ
る架橋インクが生成する。
たインク滴を制御されたパターンで受容支持体に噴出す
ることにより作動する。インク滴のパターンを選択的に
調節することにより、インクジェットプリンタを用い
て、広範な支持体上のテキスト、グラフィックおよび画
像をはじめとする、広範な印刷物を提供することができ
る。多くのインクジェット印刷システムでは、インクが
最終の受容支持体の表面に直接印刷される。画像が中間
画像転写面に印刷され、続いて最終の受容支持体へと転
写されるインクジェット印刷システムが、US-A-4538156
（AT&T TeletypeCorp.)に記載されている。さらに、US-
A-5380769 (Tektronix Inc.)は、別々に受容支持体に施
されるベースインク成分および硬化成分の少なくとも２
つの反応性組成物を含む反応性インク組成物について記
載している。好ましくは、該ベースインク成分は、イン
クジェット印刷技術を用いて受容支持体に施され、次い
で該ベースインク成分を硬化成分に曝すと、耐久性のあ
る架橋インクが生成する。
【００１０】EP-A-0108509 (Pilot Man-Nen-Hitsu KK)
は、多孔性の支持体上の被覆を選択的に、化学的に可溶
化し、次いで洗い去る方法について記載している。EP-A
-0710552 (Riso Kagaku Corporation)は、多孔性の支持
体がドラムの円筒面を形成する機械について記載してい
る。この支持体は、インクが印刷媒体に向かって支持体
を通り抜ける前に、選択的に可溶化される被覆層を有す
る。
は、多孔性の支持体上の被覆を選択的に、化学的に可溶
化し、次いで洗い去る方法について記載している。EP-A
-0710552 (Riso Kagaku Corporation)は、多孔性の支持
体がドラムの円筒面を形成する機械について記載してい
る。この支持体は、インクが印刷媒体に向かって支持体
を通り抜ける前に、選択的に可溶化される被覆層を有す
る。
【００１１】GB-A-180778 (Carter)は、インクの塗布の
前にニスを被覆しているステンシルペーパーについて記
載している。このインクおよび下層のニスは、その後洗
い去られて、回転式複写機用のステンシルが形成され
る。発明者らの同時係属中の出願 PCT/GB97/01881は、
陰画となる受容エレメントに施される画像を必要とする
スクリーン印刷ステンシルの製造方法について記載して
いる（これは「ネガティブ法」として知られる）。本出
願では、陽画を用いる方法が開示される（「ポジティブ
法」）。各々の方法は、使用状況により他と比較して有
利な点を有している。
前にニスを被覆しているステンシルペーパーについて記
載している。このインクおよび下層のニスは、その後洗
い去られて、回転式複写機用のステンシルが形成され
る。発明者らの同時係属中の出願 PCT/GB97/01881は、
陰画となる受容エレメントに施される画像を必要とする
スクリーン印刷ステンシルの製造方法について記載して
いる（これは「ネガティブ法」として知られる）。本出
願では、陽画を用いる方法が開示される（「ポジティブ
法」）。各々の方法は、使用状況により他と比較して有
利な点を有している。
【００１２】
【発明の開示】本発明によれば、印刷媒体通過用の開放
領域および印刷媒体遮断用の遮断領域を有するスクリー
ン印刷用ステンシルの製造方法が提供される。当該方法
は、任意の支持基板を含む受容エレメントと、第一の物
質を含む受像層を用意すること、製造されるステンシル
の開放領域に相当する領域で、上記受像層に画像を形成
するように、第二の物質を施すこと、上記受像層を、ス
クリーン印刷用スクリーンに層状に施される第三の物質
と接触させること、化学反応を引き起こしてまたは可能
にして、上記スクリーン上に、それぞれ上記開放および
遮断ステンシル領域に相当する相対的に高い溶解度およ
び相対的に低い溶解度を有するステンシル形成層を形成
すること、ならびに溶解度のより高い領域のステンシル
形成層を洗い去り、それによりスクリーン印刷用ステン
シルを製造すること、上記第一、第二および第三の物質
が、前述のように上記化学反応を引き起こすものである
ことを含む。
領域および印刷媒体遮断用の遮断領域を有するスクリー
ン印刷用ステンシルの製造方法が提供される。当該方法
は、任意の支持基板を含む受容エレメントと、第一の物
質を含む受像層を用意すること、製造されるステンシル
の開放領域に相当する領域で、上記受像層に画像を形成
するように、第二の物質を施すこと、上記受像層を、ス
クリーン印刷用スクリーンに層状に施される第三の物質
と接触させること、化学反応を引き起こしてまたは可能
にして、上記スクリーン上に、それぞれ上記開放および
遮断ステンシル領域に相当する相対的に高い溶解度およ
び相対的に低い溶解度を有するステンシル形成層を形成
すること、ならびに溶解度のより高い領域のステンシル
形成層を洗い去り、それによりスクリーン印刷用ステン
シルを製造すること、上記第一、第二および第三の物質
が、前述のように上記化学反応を引き起こすものである
ことを含む。
【００１３】この範囲内において、４つの特定の方法が
本発明の好適態様として認められるが、本発明はこれら
４つの好適態様に限定されるものではない。第一の好適
態様では、本発明は、印刷媒体通過用の開放領域および
印刷媒体遮断用の遮断領域を有するスクリーン印刷用ス
テンシルの製造方法を提供するものであって、当該方法
は、任意の支持基板を含む受容エレメントと、ステンシ
ル形成化学薬剤との反応性のある化学薬剤を含む受像層
を用意すること、上記化学薬剤とステンシル形成剤との
間の反応に対する阻害剤を、上記受像層に画像を形成す
るように施すこと、上記阻害剤が施される領域が、製造
されるステンシルの開放領域に相当すること、上記ステ
ンシル形成化学薬剤を含む組成物をスクリーン印刷用ス
クリーンに施すこと、上記受容エレメントの受像層を上
記ステンシル形成組成物と接触させ、阻害されない化学
薬剤を反応させて、上記スクリーン上に、遮断ステンシ
ル領域に相当する溶解度のより低い領域および開放ステ
ンシル領域に相当する溶解度のより高い領域を有するス
テンシル形成層を形成させること、上記受容エレメント
の未反応部分を除去すること、ならびに溶解度のより高
い領域内のステンシル形成化学薬剤を洗い去り、それに
よりスクリーン印刷用ステンシルを製造することを含
む。
本発明の好適態様として認められるが、本発明はこれら
４つの好適態様に限定されるものではない。第一の好適
態様では、本発明は、印刷媒体通過用の開放領域および
印刷媒体遮断用の遮断領域を有するスクリーン印刷用ス
テンシルの製造方法を提供するものであって、当該方法
は、任意の支持基板を含む受容エレメントと、ステンシ
ル形成化学薬剤との反応性のある化学薬剤を含む受像層
を用意すること、上記化学薬剤とステンシル形成剤との
間の反応に対する阻害剤を、上記受像層に画像を形成す
るように施すこと、上記阻害剤が施される領域が、製造
されるステンシルの開放領域に相当すること、上記ステ
ンシル形成化学薬剤を含む組成物をスクリーン印刷用ス
クリーンに施すこと、上記受容エレメントの受像層を上
記ステンシル形成組成物と接触させ、阻害されない化学
薬剤を反応させて、上記スクリーン上に、遮断ステンシ
ル領域に相当する溶解度のより低い領域および開放ステ
ンシル領域に相当する溶解度のより高い領域を有するス
テンシル形成層を形成させること、上記受容エレメント
の未反応部分を除去すること、ならびに溶解度のより高
い領域内のステンシル形成化学薬剤を洗い去り、それに
よりスクリーン印刷用ステンシルを製造することを含
む。
【００１４】第二の好適態様では、本発明は、印刷媒体
通過用の開放領域および印刷媒体遮断用の遮断領域を有
するスクリーン印刷用ステンシルの製造方法を提供する
ものであって、当該方法は、任意の支持基板を含む受容
エレメントと受像層を用意すること、反応阻害剤を、上
記受像層に画像を形成するように施すこと、上記阻害剤
が施される領域が、製造されるステンシルの開放領域に
相当すること、ステンシル形成化学薬剤、それと反応性
がある化学薬剤およびそれらの間の反応に対する一時的
阻害剤を含む組成物をスクリーン印刷用スクリーンに施
し、その反応が上記反応阻害剤により阻害されること、
上記受容エレメントの受像層を上記スクリーン印刷用ス
クリーンに施される組成物と接触させること、上記一時
的阻害剤を上記スクリーンに施された組成物から放出さ
せ、または放出を可能にし、それによりステンシル形成
化学薬剤と、それと反応性のある化学薬剤を反応阻害剤
により阻害されない場所で反応させ、それにより上記ス
クリーン上に、遮断領域に相当する溶解度のより低い領
域および開放ステンシル領域に相当する溶解度のより高
い領域を有するステンシル形成層を形成させ、上記受容
エレメントの未反応部分を除去すること、ならびに溶解
度のより高い領域から未反応組成物を洗い去り、それに
よりスクリーン印刷用ステンシルを製造することを含
む。
通過用の開放領域および印刷媒体遮断用の遮断領域を有
するスクリーン印刷用ステンシルの製造方法を提供する
ものであって、当該方法は、任意の支持基板を含む受容
エレメントと受像層を用意すること、反応阻害剤を、上
記受像層に画像を形成するように施すこと、上記阻害剤
が施される領域が、製造されるステンシルの開放領域に
相当すること、ステンシル形成化学薬剤、それと反応性
がある化学薬剤およびそれらの間の反応に対する一時的
阻害剤を含む組成物をスクリーン印刷用スクリーンに施
し、その反応が上記反応阻害剤により阻害されること、
上記受容エレメントの受像層を上記スクリーン印刷用ス
クリーンに施される組成物と接触させること、上記一時
的阻害剤を上記スクリーンに施された組成物から放出さ
せ、または放出を可能にし、それによりステンシル形成
化学薬剤と、それと反応性のある化学薬剤を反応阻害剤
により阻害されない場所で反応させ、それにより上記ス
クリーン上に、遮断領域に相当する溶解度のより低い領
域および開放ステンシル領域に相当する溶解度のより高
い領域を有するステンシル形成層を形成させ、上記受容
エレメントの未反応部分を除去すること、ならびに溶解
度のより高い領域から未反応組成物を洗い去り、それに
よりスクリーン印刷用ステンシルを製造することを含
む。
【００１５】第三の好適態様では、本発明は、印刷媒体
通過用の開放領域および印刷媒体遮断用の遮断領域を有
するスクリーン印刷用ステンシルの製造方法を提供する
ものであって、当該方法は、任意の支持基板を含む受容
エレメントと、ステンシル形成化学薬剤と反応性のある
化学薬剤を含む受像層とを用意すること、上記受像層に
由来する化学薬剤の移動を妨げるマスキング剤を、上記
受像層に画像を形成するように施すこと、上記マスキン
グ剤が施される領域が、製造されるステンシルの開放領
域に相当すること、上記ステンシル形成化学薬剤を含む
組成物をスクリーン印刷用スクリーンに施すこと、上記
受容エレメントの受像層を上記ステンシル形成化学薬剤
と接触させ、マスキング剤によりマスクされていない領
域において反応化学薬剤と上記ステンシル形成化学薬剤
を反応させて、上記スクリーン上に、遮断ステンシル領
域に相当する溶解度のより低い領域および開放ステンシ
ル領域に相当する溶解度のより高い領域を有するステン
シル形成層を形成させること、上記受容エレメントの未
反応部分を除去すること、ならびに溶解度のより高い領
域の第二のステンシル形成化学薬剤を洗い去り、それに
よりスクリーン印刷用スクリーンを製造することを含
む。
通過用の開放領域および印刷媒体遮断用の遮断領域を有
するスクリーン印刷用ステンシルの製造方法を提供する
ものであって、当該方法は、任意の支持基板を含む受容
エレメントと、ステンシル形成化学薬剤と反応性のある
化学薬剤を含む受像層とを用意すること、上記受像層に
由来する化学薬剤の移動を妨げるマスキング剤を、上記
受像層に画像を形成するように施すこと、上記マスキン
グ剤が施される領域が、製造されるステンシルの開放領
域に相当すること、上記ステンシル形成化学薬剤を含む
組成物をスクリーン印刷用スクリーンに施すこと、上記
受容エレメントの受像層を上記ステンシル形成化学薬剤
と接触させ、マスキング剤によりマスクされていない領
域において反応化学薬剤と上記ステンシル形成化学薬剤
を反応させて、上記スクリーン上に、遮断ステンシル領
域に相当する溶解度のより低い領域および開放ステンシ
ル領域に相当する溶解度のより高い領域を有するステン
シル形成層を形成させること、上記受容エレメントの未
反応部分を除去すること、ならびに溶解度のより高い領
域の第二のステンシル形成化学薬剤を洗い去り、それに
よりスクリーン印刷用スクリーンを製造することを含
む。
【００１６】第四の好適態様では、本発明は、印刷媒体
通過用の開放領域および印刷媒体遮断用の遮断領域を有
するスクリーン印刷用ステンシルの製造方法を提供する
ものであって、当該方法は、任意の支持基板を含む受容
エレメントと、少なくとも１種の重合系成分を含む受像
層を用意すること、上記重合に対する阻害剤を、上記受
像層に画像を形成するように施すこと、上記阻害剤が施
される領域が、製造されるステンシルの開放領域に相当
すること、重合可能物質をはじめとする重合系成分をさ
らに含むステンシル形成組成物をスクリーン印刷用スク
リーンに施すこと、上記受容エレメントの受像層を上記
ステンシル形成組成物と接触させて、上記阻害剤により
阻害されていないところで上記重合を起こし、上記スク
リーン上に、遮断ステンシル領域に相当する溶解度のよ
り低い領域および開放ステンシル領域に相当する溶解度
のより高い領域を有するステンシル形成層を形成するこ
と、上記受容エレメントの未反応部分のいずれをも除去
すること、ならびに溶解度のより高い領域のステンシル
形成組成物を洗い去り、それによりスクリーン印刷用ス
テンシルを製造することを含む。
通過用の開放領域および印刷媒体遮断用の遮断領域を有
するスクリーン印刷用ステンシルの製造方法を提供する
ものであって、当該方法は、任意の支持基板を含む受容
エレメントと、少なくとも１種の重合系成分を含む受像
層を用意すること、上記重合に対する阻害剤を、上記受
像層に画像を形成するように施すこと、上記阻害剤が施
される領域が、製造されるステンシルの開放領域に相当
すること、重合可能物質をはじめとする重合系成分をさ
らに含むステンシル形成組成物をスクリーン印刷用スク
リーンに施すこと、上記受容エレメントの受像層を上記
ステンシル形成組成物と接触させて、上記阻害剤により
阻害されていないところで上記重合を起こし、上記スク
リーン上に、遮断ステンシル領域に相当する溶解度のよ
り低い領域および開放ステンシル領域に相当する溶解度
のより高い領域を有するステンシル形成層を形成するこ
と、上記受容エレメントの未反応部分のいずれをも除去
すること、ならびに溶解度のより高い領域のステンシル
形成組成物を洗い去り、それによりスクリーン印刷用ス
テンシルを製造することを含む。
【００１７】これらいずれの態様においても、受容エレ
メントの受像層は、ステンシル形成化学薬剤とそれと反
応性がある化学薬剤との間の反応にあずかる物質を含ん
でもよく、それにより、受像層の化学薬剤が、溶解度の
より高い領域から未反応組成物を洗い去った後に形成さ
れるステンシルにおけるステンシル形成層の一部を形成
する。
メントの受像層は、ステンシル形成化学薬剤とそれと反
応性がある化学薬剤との間の反応にあずかる物質を含ん
でもよく、それにより、受像層の化学薬剤が、溶解度の
より高い領域から未反応組成物を洗い去った後に形成さ
れるステンシルにおけるステンシル形成層の一部を形成
する。
【００１８】本発明はさらに、スクリーン印刷用ステン
シルの製造に使用される被覆フィルム製品を提供するも
のであって、当該製品は、任意の支持基板と以下の有効
剤：ホウ酸；ホウ素塩、例えばＩ族およびＩＩ族金属の
ホウ酸塩；アルデヒド、例えばホルムアルデヒド；所望
により無機酸を伴うジアルデヒド、例えばグリオキサー
ルおよびグルタルアルデヒド；ならびに遷移金属化合物
類、例えば鉄(III)塩、ジルコニウム塩、チタン塩およ
びクロム化合物、例えばペンタヒドロキシ（テトラデカ
ノエート）ジクロミウムおよびその誘導体のうちの１つ
以上を含有する受像層を含む。
シルの製造に使用される被覆フィルム製品を提供するも
のであって、当該製品は、任意の支持基板と以下の有効
剤：ホウ酸；ホウ素塩、例えばＩ族およびＩＩ族金属の
ホウ酸塩；アルデヒド、例えばホルムアルデヒド；所望
により無機酸を伴うジアルデヒド、例えばグリオキサー
ルおよびグルタルアルデヒド；ならびに遷移金属化合物
類、例えば鉄(III)塩、ジルコニウム塩、チタン塩およ
びクロム化合物、例えばペンタヒドロキシ（テトラデカ
ノエート）ジクロミウムおよびその誘導体のうちの１つ
以上を含有する受像層を含む。
【００１９】かかるフィルム製品は本発明の第一および
第三の好適態様に従う方法において特に有用であるが、
このような使用に限定されるものではない。本発明はさ
らに、スクリーン印刷ステンシルの製造に使用するため
の被覆フィルム製品を提供するものであって、当該製品
は、任意の支持基板とフリーラジカル形成系の少なくと
も１種の成分を含有する受像層を含む。
第三の好適態様に従う方法において特に有用であるが、
このような使用に限定されるものではない。本発明はさ
らに、スクリーン印刷ステンシルの製造に使用するため
の被覆フィルム製品を提供するものであって、当該製品
は、任意の支持基板とフリーラジカル形成系の少なくと
も１種の成分を含有する受像層を含む。
【００２０】好ましくは、該受像層はさらにフリーラジ
カル重合工程にあずかり得る成分を含む。かかるフィル
ム製品は、本発明の第四の好適態様に従う方法において
特に有用であるが、このような使用に限定されるもので
はない。本発明はまた、プロッタのインクジェットプリ
ンタなどの滴下塗布装置用のプレ充填カートリッジを提
供するものであって、当該カートリッジは、所望により
適切な液体溶媒または担体中に、不溶性ホウ酸塩を製造
するための、ホウ酸またはホウ素塩、例えばＩ族および
ＩＩ族金属のホウ酸塩との反応が可能な物質；キレート
化剤、好ましくはアルキレンジアミン四酢酸、例えばエ
チレンジアミン四酢酸またはその誘導体、もしくはかか
るキレート化剤の２種以上の混合物；および芳香族ポリ
オール、好ましくはヒドロキシ置換ベンゼン誘導体、例
えばピロガロールまたはカテコールのうちの１つ以上を
含有する。
カル重合工程にあずかり得る成分を含む。かかるフィル
ム製品は、本発明の第四の好適態様に従う方法において
特に有用であるが、このような使用に限定されるもので
はない。本発明はまた、プロッタのインクジェットプリ
ンタなどの滴下塗布装置用のプレ充填カートリッジを提
供するものであって、当該カートリッジは、所望により
適切な液体溶媒または担体中に、不溶性ホウ酸塩を製造
するための、ホウ酸またはホウ素塩、例えばＩ族および
ＩＩ族金属のホウ酸塩との反応が可能な物質；キレート
化剤、好ましくはアルキレンジアミン四酢酸、例えばエ
チレンジアミン四酢酸またはその誘導体、もしくはかか
るキレート化剤の２種以上の混合物；および芳香族ポリ
オール、好ましくはヒドロキシ置換ベンゼン誘導体、例
えばピロガロールまたはカテコールのうちの１つ以上を
含有する。
【００２１】かかるカートリッジは４種記載された本発
明の好適態様のいずれにおいても特に有用であるが、こ
のような使用に限定されるものではない。さらに本発明
は、スクリーン印刷用ステンシルの製造におけるスクリ
ーン印刷用メッシュの被覆に使用するための組成物を提
供するものであって、当該組成物は、フリーラジカル重
合工程にあずかり、硬化ステンシル材を製造可能な少な
くとも１種の化合物と、フリーラジカル形成系の少なく
とも１種の化合物を含む。
明の好適態様のいずれにおいても特に有用であるが、こ
のような使用に限定されるものではない。さらに本発明
は、スクリーン印刷用ステンシルの製造におけるスクリ
ーン印刷用メッシュの被覆に使用するための組成物を提
供するものであって、当該組成物は、フリーラジカル重
合工程にあずかり、硬化ステンシル材を製造可能な少な
くとも１種の化合物と、フリーラジカル形成系の少なく
とも１種の化合物を含む。
【００２２】好ましくは、上記該組成物はさらに、重合
の際に重合生成物に組み込まれる物質を含む。さらなる
物質は、例えばポリビニルアルコールであってもよい。
かかる組成物は本発明の第４の好適態様に従う方法にお
いて特に有用であるが、このような使用に限定されるも
のではない。さらに本発明は、スクリーン印刷用ステン
シルの製造におけるスクリーン印刷用メッシュの被覆に
使用するための組成物を提供するものであって、当該組
成物は、イオン性架橋反応にあずかり、上記メッシュ上
に硬化ステンシル層を形成することが可能な少なくとも
１種の化合物と、架橋イオンの供給源と、重合反応に対
する一時的な阻害剤を含む。
の際に重合生成物に組み込まれる物質を含む。さらなる
物質は、例えばポリビニルアルコールであってもよい。
かかる組成物は本発明の第４の好適態様に従う方法にお
いて特に有用であるが、このような使用に限定されるも
のではない。さらに本発明は、スクリーン印刷用ステン
シルの製造におけるスクリーン印刷用メッシュの被覆に
使用するための組成物を提供するものであって、当該組
成物は、イオン性架橋反応にあずかり、上記メッシュ上
に硬化ステンシル層を形成することが可能な少なくとも
１種の化合物と、架橋イオンの供給源と、重合反応に対
する一時的な阻害剤を含む。
【００２３】かかる組成物は本発明の第二の態様に従う
方法において特に有用であるが、このような使用に限定
されるものではない。本発明によれば、ステンシルは化
学的手段により形成され、特殊な照明条件や化学線照射
のいずれの使用をも必要としない。また、公知の方法に
比べ、時間および労力の消費を減じて本発明を行うこと
ができる。
方法において特に有用であるが、このような使用に限定
されるものではない。本発明によれば、ステンシルは化
学的手段により形成され、特殊な照明条件や化学線照射
のいずれの使用をも必要としない。また、公知の方法に
比べ、時間および労力の消費を減じて本発明を行うこと
ができる。
【００２４】本発明の方法はポジティブ法であり、画像
が形成するように施される物質を、最終のステンシルの
開放領域に相当する領域に施す。滴下塗布を使用する場
合は、塗布は、製造されるステンシルの遮断および開放
領域の所望のパターンをエンコードするデータに従って
制御されることが好ましい。この制御はコンピュータ
ー、例えばパーソナルコンピューターによるものであっ
てよい。かくして、所望の出力パターンを表すデータ
は、予め記録されたデジタル信号として制御装置に入力
することができ、ヘッドが受容エレメントの表面を走査
する際に、画像を形成するように塗布された物質を沈着
させるあるいは沈着させない噴出ヘッドによって用いら
れる。しかしながら本発明は、画像を形成するように塗
布される物質の滴下塗布に限定されず、他の塗布法も同
様の必須目的を達成すると考えられ、例えば画像を形成
するように塗布される物質は、手に持ったマーカーペン
で塗布することもできる。
が形成するように施される物質を、最終のステンシルの
開放領域に相当する領域に施す。滴下塗布を使用する場
合は、塗布は、製造されるステンシルの遮断および開放
領域の所望のパターンをエンコードするデータに従って
制御されることが好ましい。この制御はコンピュータ
ー、例えばパーソナルコンピューターによるものであっ
てよい。かくして、所望の出力パターンを表すデータ
は、予め記録されたデジタル信号として制御装置に入力
することができ、ヘッドが受容エレメントの表面を走査
する際に、画像を形成するように塗布された物質を沈着
させるあるいは沈着させない噴出ヘッドによって用いら
れる。しかしながら本発明は、画像を形成するように塗
布される物質の滴下塗布に限定されず、他の塗布法も同
様の必須目的を達成すると考えられ、例えば画像を形成
するように塗布される物質は、手に持ったマーカーペン
で塗布することもできる。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、本明細書の図面を参照しな
がら本発明を実施例によって説明する。図１ないし５を
参照すれば、これらは図１で示される受容エレメント１
０で始まる、図５に示されるスクリーン印刷用ステンシ
ルの形成を示す。図１は、柔軟なフィルム支持基板１２
上に被覆された受像層１１から構成される受容エレメン
ト１０を示す。この例では、上記受像層は厚さ約10μm
であり、上記支持基板は約75μmである。
がら本発明を実施例によって説明する。図１ないし５を
参照すれば、これらは図１で示される受容エレメント１
０で始まる、図５に示されるスクリーン印刷用ステンシ
ルの形成を示す。図１は、柔軟なフィルム支持基板１２
上に被覆された受像層１１から構成される受容エレメン
ト１０を示す。この例では、上記受像層は厚さ約10μm
であり、上記支持基板は約75μmである。
【００２６】図２は、例えばコンピューターによって制
御されるインクジェットプリンタの噴出ヘッド（図示せ
ず）から噴出される液滴１３のうち、受像層１１に施さ
れる液体阻害剤１４を示す。前記阻害剤１４は、形成さ
れるステンシルの開放領域に相当する領域の受像層１１
に、画像を形成するよう施される。従って、本スクリー
ン製造法はポジティブ法である。
御されるインクジェットプリンタの噴出ヘッド（図示せ
ず）から噴出される液滴１３のうち、受像層１１に施さ
れる液体阻害剤１４を示す。前記阻害剤１４は、形成さ
れるステンシルの開放領域に相当する領域の受像層１１
に、画像を形成するよう施される。従って、本スクリー
ン製造法はポジティブ法である。
【００２７】上記阻害剤１４は、図２で、受像層１１中
へ吸収されることが示されている。他の物質を用いれ
ば、上記阻害剤は代わりに受像層の表層を形成するであ
ろう。この点は同様に、図５ないし１０、１１ないし１
５、および１６ないし２０に示される工程にも当てはま
る。図３は、一方の表面に図２の受容エレメントが施さ
れており、他方の表面に、適切なスプレダー１７を用い
てステンシル形成化学薬剤１６が施されているスクリー
ンメッシュ１５を示す。図３では、受容エレメントの受
像層１１は、ステンシル形成剤１６をスプレダー１７に
よりメッシュ１５を通して押し出したとき、これに接触
するようになる。
へ吸収されることが示されている。他の物質を用いれ
ば、上記阻害剤は代わりに受像層の表層を形成するであ
ろう。この点は同様に、図５ないし１０、１１ないし１
５、および１６ないし２０に示される工程にも当てはま
る。図３は、一方の表面に図２の受容エレメントが施さ
れており、他方の表面に、適切なスプレダー１７を用い
てステンシル形成化学薬剤１６が施されているスクリー
ンメッシュ１５を示す。図３では、受容エレメントの受
像層１１は、ステンシル形成剤１６をスプレダー１７に
よりメッシュ１５を通して押し出したとき、これに接触
するようになる。
【００２８】あるいはまた、まずステンシル形成剤１６
でメッシュ１５を被覆し、次いでこの被覆メッシュ１５
に受容エレメント１０を施すことによりこれを達成する
ことができる。受容エレメントが図３で示したように、
スクリーンメッシュ１５に接触すると、阻害剤１４が施
されていない受像層１１の領域は、これに対応するステ
ンシル形成剤１６の領域と反応して、不溶性の、または
少なくとも溶解度の低い領域１８を形成する。上記阻害
剤１４が施された領域に対応するステンシル形成剤１６
の領域は、受像層１１と反応せず、ゆえにより高い溶解
度を維持する。
でメッシュ１５を被覆し、次いでこの被覆メッシュ１５
に受容エレメント１０を施すことによりこれを達成する
ことができる。受容エレメントが図３で示したように、
スクリーンメッシュ１５に接触すると、阻害剤１４が施
されていない受像層１１の領域は、これに対応するステ
ンシル形成剤１６の領域と反応して、不溶性の、または
少なくとも溶解度の低い領域１８を形成する。上記阻害
剤１４が施された領域に対応するステンシル形成剤１６
の領域は、受像層１１と反応せず、ゆえにより高い溶解
度を維持する。
【００２９】図４は、スクリーンメッシュ１５から剥離
される受容エレメント１０を示す。上記阻害剤１４が施
された受像層１１の領域に対応するステンシル形成剤の
領域１６は、受像層との反応によって不溶性物質からな
る領域１８が形成された残余の領域１６よりも顕著に高
い溶解度を有している。図５は、受容エレメント１０が
除去され、ステンシルが洗浄された後の、受像エレメン
ト１０から分離した最終のスクリーンを示す。阻害剤が
施されなかった受像層１１の領域に対応するステンシル
形成層の領域１８は、そのままステンシルの遮断領域を
形成する。阻害剤１４が施された領域に対応する領域は
洗い去られて、ステンシルの開放領域１９を形成する。
される受容エレメント１０を示す。上記阻害剤１４が施
された受像層１１の領域に対応するステンシル形成剤の
領域１６は、受像層との反応によって不溶性物質からな
る領域１８が形成された残余の領域１６よりも顕著に高
い溶解度を有している。図５は、受容エレメント１０が
除去され、ステンシルが洗浄された後の、受像エレメン
ト１０から分離した最終のスクリーンを示す。阻害剤が
施されなかった受像層１１の領域に対応するステンシル
形成層の領域１８は、そのままステンシルの遮断領域を
形成する。阻害剤１４が施された領域に対応する領域は
洗い去られて、ステンシルの開放領域１９を形成する。
【００３０】次に、図６ないし１０に参照すれば、これ
らの図は図６に示される受容エレメントで始まる、図１
０に示されるスクリーン印刷用ステンシルの製造を示
す。本方法は前記した方法の改良法である。図６ないし
１０では、図１ないし５の特徴部に対応する特徴部を、
ダッシュを付した参照番号を用いて示す。この改良法で
は、受像層１１’は、或る量のステンシル形成剤１６’
を含む。これは、ステンシル形成剤１６’と反応する受
像層１１’の成分を、ステンシル形成剤のプレコート・
固化層で被覆された厚さ約１μｍの別個の層としてコー
ティングすることにより達成される。
らの図は図６に示される受容エレメントで始まる、図１
０に示されるスクリーン印刷用ステンシルの製造を示
す。本方法は前記した方法の改良法である。図６ないし
１０では、図１ないし５の特徴部に対応する特徴部を、
ダッシュを付した参照番号を用いて示す。この改良法で
は、受像層１１’は、或る量のステンシル形成剤１６’
を含む。これは、ステンシル形成剤１６’と反応する受
像層１１’の成分を、ステンシル形成剤のプレコート・
固化層で被覆された厚さ約１μｍの別個の層としてコー
ティングすることにより達成される。
【００３１】図７に示すように、阻害剤１４’は、形成
されるステンシルの開放領域に対応する領域に、滴１
３’にて画像を形成するように施される。受容エレメン
ト１０’は、スクリーンメッシュ１５’と、施されてい
るステンシル形成剤１６’とに接触している。所望によ
り、前記の選択肢を使用できる。図８に示したように受
容エレメント１０’をメッシュ１５’と接触させる場
合、受像層１１’の反応成分とメッシュ１５’に施され
るステンシル形成剤１６’の間で起こる反応は、受像層
１１’中のステンシル形成剤をも巻き込む。その結果、
メッシュ１５’上に形成されるステンシル層の厚さは、
非改良法でのステンシル層の厚さに比べて厚くなる。メ
ッシュの厚さのよりもかなり厚いステンシルが形成さ
れ、このステンシルでは特に、印刷用スクリーンの使用
における印刷基板側の厚さが増強されている。このスク
リーンの特性は、「プロフィール」として知られ、この
スクリーンの使用により得られる印刷品質の点で有利で
ある。
されるステンシルの開放領域に対応する領域に、滴１
３’にて画像を形成するように施される。受容エレメン
ト１０’は、スクリーンメッシュ１５’と、施されてい
るステンシル形成剤１６’とに接触している。所望によ
り、前記の選択肢を使用できる。図８に示したように受
容エレメント１０’をメッシュ１５’と接触させる場
合、受像層１１’の反応成分とメッシュ１５’に施され
るステンシル形成剤１６’の間で起こる反応は、受像層
１１’中のステンシル形成剤をも巻き込む。その結果、
メッシュ１５’上に形成されるステンシル層の厚さは、
非改良法でのステンシル層の厚さに比べて厚くなる。メ
ッシュの厚さのよりもかなり厚いステンシルが形成さ
れ、このステンシルでは特に、印刷用スクリーンの使用
における印刷基板側の厚さが増強されている。このスク
リーンの特性は、「プロフィール」として知られ、この
スクリーンの使用により得られる印刷品質の点で有利で
ある。
【００３２】ここで、図９を参照すれば、この図は、メ
ッシュ１５’から剥離される受容エレメント１０’を示
す。この場合、受像層を前記のように反応させた後に
は、凝集層のうち支持基板１２’だけがそのまま剥離さ
れる。図１０は、最終のスクリーンを示し、それから
「プロフィール」が容易に確認できる。
ッシュ１５’から剥離される受容エレメント１０’を示
す。この場合、受像層を前記のように反応させた後に
は、凝集層のうち支持基板１２’だけがそのまま剥離さ
れる。図１０は、最終のスクリーンを示し、それから
「プロフィール」が容易に確認できる。
【００３３】図１１ないし１５は、図１１に示される受
容エレメント２０で始まる、図１５に示されるスクリー
ン印刷用ステンシルの製造を示す。ステンシルの製造方
法は本発明の第二の好適態様に従うものである。図１１
は、これもまた柔軟なフィルム支持基板２２上に被覆さ
れた受像層２１からなる受容エレメント２０を示す。こ
の例では、受像層２１および支持基板２２は、これもま
たそれぞれ約１０μｍないし７５μｍの厚さである。
容エレメント２０で始まる、図１５に示されるスクリー
ン印刷用ステンシルの製造を示す。ステンシルの製造方
法は本発明の第二の好適態様に従うものである。図１１
は、これもまた柔軟なフィルム支持基板２２上に被覆さ
れた受像層２１からなる受容エレメント２０を示す。こ
の例では、受像層２１および支持基板２２は、これもま
たそれぞれ約１０μｍないし７５μｍの厚さである。
【００３４】図１２は、例えばコンピューターにより制
御されたインクジェットプリンタの噴出ヘッド（図示せ
ず）から噴出される液滴２３として受像層２１に施され
ている液体反応阻害剤２４を示す。反応阻害剤の機能は
以下に説明する。それは、形成されるステンシルの開放
領域に対応する領域２４に画像を形成するように、受像
層２１に施される。従って、この方法もまたポジティブ
法である。
御されたインクジェットプリンタの噴出ヘッド（図示せ
ず）から噴出される液滴２３として受像層２１に施され
ている液体反応阻害剤２４を示す。反応阻害剤の機能は
以下に説明する。それは、形成されるステンシルの開放
領域に対応する領域２４に画像を形成するように、受像
層２１に施される。従って、この方法もまたポジティブ
法である。
【００３５】図１３は、一方の表面に受容エレメント２
０が施されており、他方の表面にスプレダー２７を用い
てステンシル形成組成物２６が塗布されている、スクリ
ーンメッシュ２５を示す。このように、スプレダー２７
がメッシュ２５を通して組成物２６を押し出すと、ステ
ンシル形成組成物２６と受容エレメント２０の受像層が
接触するようになる。また、まず組成物２６でメッシュ
２５を被覆し、次いで、この被覆メッシュに受容エレメ
ント２０を施すことにより、同様の接触を達成すること
もできよう。
０が施されており、他方の表面にスプレダー２７を用い
てステンシル形成組成物２６が塗布されている、スクリ
ーンメッシュ２５を示す。このように、スプレダー２７
がメッシュ２５を通して組成物２６を押し出すと、ステ
ンシル形成組成物２６と受容エレメント２０の受像層が
接触するようになる。また、まず組成物２６でメッシュ
２５を被覆し、次いで、この被覆メッシュに受容エレメ
ント２０を施すことにより、同様の接触を達成すること
もできよう。
【００３６】ステンシル形成組成物２６は３種の成分を
有する。第一および第二の成分は、互いに反応して所定
の洗浄溶媒中で実質的に溶解度が低下したステンシル組
成物を形成することができる物質である（下記参照）。
第三の成分は、第一の成分と第二の成分の間の反応に対
する一時的阻害剤であり、その存在下ではそれらの間の
反応は起こらない。
有する。第一および第二の成分は、互いに反応して所定
の洗浄溶媒中で実質的に溶解度が低下したステンシル組
成物を形成することができる物質である（下記参照）。
第三の成分は、第一の成分と第二の成分の間の反応に対
する一時的阻害剤であり、その存在下ではそれらの間の
反応は起こらない。
【００３７】図１３に示されるように受容エレメント２
０をスクリーンメッシュ２５に施した状態で、スクリー
ン形成組成物中の上記一時的阻害剤は、当該組成物から
放出させられ、または放出を可能とされる。上記一時的
阻害剤が適度な揮発性を有しているならば、例えばこれ
は、温風送風機などからの穏和な熱の適用により達成さ
れてもよい。上記一時的阻害剤の不在下においては、反
応阻害剤２４が施された受容エレメント２０の受像層２
１の領域と対応しない領域におけるステンシル形成組成
物２６で、ステンシル形成組成物２６の第一の成分と第
二の成分との間の反応が起こる（図１２を参照）。
０をスクリーンメッシュ２５に施した状態で、スクリー
ン形成組成物中の上記一時的阻害剤は、当該組成物から
放出させられ、または放出を可能とされる。上記一時的
阻害剤が適度な揮発性を有しているならば、例えばこれ
は、温風送風機などからの穏和な熱の適用により達成さ
れてもよい。上記一時的阻害剤の不在下においては、反
応阻害剤２４が施された受容エレメント２０の受像層２
１の領域と対応しない領域におけるステンシル形成組成
物２６で、ステンシル形成組成物２６の第一の成分と第
二の成分との間の反応が起こる（図１２を参照）。
【００３８】図１４に示されるように、ここで、受容エ
レメント２０の支持基板２２は、メッシュ２５から剥離
させることができる。ここでは、反応阻害剤２４が施さ
れなかった受容エレメントの領域に対応するステンシル
形成組成物の溶解度の低い硬化領域２８、および反応阻
害剤２４が施された領域に対応する溶解度の高い非硬化
領域が残留する。
レメント２０の支持基板２２は、メッシュ２５から剥離
させることができる。ここでは、反応阻害剤２４が施さ
れなかった受容エレメントの領域に対応するステンシル
形成組成物の溶解度の低い硬化領域２８、および反応阻
害剤２４が施された領域に対応する溶解度の高い非硬化
領域が残留する。
【００３９】ここで、ステンシル形成層の非硬化領域が
溶解する適切な溶媒を用いて、ステンシルスクリーン２
５を洗浄する。洗浄後、図１５の上部に示されているよ
うに、最終のステンシルスクリーンが得られる。ステン
シルの開放領域２９が、図１２で画像を形成するように
反応阻害剤を施した受容エレメント２０の領域２４に対
応することが判るであろう。従って、このスクリーン製
造方法はポジティブ法である。
溶解する適切な溶媒を用いて、ステンシルスクリーン２
５を洗浄する。洗浄後、図１５の上部に示されているよ
うに、最終のステンシルスクリーンが得られる。ステン
シルの開放領域２９が、図１２で画像を形成するように
反応阻害剤を施した受容エレメント２０の領域２４に対
応することが判るであろう。従って、このスクリーン製
造方法はポジティブ法である。
【００４０】図１１ないし１５を参照して説明した方法
の改良においては、受容エレメントの受像層は、ステン
シル形成組成物と反応する物質から形成される。これは
図１６ないし２０に示されており、ここではダッシュを
つけた参照番号を用いて、図１１ないし１５の特徴部に
対応する特徴部を示す。この改良法では、受像層２１’
は、ステンシル形成組成物２６’の第一の成分と第二の
成分の間の反応にあずかり得る物質から形成されてい
る。このようにこの改良では、ステンシル形成層で起こ
る硬化反応が受容エレメント２０’の受像層２１’でも
起こり、その結果、受像エレメントの部分が最終のスク
リーンのステンシル層に組み込まれることとなり、望ま
しい「プロフィール」が供され、あるいはステンシル層
の厚みの増強がもたらされる。こうして、図１８に示さ
れるように、受容エレメント２０’をメッシュ２５’と
接触させた場合、ステンシル形成組成物２６’の第一の
成分と第二の成分との間で起こる反応がまた、受容エレ
メント２０’における受像層２１’の成分をも関与させ
る。その結果、図１９に示されているように、受容エレ
メント２０’の支持基板２２’を剥離した後に、最終の
スクリーンを示す図２０から容易に確認できるように、
実質的な「プロフィール」を有するスクリーンが製造さ
れる。
の改良においては、受容エレメントの受像層は、ステン
シル形成組成物と反応する物質から形成される。これは
図１６ないし２０に示されており、ここではダッシュを
つけた参照番号を用いて、図１１ないし１５の特徴部に
対応する特徴部を示す。この改良法では、受像層２１’
は、ステンシル形成組成物２６’の第一の成分と第二の
成分の間の反応にあずかり得る物質から形成されてい
る。このようにこの改良では、ステンシル形成層で起こ
る硬化反応が受容エレメント２０’の受像層２１’でも
起こり、その結果、受像エレメントの部分が最終のスク
リーンのステンシル層に組み込まれることとなり、望ま
しい「プロフィール」が供され、あるいはステンシル層
の厚みの増強がもたらされる。こうして、図１８に示さ
れるように、受容エレメント２０’をメッシュ２５’と
接触させた場合、ステンシル形成組成物２６’の第一の
成分と第二の成分との間で起こる反応がまた、受容エレ
メント２０’における受像層２１’の成分をも関与させ
る。その結果、図１９に示されているように、受容エレ
メント２０’の支持基板２２’を剥離した後に、最終の
スクリーンを示す図２０から容易に確認できるように、
実質的な「プロフィール」を有するスクリーンが製造さ
れる。
【００４１】図２１ないし２５は、図２１に示される受
容エレメント３０から始まる、図２５に示されるスクリ
ーンステンシルの製造を示す。このステンシル製造方法
は本発明の第三の好適態様に従う。図２１は、前記の通
り軟性フィルム支持基板３２上に被覆された受像層３１
からなる受容エレメント３０を示す。この例では、層３
１および基板３２の厚さは各々、約１０μｍおよび約７
５μｍである。
容エレメント３０から始まる、図２５に示されるスクリ
ーンステンシルの製造を示す。このステンシル製造方法
は本発明の第三の好適態様に従う。図２１は、前記の通
り軟性フィルム支持基板３２上に被覆された受像層３１
からなる受容エレメント３０を示す。この例では、層３
１および基板３２の厚さは各々、約１０μｍおよび約７
５μｍである。
【００４２】受容エレメント３０の受像層３１は、スク
リーン印刷用スクリーン上にステンシル層を形成する硬
化ステンシル組成物を形成させるために、ステンシル形
成剤（下記を参照）と反応可能な化学薬剤を含んでい
る。図２２は、マスキング剤３４、例えばマスキング剤
３４が施される領域において受像層３１からの化学薬剤
の移動を妨げる作用をする液化ワックスまたは固化ポリ
マーの、液滴３３での受像層３１への塗布を示す。マス
キング剤３４は、最終のステンシルの開放領域に対応す
る領域に、画像を形成するように施される。従って、こ
の方法はポジティブ法である。
リーン印刷用スクリーン上にステンシル層を形成する硬
化ステンシル組成物を形成させるために、ステンシル形
成剤（下記を参照）と反応可能な化学薬剤を含んでい
る。図２２は、マスキング剤３４、例えばマスキング剤
３４が施される領域において受像層３１からの化学薬剤
の移動を妨げる作用をする液化ワックスまたは固化ポリ
マーの、液滴３３での受像層３１への塗布を示す。マス
キング剤３４は、最終のステンシルの開放領域に対応す
る領域に、画像を形成するように施される。従って、こ
の方法はポジティブ法である。
【００４３】図２３は、一方の表面に受容エレメント３
０が施されており、他方の表面にスプレダー３７を用い
てステンシル形成組成物３６が施されている、メッシュ
３５を示す。このように、ステンシル形成組成物３６と
受容エレメントの３０の受像層は、スプレダー３７がメ
ッシュ３５を通して組成物３６を押し出すと接触するよ
うになる。また、まず組成物３６でメッシュ３５を被覆
し、次いで、この被覆メッシュに受容エレメント３０を
施すことにより、同様の接触を達成してもよい。
０が施されており、他方の表面にスプレダー３７を用い
てステンシル形成組成物３６が施されている、メッシュ
３５を示す。このように、ステンシル形成組成物３６と
受容エレメントの３０の受像層は、スプレダー３７がメ
ッシュ３５を通して組成物３６を押し出すと接触するよ
うになる。また、まず組成物３６でメッシュ３５を被覆
し、次いで、この被覆メッシュに受容エレメント３０を
施すことにより、同様の接触を達成してもよい。
【００４４】ステンシル形成組成物３６は、受像層３１
に含まれている化学薬剤と反応して、所定の洗浄除去溶
媒（下記を参照）に対する溶解度が実質的に減じられた
ステンシル層を形成することができる、前述の第二のス
テンシル形成化学薬剤を含んでいる。図２３に示されて
いるように、スクリーンメッシュ３５に受容エレメント
３０を施すことで、マスキング剤３４が受容エレメント
３０に施されている領域とは対応しない領域で、組成物
３６のステンシル形成剤と受像層の化学薬剤の間の反応
が起こる。
に含まれている化学薬剤と反応して、所定の洗浄除去溶
媒（下記を参照）に対する溶解度が実質的に減じられた
ステンシル層を形成することができる、前述の第二のス
テンシル形成化学薬剤を含んでいる。図２３に示されて
いるように、スクリーンメッシュ３５に受容エレメント
３０を施すことで、マスキング剤３４が受容エレメント
３０に施されている領域とは対応しない領域で、組成物
３６のステンシル形成剤と受像層の化学薬剤の間の反応
が起こる。
【００４５】次いで、図２４に示されるように、受容エ
レメント３０をメッシュ３５から剥離する。ここでは、
マスキング剤３３が施されなかった受容エレメントの領
域に対応するステンシル形成組成物の溶解度の低い硬化
領域３８、およびマスキング剤３４が施された領域に対
応する溶解度の高い非硬化領域が残留する。次に、ステ
ンシル形成層の非硬化部分が溶解する適切な溶媒を用い
て、ステンシルスクリーンを洗浄する。洗浄除去後、図
２５に示されているように、最終のステンシルスクリー
ンが得られる。また図２５は、分離した受容エレメント
３０も示す。ステンシルの開放領域３９が、図２２で反
応阻害剤が画像を形成するように施された受容エレメン
ト３０の領域に対応することが判るであろう。従って、
このスクリーン製造方法はポジティブ法である。
レメント３０をメッシュ３５から剥離する。ここでは、
マスキング剤３３が施されなかった受容エレメントの領
域に対応するステンシル形成組成物の溶解度の低い硬化
領域３８、およびマスキング剤３４が施された領域に対
応する溶解度の高い非硬化領域が残留する。次に、ステ
ンシル形成層の非硬化部分が溶解する適切な溶媒を用い
て、ステンシルスクリーンを洗浄する。洗浄除去後、図
２５に示されているように、最終のステンシルスクリー
ンが得られる。また図２５は、分離した受容エレメント
３０も示す。ステンシルの開放領域３９が、図２２で反
応阻害剤が画像を形成するように施された受容エレメン
ト３０の領域に対応することが判るであろう。従って、
このスクリーン製造方法はポジティブ法である。
【００４６】次に、図２６ないし３０を参照すれば、こ
れらは、図２６に示される受容エレメントで始まる、図
３０に示されるスクリーン印刷用ステンシルの製造を示
す。この方法は図２０ないし２５を参照して記載した方
法の改良法である。図２６ないし３０では、ダッシュを
つけた参照番号を用いて、図２０ないし２５の特徴部に
対応する特徴部を示す。
れらは、図２６に示される受容エレメントで始まる、図
３０に示されるスクリーン印刷用ステンシルの製造を示
す。この方法は図２０ないし２５を参照して記載した方
法の改良法である。図２６ないし３０では、ダッシュを
つけた参照番号を用いて、図２０ないし２５の特徴部に
対応する特徴部を示す。
【００４７】この改良法では、受像層３１’は、或る量
のステンシル形成剤３６’を含んでいる。これは、ステ
ンシル形成剤と反応する受像層３１’の成分を、ステン
シル形成剤３６’のプレコート・固化層により被覆され
る厚さ約１μｍの別個の層として被覆することにより達
成される。図２７に示されるように、マスキング剤３
４’は、最終のステンシルの開放領域に対応する領域
に、液滴３３’として画像を形成するように施される。
次いで、受容エレメント３０’をスクリーンメッシュ２
５’および施されたステンシル形成剤２６’と接触させ
る。
のステンシル形成剤３６’を含んでいる。これは、ステ
ンシル形成剤と反応する受像層３１’の成分を、ステン
シル形成剤３６’のプレコート・固化層により被覆され
る厚さ約１μｍの別個の層として被覆することにより達
成される。図２７に示されるように、マスキング剤３
４’は、最終のステンシルの開放領域に対応する領域
に、液滴３３’として画像を形成するように施される。
次いで、受容エレメント３０’をスクリーンメッシュ２
５’および施されたステンシル形成剤２６’と接触させ
る。
【００４８】所望により、接触を達成する前記の代替法
を使用することもできよう。図２８に示されるように受
容エレメント３０’をメッシュ３５’と接触させた場
合、受像層３１’の反応性成分とメッシュ３５’に施さ
れたステンシル形成剤３６’との間で起こる反応が、受
像層３１’のステンシル形成剤をも関与させる。その結
果、メッシュ３５’上に形成されたステンシル層の厚さ
は、非改良法におけるステンシル層の厚さに比べて厚く
なる。メッシュの厚さより著しく厚いステンシルが形成
され、このステンシルでは特に、印刷用スクリーンの使
用における印刷基板側の厚さが増強されている。このス
クリーンの特性は、「プロフィール」として知られ、ス
クリーンの使用により得られる印刷品質の点で有利であ
る。
を使用することもできよう。図２８に示されるように受
容エレメント３０’をメッシュ３５’と接触させた場
合、受像層３１’の反応性成分とメッシュ３５’に施さ
れたステンシル形成剤３６’との間で起こる反応が、受
像層３１’のステンシル形成剤をも関与させる。その結
果、メッシュ３５’上に形成されたステンシル層の厚さ
は、非改良法におけるステンシル層の厚さに比べて厚く
なる。メッシュの厚さより著しく厚いステンシルが形成
され、このステンシルでは特に、印刷用スクリーンの使
用における印刷基板側の厚さが増強されている。このス
クリーンの特性は、「プロフィール」として知られ、ス
クリーンの使用により得られる印刷品質の点で有利であ
る。
【００４９】ここで、図２９を参照すれば、これはメッ
シュ３５’から剥離される受容エレメント３０’を示
す。この場合、凝集層のうち支持基板３２’だけがその
まま剥離され、受像層は前記のように反応させたもので
ある。図３０は、最終のスクリーンを示し、それから
「プロフィール」が容易に確認できる。
シュ３５’から剥離される受容エレメント３０’を示
す。この場合、凝集層のうち支持基板３２’だけがその
まま剥離され、受像層は前記のように反応させたもので
ある。図３０は、最終のスクリーンを示し、それから
「プロフィール」が容易に確認できる。
【００５０】発明の詳細な説明 例えば、図１ないし５、１１ないし１５、および２１な
いし２５を参照して説明したように、本発明のいくつか
の方法では、受像層は実質的に不活性であり、かつ、実
質的に第三の物質層のみから形成されているステンシル
形成層に、画像を形成するように施された物質のための
担体として機能する。本発明の方法ならびに被覆フィル
ム製品において、この層は、例えばヒドロキシプロピル
セルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース等の水溶性セルロース誘導体；ポリビ
ニルピロリドンおよびポリアクリル酸のポリマーのうち
１つ以上を含んでもよい。このポリマーは、受像層の５
ないし１００重量％の量で受像層に存在することが好ま
しい。またこの層は、適切な他のポリマー、増量剤、結
合剤、界面活性剤および可塑剤の１種以上を含んでもよ
い。
いし２５を参照して説明したように、本発明のいくつか
の方法では、受像層は実質的に不活性であり、かつ、実
質的に第三の物質層のみから形成されているステンシル
形成層に、画像を形成するように施された物質のための
担体として機能する。本発明の方法ならびに被覆フィル
ム製品において、この層は、例えばヒドロキシプロピル
セルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース等の水溶性セルロース誘導体；ポリビ
ニルピロリドンおよびポリアクリル酸のポリマーのうち
１つ以上を含んでもよい。このポリマーは、受像層の５
ないし１００重量％の量で受像層に存在することが好ま
しい。またこの層は、適切な他のポリマー、増量剤、結
合剤、界面活性剤および可塑剤の１種以上を含んでもよ
い。
【００５１】また、不活性な受像層として、普通紙およ
びコート紙を含む紙葉類を使用することもでき、これに
より支持基板は不要となる。受像層とそこに画像を形成
するように施される物質の適した組み合わせを選択する
際の鍵となる基準は、当該層上に良好な画像を形成する
ということであり、例えば、当該物質の液滴は欠損画像
を形成するほど当該層により反発されるべきではない
し、また画像の解像度を損なうほどに広がるべきではな
いということである。さらに、（層の不規則性のため
に）画像を変形させるほど不均等に広がるべきではな
い。
びコート紙を含む紙葉類を使用することもでき、これに
より支持基板は不要となる。受像層とそこに画像を形成
するように施される物質の適した組み合わせを選択する
際の鍵となる基準は、当該層上に良好な画像を形成する
ということであり、例えば、当該物質の液滴は欠損画像
を形成するほど当該層により反発されるべきではない
し、また画像の解像度を損なうほどに広がるべきではな
いということである。さらに、（層の不規則性のため
に）画像を変形させるほど不均等に広がるべきではな
い。
【００５２】本発明の方法では、例えば図６〜１０、１
６〜２０、および２６〜３０を参照して記載したよう
に、ステンシル形成層は、少なくとも一部は第三の物質
の層および受像層から形成され、かくして最終のステン
シルの実質的なプロフィール部分を形成し、受像層は第
三の物質を含む重合過程にあずかる物質を含んでなって
いてもよく、それにより最終のスクリーンのステンシル
層が形成する。
６〜２０、および２６〜３０を参照して記載したよう
に、ステンシル形成層は、少なくとも一部は第三の物質
の層および受像層から形成され、かくして最終のステン
シルの実質的なプロフィール部分を形成し、受像層は第
三の物質を含む重合過程にあずかる物質を含んでなって
いてもよく、それにより最終のスクリーンのステンシル
層が形成する。
【００５３】本発明の方法ならびに製品における反応性
受像層の物質の典型例は、例えば、他の適切なポリマ
ー、適切な増量剤、結合剤、界面活性剤および可塑剤を
含む残分を伴うとともに、好ましくは受像層の５ないし
１００重量％の量で存在するポリビニルアルコールであ
る。当該ポリビニルアルコールは２０ないし９９．９モ
ル％の加水分解率を有し、それとは独立して１００ない
し３５００の重合度を有していることが好ましい。
受像層の物質の典型例は、例えば、他の適切なポリマ
ー、適切な増量剤、結合剤、界面活性剤および可塑剤を
含む残分を伴うとともに、好ましくは受像層の５ないし
１００重量％の量で存在するポリビニルアルコールであ
る。当該ポリビニルアルコールは２０ないし９９．９モ
ル％の加水分解率を有し、それとは独立して１００ない
し３５００の重合度を有していることが好ましい。
【００５４】これに関し、代替として他の多くの反応性
ポリマーを本発明に利用することができる。かかるポリ
マーの例としては、カルボキシル化誘導体およびアクリ
ルアミドをグラフトした誘導体を含むポリビニルアルコ
ール誘導体、およびポリビニルアセテート；ゼラチンお
よびその誘導体；アルカリを添加した際に水溶性となり
得るカルボキシル化ポリマー、例えばカルボキシル化ア
クリル系共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、お
よびスチレン−アクリル酸共重合体；ならびにカルボキ
シル化誘導体を含むポリアクリルアミドとその誘導体が
挙げられる。
ポリマーを本発明に利用することができる。かかるポリ
マーの例としては、カルボキシル化誘導体およびアクリ
ルアミドをグラフトした誘導体を含むポリビニルアルコ
ール誘導体、およびポリビニルアセテート；ゼラチンお
よびその誘導体；アルカリを添加した際に水溶性となり
得るカルボキシル化ポリマー、例えばカルボキシル化ア
クリル系共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、お
よびスチレン−アクリル酸共重合体；ならびにカルボキ
シル化誘導体を含むポリアクリルアミドとその誘導体が
挙げられる。
【００５５】一般に、受像層の有効成分は、受像層の
０．５ないし１００重量％からなっていてもよい。本発
明の方法ならびに製品では、使用されるポリマーおよび
他の成分は、画像を形成するように施して物質が塗布さ
れたときに、良好な画像を形成するように選択される。
画像を形成するように塗布される物質に使用されるいず
れの溶媒（典型的には水）とも適合しない層は、その液
体の拡散を不十分にすると考えられ、品質の不良な画像
を生じる結果となろう。当該物質が供給される層の相溶
性が大き過ぎると、上記物質が大きく広がり過ぎ、不鮮
明で解像度の低い画像が生じるであろう。
０．５ないし１００重量％からなっていてもよい。本発
明の方法ならびに製品では、使用されるポリマーおよび
他の成分は、画像を形成するように施して物質が塗布さ
れたときに、良好な画像を形成するように選択される。
画像を形成するように塗布される物質に使用されるいず
れの溶媒（典型的には水）とも適合しない層は、その液
体の拡散を不十分にすると考えられ、品質の不良な画像
を生じる結果となろう。当該物質が供給される層の相溶
性が大き過ぎると、上記物質が大きく広がり過ぎ、不鮮
明で解像度の低い画像が生じるであろう。
【００５６】上述のとおり、上記受容エレメントは支持
基板を伴っても、伴わなくともよい。支持基板を用いな
ければ、受像層の厚さは典型的には６ないし２５０μｍ
である。支持基板を用いる場合は、被覆の厚さは典型的
には０．１ないし５０μｍである。支持基板は、非反応
性ポリマー、好ましくは有機樹脂支持体、例えばポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリカーボネー
ト、ポリ塩化ビニルまたはポリスチレンを含んでよい。
また、コート紙を受容エレメントとして用いることも可
能であり、この紙および被覆がそれぞれ、支持基板およ
び受像層となる。また、非被覆紙を、支持基板を用いず
に受容エレメントの受像層とすることも可能である。か
かる受像層は通常、ステンシル形成層の溶解度の高い領
域を洗い去る前に、凝集層として除去される。支持基板
フィルムの厚さは、好ましくは１０ないし２００μｍで
ある。有機樹脂支持体は、所望により、受像層との所望
の接着性を与える下塗り層で被覆することができる。当
該スクリーン製造法では、支持基板を使用する場合は、
溶解度のより高い領域を除去する工程中に当該指示基板
を除去できるが、通常は、この工程に先立って、凝集性
フィルムとして除去される。
基板を伴っても、伴わなくともよい。支持基板を用いな
ければ、受像層の厚さは典型的には６ないし２５０μｍ
である。支持基板を用いる場合は、被覆の厚さは典型的
には０．１ないし５０μｍである。支持基板は、非反応
性ポリマー、好ましくは有機樹脂支持体、例えばポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリカーボネー
ト、ポリ塩化ビニルまたはポリスチレンを含んでよい。
また、コート紙を受容エレメントとして用いることも可
能であり、この紙および被覆がそれぞれ、支持基板およ
び受像層となる。また、非被覆紙を、支持基板を用いず
に受容エレメントの受像層とすることも可能である。か
かる受像層は通常、ステンシル形成層の溶解度の高い領
域を洗い去る前に、凝集層として除去される。支持基板
フィルムの厚さは、好ましくは１０ないし２００μｍで
ある。有機樹脂支持体は、所望により、受像層との所望
の接着性を与える下塗り層で被覆することができる。当
該スクリーン製造法では、支持基板を使用する場合は、
溶解度のより高い領域を除去する工程中に当該指示基板
を除去できるが、通常は、この工程に先立って、凝集性
フィルムとして除去される。
【００５７】阻害剤を含有する液体を受像層に画像を形
成するよう塗布する場合、この液体は、便宜的には、
（限定されるものではないが）インクジェットプリンタ
またはインクジェットプロッタなどのインクジェットシ
ステムにより液滴として施せばよい。また、例えばペン
などの手に持った送出装置により、連続的に施すことも
可能である。塗布される液体は、望ましい安定性、表面
張力および粘性を示すべきであり、それゆえ、界面活性
剤、粘性改良剤、光安定剤および／または抗酸化剤を含
んでもよい。画像を形成するように施される物質の有効
成分が液体でない場合、その物質は、有効成分のための
適切な担体、例えば適切な溶媒または分散剤を含んでも
よい。
成するよう塗布する場合、この液体は、便宜的には、
（限定されるものではないが）インクジェットプリンタ
またはインクジェットプロッタなどのインクジェットシ
ステムにより液滴として施せばよい。また、例えばペン
などの手に持った送出装置により、連続的に施すことも
可能である。塗布される液体は、望ましい安定性、表面
張力および粘性を示すべきであり、それゆえ、界面活性
剤、粘性改良剤、光安定剤および／または抗酸化剤を含
んでもよい。画像を形成するように施される物質の有効
成分が液体でない場合、その物質は、有効成分のための
適切な担体、例えば適切な溶媒または分散剤を含んでも
よい。
【００５８】第三の物質は、受容エレメントの受像層を
その一方の側面と接触させた後、そのもう一方の側面か
らスクリーンに施せばよい。これは、一様な平坦面に受
容エレメントを置き、スクリーンと受容エレメントとが
密着するように、その上にスクリーンを置くことにより
達成すればよい。この第三の物質は、コーティングスル
ーまたは「スキージ」により施してもよい。また、スク
リーンに施される組成物の薄層を、コーティングスルー
または「スキージ」により、スクリーンメッシュ上へ被
覆し、わずかな圧力をかけながら手で受容エレメントを
マウントすることもでき、この技術はスクリーン印刷分
野の熟練者に十分公知である。
その一方の側面と接触させた後、そのもう一方の側面か
らスクリーンに施せばよい。これは、一様な平坦面に受
容エレメントを置き、スクリーンと受容エレメントとが
密着するように、その上にスクリーンを置くことにより
達成すればよい。この第三の物質は、コーティングスル
ーまたは「スキージ」により施してもよい。また、スク
リーンに施される組成物の薄層を、コーティングスルー
または「スキージ」により、スクリーンメッシュ上へ被
覆し、わずかな圧力をかけながら手で受容エレメントを
マウントすることもでき、この技術はスクリーン印刷分
野の熟練者に十分公知である。
【００５９】基板支持を用いる場合では、ひとたびこれ
を都合よく除去することができれば、受像層とスクリー
ンに塗布される組成物との間の接触により起こる反応は
実質的に完全となる。得られたスクリーンステンシル
は、適切な溶媒によって、溶解度のより高い部分を洗い
去り、それによって溶解度の低い領域が残ってメッシュ
の領域を塞ぐことにより、現像することができる（ま
た、この洗浄の作用により、任意の支持基板、ならびに
早期段階で除去されなかった場合は、受容エレメントの
いずれの他の凝集性フィルムの部分をも除去することが
できよう）。
を都合よく除去することができれば、受像層とスクリー
ンに塗布される組成物との間の接触により起こる反応は
実質的に完全となる。得られたスクリーンステンシル
は、適切な溶媒によって、溶解度のより高い部分を洗い
去り、それによって溶解度の低い領域が残ってメッシュ
の領域を塞ぐことにより、現像することができる（ま
た、この洗浄の作用により、任意の支持基板、ならびに
早期段階で除去されなかった場合は、受容エレメントの
いずれの他の凝集性フィルムの部分をも除去することが
できよう）。
【００６０】本発明のいくつかの方法では、スクリーン
上にステンシル形成層を形成する化学反応には、第一の
物質および第三の物質を含む反応性薬剤が関与し、第二
の物質がこの反応に対する化学阻害剤を含む。次に、第
三の物質は、架橋反応にあずかり得る少なくとも１種の
重合物質を含み、第一の物質は架橋反応のための架橋剤
を含み、さらに第二の物質はこの架橋反応に対する阻害
剤を含む。
上にステンシル形成層を形成する化学反応には、第一の
物質および第三の物質を含む反応性薬剤が関与し、第二
の物質がこの反応に対する化学阻害剤を含む。次に、第
三の物質は、架橋反応にあずかり得る少なくとも１種の
重合物質を含み、第一の物質は架橋反応のための架橋剤
を含み、さらに第二の物質はこの架橋反応に対する阻害
剤を含む。
【００６１】好ましい方法では、第一の物質の架橋剤
は：ホウ酸、ホウ素塩類、例えばＩ族およびＩＩ族金属
のホウ酸塩；アルデヒド類、例えばホルムアルデヒド；
所望により無機酸を伴うジアルデヒド類、例えばグリオ
キサールおよびグルタルアルデヒド；ならびに遷移金属
化合物、例えば、鉄（ＩＩＩ）、ジルコニウムおよびチ
タニウム塩、ならびにクロム化合物、例えば、ペンタヒ
ドロキシ（テトラデカノエート）ジクロミウムおよびそ
の誘導体のうちの１つ以上を含む。
は：ホウ酸、ホウ素塩類、例えばＩ族およびＩＩ族金属
のホウ酸塩；アルデヒド類、例えばホルムアルデヒド；
所望により無機酸を伴うジアルデヒド類、例えばグリオ
キサールおよびグルタルアルデヒド；ならびに遷移金属
化合物、例えば、鉄（ＩＩＩ）、ジルコニウムおよびチ
タニウム塩、ならびにクロム化合物、例えば、ペンタヒ
ドロキシ（テトラデカノエート）ジクロミウムおよびそ
の誘導体のうちの１つ以上を含む。
【００６２】本発明の方法ならびに製品においては、受
像層の有効剤は、ポリマー層上の別個の表層として被覆
してもよい。この表層の厚さは、例えば０．１μｍない
し５μｍ、好ましくは１ないし２μｍであればよい。上
記阻害剤は、架橋剤と反応して反応性の低い化合物を形
成する金属塩からなってもよい。架橋剤がホウ酸および
／またはホウ酸金属からなるならば、阻害剤は架橋剤と
反応して不溶性のホウ酸塩を形成する１種以上の金属塩
からなってもよい。
像層の有効剤は、ポリマー層上の別個の表層として被覆
してもよい。この表層の厚さは、例えば０．１μｍない
し５μｍ、好ましくは１ないし２μｍであればよい。上
記阻害剤は、架橋剤と反応して反応性の低い化合物を形
成する金属塩からなってもよい。架橋剤がホウ酸および
／またはホウ酸金属からなるならば、阻害剤は架橋剤と
反応して不溶性のホウ酸塩を形成する１種以上の金属塩
からなってもよい。
【００６３】他の方法では、上記阻害剤は、当該阻害剤
をキレート化して反応性の低い錯体を形成するキレート
化剤からなってもよい。上記架橋剤が１種以上の遷移金
属錯体を含む場合、上記阻害剤は、アルキレンジアミン
四酢酸、例えばエチレンジアミン四酢酸、またはナトリ
ウム塩などのその誘導体、もしくはかかる化合物の２種
以上の混合物を含んでもよい。
をキレート化して反応性の低い錯体を形成するキレート
化剤からなってもよい。上記架橋剤が１種以上の遷移金
属錯体を含む場合、上記阻害剤は、アルキレンジアミン
四酢酸、例えばエチレンジアミン四酢酸、またはナトリ
ウム塩などのその誘導体、もしくはかかる化合物の２種
以上の混合物を含んでもよい。
【００６４】上記阻害剤は第二の物質の０．５ないし５
０重量％であることが好ましい。他の方法では、第三の
物質は、フリーラジカル重合反応にあずかり得る少なく
とも１種以上の化合物を含み、第一の物質は、少なくと
も１種のフリーラジカル形成系の成分、さらには所望に
より第三の物質の成分を含み、また第二の物質はこのフ
リーラジカル形成系に対する阻害剤を含む。
０重量％であることが好ましい。他の方法では、第三の
物質は、フリーラジカル重合反応にあずかり得る少なく
とも１種以上の化合物を含み、第一の物質は、少なくと
も１種のフリーラジカル形成系の成分、さらには所望に
より第三の物質の成分を含み、また第二の物質はこのフ
リーラジカル形成系に対する阻害剤を含む。
【００６５】本発明の方法、組成物ならびに被覆フィル
ム製品において重合可能な化合物は、所望により重合化
合物、好ましくはポリビニルアルコールへグラフト化さ
れるアクリルアミドであってもよい。フリーラジカル形
成系は酸化系であってもよく、第二の物質は捕捉剤を含
む。この系は、鉄（ＩＩ）イオンおよび酸化剤の供給
源、例えば過硫酸アンモニウムを含んでもよい。好まし
い捕捉剤は多価アルコール、より好ましくは芳香族ポリ
ヒドロキシル化合物、例えばピロガロールおよびカテコ
ールである。
ム製品において重合可能な化合物は、所望により重合化
合物、好ましくはポリビニルアルコールへグラフト化さ
れるアクリルアミドであってもよい。フリーラジカル形
成系は酸化系であってもよく、第二の物質は捕捉剤を含
む。この系は、鉄（ＩＩ）イオンおよび酸化剤の供給
源、例えば過硫酸アンモニウムを含んでもよい。好まし
い捕捉剤は多価アルコール、より好ましくは芳香族ポリ
ヒドロキシル化合物、例えばピロガロールおよびカテコ
ールである。
【００６６】第一の物質がイオン供給源を含み、かつ、
第三の物質が酸化剤を含むことが好ましい。本発明の他
の方法では、スクリーン上にステンシル形成層を形成す
る化学反応には、第一および第三の物質を含む反応性薬
剤、第一の物質と第三の物質の間の物理的障壁を形成す
る第二の物質が関与する。
第三の物質が酸化剤を含むことが好ましい。本発明の他
の方法では、スクリーン上にステンシル形成層を形成す
る化学反応には、第一および第三の物質を含む反応性薬
剤、第一の物質と第三の物質の間の物理的障壁を形成す
る第二の物質が関与する。
【００６７】次に、上記第三の物質は架橋反応にあずか
り得る少なくとも１種の重合物質を含み、かつ、上記第
一の物質はこの架橋反応のための架橋剤を含む。適切な
架橋剤は前記に挙げられている。上記第二の物質は、融
解状態で施され、固化を引き起こす、あるいは固化させ
ることのできるワックスを含んでもよい。また、この第
二の物質はトナー粉末を含んでもよい。
り得る少なくとも１種の重合物質を含み、かつ、上記第
一の物質はこの架橋反応のための架橋剤を含む。適切な
架橋剤は前記に挙げられている。上記第二の物質は、融
解状態で施され、固化を引き起こす、あるいは固化させ
ることのできるワックスを含んでもよい。また、この第
二の物質はトナー粉末を含んでもよい。
【００６８】本発明のさらなる方法では、スクリーン上
にステンシル形成層を形成する化学反応は、第三の物質
を含む薬剤間で起こってもよく、第二の物質がこの反応
の化学阻害剤を含有する。次に、第三の物質は当該試薬
間の反応に対する一時的阻害剤を含み、この方法は、当
該一時的阻害剤の作用を終結させて、上記化学阻害剤に
よって阻害されていないところで上記反応を起こす工程
を含む。
にステンシル形成層を形成する化学反応は、第三の物質
を含む薬剤間で起こってもよく、第二の物質がこの反応
の化学阻害剤を含有する。次に、第三の物質は当該試薬
間の反応に対する一時的阻害剤を含み、この方法は、当
該一時的阻害剤の作用を終結させて、上記化学阻害剤に
よって阻害されていないところで上記反応を起こす工程
を含む。
【００６９】好ましくは、この第三の物質は、ｐＨ感受
性のイオン性架橋反応およびこの反応のためのイオン供
給源としてあずかり得る反応性官能基を有する少なくと
も１種の重合物質を含み、この一時的阻害剤は、ｐＨを
架橋イオンの形成が阻害される値に維持するｐＨ調整剤
を含む。上記化学阻害剤は、架橋イオンのキレート化
剤、好ましくは、アルキレンジアミン四酢酸、例えばエ
チレンジアミン四酢酸、またはナトリウム塩などのその
誘導体、もしくはかかる化合物の２種以上の混合物を含
んでもよい。
性のイオン性架橋反応およびこの反応のためのイオン供
給源としてあずかり得る反応性官能基を有する少なくと
も１種の重合物質を含み、この一時的阻害剤は、ｐＨを
架橋イオンの形成が阻害される値に維持するｐＨ調整剤
を含む。上記化学阻害剤は、架橋イオンのキレート化
剤、好ましくは、アルキレンジアミン四酢酸、例えばエ
チレンジアミン四酢酸、またはナトリウム塩などのその
誘導体、もしくはかかる化合物の２種以上の混合物を含
んでもよい。
【００７０】本発明の方法ならびに組成物において、ｐ
Ｈ調整剤が架橋イオンの形成を阻害するために十分低い
ｐＨを維持する酸供給源であるならば、この酸供給源は
揮発性であり、かつ、その作用を、その蒸発を引き起こ
すまたは可能にすることにより終結させるのが好まし
い。本発明のいずれの方法においても、第三の物質は下
記ポリマーのうちの１つ以上を含んでもよい：カルボキ
シル化誘導体およびアクリルアミドをグラフトした誘導
体を含むポリビニルアルコールとその誘導体、およびポ
リビニルアセテート；ゼラチンおよびその誘導体；カル
ボキシル化アクリル系共重合体、エチレン−アクリル酸
共重合体、およびスチレン−アクリル酸共重合体を含
む、アルカリを添加した際に水溶性となり得るカルボキ
シル化ポリマー、ならびにカルボキシル化誘導体を含む
ポリアクリルアミドとその誘導体。
Ｈ調整剤が架橋イオンの形成を阻害するために十分低い
ｐＨを維持する酸供給源であるならば、この酸供給源は
揮発性であり、かつ、その作用を、その蒸発を引き起こ
すまたは可能にすることにより終結させるのが好まし
い。本発明のいずれの方法においても、第三の物質は下
記ポリマーのうちの１つ以上を含んでもよい：カルボキ
シル化誘導体およびアクリルアミドをグラフトした誘導
体を含むポリビニルアルコールとその誘導体、およびポ
リビニルアセテート；ゼラチンおよびその誘導体；カル
ボキシル化アクリル系共重合体、エチレン−アクリル酸
共重合体、およびスチレン−アクリル酸共重合体を含
む、アルカリを添加した際に水溶性となり得るカルボキ
シル化ポリマー、ならびにカルボキシル化誘導体を含む
ポリアクリルアミドとその誘導体。
【００７１】後述の表１は、本発明に従い、非プロフィ
ールステンシルを製造するために用いることができる第
一、第二および第三の化学物質の例を挙げており、これ
らは、ステンシル形成層が実質的に第三の物質のみの層
から形成されるものである。
ールステンシルを製造するために用いることができる第
一、第二および第三の化学物質の例を挙げており、これ
らは、ステンシル形成層が実質的に第三の物質のみの層
から形成されるものである。
【００７２】
【表１】
【００７３】後述の表２は、本発明に従い、プロフィー
ルステンシルを製造するために用いることができる第
一、第二および第三の化学物質の例を挙げており、これ
らは、ステンシル形成層が第三の物質の層と受像層から
形成されるものである。
ルステンシルを製造するために用いることができる第
一、第二および第三の化学物質の例を挙げており、これ
らは、ステンシル形成層が第三の物質の層と受像層から
形成されるものである。
【００７４】
【表２】
【００７５】本発明の方法には、好ましくはさらなる再
生工程が含まれる。第一の化学薬剤がホウ酸塩を含む場
合には、再生は４以下のｐＨで行えばよい。用いられる
化学薬剤が後述の実施例で例示されるものである場合、
多くの場合において、その広い物理特性、化学耐性、洗
浄除去溶媒（水）および再生化学物質（典型的には過ヨ
ウ素酸塩系）は、スクリーンプリンタによって慣用され
るものとなろう。かくして、ここで用いられているステ
ンシル製造方法ならびに製品および組成物は新規なもの
であるが、得られたスクリーンは、しばしば、よく知ら
れ、スクリーンプリンタに高度に受容可能なものとなる
であろう。
生工程が含まれる。第一の化学薬剤がホウ酸塩を含む場
合には、再生は４以下のｐＨで行えばよい。用いられる
化学薬剤が後述の実施例で例示されるものである場合、
多くの場合において、その広い物理特性、化学耐性、洗
浄除去溶媒（水）および再生化学物質（典型的には過ヨ
ウ素酸塩系）は、スクリーンプリンタによって慣用され
るものとなろう。かくして、ここで用いられているステ
ンシル製造方法ならびに製品および組成物は新規なもの
であるが、得られたスクリーンは、しばしば、よく知ら
れ、スクリーンプリンタに高度に受容可能なものとなる
であろう。
【００７６】本発明の方法の有利な点としては、スクリ
ーンステンシルがデジタル情報源から直接製造できるこ
と、ステンシル製造工程中に安全照明を使用する必要が
ないこと、化学線光源を利用する露光工程を必要としな
いこと、最終のステンシルが従来のスクリーン印刷技術
よりも短時間で製造できることが挙げられる。スクリー
ンの狭い領域を印刷すべき場合には、ポジ系の方がネガ
系よりも都合がよい。例えば、領域の５％を印刷すべき
場合には、ネガ系では画像を形成するように施される物
質でフィルムの９５％を覆う必要があるが、ポジ系では
５％の被覆しか必要とせず、コンピューターメモリー、
時間および化学薬剤の軽減できることになる。
ーンステンシルがデジタル情報源から直接製造できるこ
と、ステンシル製造工程中に安全照明を使用する必要が
ないこと、化学線光源を利用する露光工程を必要としな
いこと、最終のステンシルが従来のスクリーン印刷技術
よりも短時間で製造できることが挙げられる。スクリー
ンの狭い領域を印刷すべき場合には、ポジ系の方がネガ
系よりも都合がよい。例えば、領域の５％を印刷すべき
場合には、ネガ系では画像を形成するように施される物
質でフィルムの９５％を覆う必要があるが、ポジ系では
５％の被覆しか必要とせず、コンピューターメモリー、
時間および化学薬剤の軽減できることになる。
【００７７】
【実施例】本発明は、それらに限定されるものではない
が、下記の実施例１ないし１２により例示される。これ
らの実施例では、種々の市販物質がその商品名により挙
げられており、下記の記号は以下の会社を示す。 (a) Hercules Inc., USA (b) 3M, UK (c) Nippon Gohsei, Japan (d) ISP, UK (e) DuPont, UK (f) Autotype International, UK (g) Kuraray, Japan (h) Allied Colloids, UK (i) W.R. Grace, Germany 実施例１ないし４は本発明の第一の好適態様に従ってお
り、実施例３および４は「プロフィールを有する」ステ
ンシルを製造するために、先に記載した改良を取り入れ
てある。実施例５および６は本発明の第四の好適態様に
従っている。実施例７ないし１０は本発明の第二の好適
態様に従っており、実施例９および１０には直前に述べ
た改良を取り入れてある。実施例１１および１２は本発
明の第三の好適態様に従っている。 実施例１ ヒドロキシプロピルセルロースである"Klucel E" (a)を
水溶液から被覆重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタ
レート支持基板上に被覆した。
が、下記の実施例１ないし１２により例示される。これ
らの実施例では、種々の市販物質がその商品名により挙
げられており、下記の記号は以下の会社を示す。 (a) Hercules Inc., USA (b) 3M, UK (c) Nippon Gohsei, Japan (d) ISP, UK (e) DuPont, UK (f) Autotype International, UK (g) Kuraray, Japan (h) Allied Colloids, UK (i) W.R. Grace, Germany 実施例１ないし４は本発明の第一の好適態様に従ってお
り、実施例３および４は「プロフィールを有する」ステ
ンシルを製造するために、先に記載した改良を取り入れ
てある。実施例５および６は本発明の第四の好適態様に
従っている。実施例７ないし１０は本発明の第二の好適
態様に従っており、実施例９および１０には直前に述べ
た改良を取り入れてある。実施例１１および１２は本発
明の第三の好適態様に従っている。 実施例１ ヒドロキシプロピルセルロースである"Klucel E" (a)を
水溶液から被覆重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタ
レート支持基板上に被覆した。
【００７８】ＩＭＳ中の３３重量％ボラックス混合物を
ボールミル内で４８時間粉砕することにより、四ホウ酸
ナトリウム四水和物(ボラックス(borax))分散系を作製
した。この分散系を５重量％に希釈し、Meyer barの
０．００９を用いてヒドロキシプロピルセルロース上に
被覆して、被覆重量を約１ｇｍ-2とした。得られた受容
エレメントを市販のサーマルインクジェットプリンタ(H
ewlett Packard HP550)に通し、以下の処方に従い調製
した化学阻害剤含有液を塗布した。
ボールミル内で４８時間粉砕することにより、四ホウ酸
ナトリウム四水和物(ボラックス(borax))分散系を作製
した。この分散系を５重量％に希釈し、Meyer barの
０．００９を用いてヒドロキシプロピルセルロース上に
被覆して、被覆重量を約１ｇｍ-2とした。得られた受容
エレメントを市販のサーマルインクジェットプリンタ(H
ewlett Packard HP550)に通し、以下の処方に従い調製
した化学阻害剤含有液を塗布した。
【００７９】 水 ３９重量％ 硝酸亜鉛（炭酸亜鉛／水酸化亜鉛と硝酸とから調製した。） １０重量 ％ グリセリン ５０重量％ "Fluorad FC-93" (b) （１％）−陰イオンフッ素系界面活性剤 １重量 ％ この実施例では、ヒドロキシプロピルセルロースはポリ
エチレンテレフタレート支持基板上に被覆された非反応
性受像層を構成する。ボラックス分散系は、"Gohsenol
GH-20" (c)の２０重量％水溶液中に供給されたポリビニ
ルアルコールであるステンシル形成剤と反応する第一の
化学薬剤である（下記参照）。このボラックス分散系と
ポリビニルアルコールとの間で起こる反応は、不溶性ホ
ウ酸亜鉛の形成を通じて硝酸亜鉛により阻害される化学
的架橋である。
エチレンテレフタレート支持基板上に被覆された非反応
性受像層を構成する。ボラックス分散系は、"Gohsenol
GH-20" (c)の２０重量％水溶液中に供給されたポリビニ
ルアルコールであるステンシル形成剤と反応する第一の
化学薬剤である（下記参照）。このボラックス分散系と
ポリビニルアルコールとの間で起こる反応は、不溶性ホ
ウ酸亜鉛の形成を通じて硝酸亜鉛により阻害される化学
的架橋である。
【００８０】受容エレメントを乾燥させ、次いで被覆層
が最上部に現れるようにガラス板上に置いた。この受容
エレメントを、１ｃｍ当たり６２本のメッシュ番手(mes
h count 62 threads per cm)のスクリーンメッシュで覆
った。次いで、"Gohsenol GH-20" (c)の２０重量％水溶
液のビーズ(bead)をこのメッシュ上に置き、ポリビニル
アルコールの薄層がメッシュを通って押し出されるよう
に、スキージを使ってこの受容エレメントに引き伸ばし
た。ポリエチレンテレフタレート支持基板がメッシュか
らきれいに剥がせるようになるまで、このスクリーンを
熱風ファンによって乾燥させた。スクリーンを乾燥させ
ておき、次いで溶解度の高い集塊部分が洗い去られてな
くなるまで冷流水で洗い流した。 実施例２ ポリビニルピロリドンである"K90" (d)の１０重量％水
溶液を被覆重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタレー
ト支持基板上に被覆した。
が最上部に現れるようにガラス板上に置いた。この受容
エレメントを、１ｃｍ当たり６２本のメッシュ番手(mes
h count 62 threads per cm)のスクリーンメッシュで覆
った。次いで、"Gohsenol GH-20" (c)の２０重量％水溶
液のビーズ(bead)をこのメッシュ上に置き、ポリビニル
アルコールの薄層がメッシュを通って押し出されるよう
に、スキージを使ってこの受容エレメントに引き伸ばし
た。ポリエチレンテレフタレート支持基板がメッシュか
らきれいに剥がせるようになるまで、このスクリーンを
熱風ファンによって乾燥させた。スクリーンを乾燥させ
ておき、次いで溶解度の高い集塊部分が洗い去られてな
くなるまで冷流水で洗い流した。 実施例２ ポリビニルピロリドンである"K90" (d)の１０重量％水
溶液を被覆重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタレー
ト支持基板上に被覆した。
【００８１】ペンタヒドロキシ（テトラデカノエート）
ジクロミウムである"Quilon C" (e)の１０重量％アセト
ン／イソプロパノール溶液を、Meyer barの０．００９
を用いてポリビニルピロリドン被覆上に被覆した。これ
により、適切な被覆重量である１ないし２ｇｍ-2となっ
た。得られた受容エレメントを市販のサーマルインクジ
ェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)に通し、以下
の処方に従い調製した化学阻害剤含有液を塗布した。
ジクロミウムである"Quilon C" (e)の１０重量％アセト
ン／イソプロパノール溶液を、Meyer barの０．００９
を用いてポリビニルピロリドン被覆上に被覆した。これ
により、適切な被覆重量である１ないし２ｇｍ-2となっ
た。得られた受容エレメントを市販のサーマルインクジ
ェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)に通し、以下
の処方に従い調製した化学阻害剤含有液を塗布した。
【００８２】 水 ９５重量％ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム ５重量％ この実施例では、非反応性受像層はポリビニルピロリド
ンに変更されている。第一の化学薬剤は、ポリビニルア
ルコールステンシル形成剤と反応して化学的架橋を達成
する"Quilon C"である。この反応は、"Quilon C"のクロ
ミウム成分と錯体を形成するエチレンジアミン四酢酸二
ナトリウムによって阻害される。次いで、受容エレメン
トを上記実施例１と全く同様の方法で処理してスクリー
ンステンシルを得た。 実施例３ 加水分解率８８％、重合度２０００のポリビニルアルコ
ールである"GohsenolGH-20" (c)を、水溶液にて、被覆
重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタレート支持基板
上に被覆した。
ンに変更されている。第一の化学薬剤は、ポリビニルア
ルコールステンシル形成剤と反応して化学的架橋を達成
する"Quilon C"である。この反応は、"Quilon C"のクロ
ミウム成分と錯体を形成するエチレンジアミン四酢酸二
ナトリウムによって阻害される。次いで、受容エレメン
トを上記実施例１と全く同様の方法で処理してスクリー
ンステンシルを得た。 実施例３ 加水分解率８８％、重合度２０００のポリビニルアルコ
ールである"GohsenolGH-20" (c)を、水溶液にて、被覆
重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタレート支持基板
上に被覆した。
【００８３】ＩＭＳ中３３重量％ボラックス混合物をボ
ールミル内で４８時間粉砕することにより、四ホウ酸ナ
トリウム四水和物（ボラックス）分散系を作製した。こ
の分散系を５重量％に希釈して、Meyer barの０．００
９を用いてポリビニルアルコール上に被覆し、被覆重量
を約１ｇｍ-2とした。得られた受容エレメントを市販の
サーマルインクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP5
50)に通し、以下の処方に従い調製した化学阻害剤含有
液を塗布した。
ールミル内で４８時間粉砕することにより、四ホウ酸ナ
トリウム四水和物（ボラックス）分散系を作製した。こ
の分散系を５重量％に希釈して、Meyer barの０．００
９を用いてポリビニルアルコール上に被覆し、被覆重量
を約１ｇｍ-2とした。得られた受容エレメントを市販の
サーマルインクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP5
50)に通し、以下の処方に従い調製した化学阻害剤含有
液を塗布した。
【００８４】 水 ３９重量％ 硝酸亜鉛（炭酸亜鉛／水酸化亜鉛と硝酸とから調製した。） １０重量 ％ グリセリン−５０重量％ "Fluorad FC-93" (b) （１％）−陰イオンフッ素系界面活性剤 １重量 ％ この実施例では、実施例１の非反応性受像層を、ボラッ
クス分散系と反応するポリビニルアルコールで置換し、
以下の記載のように上記受容エレメントを上記メッシュ
に接触させて、さらにポリビニルアルコールを施した。
このようにして、好ましい「プロフィール」を有するス
テンシルを製造する。
クス分散系と反応するポリビニルアルコールで置換し、
以下の記載のように上記受容エレメントを上記メッシュ
に接触させて、さらにポリビニルアルコールを施した。
このようにして、好ましい「プロフィール」を有するス
テンシルを製造する。
【００８５】次いで、上記受容エレメントを上記実施例
１と全く同様の方法で処理して、スクリーンステンシル
を得た。製造されたスクリーンステンシルは、受像層か
ら形成された「プロフィール」を有する。 実施例４ ポリビニルアルコールである"Gohsenol GH-20" (c)とポ
リ酢酸ビニルの５０：５０重量％混合物を、水溶液に
て、被覆重量８ｇｍ-2で、ポリエチレンテレフタレート
支持基板上に被覆した。
１と全く同様の方法で処理して、スクリーンステンシル
を得た。製造されたスクリーンステンシルは、受像層か
ら形成された「プロフィール」を有する。 実施例４ ポリビニルアルコールである"Gohsenol GH-20" (c)とポ
リ酢酸ビニルの５０：５０重量％混合物を、水溶液に
て、被覆重量８ｇｍ-2で、ポリエチレンテレフタレート
支持基板上に被覆した。
【００８６】ペンタヒドロキシ（テトラデカノエート）
ジクロミウムである"Quilon C" (e)の１０重量％アセト
ン／イソプロパノール溶液を、Meyer barの０．００９
を用いてポリビニルアルコール／ポリ酢酸ビニル上に被
覆した。これにより、適切な被覆重量である１ないし２
ｇｍ-2が得られた。得られた受容エレメントを市販のサ
ーマルインクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP55
0)に通し、以下の処方に従い調製した化学阻害剤含有液
を塗布した。
ジクロミウムである"Quilon C" (e)の１０重量％アセト
ン／イソプロパノール溶液を、Meyer barの０．００９
を用いてポリビニルアルコール／ポリ酢酸ビニル上に被
覆した。これにより、適切な被覆重量である１ないし２
ｇｍ-2が得られた。得られた受容エレメントを市販のサ
ーマルインクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP55
0)に通し、以下の処方に従い調製した化学阻害剤含有液
を塗布した。
【００８７】 水 ９５重量％ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム ５重量％ この実施例では、実施例３と比較すると、ポリビニルア
ルコール反応性受像層は実施例３と同様、第一の化学薬
剤との反応性を維持しているポリビニルアルコールとポ
リ酢酸ビニルの混合物に置き換えられており、その反応
も実施例２と同じ阻害剤によって阻害される。
ルコール反応性受像層は実施例３と同様、第一の化学薬
剤との反応性を維持しているポリビニルアルコールとポ
リ酢酸ビニルの混合物に置き換えられており、その反応
も実施例２と同じ阻害剤によって阻害される。
【００８８】次いで、上記受容エレメントを上記実施例
１と全く同様の方法で処理して、プロフィールスクリー
ンステンシルを製造した。 実施例５ ポリビニルアルコールである"Gohsenol GH-20" (c)１０
ｇ、硫酸鉄（ＩＩ）２．０ｇ、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス
アクリルアミド２．０ｇ、水溶性色素１．０ｇおよび水
１００ｇの混合物を、被覆重量１０ｇｍ-2でポリエチレ
ンテレフタレート支持体上に被覆した。
１と全く同様の方法で処理して、プロフィールスクリー
ンステンシルを製造した。 実施例５ ポリビニルアルコールである"Gohsenol GH-20" (c)１０
ｇ、硫酸鉄（ＩＩ）２．０ｇ、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス
アクリルアミド２．０ｇ、水溶性色素１．０ｇおよび水
１００ｇの混合物を、被覆重量１０ｇｍ-2でポリエチレ
ンテレフタレート支持体上に被覆した。
【００８９】得られた乾燥受容エレメントを市販のサー
マルインクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)
に通し、以下の処方に従った重合阻害剤含有液を、画像
を形成するように塗布した。 水 ９０重量％ ピロガロール １０重量％ 上記受容エレメントを乾燥させ、次いで、被覆層が最上
部に現れるようにガラス板上に置いた。当該受容エレメ
ントを、１ｃｍ当たり６２本のメッシュ番手のスクリー
ンメッシュで覆い、以下の組成からなる乳剤を用いて積
層した。
マルインクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)
に通し、以下の処方に従った重合阻害剤含有液を、画像
を形成するように塗布した。 水 ９０重量％ ピロガロール １０重量％ 上記受容エレメントを乾燥させ、次いで、被覆層が最上
部に現れるようにガラス板上に置いた。当該受容エレメ
ントを、１ｃｍ当たり６２本のメッシュ番手のスクリー
ンメッシュで覆い、以下の組成からなる乳剤を用いて積
層した。
【００９０】 "GH-20" (c) １０．０重量％ N,N'-メチレンビスアクリルアミド ２．０重量 ％ 過硫酸アンモニウム ２．０重量％ 水性色素分散液 １．０重量％ 水 ８５．０重量％ このスクリーンを乾燥させ、実施例１と全く同様の方法
で処理して、プロフィールスクリーンステンシルを製造
した。
で処理して、プロフィールスクリーンステンシルを製造
した。
【００９１】この実施例では、被覆物質配合物はポリエ
チレンテレフタレート支持基板上に被覆された反応性受
像層を構成する。この場合、第一の化学薬剤は、鉄（Ｉ
ＩＩ）イオンおよびＮ，Ｎ’−メチレンビスアクリルア
ミドの重合を開始させるフリーラジカルを生成するため
にステンシル形成組成物に含まれている過硫酸アンモニ
ウムによって酸化された硫酸鉄（ＩＩ）により供給され
る。この重合工程では、ポリビニルアルコールは重合に
より形成したステンシル形成層に組み込まれる。この反
応に対する阻害剤は、フリーラジカル捕捉剤として作用
するピロガロールによって提供される。 実施例６ 酸を触媒とする縮合反応においてポリビニルアルコール
にホルミル含有アクリルアミドモノマーをグラフトする
ことによって製造した、アクリルアミド−グラフトポリ
ビニルアルコール１２ｇ（グラフトレベル１０重量
％）、硫酸鉄（ＩＩ）２．０ｇ、水溶性色素１．０ｇお
よび水１００ｇからなる混合物を、被覆重量１０ｇｍ-2
でポリエチレンテレフタレート支持体上に被覆した。
チレンテレフタレート支持基板上に被覆された反応性受
像層を構成する。この場合、第一の化学薬剤は、鉄（Ｉ
ＩＩ）イオンおよびＮ，Ｎ’−メチレンビスアクリルア
ミドの重合を開始させるフリーラジカルを生成するため
にステンシル形成組成物に含まれている過硫酸アンモニ
ウムによって酸化された硫酸鉄（ＩＩ）により供給され
る。この重合工程では、ポリビニルアルコールは重合に
より形成したステンシル形成層に組み込まれる。この反
応に対する阻害剤は、フリーラジカル捕捉剤として作用
するピロガロールによって提供される。 実施例６ 酸を触媒とする縮合反応においてポリビニルアルコール
にホルミル含有アクリルアミドモノマーをグラフトする
ことによって製造した、アクリルアミド−グラフトポリ
ビニルアルコール１２ｇ（グラフトレベル１０重量
％）、硫酸鉄（ＩＩ）２．０ｇ、水溶性色素１．０ｇお
よび水１００ｇからなる混合物を、被覆重量１０ｇｍ-2
でポリエチレンテレフタレート支持体上に被覆した。
【００９２】得られた乾燥受容エレメントを市販のサー
マルインクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)
に通し、以下の処方に従った重合阻害剤含有液を、画像
を形成するように塗布した。 水 ９０重量％ カテコール １０重量％ この受容エレメントを乾燥させ、次いで、被覆層が最上
層に現れるようにガラス板上に置いた。当該受容エレメ
ントを、１ｃｍ当たり６２本のメッシュ番手のスクリー
ンメッシュで覆い、以下の組成からなる乳剤を用いて積
層した。
マルインクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)
に通し、以下の処方に従った重合阻害剤含有液を、画像
を形成するように塗布した。 水 ９０重量％ カテコール １０重量％ この受容エレメントを乾燥させ、次いで、被覆層が最上
層に現れるようにガラス板上に置いた。当該受容エレメ
ントを、１ｃｍ当たり６２本のメッシュ番手のスクリー
ンメッシュで覆い、以下の組成からなる乳剤を用いて積
層した。
【００９３】 アクリルアミドをグラフトしたポリビニルアルコール（グラフトレベル１０重 量％） １２．０重量％ 過硫酸アンモニウム ２．０重量％ 水性色素分散液 １．０重量％ 水 ８５．０重量％ このスクリーンを乾燥させ、実施例１と全く同様の方法
で処理して、強固なプロフィールスクリーンステンシル
を製造した。
で処理して、強固なプロフィールスクリーンステンシル
を製造した。
【００９４】実施例５と比較すると、この実施例では、
ポリビニルアルコールおよびＮ，Ｎ’−メチレンビスア
クリルアミドはアクリルアミドをグラフトしたポリビニ
ルアルコールに、ピロガロールはカテコールに置き換え
られている。 実施例７ 加水分解率８８％および重合度２０００のポリビニルア
ルコール、"GohsenolGH-20" (c)を、水溶液にて、被覆
重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタレート支持体上
に被覆した。
ポリビニルアルコールおよびＮ，Ｎ’−メチレンビスア
クリルアミドはアクリルアミドをグラフトしたポリビニ
ルアルコールに、ピロガロールはカテコールに置き換え
られている。 実施例７ 加水分解率８８％および重合度２０００のポリビニルア
ルコール、"GohsenolGH-20" (c)を、水溶液にて、被覆
重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタレート支持体上
に被覆した。
【００９５】得られた受容エレメントを市販のサーマル
インクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)に通
し、以下の処方に従った化学阻害剤含有液を塗布した。 水 ９５重量％ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム ５重量％ 次いで、この受容エレメントを、以下の組成の溶液を用
いた以外は実施例１と同様の手法を用いてメッシュに積
層した。
インクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)に通
し、以下の処方に従った化学阻害剤含有液を塗布した。 水 ９５重量％ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム ５重量％ 次いで、この受容エレメントを、以下の組成の溶液を用
いた以外は実施例１と同様の手法を用いてメッシュに積
層した。
【００９６】 KL-318 (g)−カルボキシル化ポリビニルアルコール ８．５重量％ 酢酸 ５重量％ 硫酸鉄(III) ５重量％ 水性色素分散液 １重量％ 水 ８０．５重量％ このスクリーンを温風ドライヤーを用いて乾燥させ、実
施例１と同様に処理してスクリーンステンシルを製造し
た。
施例１と同様に処理してスクリーンステンシルを製造し
た。
【００９７】この実施例では、ポリビニルアルコールは
ポリエチレンテレフタレート支持基板上に被覆された非
反応性受像層を構成する。第一および第二の化学薬剤は
それぞれ、カルボキシル化ポリビニルアルコールおよび
鉄（ＩＩＩ）イオンであり、鉄（ＩＩＩ）イオンはカル
ボキシル基と反応してポリビニルアルコール鎖間に橋を
形成し、これらの鎖はそれにより架橋される。ＥＤＴＡ
塩はこの反応に対する阻害剤として作用し、鉄（ＩＩ
Ｉ）イオンに対するキレート化作用を有する。カルボキ
シル化ポリビニルアルコールと鉄（ＩＩＩ）イオンとの
間の反応は、ｐＨ値が約５．５およびそれより高い場合
にのみ起こり、それゆえ酢酸により一時的に阻害され、
この酢酸は温風ドライヤーを用いてスクリーンを乾燥さ
せる際の蒸発により除去される。 実施例８ ポリビニルピロリドンである"K90" (d)の１０重量％水
溶液を、被覆重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタレ
ート支持基板上に被覆した。
ポリエチレンテレフタレート支持基板上に被覆された非
反応性受像層を構成する。第一および第二の化学薬剤は
それぞれ、カルボキシル化ポリビニルアルコールおよび
鉄（ＩＩＩ）イオンであり、鉄（ＩＩＩ）イオンはカル
ボキシル基と反応してポリビニルアルコール鎖間に橋を
形成し、これらの鎖はそれにより架橋される。ＥＤＴＡ
塩はこの反応に対する阻害剤として作用し、鉄（ＩＩ
Ｉ）イオンに対するキレート化作用を有する。カルボキ
シル化ポリビニルアルコールと鉄（ＩＩＩ）イオンとの
間の反応は、ｐＨ値が約５．５およびそれより高い場合
にのみ起こり、それゆえ酢酸により一時的に阻害され、
この酢酸は温風ドライヤーを用いてスクリーンを乾燥さ
せる際の蒸発により除去される。 実施例８ ポリビニルピロリドンである"K90" (d)の１０重量％水
溶液を、被覆重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタレ
ート支持基板上に被覆した。
【００９８】得られた受容エレメントを市販のサーマル
インクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)に通
し、以下の処方に従った化学阻害剤含有液を塗布した。 水 ９５重量％ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム ５重量％ 次いで、この受容エレメントを、以下の組成の溶液を用
いた以外は実施例１と同様の手法を用いてメッシュに積
層した。
インクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)に通
し、以下の処方に従った化学阻害剤含有液を塗布した。 水 ９５重量％ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム ５重量％ 次いで、この受容エレメントを、以下の組成の溶液を用
いた以外は実施例１と同様の手法を用いてメッシュに積
層した。
【００９９】 "WSRN-25" (h)−部分的にカルボキシル化したポリアクリルアミドの２５％水 溶液 ８．５重量％ 酢酸 ５重量％ 硫酸鉄（ＩＩＩ） ５重量％ 水性色素分散液 １重量％ 水 ８０．５重量％ このスクリーンを乾燥させ、実施例１と同様に処理して
スクリーンステンシルを製造した。
スクリーンステンシルを製造した。
【０１００】実施例７と比較すると、非反応性受像層は
ポリビニルピロリドンに、カルボキシル化ポリビニルア
ルコールはカルボキシル化ポリアクリルアミドに変更さ
れている。 実施例９ カルボキシル化ポリビニルアルコールである"Kuraray K
L-318" (g)を水溶液にて、被覆重量１０ｇｍ-2でポリエ
チレンテレフタレート支持基板上に被覆した。
ポリビニルピロリドンに、カルボキシル化ポリビニルア
ルコールはカルボキシル化ポリアクリルアミドに変更さ
れている。 実施例９ カルボキシル化ポリビニルアルコールである"Kuraray K
L-318" (g)を水溶液にて、被覆重量１０ｇｍ-2でポリエ
チレンテレフタレート支持基板上に被覆した。
【０１０１】得られた受容エレメントを市販のサーマル
インクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)に通
し、以下の処方に従った化学阻害剤含有液を塗布した。 水 ９５重量％ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム ５重量％ 次いで、この受容エレメントを、以下の組成の溶液を用
いた以外は実施例１と同様の手法を用いてメッシュに積
層した。
インクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)に通
し、以下の処方に従った化学阻害剤含有液を塗布した。 水 ９５重量％ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム ５重量％ 次いで、この受容エレメントを、以下の組成の溶液を用
いた以外は実施例１と同様の手法を用いてメッシュに積
層した。
【０１０２】 KL-318 (g) ８．５重量％ 酢酸 ５重量％ 硫酸鉄（ＩＩＩ） ５重量 ％ 水性色素分散液 １重量％ 水 ８０．５重量％ このスクリーンを乾燥させ、実施例１と同様に処理して
プロフィールスクリーンステンシルを製造した。
プロフィールスクリーンステンシルを製造した。
【０１０３】実施例８と比較すると、非反応性ポリビニ
ルピロリドン受像層は、鉄（ＩＩＩ）イオンが関与する
架橋反応にあずかるカルボキシル化ポリビニルアルコー
ルに置き換えられている。 実施例１０ 部分的にカルボキシル化されたポリアクリルアミドであ
る"WSRN-25" (h)の２５％水溶液を被覆重量１０ｇｍ-2
で、ポリエチレンテレフタレート支持基板上に被覆し
た。
ルピロリドン受像層は、鉄（ＩＩＩ）イオンが関与する
架橋反応にあずかるカルボキシル化ポリビニルアルコー
ルに置き換えられている。 実施例１０ 部分的にカルボキシル化されたポリアクリルアミドであ
る"WSRN-25" (h)の２５％水溶液を被覆重量１０ｇｍ-2
で、ポリエチレンテレフタレート支持基板上に被覆し
た。
【０１０４】得られた受容エレメントを市販のサーマル
インクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)に通
し、以下の処方に従った化学阻害剤含有液を塗布した。 水 ９５重量％ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム ５重量％ 次いで、この受容エレメントを、以下の組成の溶液を用
いた以外は実施例１と同じ手法を用いてメッシュに積層
した。
インクジェットプリンタ(Hewlett Packard HP550)に通
し、以下の処方に従った化学阻害剤含有液を塗布した。 水 ９５重量％ エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム ５重量％ 次いで、この受容エレメントを、以下の組成の溶液を用
いた以外は実施例１と同じ手法を用いてメッシュに積層
した。
【０１０５】 "WSRN-25" (h) ８．５重量％ 酢酸 ５重量％ 硫酸鉄(III) ５重量％ 水性色素分散液 １重量％ 水 ８０．５重量％ このスクリーンを乾燥させ、実施例１と同様に処理して
スクリーンステンシルを製造した。
スクリーンステンシルを製造した。
【０１０６】この実施例では、実施例８と比較すると、
非反応性ポリビニルピロリドン受像層は、架橋工程にあ
ずかり、プロフィールスクリーンステンシルを製造する
カルボキシル化ポリアクリルアミドに置き換えられてい
る。実施例１１ヒドロキシプロピルセルロースである"K
lucel E" (a)９０ｇ、四ホウ酸ナトリウム１０ｇおよび
水９００ｇからなる混合物を、被覆重量１０ｇｍ-2で、
ポリエチレンテレフタレート支持基板上に被覆した。
非反応性ポリビニルピロリドン受像層は、架橋工程にあ
ずかり、プロフィールスクリーンステンシルを製造する
カルボキシル化ポリアクリルアミドに置き換えられてい
る。実施例１１ヒドロキシプロピルセルロースである"K
lucel E" (a)９０ｇ、四ホウ酸ナトリウム１０ｇおよび
水９００ｇからなる混合物を、被覆重量１０ｇｍ-2で、
ポリエチレンテレフタレート支持基板上に被覆した。
【０１０７】得られた乾燥フィルムをホットワックスプ
リンタ(Tektronix Inc., USA)に通し、温ワックスを被
覆フィルムの表面に画像を形成するように塗布した。こ
の受容エレメントを乾燥させ、次いで、被覆層が最上部
に現れるようにガラス板上に置いた。当該受容エレメン
トを、１ｃｍ当たり６２本のメッシュ番手のスクリーン
メッシュで覆った。次いで、ポリビニルアルコールおよ
びポリ酢酸ビニルの混合物を含むスクリーン印刷用乳
剤"Autosol 2000" (f)のビーズをメッシュ上に置き、乳
剤の薄層がこのメッシュから押し出されるように、スキ
ージによりこの受容エレメント上に引き延ばした。この
スクリーンを乾燥させ、実施例１と同様に処理してスク
リーンステンシルを製造した。
リンタ(Tektronix Inc., USA)に通し、温ワックスを被
覆フィルムの表面に画像を形成するように塗布した。こ
の受容エレメントを乾燥させ、次いで、被覆層が最上部
に現れるようにガラス板上に置いた。当該受容エレメン
トを、１ｃｍ当たり６２本のメッシュ番手のスクリーン
メッシュで覆った。次いで、ポリビニルアルコールおよ
びポリ酢酸ビニルの混合物を含むスクリーン印刷用乳
剤"Autosol 2000" (f)のビーズをメッシュ上に置き、乳
剤の薄層がこのメッシュから押し出されるように、スキ
ージによりこの受容エレメント上に引き延ばした。この
スクリーンを乾燥させ、実施例１と同様に処理してスク
リーンステンシルを製造した。
【０１０８】この実施例では、ヒドロキシプロピルセル
ロースはポリエチレンテレフタレート支持基板上に非反
応性受像層を形成する。四ホウ酸ナトリウムは"Autosol
2000"中のポリビニルアルコールと反応する第一の化学
薬剤を構成して、最終のスクリーンステンシルのステン
シル層を製造し、ポリビニルアルコールは第二の化学薬
剤を構成し、この反応は塗布された温ワックスのマスク
によって阻害される。 実施例１２ ヒドロキシエチルセルロース"Natrosol 250L" (a)９０
ｇ、四ホウ酸ナトリウム１０ｇ、水９００ｇおよび無機
的に処理されたシリカ"Syloid ED41" (i)４ｇからなる
混合物を、被覆重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタ
レート支持基板上に被覆した。
ロースはポリエチレンテレフタレート支持基板上に非反
応性受像層を形成する。四ホウ酸ナトリウムは"Autosol
2000"中のポリビニルアルコールと反応する第一の化学
薬剤を構成して、最終のスクリーンステンシルのステン
シル層を製造し、ポリビニルアルコールは第二の化学薬
剤を構成し、この反応は塗布された温ワックスのマスク
によって阻害される。 実施例１２ ヒドロキシエチルセルロース"Natrosol 250L" (a)９０
ｇ、四ホウ酸ナトリウム１０ｇ、水９００ｇおよび無機
的に処理されたシリカ"Syloid ED41" (i)４ｇからなる
混合物を、被覆重量１０ｇｍ-2でポリエチレンテレフタ
レート支持基板上に被覆した。
【０１０９】得られた乾燥フィルムをレーザープリンタ
(Xante 8300)に通し、トナー粉末をマスキング剤として
被覆フィルムの表面に画像を形成するように塗布した。
次いで、この受容エレメントを実施例１１と同様の方法
で処理してスクリーンステンシルを製造した。実施例１
１と比較すると、この実施例では、受像層としてヒドロ
キシエチルセルロースがヒドロキシプロピルセルロース
に置き換えられている。温ワックスマスキング剤は乾燥
トナーに置き換えられている。無機的に処理したシリカ
の目的は、受像層の表面へのトナーの付着を容易にする
ためである。
(Xante 8300)に通し、トナー粉末をマスキング剤として
被覆フィルムの表面に画像を形成するように塗布した。
次いで、この受容エレメントを実施例１１と同様の方法
で処理してスクリーンステンシルを製造した。実施例１
１と比較すると、この実施例では、受像層としてヒドロ
キシエチルセルロースがヒドロキシプロピルセルロース
に置き換えられている。温ワックスマスキング剤は乾燥
トナーに置き換えられている。無機的に処理したシリカ
の目的は、受像層の表面へのトナーの付着を容易にする
ためである。
【図１】図１ないし５は、本発明の第一または第四の好
適態様に従う印刷用スクリーンの製造における一連の工
程を模式的に示したものである。
適態様に従う印刷用スクリーンの製造における一連の工
程を模式的に示したものである。
【図２】図６ないし１０は、図１ないし５に対応する
が、本発明の第一または第四の好適態様に従う改良法に
おける一連の工程を示す。
が、本発明の第一または第四の好適態様に従う改良法に
おける一連の工程を示す。
【図３】図１１ないし１５は、本発明の第二の好適態様
に従う印刷用スクリーンの製造における一連の工程を模
式的に示したものである。
に従う印刷用スクリーンの製造における一連の工程を模
式的に示したものである。
【図４】図１６ないし２０は、図１１ないし１５に対応
するが、本発明の第二の好適態様に従う改良法における
一連の工程を示す。
するが、本発明の第二の好適態様に従う改良法における
一連の工程を示す。
【図５】図２１ないし２５は、本発明の第三の好適態様
に従う印刷用スクリーンの製造における一連の工程を模
式的に示したものである。
に従う印刷用スクリーンの製造における一連の工程を模
式的に示したものである。
【図６】図２６ないし３０は、図２１ないし２５に対応
するが、本発明の第三の好適態様に従う改良法における
一連の工程を示す。
するが、本発明の第三の好適態様に従う改良法における
一連の工程を示す。
１０，１０' 受容エレメント １１，１１' 受像層 １２，１２' 支持基板 １３，１３' 液滴 １４，１４' 阻害層 １５，１５' スクリーンメッシュ １６，１６' ステンシル形成剤 １７，１７' スプレダー １８，１８' 不溶性物質からなる領域 １９，１９' 開放領域 ２０，２０' 受容エレメント ２１，２１' 受像層 ２２，２２' 支持基板 ２３，２３' 液滴 ２４，２４' 反応阻害剤 ２５，２５' スクリーンメッシュ ２６，２６' ステンシル形成組成物 ２７，２７' スプレダー ２８，２８' 硬化領域 ２９，２９' 開放領域 ３０，３０' 受容エレメント ３１，３１' 受像層 ３２，３２' 支持基板 ３３，３３' 液滴 ３４，３４' マスキング剤 ３５，３５' スクリーンメッシュ ３６，３６' ステンシル形成組成物 ３７，３７' スプレダー ３８，３８' 硬化領域 ３９，３９' 開放領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョン ウィリアム ジョーンズ イギリス，ＯＸ12 ７ＪＺ，オックスフォ ード州，ウォンテージ，グロウブ，ミルブ ルク スクエア 10階
Claims (86)
- 【請求項１】印刷媒体通過用の開放領域および印刷媒体
遮断用の遮断領域を有するスクリーン印刷用ステンシル
の製造方法であって、 任意の支持基板を含む受容エレメントと、第一の物質を
含む受像層とを用意すること、 製造されるステンシルの開放領域に対応する領域で、上
記受像層に画像を形成するように第二の物質を施すこ
と、 上記受像層を、スクリーン印刷用スクリーンに層状に施
される第三の物質と接触させること、 化学反応を引き起こしてまたは可能にして、上記スクリ
ーン上に、それぞれ上記開放および遮断ステンシル領域
に相当する相対的に高い溶解度および相対的に低い溶解
度領域を有するステンシル形成層を形成すること、なら
びに溶解度のより高い領域のステンシル形成層を洗い去
り、それによってスクリーン印刷用ステンシルを製造す
ること、上記第一、第二および第三の物質が、前述記載
のように上記化学反応を起こすものであることを含む方
法。 - 【請求項２】受容エレメントの受像層をスクリーン印刷
用スクリーンの一方側と接触させた後、上記第三の物質
をスクリーン印刷用スクリーンの他方側に施す請求項１
記載の方法。 - 【請求項３】上記化学反応は、第一および第三の物質に
含まれる反応性薬剤を関与させて起こるものであり、第
二の物質がこの反応に対する化学阻害剤を含む請求項１
または２記載の方法。 - 【請求項４】第三の物質が架橋反応にあずかり得る少な
くとも１種の重合物質を含み、第一の物質が架橋反応の
ための架橋剤を含み、かつ、第二の物質がこの架橋反応
に対する阻害剤を含む請求項３記載の方法。 - 【請求項５】第一の物質の架橋剤が、ホウ酸；ホウ素塩
類、例えばＩ族およびＩＩ族金属のホウ酸塩；アルデヒ
ド類、例えばホルムアルデヒド；所望により無機酸を伴
うジアルデヒド類、例えばグリオキサールおよびグルタ
ルアルデヒド；ならびに遷移金属化合物類、例えば鉄(I
II)塩、ジルコニウム塩、チタン塩、およびクロム化合
物、例えばペンタヒドロキシ（テトラデカノエート）ジ
クロミウムおよびその誘導体のうちの１つ以上を含む請
求項４記載の方法。 - 【請求項６】上記阻害剤が、上記架橋剤と反応して反応
性の低い化合物を形成する金属塩を含む請求項４または
５記載の方法。 - 【請求項７】上記架橋剤がホウ酸および／またはホウ酸
の金属塩を含み、かつ、上記阻害剤が上記架橋剤と反応
して不溶性のホウ酸塩を形成する少なくとも１種の金属
塩を含む請求項５記載の方法。 - 【請求項８】上記阻害剤が当該阻害剤をキレート化して
反応性の低い錯体を形成するキレート化剤を含む請求項
４または５記載の方法。 - 【請求項９】上記架橋剤が１種以上の遷移金属錯体を含
み、かつ、上記阻害剤が少なくとも１種のアルキレンジ
アミン四酢酸またはその誘導体を含む請求項５記載の方
法。 - 【請求項１０】上記阻害剤が第二の物質の０．５ないし
５０重量％を構成する請求項３ないし９のいずれか１項
に記載の方法。 - 【請求項１１】第三の物質がフリーラジカル重合反応に
あずかり得る少なくとも１種の化合物を含み、第一の物
質がフリーラジカル形成系の少なくとも１種の化合物、
さらには第三の物質が所望により含む成分を含み、か
つ、第二の物質がフリーラジカル形成系に対する阻害剤
を含む請求項３記載の方法。 - 【請求項１２】重合可能な化合物が、所望により重合化
合物、好ましくはポリビニルアルコールへグラフトされ
るアクリルアミドである請求項１１記載の方法。 - 【請求項１３】上記フリーラジカル形成系が酸化系であ
り、かつ、第二の物質が捕捉剤を含む請求項１１または
１２記載の方法。 - 【請求項１４】上記フリーラジカル形成系が、より高い
酸化状態まで酸化することができる遷移金属イオン、例
えば鉄（ＩＩ）イオンの供給源とそれらのための酸化剤
を含む請求項１３記載の方法。 - 【請求項１５】上記捕捉剤が芳香族ポリオール、好まし
くはヒドロキシ置換ベンゼン誘導体、例えばピロガロー
ルまたはカテコールを含む請求項１３または１４記載の
方法。 - 【請求項１６】第一の物質がイオン供給源を含み、か
つ、第三の物質が酸化剤を含む請求項１４または１５記
載の方法。 - 【請求項１７】上記化学反応は、第一および第三の物質
に含まれる反応性薬剤を関与させて起こるものであり、
第二の物質が第一の物質と第三の物質の間の物理的障壁
を形成する請求項１または２記載の方法。 - 【請求項１８】第三の物質が架橋反応にあずかり得る少
なくとも１種の重合物質を含み、第一の物質がこの架橋
反応のための架橋剤を含む請求項１７記載の方法。 - 【請求項１９】第一の物質の架橋剤が、ホウ酸；ホウ素
塩類、例えばＩ族およびＩＩ族金属のホウ酸塩；アルデ
ヒド類、例えばホルムアルデヒド；所望により無機酸を
伴うジアルデヒド類例えば、グリオキサールおよびグル
タルアルデヒド；ならびに遷移金属化合物、例えば鉄
（ＩＩＩ）塩、ジルコニウム塩、チタン塩、およびクロ
ム化合物、例えばペンタヒドロキシ（テトラデカノエー
ト）ジクロミウムおよびその誘導体のうちの１つ以上を
含む請求項１７または１８記載の方法。 - 【請求項２０】第二の物質が溶融状態で施され、次いで
固化させるまたは固化することを可能にするワックスを
含む請求項１７ないし１９のいずれか１項に記載の方
法。 - 【請求項２１】第二の物質がトナー粉末である請求項１
７ないし１９のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項２２】上記化学反応が、第三の物質が含む薬剤
間で起こり、第二の物質がこの反応に対する阻害剤を含
む請求項１または２記載の方法。 - 【請求項２３】第三の物質が上記薬剤間の反応のための
一時的阻害剤を含み、この方法が、一時的阻害剤の作用
を終結させて、化学阻害剤により阻害されていないとこ
ろで上記反応を起こす工程を含む請求項２２記載の方
法。 - 【請求項２４】第三の物質がｐＨ感受性のイオン性架橋
反応、およびこの反応のためのイオンの供給源としてあ
ずかり得る反応性官能基を有する少なくとも１種の重合
物質を含み、上記一時的阻害剤が、ｐＨを架橋イオンの
形成を阻害する値に維持するｐＨ調整剤を含む請求項２
３記載の方法。 - 【請求項２５】上記化学阻害剤が架橋イオンに対するキ
レート化剤を含む請求項２４記載の方法。 - 【請求項２６】上記キレート化剤が少なくとも１種のア
ルキレンジアミン四酢酸またはその誘導体を含む請求項
２５記載の方法。 - 【請求項２７】上記ｐＨ調整剤が架橋イオンの形成を阻
害するのに十分低いｐＨを維持する酸供給源である請求
項２４ないし２６のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項２８】上記酸供給源が揮発性であり、かつ、そ
の蒸発を引き起こすあるいは可能にすることによってそ
の作用を終結させる請求項２７記載の方法。 - 【請求項２９】上記ステンシル形成層が実質的に第三の
物質のみの層から形成される上記請求項のいずれか１項
に記載の方法。 - 【請求項３０】上記受像層が下記ポリマー：水溶性セル
ロース誘導体、例えばヒドロキシプロピルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース；ポリビニルピロリドンおよびポリアクリル酸のう
ちの１つ以上を含む請求項２９記載の方法。 - 【請求項３１】上記ポリマーが受像層の５ないし１００
重量％の量で当該受像層に存在する請求項３０記載の方
法。 - 【請求項３２】上記受像層が増量剤、結合剤、界面活性
剤および可塑剤のうちの１つ以上を含む請求項３０また
は３１記載の方法。 - 【請求項３３】上記受像層が、所望により被覆された紙
を含む請求項２９記載の方法。 - 【請求項３４】上記ステンシル形成層が、少なくとも部
分的に第三の物質の層および受像層から形成される請求
項１ないし２８のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項３５】上記受像層が下記ポリマー：カルボキシ
ル化誘導体およびアクリルアミドをグラフトした誘導体
を含むポリビニルアルコールとその誘導体、およびポリ
ビニルアセテート；ゼラチンおよびその誘導体；カルボ
キシル化アクリル系誘導体、エチレン−アクリル酸共重
合体、およびスチレン−アクリル酸共重合体を含む、ア
ルカリを添加した際に水溶性となり得るカルボキシ化ポ
リマー；ならびにカルボキシル化誘導体を含むポリアク
リルアミドとその誘導体のうちの１つ以上を含む請求項
３４記載の方法。 - 【請求項３６】上記受像層が、２０ないし９９．９モル
％の加水分解率および／または１００ないし３５００の
重合度を有するポリビニルアルコールを含む請求項３５
記載の方法。 - 【請求項３７】上記受容エレメントが厚さ１０ないし２
００μｍの支持基板を含む請求項１ないし３２および３
４ないし３６のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項３８】上記支持基板がポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニ
ルおよびポリスチレンのうちの１つ以上を含む請求項３
７記載の方法。 - 【請求項３９】上記受像層の厚さが０．１ないし５０μ
ｍである請求項３７または３８記載の方法。 - 【請求項４０】上記受容エレメントが支持基板を持た
ず、かつ、上記受像層の厚さが６ないし２５０μｍであ
る請求項１ないし３６のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項４１】第三の物質が下記ポリマー：カルボキシ
ル化誘導体およびアクリルアミドをグラフトした誘導体
を含むポリビニルアルコールとその誘導体、およびポリ
ビニルアセテート；ゼラチンおよびその誘導体；カルボ
キシル化アクリル系誘導体、エチレン−アクリル酸共重
合体、およびスチレン−アクリル酸共重合体を含む、ア
ルカリを添加した際に水溶性となり得るカルボキシ化ポ
リマー；ならびにカルボキシル化誘導体を含むポリアク
リルアミドとその誘導体のうちの１つ以上を含む上記請
求項のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項４２】上記受像層の有効成分が当該受像層の
０．５ないし１００重量％を構成する上記請求項のいず
れか１項に記載の方法。 - 【請求項４３】印刷媒体通過用の開放領域および印刷媒
体遮断用の遮断領域を有するスクリーン印刷用ステンシ
ルの製造方法であって、 任意の支持基板を含む受容エレメントと、ステンシル形
成化学薬剤との反応性がある化学薬剤を含む受像層を用
意すること、 上記化学薬剤と上記ステンシル形成剤との間の反応に対
する阻害剤を、上記受像層に画像を形成するように施す
こと、上記阻害剤が施される領域が、製造されるステン
シルの開放領域に相当すること、上記ステンシル形成化
学薬剤を含む組成物をスクリーン印刷用スクリーンに施
すこと、 上記受容エレメントの受像層を上記ステンシル形成組成
物と接触させ、阻害されない化学物質を反応させて、上
記スクリーン上に、遮断ステンシル領域に相当する溶解
度のより低い領域および開放ステンシル領域に相当する
溶解度のより高い領域を有するステンシル形成層を形成
すること、 上記受容エレメントの未反応部分を除去すること、なら
びに溶解度のより高い領域のステンシル形成剤を洗い去
り、それによりスクリーン印刷用ステンシルを製造する
ことを含む方法。 - 【請求項４４】印刷媒体通過用の開放領域および印刷媒
体遮断用の遮断領域を有するスクリーン印刷用ステンシ
ルの製造方法であって、 任意の支持基板を含む受容エレメントと、少なくとも１
種の重合系成分を含む受像層を用意すること、 上記重合に対する阻害剤を上記受像層に画像を形成する
ように施すこと、 上記阻害剤が施される領域が、製造されるステンシルの
開放領域に相当すること、 重合可能物質をはじめとする重合系成分をさらに含むス
テンシル形成組成物をスクリーン印刷用スクリーンに施
すこと、 上記受容エレメントの受像層を上記ステンシル形成組成
物と接触させて、上記阻害剤によって阻害されていない
ところで上記重合を起こし、上記スクリーン上に、遮断
ステンシル領域に相当する溶解度のより低い領域および
開放ステンシル領域に相当する溶解度のより高い領域を
有するステンシル形成層を形成すること、 上記受容エレメントの未反応部分のいずれをも除去する
こと、ならびに溶解度のより高い領域のステンシル形成
組成物を洗い去り、それにより、スクリーン印刷用ステ
ンシルを製造することを含む方法。 - 【請求項４５】印刷媒体通過用の開放領域および印刷媒
体遮断用の遮断領域を有するスクリーン印刷用ステンシ
ルの製造方法であって、 任意の支持基板を含む受容エレメントと受像層を用意す
ること、 反応阻害剤を、上記受像層に画像を形成するように施す
こと、 上記阻害剤が施される領域が、製造されるステンシルの
開放領域に相当すること、 ステンシル形成化学薬剤、それと反応性がある化学薬剤
およびそれらの間の反応に対する一時的阻害剤を含む組
成物をスクリーン印刷用スクリーンに施し、その反応が
上記反応阻害剤により阻害されること、 上記受容エレメントの受像層を上記スクリーン印刷用ス
クリーンに施された組成物と接触させること、 上記一時的阻害剤を上記スクリーンに施された組成物か
ら放出させ、または放出を可能にし、それにより、反応
阻害剤によって阻害されていないところで、ステンシル
形成化学薬剤とそれと反応性がある化学薬剤とを反応さ
せ、次いでそれにより、スクリーン上に、遮断ステンシ
ル領域に対応する溶解度のより低い領域および開放ステ
ンシル領域に対応する溶解度のより高い領域を有するス
テンシル形成層を形成すること、および溶解度のより高
い領域から未反応の組成物を洗い去り、それにより、ス
クリーン印刷用ステンシルを製造することを含む方法。 - 【請求項４６】印刷媒体通過用の開放領域および印刷媒
体遮断用の遮断領域を有するスクリーン印刷用ステンシ
ルの製造方法であって、 任意の支持基板を含む受容エレメントと、ステンシル形
成化学薬剤と反応性のある化学薬剤を含む受像層を用意
すること、 受像層からの上記化学薬剤の移動を妨げるマスキング剤
を、画像を形成するように上記受像層に施すこと、 上記マスキング剤が施される領域が、製造されるステン
シルの開放領域に相当すること、 上記ステンシル形成化学薬剤を含む組成物をスクリーン
印刷用スクリーンに施すこと、 上記受容エレメントの受像層を上記ステンシル形成化学
薬剤と接触させ、マスキング剤によりマスクされていな
い領域において反応性化学薬剤とステンシル形成化学薬
剤を反応させて、上記スクリーン上に、遮断ステンシル
領域に相当する溶解度のより低い領域および開放ステン
シル領域に相当する溶解度のより高い領域を有するステ
ンシル形成層を形成すること、 上記受容エレメントの未反応部分を除去すること、なら
びに溶解度のより高い領域の第二のステンシル形成化学
薬剤を洗い去り、それにより、スクリーン印刷用ステン
シルを製造することを含む方法。 - 【請求項４７】上記受容エレメントの受像層が、ステン
シル形成化学薬剤と、それと反応性がある化学薬剤との
間の反応にあずかり、それにより、溶解度のより高い領
域から未反応組成物を洗い去った後に形成されるステン
シルにおけるステンシル形成層の一部を形成することが
できる物質を含む請求項４３ないし４６のいずれか１項
に記載の方法。 - 【請求項４８】第二の物質が受容エレメントの受像層に
滴下塗布される上記請求項のいずれか１項に記載の方
法。 - 【請求項４９】上記滴下塗布がインクジェットプリンタ
またはインクジェットプロッタによる請求項４８記載の
方法。 - 【請求項５０】上記インクジェットプリンタまたはイン
クジェットプロッタが１以上の噴出ヘッドを有する請求
項４９記載の方法。 - 【請求項５１】第一の化学薬剤が手に持った送出装置に
より受容エレメントに供給される請求項１ないし４７記
載の方法。 - 【請求項５２】さらなる再生工程を含む上記請求項のい
ずれか１項に記載の方法。 - 【請求項５３】第一の化学薬剤がホウ酸塩を含み、その
再生がｐＨ４以下で行われる請求項５２記載の方法。 - 【請求項５４】溶解度のより高い領域のステンシル形成
層を洗い去る前に、存在するいずれの支持基板をも除去
する上記請求項のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項５５】溶解度のより高い領域のステンシル形成
層を洗い去ることにより、存在するいずれの支持基板を
も除去する請求項１ないし５３のいずれか１項に記載の
方法。 - 【請求項５６】上記スクリーン印刷用ステンシルを支持
体と接触させて置き、次いで、ステンシルの開放領域を
通して印刷媒体を通過させるさらなる工程を含む上記請
求項のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項５７】請求項５６の方法によって印刷される支
持体。 - 【請求項５８】スクリーン印刷用ステンシルの製造に使
用するための被覆フィルム製品であって、任意の支持基
板と、下記の有効成分：ホウ酸；ホウ素塩、例えばＩ族
およびＩＩ族金属のホウ酸塩；アルデヒド、例えばホル
ムアルデヒド；所望により無機酸を伴うジアルデヒド、
例えばグリオキサールおよびグルタルアルデヒド；なら
びに遷移金属化合物、例えば鉄（ＩＩＩ）塩、ジルコニ
ウム塩、チタン塩、およびクロム化合物、例えばペンタ
ヒドロキシ（テトラデカノエート）ジクロミウムおよび
その誘導体のうちの１つ以上を含有する受像層とを含む
製品。 - 【請求項５９】上記受像層が下記ポリマー：水溶性セル
ロース誘導体、例えばヒドロキシプロピルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース；ポリビニルピロリドンおよびポリアクリル酸のう
ちの１つ以上を含む請求項５８記載の被覆フィルム製
品。 - 【請求項６０】上記ポリマーが受像層の総量に対し、５
ないし１００重量％の量で当該受像層に存在する請求項
５８または５９記載の被覆フィルム製品。 - 【請求項６１】上記受像層が増量剤、結合剤、界面活性
剤および可塑剤のうちの１つ以上を含む請求項５８ない
し６０のいずれか１項に記載の被覆フィルム製品。 - 【請求項６２】上記受像層が、所望により被覆される紙
を含む請求項５８記載の被覆フィルム製品。 - 【請求項６３】上記受像層が下記ポリマー：カルボキシ
ル化誘導体およびアクリルアミドをグラフトした誘導体
を含むポリビニルアルコールとその誘導体、およびポリ
ビニルアセテート；ゼラチンおよびその誘導体；カルボ
キシル化アクリル系誘導体、エチレン−アクリル酸共重
合体、およびスチレン−アクリル酸共重合体を含む、ア
ルカリを添加した際に水溶性となり得るカルボキシ化ポ
リマー；ならびにカルボキシル化誘導体を含むポリアク
リルアミドとその誘導体のうちの１つ以上を含む請求項
５８記載の被覆フィルム製品。 - 【請求項６４】上記受像層が、２０ないし９９．９モル
％の加水分解率および／または１００ないし３５００の
重合度を有するポリビニルアルコールを含む請求項６３
記載の被覆フィルム製品。 - 【請求項６５】厚さ１０ないし２００μｍの支持基板を
有する請求項５８ないし６１、および６２ないし６４の
いずれか１項に記載の被覆フィルム製品。 - 【請求項６６】上記支持基板がポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニ
ルおよびポリスチレンのうちの１つ以上を含む請求項６
５記載の被覆フィルム製品。 - 【請求項６７】上記ポリマー層の厚さが０．１ないし５
０μｍである請求項６５または６６記載の被覆フィルム
製品。 - 【請求項６８】支持基板を持たず、かつ、受像層の厚さ
が６ないし２５０μｍである請求項５８ないし６４のい
ずれか１項に記載の被覆フィルム製品。 - 【請求項６９】上記有効成分が上記ポリマー層上の別個
の表層として被覆される請求項５８ないし６８のいずれ
か１項に記載の被覆フィルム製品。 - 【請求項７０】上記表層の厚さが０．１ないし５μｍ、
好ましくは１ないし２μｍである請求項６９記載の被覆
フィルム製品。 - 【請求項７１】スクリーン印刷用ステンシルの製造に使
用するための被覆フィルム製品であって、任意の支持基
板と、フリーラジカル形成系の少なくとも１種以上の成
分を含む受像層とを含む製品。 - 【請求項７２】上記受像層がさらに、フリーラジカルの
重合工程にあずかり得る成分を含む請求項７１記載の被
覆フィルム製品。 - 【請求項７３】上記の重合可能な化合物が、所望により
重合化合物、好ましくはポリビニルアルコールにグラフ
トされるアクリルアミドである請求項７２記載の被覆フ
ィルム製品。 - 【請求項７４】上記フリーラジカル形成系成分が鉄（Ｉ
ＩＩ）イオンの供給源となる請求項７１ないし７３のい
ずれか１項に記載の被覆フィルム製品。 - 【請求項７５】プロッタのインクジェットプリンタなど
の滴下塗布装置用のプレ充填カートリッジであって、所
望により適切な溶媒または担体中に下記：不溶性ホウ酸
塩を製造するために、ホウ酸またはホウ素塩、例えばＩ
族またはＩＩ族金属のホウ酸塩と反応し得る物質；キレ
ート化剤、例えばアルキレンジアミン四酢酸またはその
誘導体、もしくはかかる化合物の２種以上の混合物；芳
香族ポリオール、好ましくはヒドロキシ置換ベンゼン誘
導体、例えばピロガロールまたはカテコールのうちの１
つ以上を含有するカートリッジ。 - 【請求項７６】スクリーンステンシルの製造においてス
クリーン印刷用メッシュの被覆に使用するための組成物
であって、フリーラジカルの重合工程にあずかって硬化
ステンシル物質を形成することができる少なくとも１種
の成分と、フリーラジカル形成系の少なくとも１種の成
分とを含む組成物。 - 【請求項７７】上記の重合可能な化合物が、所望により
重合化合物、好ましくはポリビニルアルコールにグラフ
トされるアクリルアミドである請求項７６記載の組成
物。 - 【請求項７８】上記フリーラジカル形成系成分が酸化
剤、例えば過硫酸アンモニウムである請求項７６または
７７記載の化合物。 - 【請求項７９】重合の際に上記重合生成物に組み込まれ
るさらなる物質を含む請求項７６ないし７８のいずれか
１項に記載の組成物。 - 【請求項８０】上記のさらなる物質がポリビニルアルコ
ールである請求項７９記載の組成物。 - 【請求項８１】上記の重合可能な化合物が所望により重
合化合物、好ましくはポリビニルアルコールにグラフト
されるアクリルアミドである請求項７５ないし８０のい
ずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項８２】スクリーン印刷用ステンシルの製造にお
いてスクリーン印刷用メッシュの被覆に使用するための
組成物であって、イオン性架橋反応にあずかって、メッ
シュ上に硬化ステンシル層を形成することができる少な
くとも１種の化合物と、架橋イオンの供給源と、重合反
応に対する一時的阻害剤とを含むことを特徴とする組成
物。 - 【請求項８３】上記重合反応がｐＨに感受し、かつ、一
時的阻害剤が酸である請求項８２記載の組成物。 - 【請求項８４】上記一時的阻害剤が揮発性である請求項
８３記載の組成物。 - 【請求項８５】上記一時的阻害剤が酢酸である請求項８
４記載の組成物。 - 【請求項８６】上記イオン供給源が、より高い酸化状態
まで酸化することができる遷移金属イオンの供給源であ
る請求項８２ないし８５のいずれか１項に記載の組成
物。
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