JPH11241516A - 工場、研究所等の施設 - Google Patents

工場、研究所等の施設

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JPH11241516A
JPH11241516A JP4009798A JP4009798A JPH11241516A JP H11241516 A JPH11241516 A JP H11241516A JP 4009798 A JP4009798 A JP 4009798A JP 4009798 A JP4009798 A JP 4009798A JP H11241516 A JPH11241516 A JP H11241516A
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JP
Japan
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building
facility
unit
facilities
units
Prior art date
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Pending
Application number
JP4009798A
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English (en)
Inventor
Hachiro Yamamoto
八郎 山本
Shinichi Shigihara
新一 鴫原
Kosaku Shimamura
耕作 嶋村
Masayuki Ikariya
雅之 碇屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taisei Corp
Original Assignee
Taisei Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】従来の工場、研究所等の施設では、a.建物の
規模が大きく、多くの要求機能が建物全体に対して要求
されるため、建設費が高い、b.建設当初に、将来の増
設スペースを建物内に確保しなければならないので、先
行投資が多いというような課題がある。 【解決手段】そこで本発明では、製造、研究等において
要求される必要最小限の機能を集約した建物単位1を適
数配置し、それらの建物単位間に人や物を移動するため
の通路単位2を設置して工場、研究所等の施設全体を構
成する。建物単位の少なくとも一つは、他の建物単位へ
の熱源、水源の供給、他の建物単位の事務所、制御室、
従業員のための施設等の機能を適宜集約した共通施設1
d,1k,1pとして構成することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、工場、研究所等の
施設に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近来、工場における製造施設は、効率を
よくすることと、製造数を増やすことを目的として施設
が大型化してきており、それに従って建物も大型化して
きている。それらの建物には、製造物や製造工程等に応
じて、以下に示すような様々な機能が要求される。 a.温湿度・清浄度・菌数・アウトガスが制御された空
調設備 b.耐震・耐荷重の構造 c.振動制御された構造・設備 d.耐薬品性能・耐摩耗性能・無発塵性能・導電性能・
防水性能・気密性能・防災性能を持った仕上材
【0003】従来の工場施設では、各製造工程等で要求
されるこれらの機能を建物の全域にわたって実現してい
るケースが多い。
【0004】従来の工場施設では、また、将来の増設を
考慮した建物を要求されるケースも多く、この場合に
は、既存施設との連携を求めるため、建設当初に、将来
の増設スペースを建物内に確保している。そのため、建
屋の構造及び外装は、増設スペースを含めて当初、先行
して建設しておき、内装及び設備は将来の増設時に建設
する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】以上に説明した従来の
工場施設では、以下に示す課題がある。 a.建物の規模が大きくなり、また上述した多くの要求
機能が建物全体に対して要求されるため、建設費が高
い。 b.建設当初に、将来の増設スペースを建物内に確保し
なければならないので、先行投資が多い。 本発明はこのような課題を解決することを目的とするも
のである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために本発明では、製造、研究等において要求される必
要最小限の機能を集約した建物単位を適数配置し、それ
らの建物単位間に人や物を移動するための通路単位を設
置して構成する工場、研究所等の施設を提案する。
【0007】また本発明では上記の構成において、通路
単位と建物単位を接続するための接続単位を構成するこ
とを提案する。そして、接続単位には、建物単位の出入
口に対応して防火扉を構成することを提案する。
【0008】また本発明では上記の構成において、建物
単位の少なくとも一つを、他の建物単位への熱源、水源
の供給、他の建物単位の事務所、制御室、従業員のため
の施設等の機能を適宜集約した共通施設として構成する
ことを提案する。
【0009】また本発明では上記の構成において、建物
単位の少なくとも一つを、施設紹介のためのプレゼンテ
ーション施設として構成することを提案する。
【0010】また本発明では上記の構成において、建物
単位の外部に、設備を設置するための設備単位を配置す
ることを提案する。
【0011】更に本発明では上記の構成において、通路
単位に、建物単位内を見学可能な廊下を構成することを
提案する。
【0012】以上の本発明においては、建物単位は、平
屋建ての構成、複数階建ての構成、またはこれらの構成
を混在させることができる。
【0013】以上の本発明によれば、各建物単位間の人
と物の移動を通路単位により行うことができ、工場、研
究所等の施設全体を、各工程等、要求される機能が異な
る複数の建物単位の有機的な集合体として構成すること
ができる。
【0014】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図を参
照して説明する。図1は本発明を適用した工場、研究所
等の施設の実施の形態を示す平面図であり、また図2は
図1の施設の要素のうち、便宜的に通路単位のみを表し
た平面図である。この施設は例えばクリーンルームを有
する施設である。符号1(1a,1b,…,1n,1
p)は建物単位であり、これらの建物単位1は製造物や
製造工程等毎に要求される必要最小限の機能を集約して
建築したものである。この場合、要求される機能は上述
したように、 a.温湿度・清浄度・菌数・アウトガスが制御された空
調設備 b.耐震・耐荷重の構造 c.振動制御・微震動制御された構造・設備 d.耐薬品性能・耐摩耗性能・無発塵性能・導電性能・
防水性能・気密性能・防災性能を持った仕上材 等であり、各建物単位1毎に、これらの機能のうちから
必要最小限の機能を選択して建築する。例えば建物が医
薬品製造施設の場合には、a.清浄度、b.菌数、c.
耐薬品性能、d.天井高、e.耐荷重等の建築グレード
に合せたクリーンルームを構成する。即ち、各建物単位
1毎に建築グレードを最小限に抑えて建築を行う。例え
ば、ある建物単位では機能aとbを集約し、またある建
物単位では機能c、dを満たすように建築する等であ
る。
【0015】これらの建物単位1は、全てが工場、研究
所等における製造工程そのものに対する建物ばかりでな
く、少なくとも一つを、他の建物単位へ供給するための
熱源、水源としての機能、他の建物単位の事務所、制御
室、従業員のための施設等の機能を適宜集約した共通施
設として構成することができる。例えば図1の実施の形
態では、図中斜線を付した建物単位1d,1k,1p
は、このような共通施設、即ち、インフラステーション
として構成している。また建物単位1は、このような共
通施設の他、外部の人が見学できる見学施設や施設等紹
介のためのプレゼンテーション施設として構成すること
もできる。インフラステーションとしての建物単位1
d,1k,1pは、例えば、他の各建物単位1において
必要とされる熱源、水源の供給や、事務所や制御センタ
ー等としての機能や、従業員のための施設、例えば更衣
室、休憩室やトイレ等の施設を有する構成である。また
これらの建物単位1d,1k,1pは、隣接する建物単
位1をガラス越しに見学するための施設として利用する
こともできる。
【0016】以上の各建物単位1を必要な数だけ敷地内
に配置し、それらの建物単位1間に人や物を移動するた
めの通路単位2を設置する。図1、図2の実施の形態で
は、通路単位2は、図中左右方向に延びる長手方向通路
2xと、この長手方向通路2xを横切って左右側に延び
る幅方向通路2yとから構成している。尚、建物単位1
は全て平屋建ての構成としたり、又は全て複数階建ての
構成としたり、又は平屋建てと複数階建てのものを混在
させることができる。
【0017】図3は通路単位2の具体的な実施の形態を
示す横断面図である。この通路単位2は通路空間3を構
成しており、この通路空間3は、例えばクリーン環境の
廊下を構成している。また通路空間3の天井側にはクリ
ーン環境での資材、半製品又は製品等を自動で移動する
ための移動装置4を天井からの支持により設置してい
る。更に天井側にはパイプラック5を構成しており、1
階の床下地中にはインフラ配管6用の箱形暗渠7を構成
している。このような構成の通路単位2により、各建物
単位1間の人や物の移動、熱源、水源、エネルギの供給
等を行うことができる。
【0018】次に図4は上記通路単位2と建物単位1と
を有機的に接続するための接続単位8の部分を水平面で
切断した断面図として示すもので、この接続単位8は、
通路単位2において建物単位1との対応個所に構成す
る。この接続単位8は建物単位1の出入口に対応して開
口部9を構成しており、この開口部9にはシャッターや
ダンパー等の防火扉10を設けており、その近傍の構造
部分を耐火構造部11として構成している。また接続単
位8において通路ユニット2側の開口部9′を伸縮接続
機構13により接続している。このような構成では防火
区画の長さを最小限に抑えることができるので、コスト
の低減を計ることができる。
【0019】再び、図1に戻り、符号12(12a,
…,12r)は例えば空調設備等の設備を設置するため
の設備単位であり、これらの設備単位12は、この実施
の形態では、インフラステーションとしての建物単位1
d,1k,1p以外の建物単位1において、通路単位2
とは逆側に隣接して設置している。この設備単位12
は、インフラステーションとしての建物単位1d,1
k,1pを除く各建物単位1に隣接して構成しているの
で、設備設置用としてのみならず、人が通行可能な一般
廊下として利用し得るように構成することができ、この
一般廊下は建物単位1の内部の見学用として利用するこ
とができる。この設備単位12は建物として構成せず、
屋外施設として鉄骨架台等により簡易に構築することも
できるので構築コストが大幅に低減できる。
【0020】本発明では、以上の建物単位1と、通路単
位2と、接続単位8、設備単位12等を適宜に組み合わ
せ、配置して工場全体を構成することができる。即ち、
必要最小限の機能を集約した建物単位1を適数選択する
と共に、それらを通路単位2により接続するように配置
することにより、工場全体を構成することができる。こ
のため後述するような数々の効果を奏するのである。
【0021】上述したとおり、建物単位1は、平屋建て
の構成、複数階建ての構成、またはこれらの構成を混在
させることができ、また、それらの形状や配置パターン
も適宜である。そして通路単位2、接続単位8、設備単
位12も、建物単位1の構成に応じて適宜に構成するこ
とができる。例えば図5、図6は、本発明を適用した施
設における建物単位1の配置パターンの他の実施の形態
を例示するものである。
【0022】尚、本発明の施設における見学者対応シス
テムは、上述したものを含め、次のように構成すること
ができる。 a.インフラステーションとしての建物単位に隣り合っ
ている建物単位の内部をガラス窓越しに見学する。 b.屋外をシャトルバス等で希望の建物単位に移動し、
設備単位に構成した一般廊下から建物単位の内部を見学
する。 c.建物単位により、施設紹介のための機能を含めたゲ
スト用施設を設置する。
【0023】以上の本発明を適用し得る工場、研究所等
の施設としては、例えば、次のものが挙げられる。 a. 一般工場 b.クリーンルームを有する工場、研究施設 c.食品関連工場、研究施設 d.医薬品関連工場、研究施設 e.半導体関連工場、研究施設
【0024】
【発明の効果】本発明は以上のとおりであるので、次の
ような効果がある。 a.製造物や製造工程等に応じて要求される各種の機能
を、工場全体又は工場の大部分を構成する建物全域に設
備するのではなく、必要最小限の機能のみを集約した建
物単位を選択し、これを適宜に配置した集合体として工
場全体を構成するので、建設費を低減することができ
る。 b.将来必要となる施設部分は、予め建設するのではな
く、将来、必要となった時点で建設すれば良いので、先
行投資が少なくて済む。 c.大型の工場を建設するのではなく、いわば小さな工
場の部分を同時に建設することができるので、建設期間
を短縮することができる。 d.上述したとおり、将来必要となる施設部分のスペー
スを予め先行して建設しなくて済むため、工場等の改
造、増設に対する自由度が大きくなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明を適用した工場、研究所等の施設の実
施の形態を示す平面図である。
【図2】 図1の施設の要素のうち、便宜的に通路単位
のみを表した平面図である。
【図3】 図3は通路単位2の具体的な実施の形態を示
す横断面図である。
【図4】 接続単位の部分を水平面で切断して表した断
面図である。
【図5】 本発明を適用した工場、研究所等の施設の他
の実施の形態を示す俯瞰図である。
【図6】 本発明を適用した工場、研究所等の施設の他
の実施の形態を示す平面図である。
【符号の説明】
1 建物単位 2 通路単位 3 通路空間 4 移動装置 5 パイプラック 6 インフラ配管 7 箱形暗渠 8 接続単位 9 開口部 10 防火扉 11 耐火構造壁 12 設備単位 13 伸縮接続機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 碇屋 雅之 東京都新宿区西新宿一丁目25番1号 大成 建設株式会社内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 製造、研究等において要求される必要最
    小限の機能を集約した建物単位を適数配置し、それらの
    建物単位間に人や物を移動するための通路単位を設置し
    て構成することを特徴とする工場、研究所等の施設
  2. 【請求項2】 通路単位と建物単位を接続するための接
    続単位を構成することを特徴とする工場、研究所等の施
  3. 【請求項3】 接続単位には、建物単位の出入口に対応
    して防火扉を構成することを特徴とする請求項2記載の
    工場、研究所等の施設
  4. 【請求項4】 建物単位の少なくとも一つを、他の建物
    単位への熱源、水源の供給、他の建物単位の事務所、制
    御室、従業員のための施設等の機能を適宜集約した共通
    施設として構成することを特徴とする請求項1記載の工
    場、研究所等の施設
  5. 【請求項5】 建物単位の少なくとも一つを、施設紹介
    のためのプレゼンテーション施設として構成することを
    特徴とする請求項1記載の工場、研究所等の施設
  6. 【請求項6】 建物単位の外部に、設備を設置するため
    の設備単位を配置することを特徴とする請求項1記載の
    工場、研究所等の施設
  7. 【請求項7】 通路単位に、建物単位内を見学可能な廊
    下を構成することを特徴とする請求項1記載の工場、研
    究所等の施設
  8. 【請求項8】 建物単位は平屋建ての構成としたことを
    特徴とする請求項1〜7までのいずれか1項に記載の工
    場、研究所等の施設
  9. 【請求項9】 建物単位は複数階建ての構成としたこと
    を特徴とする請求項1〜7までのいずれか1項に記載の
    工場、研究所等の施設
  10. 【請求項10】 建物単位は平屋建てと複数階建ての構
    成を混在させることを特徴とする請求項1〜7までのい
    ずれか1項に記載の工場、研究所等の施設
JP4009798A 1998-02-23 1998-02-23 工場、研究所等の施設 Pending JPH11241516A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011069098A (ja) * 2009-09-25 2011-04-07 Nomura Research Institute Ltd データセンター
US11859403B2 (en) 2016-03-10 2024-01-02 Lonza Ltd Customizable facility

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011069098A (ja) * 2009-09-25 2011-04-07 Nomura Research Institute Ltd データセンター
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