JPH11224899A - 半導体集積回路のレイアウト方法 - Google Patents

半導体集積回路のレイアウト方法

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JPH11224899A
JPH11224899A JP10025267A JP2526798A JPH11224899A JP H11224899 A JPH11224899 A JP H11224899A JP 10025267 A JP10025267 A JP 10025267A JP 2526798 A JP2526798 A JP 2526798A JP H11224899 A JPH11224899 A JP H11224899A
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英樹 三島
Shinichi Kumashiro
慎一 熊代
Hiroko Mitsuyasu
裕子 光安
Makoto Tanaka
田中  誠
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 マスタースライス方式のように配線領域が固
定化された半導体集積回路上に配線を行う場合におい
て、配線不能領域の発生を防止して未配線の数を減少さ
せ、配線を行う経路の検索範囲を限定することによって
経路検索の処理時間を短縮させる、半導体集積回路のレ
イアウト方法を得る。 【解決手段】 回路基板上を複数のユニットに区分けし
て、同一ユニット内に含まれた端子を対象として配線経
路の検索を行った後に同一ユニット内の端子間の配線を
行うユニット内配線工程101と、同一行にあるユニッ
トで構成されたブロック行内に含まれた端子を対象とし
て配線経路の検索を行った後にブロック行内の端子間の
配線を行うブロック行内配線工程102と、回路基板上
において配線が残っている端子を対象として配線経路の
検索を行った後に端子間の配線を行う工程103とを備
えた半導体集積回路のレイアウト方法とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路の
レイアウト方法に関し、詳しくは、コンピュータを利用
して設計を行う半導体集積回路のレイアウト方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体集積回路の分野では、多品
種少量生産化が顕著であり、開発製造期間の短縮が求め
られている。そこで、半導体集積回路のレイアウト方法
においては、コンピュータを利用したレイアウト設計の
自動化が進んでいる。このようなレイアウト設計の自動
化は、アナログICの分野でも進んでおり、最近では、
トランジスタ、抵抗および容量といった素子を予めチッ
プ上に配置しておき、配線工程だけを設計することで目
的の機能を実現するという、アナログマスタースライス
が開発されている。以下、このアナログマスタースライ
スにおける従来のレイアウト方法について説明する。
【0003】図14は、従来技術に係る半導体集積回路
のレイアウト方法であるアナログマスタースライスにお
ける配線工程のフローチャートを示したものである。こ
の従来技術によれば、まず、ステップ1401におい
て、配線の終了していないネットが一つ選択される。次
に、ステップ1402において、選択されたネットを構
成する各端子間の配線が行われる。次に、ステップ14
03において、全てのネットの配線が終了しているか否
かの判断を行う。ここで、全てのネットの配線が終了し
ていれば(ステップ1403において「Yes」と判断
されれば)、配線工程は終了するが、全てのネットの配
線が終了していなければ(ステップ1403において
「No」と判断されれば)、再びステップ1401に戻
って、配線工程が繰り返し行なわれる。
【0004】以上の図14に示された配線工程のフロー
チャートに従って自動配線を行う場合には、通常、チッ
プ上に配線グリッドを付加する。この場合、配線グリッ
ド上に配線を行えば、配線間隔などのマスク設計上のデ
ザインルールが満たされるような構成となっている。ま
た、半導体チップは2層以上のアルミ配線により配線を
行うが、自動配線の場合には、配線層ごとに配線方向が
固定されており、横方向の配線は1層アルミを使用し、
縦方向の配線は2層アルミを使用するものとして、配線
処理を容易にしている。1層アルミと2層アルミとの配
線間は、通常、ビアによって接続される。そして、素子
の端子はすべて1層アルミに存在するものとし、素子の
上であっても端子、ビア、他の配線などの障害がない領
域であれば、配線は自由に通ることができるものとす
る。
【0005】このようなチップに対して、従来技術に係
るアナログマスタースライス方式のレイアウト方法にお
いては、チップ上の素子数が少ないために、階層的な設
計方法が取られず、迷路法を基本とする配線手法を用い
て配線を行う方法が主に行われている。ここで、迷路法
とは、ある始点から波紋が広がるような順序で配線グリ
ッドの格子点に、始点からの距離をラベルとして付けて
いくことにより、全方向の配線経路を求める方法であ
り、配線経路があれば必ず最短のものを見つけるという
特徴を有している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来技術に係るレイアウト方法においては、マスタース
ライス方式のように配線領域が固定された半導体集積回
路に配線を行う場合、従来の迷路法のような配線手法を
利用した自動配線を行うと、以下のような問題が生ず
る。
【0007】まず、チップ上の配線領域を広げることが
できないために、各ネットの配線を順番に最短経路で行
うと、素子の混雑した部分に配線が集中してしまい、後
から行う配線が通れなくなる可能性が高い。そうする
と、配線を行うことが不可能な領域(以下、「配線不能
領域」という。)が発生して自動配線ができなくなり、
未配線の数が増加してしまう。
【0008】また、自動配線を行う際に、素子の端子周
辺および端子上を他の素子に接続するネットの配線が通
過すると、端子から配線を引き出すことができなくな
り、配線がそれほど混雑していない場合でも、未配線に
なってしまうことがある。これの解決策としては、従
来、端子周辺に端子候補点を設定し、その部分を他の配
線が通れないようにする考えがあったが、端子候補点を
設定するだけでは端子から配線が引き出せるかどうかは
保証できない。
【0009】さらに、迷路法のようなチップ全面を対象
にした配線手法を用いると、経路の検索範囲が非常に広
くなり、処理時間が長くなる傾向にある。そこで、本発
明は、このような課題を解決するためになされたもの
で、マスタースライス方式のように配線領域が固定化さ
れた半導体集積回路上に配線を行う場合において、素子
の混雑した部分における配線の集中を緩和するととも
に、端子から配線を引き出す領域を確保することによっ
て、配線不能領域の発生を防止して未配線の数を減少さ
せることが可能であり、同時に、配線を行う経路の検索
範囲を限定することによって、経路検索の処理時間(計
算時間)の短縮を可能とする、半導体集積回路のレイア
ウト方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る第一の半導体集積回路のレイアウト方法
は、回路基板上に複数の素子を配設し、前記素子の有す
る各端子を配線して構成された半導体集積回路のレイア
ウト方法において、前記回路基板上を複数のユニットに
区分けして、同一ユニット内に含まれた前記端子を対象
として配線経路の検索を行った後に同一ユニット内の端
子間の配線を行うユニット内配線工程と、同一行にある
ユニットで構成されたブロック行内に含まれた前記端子
を対象として配線経路の検索を行った後に前記ブロック
行内の端子間の配線を行うブロック行内配線工程と、前
記回路基板上において配線が残っている端子を対象とし
て配線経路の検索を行った後に前記端子間の配線を行う
工程とを備えたことを特徴とする。
【0011】この第一の半導体集積回路のレイアウト方
法によれば、まず、各ユニット内の配線を行った後に、
ユニット間(ブロック行内)の配線を行い、各ブロック
行内の配線を行った後に、ブロック行間(回路基板全
体)の配線を行っている。したがって、ユニット間を接
続する配線がユニット内の端子間の配線の障害となるこ
とはなく、また、ブロック行間を接続する配線がブロッ
ク行内の端子間の配線の障害となることもないので、未
配線を減少させることが可能となる。さらに、はじめは
配線経路の検索範囲を小さく設定し、その範囲を徐々に
階層的に大きくしていくことによって最終的に回路基板
上の全体の配線を行っているので、従来のように、はじ
めから回路基板上の全体を対象としたレイアウト方法と
比較すると、より短い処理時間で配線を行うことが可能
となる。
【0012】また、本発明に係る第二の半導体集積回路
のレイアウト方法は、回路基板上に複数の素子を配設
し、前記素子の有する各端子を配線して構成された半導
体集積回路のレイアウト方法において、前記各端子の配
線を行う前にそれぞれの端子の周辺に、各端子に接続さ
れる配線以外の配線の通過を禁止する領域を設定する配
線禁止領域設定工程と、前記各端子についての配線が終
了した後、その端子についての前記配線禁止領域の設定
を解除する配線禁止領域解除工程とを備えたことを特徴
とする。
【0013】この第二の半導体集積回路のレイアウト方
法によれば、前記各端子の配線を行う前に、それぞの端
子に対して前記配線禁止領域を設定しているので、前記
各端子からの配線が引き出し不能となることはなく、未
配線を減少させることができる。また、前記各端子につ
いての配線が終了した後、その端子についての配線禁止
領域の設定が解除されるので、その後は、その領域(元
配線禁止領域)も他の端子の配線に利用することが可能
であり、前記配線禁止領域を追加することによって、未
配線が増加するということはない。
【0014】また、本発明に係る第三の半導体集積回路
のレイアウト方法は、回路基板上に複数の素子を配設
し、前記素子の有する各端子を配線して構成された半導
体集積回路のレイアウト方法において、前記回路基板上
を複数のユニットに区分けして、同一ユニット内に含ま
れた前記端子を対象として配線経路の検索を行った後に
同一ユニット内の端子間の配線を行うユニット内配線工
程と、同一行にあるユニットで構成されたブロック行内
に含まれた前記端子を対象として配線経路の検索を行っ
た後に前記ブロック行内の端子間の配線を行うブロック
行内配線工程と、前記回路基板上において配線が残って
いる端子を対象として配線経路の検索を行った後に前記
端子間の配線を行う工程と、前記各端子の配線を行う前
にそれぞれの端子の周辺に、各端子に接続される配線以
外の配線の通過を禁止する領域を設定する配線禁止領域
設定工程と、前記各端子についての配線が終了した後、
その端子についての前記配線禁止領域の設定を解除する
配線禁止領域解除工程とを備えたことを特徴とする。
【0015】この第三の半導体集積回路のレイアウト方
法によれば、各ユニット内の配線を行った後に、ユニッ
ト間(ブロック行内)の配線を行い、各ブロック行内の
配線を行った後に、ブロック行間(回路基板全体)の配
線を行っているので、ユニット間を接続する配線がユニ
ット内の端子間の配線の障害とならず、また、ブロック
行間を接続する配線がブロック行内の端子間の配線の障
害とならない。また、前記各端子の配線を行う前に、そ
れぞの端子に対して前記配線禁止領域を設定しているの
で、前記各端子からの配線が引き出し不能となることが
なく、適宜、前記配線禁止領域の解除を行うことによ
り、前記配線禁止領域を追加することによって、未配線
が増加するということはない。したがって、効率的な配
線を行うことが可能となり、未配線を減少させることが
できる。さらに、はじめは配線経路の検索範囲を小さく
設定し、その範囲を徐々に階層的に大きくしていくこと
によって最終的に回路基板上の全体の配線を行っている
ので、従来のように、はじめから回路基板上の全体を対
象としたレイアウト方法と比較すると、より短い処理時
間で配線を行うことが可能となる。
【0016】さらに、第一または第三の半導体集積回路
のレイアウト方法においては、前記ユニット内配線工程
において、適当な配線経路が見つからなかった端子につ
いては、この工程以降の工程で配線を行うことが好まし
く、前記ブロック行内配線工程において、適当な配線経
路が見つからなかった端子については、この工程以降の
工程で配線を行うことが好ましい。
【0017】さらに、第二または第三の半導体集積回路
のレイアウト方法においては、前記配線禁止領域設定工
程において、前記配線禁止領域内にビア配置候補点を設
け、前記各端子の配線を行う際にビアが必要な場合に
は、前記各端子に対する前記配線禁止領域内の前記ビア
配置候補点にのみビアを設けることが好ましい。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図12は、アナログマスタースラ
イス方式における半導体集積回路(以下、「チップ」と
もいう。)の構造図を示したものである。図12に示さ
れたチップはユニット構造になっており、基板中の周辺
(周縁)部分には、信号を入出力するための複数のI/
Oパッド1201が設けられ、この複数のI/Oパッド
1201で囲まれた(基板中の内側)部分には、複数の
ユニット1202が設けられている。各ユニット120
2には、各種の素子が規則的に配置されており、ユニッ
ト1202を横方向に複数個並べて、ブロック行120
3が構成されている。そして、チップは、ブロック行1
203を縦に複数段並べることによって、構成されてい
る。
【0019】図13は、図12に示されたチップを構成
しているユニットの構造図の一例を示したものである。
このユニットは、複数の抵抗素子1301と、複数のト
ランジスタ1302とを用いて構成されている。また、
ユニットの右縁部分には抵抗素子が複数個並べられた領
域1303が存在する。この図13に示されたユニット
においては、ユニット内に配置されていても実際に利用
しない抵抗素子の上は配線領域として利用できる。そし
て、この領域1303に存在する抵抗素子は、基本的に
あまり利用されない部分であるので、領域1303は主
に配線のために利用される。以下、このような領域13
03を、配線用チャネル領域1303という。さらに、
このユニット中においては、配線用チャネル領域130
3以外の領域であっても、抵抗素子1301およびトラ
ンジスタ1302が設けられていない領域については、
配線領域として利用することができる。したがって、本
実施形態において、「配線領域」という場合は、配線用
チャネル領域1303のみならず、ユニット内における
抵抗素子1301およびトランジスタ1302が設けら
れていない領域をも含む。
【0020】以下、本発明の実施の形態に係る半導体集
積回路のレイアウト方法を、以上の図12および図13
に示されたチップ構造を対象として、図面を用いて説明
する。
【0021】〈第一の実施形態〉図1は、本発明の第一
の実施形態に係る半導体集積回路のレイアウト方法にお
ける配線工程のフローチャートを示したものである。本
実施形態において、各種の素子が配設されるチップ上
は、複数のユニットに区分けされている。そして、ま
ず、ステップ101において、チップを構成している各
ユニット内の配線が行なわれる。ここでは、各ユニット
について、ユニット内に含まれる素子同士を接続するネ
ットの配線が行なわれる。次に、ステップ102におい
て、複数のユニットで構成されている、チップ上の同一
ブロック行内の配線が行なわれる。すなわち、ここで
は、同一ブロック行内において、一つのブロック行を構
成している各ユニット同士およびブロック行内の素子同
士を接続するネットの配線が行なわれる。次に、ステッ
プ103において、残りの配線(まだ接続されていない
ものの配線)、すなわち、チップを構成しているそれぞ
れのブロック行同士およびチップ内の素子同士の配線が
行なわれる。
【0022】以上のように、本実施形態においては、ま
ず第一にユニット内の素子同士の配線が行われ、第二に
同一ブロック行内の素子同士の配線が行われ、第三にチ
ップ全体についての配線が行なわれる。すなわち、本実
施形態においては、このように、配線を行う際の検索範
囲を徐々に階層的に広げいくことによって、チップ上に
規則的に配設された各素子の配線が行なわれる。したが
って、本実施形態によれば、はじめは配線経路の検索範
囲を小さく設定し、その範囲を階層的に徐々に大きくす
ることによって、最終的にチップ全面についての配線を
行っているので、従来の迷路法のように、はじめからチ
ップ全面を対象にした配線手法と比較すると、処理時間
を短縮することが可能となる。
【0023】図2は、図1における配線工程のフローチ
ャートに従って、ある一つのチップ上に配線を行なう場
合の配線工程の一例を示した図である。図2(a)は、
チップ(を構成する各ユニット)上に配設されている各
素子の端子を示した図である。この図2(a)において
は、チップが複数のユニット(第一のユニット211、
第二のユニット212、第三のユニット213、第四の
ユニット214、第五のユニット215および第六のユ
ニット216)に区分けされており、第一のユニット2
11中に第一の端子201および第二の端子202が設
けられ、第四のユニット214中に第三の端子203お
よび第四の端子204が設けられ、第五のユニット21
5中に第五の端子205および第六の端子206が設け
られ、第六のユニット216中に第七の端子207が設
けられている。ここで、第一の端子201から第七の端
子207は、このチップ上においてネットを構成するよ
うに接続されるべき各素子の端子である。
【0024】以下、図2(b)〜図2(d)を用いて、
図1のステップ101以降についての配線工程を説明す
る。 (ユニット内の配線)図2(b)は、図1のステップ1
01によって各ユニット内の配線を行った後の状態を示
した図である。このステップ101においては、各ユニ
ット内のみの配線が行なわれるため、それぞれのユニッ
トが配線検索範囲となり、各素子の端子を有するユニッ
トごとに、配線経路の検索および実際の配線が行なわれ
る。なお、この際、各ユニット内において、適当な配線
経路が見つからなかった場合には、これらの端子間の配
線は行われず、その間の配線については、その後のステ
ップに持越しとなる。ここで、「適当な配線経路」と
は、配線禁止領域を回避して各端子間を配線し得る経路
の中で、より好ましい(配線長が短い等の)配線経路で
ある。また、ユニット内に端子が一つしか存在しない場
合には、このステップにおいて、そのユニット内での配
線は行われない。
【0025】例えば、この図2(b)においては、第一
のユニット211および第五のユニット215は、適当
な配線経路が見つかった状態を示したおり、第四のユニ
ット214は、適当な配線経路が見つからなかった状態
を示している。具体的に説明すると、第一のユニット2
11中の第一の端子201と第二の端子202との間に
おいては、適当な配線経路が見つかり、これらの端子間
は第一の配線221で接続され、第五のユニット215
中の第五の端子205と第六の端子206との間におい
ても、適当な配線経路が見つかり、これらの端子間は第
二の配線222で接続されている。一方、第四のユニッ
ト214中の第三の端子203と第四の端子204との
間には、適当な配線経路が見つからなかったので、この
ステップにおいて、第三の端子203と第四の端子20
4との配線は行われない。また、第六のユニット216
については、この第六のユニット216内に第七の端子
207以外の端子は存在しないので、このステップにお
いて、第七の端子207の配線は行われない。
【0026】ここで、以上に説明したステップ101に
おけるユニット内の配線工程を、フローチャートに基づ
いて、さらに詳細に説明する。図3は、図1のステップ
101によって行われるユニット内の配線工程のフロー
チャートを示したものである。
【0027】まず、ステップ301において、ネットリ
ストが作成されていないユニットが、チップ全体の中か
ら選択される。次に、ステップ302において、選択さ
れたユニット内のネットリストが作成される。ここで
は、チップ全体のネットリストから、選択されたユニッ
ト内に含まれる素子端子に接続する部分(ネット)だけ
が取り出され、それに基づいてユニット内のネットリス
トが作成される。次に、ステップ303において、全て
のユニットについてのネットリストが完成しているか否
かの判断が行われる。ここで、全てのユニットについて
のネットリストが完成していれば(ステップ303にお
いて「Yes」と判断されれば)、次のステップに進
み、そうでなければ(ステップ303において「No」
と判断されれば)、再びステップ301に戻って各ユニ
ットについてのネットリストの作成が行われる。次に、
ステップ304において、各ユニットの配線を行う際の
優先順位を決定する。ここでは、各ユニットのネットリ
ストに基づいて、短いネットが遠回りすることを防止す
るために、基本的には、配線長の短いものから配線を行
うように、優先順位が決定されている。ただし、それぞ
れのユニットには、重要性の軽重が存在するので、それ
らも考慮した上で、配線を行う際の最終的なユニットの
優先順位が決定される。
【0028】次に、ステップ305において、未配線の
ユニットの中で優先順位が最高位のユニットの選択が行
われる。次に、ステップ306において、選択されたユ
ニットについての配線が行われる。ここでは、配線手法
として、迷路法やラインサーチなどの一般的な手法を用
いることができるが、配線を行う際の検索範囲をユニッ
ト内に限定しているので、処理時間を短縮することが可
能になるとともに、配線が遠回りして他のユニットの配
線に影響するのを防いでいる。次にステップ307にお
いて、そのユニット内の配線配線が全て終了しているか
否かの判断が行われる。ここで、全てのユニット内の配
線が全て終了していれば(ステップ307において「Y
es」と判断されれば)、次のステップに進み、そうで
なければ(ステップ307において「No」と判断され
れば)、再びステップ306に戻ってユニット内の配線
が繰り返し行われる。次に、ステップ308において、
チップ上の全てのユニットについての配線が終了してい
るか否かの判断が行われる。ここで、全てのユニットに
ついての配線が終了していれば(ステップ308におい
て「Yes」と判断されれば)、この工程(図1のステ
ップ101におけるユニット内の配線工程)は終了する
が、そうでなければ(ステップ308において「No」
と判断されれば)、再びステップ305に戻って、配線
の終了していないユニットを選択し、そのユニットにつ
いての配線工程が行われる。
【0029】なお、このユニット内の配線工程を行う場
合には、ユニット内に配置されてはいるが、適当な配線
経路が存在しないために、この工程では配線を見送り、
この工程以降で配線を行うことが好ましい素子端子も存
在する。このような素子端子については、ステップ30
2において、この工程における配線を行う各ユニット内
のネットリストから除外することが好ましい。
【0030】(ブロック行内の配線)図2(c)は、図
1のステップ102によって各ブロック行内の配線を行
った後の状態を示した図である。この図2(c)におい
て、第一のユニット211、第三のユニット213およ
び第五のユニット215から第一のブロック行217が
形成され、第二のユニット212、第四のユニット21
4および第六のユニット216から第二のブロック行2
18が形成されている。ステップ102においては、各
ブロック行内のみの配線が行なわれるため、それぞれの
ブロック行内が配線検索範囲となり、各ブロック行ごと
に、配線経路の検索および実際の配線が行なわれる。し
たがって、ステップ101において適当な配線経路が見
つからなかった端子、およびブロック行を構成している
各ユニットについての配線経路の検索等が、このステッ
プ102で行なわれる。なお、この際、各ブロック行内
に存在する端子あるいはユニットに、適当な配線経路が
見つからなかった場合には、これらについての配線は行
われず、その間の配線は、その後のステップに持越しと
なる。
【0031】例えば、この図2(c)の第一のブロック
行217内においては、第一のユニット211中の第二
の端子202と、第五のユニット215中の第二の配線
222とが、第一のユニット211と第三のユニット2
13と第五のユニット215との間に連続して存在する
第三の配線223を介して接続される。また、第二のブ
ロック行218内においては、ステップ101(図2
(b)参照)で配線を持ち越されていた、第三の端子2
03、第四の端子204および第七の端子207につい
ての配線経路の検索が行なわれる。そして、これらの端
子についての第二のブロック行218内における適当な
配線経路の検索の結果、それぞれの端子203,20
4,207は、第四の配線224を介して接続される。
なお、本実施形態においては、配線の検索範囲を第二の
ブロック行218内に拡大したことによって、第三の端
子203、第四の端子204および第七の端子207に
ついての適当な配線経路を見つけることができた場合に
ついて説明したが、仮にこのステップにおいても適当な
配線経路を見つけることができなければ、これらの端子
についての配線は、次のステップに持ち越される。
【0032】なお、ここでは、以上に説明したステップ
102におけるブロック行内の配線工程についてのフロ
ーチャートによる詳細な説明は省略するが、基本的に
は、図3を用いて説明したステップ101におけるユニ
ット内の配線工程と同様である。すなわち、図3におい
て、各ユニットに対して行われている処理を、各ブロッ
ク行に対して行われるものと考えれば(ユニットをブロ
ック行に置き換えれば)、ステップ102におけるブロ
ック行内の配線工程についてのフローチャートとして、
図3を見ることができる。本工程においては、配線を行
う際の検索範囲をブロック行内に限定した上で、このよ
うなフローチャートに基づいて、各ブロック行内の配線
工程が行われる。
【0033】(残りの配線)図2(d)は、図1のステ
ップ103によって残りの配線を行なった状態、すなわ
ち、チップ内の残りの配線を全て行った後の状態を示し
た図である。先に述べたように、チップ上は、第一のユ
ニット211、第三のユニット213および第五のユニ
ット215で形成された第一のブロック行217と、第
二のユニット212、第四のユニット214および第六
のユニット216で形成された第二のブロック行218
とに区分けされており、このステップ103において
は、これらのブロック行を合わせたチップ全体を配線経
路の検索の範囲に設定している。したがって、このステ
ップ103においては、ステップ102までに適当な配
線経路が見つからなかった端子についての配線経路の検
索および実際の配線、また、各ブロック行同士について
の適当な配線経路の検索および実際の配線、さらに、チ
ップのI/Oパッドと接続するネットの配線等が行われ
ることにより、チップ全体についての配線が完了する。
【0034】例えば、この図2(d)のチップ上におい
ては、適当な配線経路の検索の結果、第一のブロック行
217中の第三の配線223と、第二のブロック行21
8中の第三の端子203とが、第五の配線225を介し
て接続される。この処理により、本実施形態に係るチッ
プの上の全体の配線が完了する。
【0035】本実施形態においては、以上の図1、図2
および図3を用いて説明したように、チップ上に配線を
行なう場合、チップ上を複数のユニットに区分けして、
まず、ユニット内の素子同士の配線を行い、次に、複数
のユニットで構成されたブロック行内の素子同士の配線
を行い、最後に、チップ全体についての配線を行ってい
る。したがって、ユニット間を接続する配線がユニット
内の端子間の配線の障害となることはなく、また、ブロ
ック行間を接続する配線がブロック行内の端子間の配線
の障害となることもないので、未配線を減少させること
が可能となる。また、本実施形態においては、はじめは
配線経路の検索範囲を小さく設定し、その範囲を徐々に
階層的に大きくしていくことによって最終的にチップ上
に規則的に配設された全ての素子の配線を行っているの
で、従来の迷路法のように、はじめからチップ全面を対
象にした配線手法と比較すると、処理時間を短縮するこ
とが可能となる。
【0036】なお、例えば、オペアンプ等の回路上の機
能ブロックは、チップ上のユニットに対応するように配
置される場合が多く、さらに、機能ブロック内はブロッ
ク間に比べて素子の結合が強く、多くのネットで結ばれ
ている場合が多い。したがって、本実施形態によれば、
ユニット単位で配線を行うことにより、結合度の強い機
能ブロック内の素子を優先的に配線することが可能とな
り、効率よく配線を行うことができる。しかも、ユニッ
ト内の配線を行う場合には、経路の探索範囲をユニット
内に限定することができるため、配線の遠回りによる冗
長配線を防止し、処理時間を短縮できるというメリット
もある。
【0037】〈第二の実施形態〉図4は、本発明の第二
の実施形態に係る半導体集積回路のレイアウト方法にお
ける配線工程のフローチャートを示したものである。本
実施形態においては、まず、ステップ401において、
それぞれの素子を構成する端子の配線を行う前に、チッ
プ上に配置されて使用される全ての素子(端子)の周辺
に、その素子(端子)に接続される配線以外の配線の通
過等を禁止する領域(以下、「配線禁止領域」とい
う。)が、あらかじめ設定される。次に、ステップ40
2において、配線を行う領域から未配線の端子が選択さ
れる。次に、ステップ403において、選択された端子
についての配線が行われる。次に、ステップ404にお
いて、配線が終了した端子周辺における配線禁止領域の
設定が解除される。ここで、配線が終了した端子につい
ては配線禁止領域が解除されるので、これ以降、他の端
子の配線を行う場合であっても、この領域(元配線禁止
領域)の使用が可能となる。したがって、配線が完了し
ている端子の周辺および素子上は、自由に他の配線が通
過できるので、配線禁止領域を追加することにより、素
子上を配線が通れなくなったり、未配線が増加するとい
うことはない。次に、ステップ405において、全ての
端子についての配線が終了しているか否かの判断を行
う。ここで、全ての端子の配線が終了していれば(ステ
ップ405において「Yes」と判断されれば)、配線
工程は終了するが、全ての端子の配線が終了していなけ
れば(ステップ405において「No」と判断されれ
ば)、再びステップ402に戻って、配線工程が繰り返
し行なわれる。
【0038】以上のように、本実施形態においては、ま
ず第一に素子周辺に対する配線禁止領域の設定が行わ
れ、第二に選択された端子についての配線が行われ、第
三にその端子についての配線禁止領域の設定が解除さ
れ、そして、全ての端子についての配線が終了するまで
第二と第三の工程が繰り返して行われる。すなわち、本
実施形態によれば、このように、あらかじめ配線禁止領
域を設定することにより、端子から配線を引き出す前
に、他の端子に接続されるネットの配線が端子付近を通
過することがなくなり、それぞれの端子についての配線
領域を確保することが可能となる。したがって、配線不
能領域の発生を防止して未配線の数を減少させることが
できる。
【0039】(素子周辺に対する配線禁止領域の設定)
次に、図4のステップ401における素子周辺に対する
配線禁止領域の設定方法について、図面を用いて詳細に
説明する。
【0040】図5は、図4のステップ401によって、
抵抗素子の周辺に配線禁止領域を設定した状態を示した
図であり、これは、配線禁止領域の設定箇所の一例を示
したものである。図5において、抵抗素子501は、抵
抗素子の第一端子(以下、「第一端子」ともいう。)5
02と、抵抗素子の第二端子(以下、「第二端子」とも
いう。)503との2つの端子を有し、この抵抗素子5
01が縦に配置されている場合には、接続されるべきこ
れらの端子502,503は、上下に位置することとな
る。そこで、この図5においては、それぞれの端子50
2,503が接続不能な状態にならないように、上側に
位置する第一端子502については、その端子周辺の上
側に第一端子の配線禁止領域504を設け、下側に位置
する第二端子503については、その端子周辺の下側に
第二端子の配線禁止領域505を設けている。
【0041】第一および第二端子502,503から配
線を引き出すためには、これらの端子502,503に
隣接するグリッドに、配線等の障害がなく、ビアの配置
が可能であるということと、そこから縦方向に2層アル
ミ配線の障害がないか、または端子の横方向に1層アル
ミ配線の障害がないことが条件となる。ところが、抵抗
素子は通常1グリッド間隔で隣接して配置されているた
め、横方向の配線障害は必ず存在することとなる。
【0042】そこで、本実施形態においては、図5に示
すように、縦方向について配線障害がなくなるように、
配線禁止領域504,505が設定されている。この配
線禁止領域504,505内においては、他の素子に接
続するネット(他ネット)について、1層2層とも配線
はおろか通過することもできないものとされ、その素子
(ここでは抵抗素子501)に接続するネット(同一ネ
ット)の配線であれば、1層2層とも配線することがで
きるものとされている。
【0043】また、本実施形態においては、第一端子の
配線禁止領域504内に第一端子のビア配置候補点50
6が設けられ、第二端子の配線禁止領域505内に第二
端子のビア配置候補点507が設けられている。このよ
うに、これらの配線禁止領域504,505内であって
も、隣接する端子(ここでは、第一端子502と第二端
子503のことである。)に接続されるネットのビアで
あれば、配置することが可能である。ここでは、これら
のビア配置候補点506,507以外の位置には、ビア
を配置することができないものとする。また、ビア配置
候補点506,507にビアを配置してもデザインルー
ルを違反することがないようにするために、ビア配置候
補点506,507の上下をビア配置禁止点(第一端子
のビア配置禁止点508,第二端子のビア配置禁止点5
09)とする。これらのビア配置禁止点508,509
は、ビアを配置することができない箇所ではあるが、他
ネットであっても、1層または2層の配線が通過するこ
とは許される点である。
【0044】本実施形態によれば、以上のように、抵抗
素子501を構成する各端子502,503の周囲に、
適切な配線禁止領域504,505、ビア配置候補点5
06,507およびビア配置禁止点508,509が設
けられているので、配線を引き出すための領域があらか
じめ確保される。したがって、配線不能領域の発生を防
止することが可能となり、未配線の数を減少させること
ができる。
【0045】図6は、図4のステップ401によって、
トランジスタ素子の周辺に配線禁止領域を設定した状態
を示した図であり、これは図5と同様に、配線禁止領域
の設定箇所の一例を示したものである。トランジスタ素
子601には、通常、3つの端子が設けられており、こ
こでは、トランジスタ素子の第一端子(以下、単に「第
一端子」ともいう。)602、トランジスタ素子の第二
端子(以下、単に「第二端子」ともいう。)603およ
びトランジスタ素子の第三端子(以下、単に「第三端
子」ともいう。)604が設けられている。
【0046】このトランジスタ素子601が、図6に示
されるように縦に配置されている場合には、上下の端子
(第一端子602、第三端子604)については、図5
で説明した抵抗素子の場合と同様に、それぞれの端子6
02,604の上下の領域を配線禁止領域とし、中央の
第二端子603については、この端子603の左右どち
らかの領域を配線禁止領域とする。左右どちらの領域を
配線禁止領域に設定するかは、トランジスタ素子601
の左右どちらの領域に配線障害が少ないかによって決定
する。両方が同一条件の場合には、他の素子との関係等
を考慮して、どちらか一方を選択する。
【0047】トランジスタ素子も、抵抗素子と同様に、
通常、1〜2グリッド間隔で隣接して配置されているた
め、中央の端子(ここでは第二端子603)から出た配
線を確実に引き出すためには、第二端子603からの配
線が、トランジスタ素子601の上側または下側に確実
に配線できるように、配線するための領域を確保してお
かなければならない。これは、端子の数が4つ以上ある
場合についても同様であり、最も上にある端子、または
最も下にある端子以外は、左右どちらかの領域に配線禁
止領域を設定しなければならない。
【0048】本実施形態においては、上述したように、
トランジスタ素子601には、第一〜第三端子602,
603,604が設けられており、上側の第一端子60
2と下側の第三端子604とについては、図5の抵抗素
子の場合と同様に、上下に配線を引き出すことが可能な
ように、配線禁止領域を設定すればよい。また、中央の
第二端子603については、トランジスタ素子601の
左右どちらかの領域に配線禁止領域を設定すればよく、
ここでは、トランジスタ端子601の右側に、第二端子
603からの配線が可能なように、配線禁止領域が設定
されている。このようにして、本実施形態においては、
図6に示すように、配線禁止領域605が設定されてい
る。また、それぞれの端子602,603,604につ
いて、上側、右側および下側に配線を行なうために、配
線禁止領域605内においては、第一端子602の上側
に第一端子のビア配置候補点606が設けられ、第二端
子603の右側に第二端子のビア配置候補点607が設
けられ、第三端子604の下側に第三端子のビア配置候
補点608が設けられている。そして、第一端子のビア
配置候補点606の上側に第一端子のビア配置禁止点6
09が設けられ、第三端子のビア配置候補点608の下
側に第三端子のビア配置禁止点610が設けられてい
る。なお、中央の第二端子603においては、図6に示
すように第二端子のビア配置候補点607が設定されて
いたとしても、第二端子のビア配置候補点607の上下
に2層アルミの配線障害があると、配線が上下のどちら
にも出られなくなってしまう。したがって、配線禁止領
域605を設定する場合には、この点にも留意しなけれ
ばならない。本実施形態は、この点にも留意して、第二
端子のビア配置候補点607の上下に配線可能な領域を
確保するように、配線禁止領域605が設定されてい
る。
【0049】本実施形態によれば、以上のように、トラ
ンジスタ素子601を構成する各端子602,603,
604の周囲に適切な配線禁止領域605、ビア配置候
補点606〜608およびビア配置禁止点609,61
0が設けられているので、配線を引き出すための領域が
あらかじめ確保され、他の素子の接続を行なうための配
線は、トランジスタ素子601の端子付近を通過するこ
とがなくなる。したがって、配線不能領域の発生を防止
することが可能となり、未配線の数を減少させることが
できる。
【0050】図7〜図9は、本発明に係る実施形態に基
づいて、各素子の端子付近に配線禁止領域を設定した場
合の効果を説明するための図である。図7および図8
は、トランジスタ素子の端子付近に配線禁止領域を設定
した場合の効果を説明するための図であり、図9は、抵
抗素子の端子付近に配線禁止領域を設定した場合の効果
を説明するための図である。以下、各図面に基づいて説
明する。
【0051】図7は、トランジスタ素子の端子付近に配
線禁止領域を設定した場合の効果を説明するための図で
ある。図7(a)は、トランジスタ素子の端子付近に配
線禁止領域を設定せずに配線を行なった場合の一例を示
したものである。この図7(a)の例では、配線禁止領
域を設定していないために、第一のトランジスタ701
と第三のトランジスタ703に接続するネットが、図の
ような経路に配線されてしまう可能性がある。このよう
な配線が行なわれると、第二のトランジスタ702の中
央の端子には、配線ができなくなってしまう。一方、図
7(b)は、本発明に係る実施形態に基づいて、トラン
ジスタ素子の端子付近に配線禁止領域を設定した場合の
一例を示したものである。本実施形態によれば、この図
7(b)に示すように、端子の配線経路を確保するよう
に配線禁止領域704が設定されるので、第二のトラン
ジスタ702の端子付近に配線が通過することはなくな
り、配線を確実に行うことができる。
【0052】図8は、トランジスタ素子の端子付近に配
線禁止領域を設定した場合の効果を説明するための他の
例の図である。図8(a)は、トランジスタ素子の端子
付近に配線禁止領域を設定せずに配線を行なった場合の
一例を示したものである。この図8(a)の例では、配
線禁止領域を設定しておらず、また、ビアが適切な位置
に設けられていない。具体的には、配線禁止領域が設定
されていないので、中央に位置するトランジスタ素子の
上部端子、下部端子に接続される第一のビア801、第
二のビア802が、図8(a)に示すように、それぞれ
の端子の右側に設けられる可能性がある。第一のビア8
01および第二のビア802が、このような位置に設け
られると、結果としてトランジスタ素子の中央部の端子
の配線ができなくなってしまう。一方、図8(b)は、
本発明に係る実施形態に基づいて、トランジスタ素子の
端子付近に配線禁止領域を設定し、さらに適切な位置に
ビア配置候補点を設けた場合の一例を示したものであ
る。本実施形態によれば、この図8(b)に示すよう
に、配線禁止領域805が設定され、同一ネットのビア
もビア配置候補点にしか配置できないために、トランジ
スタ素子の上部端子についての第一のビア803は、図
に示すように上部端子の上側に設けられ、下部端子につ
いての第二のビア804は、図に示すように下部端子の
下側に設けられることとなる。このような位置にそれぞ
れのビア803,804が設けられれば、中央部の端子
の配線領域が確保され、上下端子の配線が通過すること
はなくなるので、中央部の端子の配線を確実に行なうこ
とができる。
【0053】図9は、抵抗素子の端子付近に配線禁止領
域を設定した場合の効果を説明するための図である。図
9(a)は、抵抗素子の端子付近に配線禁止領域を設定
せずに配線を行なった場合の一例を示したものである。
この図9(a)の例では、配線禁止領域が設定されてお
らず、また、ビアも適切な位置に設けられていない。具
体的には、配線禁止領域が設定されていないので、第一
の抵抗素子901の上部端子に接続されるビア904
が、図に示すように第二の抵抗素子902の上部端子近
傍に配置され、この第一の抵抗素子901とビア904
とが、配線905で接続される可能性がある。また、第
三の抵抗素子903の上部端子を接続するためのネット
が、配線906のように引き出される可能性もある。こ
のようなビアの配置および配線が行なわれると、結果と
して第二の抵抗素子902の上部端子については、配線
ができなくなってしまう。一方、図9(b)は、本発明
に係る実施形態に基づいて、第二の抵抗素子902の上
部端子付近に配線禁止領域を設定した場合の一例を示し
たものである。本実施形態によれば、この図9(b)に
示すように、第二の抵抗素子902の上部端子について
の配線領域を確保するように配線禁止領域908が設定
されているので、第二の抵抗素子902の上部端子付近
を他のネットの配線が通過することはなくなり、また、
第一の抵抗素子901に接続されるビア907も図に示
すように配置される。したがって、第二の抵抗素子90
2の上部端子についての配線領域が確保され、配線を確
実に行なうことができる。
【0054】(配線禁止領域の解除)以上の図4〜図9
を用いて説明した配線禁止領域については、配線禁止領
域が設定されているその素子端子に関する全ての配線が
終了すると、終了と同時に、その設定が解除される(図
4参照)。したがって、配線が完了している素子端子の
周辺および素子上は、自由に他の配線が通過できること
となるので、配線禁止領域を追加することにより、素子
上を配線が通れなくなったり、未配線が増加するという
ことはない。
【0055】〈第三の実施形態〉図10は、本発明の第
三の実施形態に係る半導体集積回路のレイアウト方法に
おける配線工程のフローチャートを示したものである。
本実施形態は、先に説明した第一の実施形態と第二の実
施形態とを組み合わせた半導体集積回路のレイアウト方
法である。以下、具体的に説明する。
【0056】まず、ステップ1001において、チップ
上に配置されて使用される全ての素子端子の周辺に対し
て、配線禁止領域が設定される。次に、ステップ100
2において、チップを構成している各ユニット内の配線
が行われる。ここでは、各ユニットについて、各ユニッ
ト内を配線検索領域として、ユニット内に含まれる素子
同士を接続するネットの配線が行われる。そして、ユニ
ット内のそれぞれの端子の周辺に設定されている各配線
禁止領域については、その端子に関する配線が全て終了
したものに限り、配線終了と同時に、その設定が解除さ
れる。
【0057】図11は、このステップ1002における
配線工程のフローチャートを示したものである。この図
11は、基本的には第二の実施形態における図3と同様
であり、図3のステップ301〜308と、図11のス
テップ1101〜1108とは、同様の工程である。し
かし、本実施形態においては、図11中にステップ11
09を有する点で、第二の実施形態と異なり、ステップ
1109では、上述したように、配線禁止領域の解除が
行われる。こうすることにより、配線が完了している素
子端子の周辺および素子上は、自由に他の配線のために
利用され、通過が可能となる。したがって、配線禁止領
域を追加することによる不具合(配線禁止領域のために
配線がままならない等)は緩和され、配線禁止領域を追
加することによって、素子上を配線が通れなくなった
り、未配線が増加するということはない。この点は、次
のブロック行内の配線工程を行う場合についても同様で
ある。
【0058】次に、ステップ1003において、複数の
ユニットで構成されている、チップ上の同一ブロック行
内の配線が行われる。ここでは、各ブロック行内を配線
検索領域として、各ブロック行内において、ブロック行
内に設けられている素子端子同士、あるいはユニット同
士を接続するためのネットの配線が行われる。そして、
この工程においても、ステップ1002の場合と同様
に、ブロック行内のそれぞれの端子の周辺に設定されて
いる各配線禁止領域については、その端子に関する配線
が全て終了したものに限り、配線終了と同時に、その設
定が解除される。この工程におけるフローチャートは、
図11において、「ユニット」を「ブロック行」と置き
換えたものである。
【0059】次に、ステップ1004において、チップ
上においてまだ接続されていない、いわゆる残りの配線
が行われる。すなわち、このこのステップ1004にお
いては、ステップ1003までに適当な配線経路が見つ
からなかった端子についての配線経路の検索および実際
の配線、また、各ブロック行同士についての適当な配線
経路の検索および実際の配線、さらに、チップのI/O
パッドと接続するネットの配線等が行われることによ
り、チップ全体についての配線が完了する。
【0060】以上説明したように、本実施形態は、第一
の実施形態で説明した「階層的な配線方法」と、第二の
実施形態で説明した「配線禁止領域を用いた配線方法」
とを組み合わせたものであるので、これらの各実施形態
の効果をあわせ持った半導体集積回路のレイアウト方法
を得ることができる。
【0061】すなわち、本実施形態によれば、ユニット
内配線のときは、素子端子のほとんどに対して配線禁止
領域が設定されているため、ユニット内の混雑した部分
を配線する場合にも、配線が特定の端子付近に集中する
ことがなく、未配線を生じることがない。また、ユニッ
ト内配線が終わると、素子端子の大部分の配線が終了
し、配線禁止領域が解除されることとなるため、ユニッ
ト間の配線(ブロック行内の配線)を行う際にも、素子
端子の配線禁止領域が配線の障害になる場合は少ない。
そして、さらに、その後、チップ全体についての配線を
行なう場合においても、同様の手法を用いることによ
り、未配線の少ない適切な配線を行なうことができる。
【0062】なお、以上の各実施形態において、ユニッ
ト間あるいはブロック行間をまたがるような長い配線に
ついては、素子の配置領域を避けて、なるべく配線用チ
ャネル領域等の配線領域を通過するように配線すること
が好ましい。こうすれば、効率のよい配線を行うことが
できるからである。
【0063】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
マスタースライス方式のように配線領域が固定化された
半導体集積回路上に配線を行う場合において、ユニット
内の配線を先に行い、素子周辺にあらかじめ配線禁止領
域を設定することによって、素子の混雑した部分におけ
る配線の集中を緩和し、端子から配線を引き出す領域を
確保することができる。また、配線を行う経路の検索範
囲を限定することによって、経路検索の処理時間(計算
時間)を短縮することもできる。したがって、本発明に
よれば、配線不能領域の発生を防止して未配線の数を減
少させることが可能であり、同時に、経路検索の処理時
間(計算時間)の短縮を可能とする、半導体集積回路の
レイアウト方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施形態に係る半導体集積回路
のレイアウト方法における配線工程のフローチャート
【図2】図1のフローチャートに従って配線を行った場
合の一例を示した図
【図3】図1のステップ101によって行われる配線工
程のフローチャート
【図4】本発明の第二の実施形態に係る半導体集積回路
のレイアウト方法における配線工程のフローチャート
【図5】図4のステップ401によって抵抗素子の周辺
に配線禁止領域を設定した状態を示した図
【図6】図4のステップ401によってトランジスタ素
子の周辺に配線禁止領域を設定した状態を示した図
【図7】トランジスタ素子の端子付近に配線禁止領域を
設定した場合の効果を説明するための図
【図8】トランジスタ素子の端子付近に配線禁止領域を
設定した場合の効果を説明するための図
【図9】抵抗素子の端子付近に配線禁止領域を設定した
場合の効果を説明するための図
【図10】本発明の第三の実施形態に係る半導体集積回
路のレイアウト方法における配線工程のフローチャート
【図11】図10のステップ1002によって行われる
配線工程のフローチャート
【図12】アナログマスタースライス方式における半導
体集積回路の構造図
【図13】図12に示された半導体集積回路を構成して
いるユニットの構造図
【図14】従来技術に係る半導体集積回路のレイアウト
方法における配線工程のフローチャート
【符号の説明】
201 第一の端子 202 第二の端子 203 第三の端子 204 第四の端子 205 第五の端子 206 第六の端子 207 第七の端子 211 第一のユニット 212 第二のユニット 213 第三のユニット 214 第四のユニット 215 第五のユニット 216 第六のユニット 217 第一のブロック行 218 第二のブロック行 221 第一の配線 222 第二の配線 223 第三の配線 224 第四の配線 225 第五の配線 501 抵抗素子 502 抵抗素子の第一端子 503 抵抗素子の第二端子 504 第一端子の配線禁止領域 505 第二端子の配線禁止領域 506 第一端子のビア配置候補点 507 第二端子のビア配置候補点 508 第一端子のビア配置禁止点 509 第二端子のビア配置禁止点 601 トランジスタ素子 602 トランジスタ素子の第一端子 603 トランジスタ素子の第二端子 604 トランジスタ素子の第三端子 605 配線禁止領域 606 第一端子のビア配置候補点 607 第二端子のビア配置候補点 608 第三端子のビア配置候補点 609 第一端子のビア配置禁止点 610 第三端子のビア配置禁止点 701 第一のトランジスタ素子 702 第二のトランジスタ素子 703 第三のトランジスタ素子 704 配線禁止領域 801 第一のビア 802 第二のビア 803 配線禁止領域がある場合の第一のビア 804 配線禁止領域がある場合の第二のビア 805 配線禁止領域 901 第一の抵抗素子 902 第二の抵抗素子 903 第三の抵抗素子 904 第一の抵抗素子に接続するビア 905 第一の抵抗素子に接続する配線 906 第三の抵抗素子に接続する配線 907 配線禁止領域がある場合の第一のビア 908 配線禁止領域 1201 I/Oパッド 1202 ユニット 1203 ブロック行 1301 抵抗素子 1302 トランジスタ素子 1303 配線用チャネル領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 誠 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路基板上に複数の素子を配設し、前記
    素子の有する各端子を配線して構成された半導体集積回
    路のレイアウト方法において、 前記回路基板上を複数のユニットに区分けして、同一ユ
    ニット内に含まれた前記端子を対象として配線経路の検
    索を行った後に同一ユニット内の端子間の配線を行うユ
    ニット内配線工程と、同一行にあるユニットで構成され
    たブロック行内に含まれた前記端子を対象として配線経
    路の検索を行った後に前記ブロック行内の端子間の配線
    を行うブロック行内配線工程と、前記回路基板上におい
    て配線が残っている端子を対象として配線経路の検索を
    行った後に前記端子間の配線を行う工程とを備えたこと
    を特徴とする半導体集積回路のレイアウト方法。
  2. 【請求項2】 回路基板上に複数の素子を配設し、前記
    素子の有する各端子を配線して構成された半導体集積回
    路のレイアウト方法において、 前記各端子の配線を行う前にそれぞれの端子の周辺に、
    各端子に接続される配線以外の配線の通過を禁止する領
    域を設定する配線禁止領域設定工程と、前記各端子につ
    いての配線が終了した後、その端子についての前記配線
    禁止領域の設定を解除する配線禁止領域解除工程とを備
    えたことを特徴とする半導体集積回路のレイアウト方
    法。
  3. 【請求項3】 回路基板上に複数の素子を配設し、前記
    素子の有する各端子を配線して構成された半導体集積回
    路のレイアウト方法において、 前記回路基板上を複数のユニットに区分けして、同一ユ
    ニット内に含まれた前記端子を対象として配線経路の検
    索を行った後に同一ユニット内の端子間の配線を行うユ
    ニット内配線工程と、同一行にあるユニットで構成され
    たブロック行内に含まれた前記端子を対象として配線経
    路の検索を行った後に前記ブロック行内の端子間の配線
    を行うブロック行内配線工程と、前記回路基板上におい
    て配線が残っている端子を対象として配線経路の検索を
    行った後に前記端子間の配線を行う工程と、前記各端子
    の配線を行う前にそれぞれの端子の周辺に、各端子に接
    続される配線以外の配線の通過を禁止する領域を設定す
    る配線禁止領域設定工程と、前記各端子についての配線
    が終了した後、その端子についての前記配線禁止領域の
    設定を解除する配線禁止領域解除工程とを備えたことを
    特徴とする半導体集積回路のレイアウト方法。
  4. 【請求項4】 前記ユニット内配線工程において、適当
    な配線経路が見つからなかった端子については、この工
    程以降の工程で配線を行う請求項1または3に記載の半
    導体集積回路のレイアウト方法。
  5. 【請求項5】 前記ブロック行内配線工程において、適
    当な配線経路が見つからなかった端子については、この
    工程以降の工程で配線を行う請求項1、3または4に記
    載の半導体集積回路のレイアウト方法。
  6. 【請求項6】 前記配線禁止領域設定工程において、前
    記配線禁止領域内にビア配置候補点を設け、前記各端子
    の配線を行う際にビアが必要な場合には、前記各端子に
    対する前記配線禁止領域内の前記ビア配置候補点にのみ
    ビアを設ける請求項2または3に記載の半導体集積回路
    のレイアウト方法。
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