JPH11218527A - ガスクロマトグラフ - Google Patents
ガスクロマトグラフInfo
- Publication number
- JPH11218527A JPH11218527A JP3680598A JP3680598A JPH11218527A JP H11218527 A JPH11218527 A JP H11218527A JP 3680598 A JP3680598 A JP 3680598A JP 3680598 A JP3680598 A JP 3680598A JP H11218527 A JPH11218527 A JP H11218527A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- opening
- flow path
- carrier gas
- control valve
- column
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
- G01N30/02—Column chromatography
- G01N30/04—Preparation or injection of sample to be analysed
- G01N30/06—Preparation
- G01N30/10—Preparation using a splitter
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来と同じ構造の気化室を用いながら通常の
分析とプレカット分析の双方を行なうことができるガス
クロマトグラフを提供する。 【解決手段】 スプリット分析を行なう場合、三方弁１
６を、第２開口１４と第３流路１７とを接続するように
設定し、第１制御弁１３及び第２制御弁１８を開ける。
これにより、キャリヤガスは第１開口１１から気化室１
０に入り、低沸点成分を第２開口１４から外部へ、又、
カラム２４へと送出する。キャリヤガスの一部はセプタ
ムパージ流路２０から排出される。バックフラッシュ時
は、三方弁１６を、第２開口１４と第１流路１２とを接
続する方に切り替える。キャリヤガスは第１流路１２−
第２流路１５−第２開口１４の経路からも下部空間２９
に導入され、昇温されたプレカラム２６の高沸点成分を
セプタムパージ流路２０より外部に放出する。
分析とプレカット分析の双方を行なうことができるガス
クロマトグラフを提供する。 【解決手段】 スプリット分析を行なう場合、三方弁１
６を、第２開口１４と第３流路１７とを接続するように
設定し、第１制御弁１３及び第２制御弁１８を開ける。
これにより、キャリヤガスは第１開口１１から気化室１
０に入り、低沸点成分を第２開口１４から外部へ、又、
カラム２４へと送出する。キャリヤガスの一部はセプタ
ムパージ流路２０から排出される。バックフラッシュ時
は、三方弁１６を、第２開口１４と第１流路１２とを接
続する方に切り替える。キャリヤガスは第１流路１２−
第２流路１５−第２開口１４の経路からも下部空間２９
に導入され、昇温されたプレカラム２６の高沸点成分を
セプタムパージ流路２０より外部に放出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガスクロマトグラ
フ、特に、液体試料を気化するための気化室を中心とし
た構造に関する。
フ、特に、液体試料を気化するための気化室を中心とし
た構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のスプリット式気化室の構造は図３
のようになっている。気化室５０内にはガラスインサー
ト５１と呼ばれるガラス管が挿入され、その中にはプレ
カラム５２と呼ばれる液体試料担持体が保持されてい
る。気化室５０の内部は、ガラスインサート５１を気密
に保持するリング状のシール５３により上下に２分さ
れ、上部空間５４には試料注入口５５及びキャリヤガス
導入口５６が、下部空間５７にはカラム送出口５８及び
スプリット流路５９が設けられている。試料注入口５５
にはセプタム６０が設けられ、その近傍にはセプタムガ
スを排除するためのセプタムパージ流路６１が設けられ
ている。キャリヤガス導入口５６は圧力制御弁を介して
キャリヤガス源に接続されている。
のようになっている。気化室５０内にはガラスインサー
ト５１と呼ばれるガラス管が挿入され、その中にはプレ
カラム５２と呼ばれる液体試料担持体が保持されてい
る。気化室５０の内部は、ガラスインサート５１を気密
に保持するリング状のシール５３により上下に２分さ
れ、上部空間５４には試料注入口５５及びキャリヤガス
導入口５６が、下部空間５７にはカラム送出口５８及び
スプリット流路５９が設けられている。試料注入口５５
にはセプタム６０が設けられ、その近傍にはセプタムガ
スを排除するためのセプタムパージ流路６１が設けられ
ている。キャリヤガス導入口５６は圧力制御弁を介して
キャリヤガス源に接続されている。
【０００３】試料の分析は次のようにして行なわれる。
気化室５０の外部に設けられたヒータ６２でプレカラム
５２を低温に加熱した後、キャリヤガス導入口５６より
キャリヤガスを導入しつつ試料をプレカラム５２内に注
入する。この温度では試料中の低沸点の溶媒が気化し、
キャリヤガスによりスプリット流路５９より排出され
る。その後、プレカラム５２の温度を上げ、分析対象で
ある高沸点の成分をプレカラム５２から蒸発させ、カラ
ム６３に送出する。
気化室５０の外部に設けられたヒータ６２でプレカラム
５２を低温に加熱した後、キャリヤガス導入口５６より
キャリヤガスを導入しつつ試料をプレカラム５２内に注
入する。この温度では試料中の低沸点の溶媒が気化し、
キャリヤガスによりスプリット流路５９より排出され
る。その後、プレカラム５２の温度を上げ、分析対象で
ある高沸点の成分をプレカラム５２から蒸発させ、カラ
ム６３に送出する。
【０００４】液体試料中の分析対象が低沸点成分のみで
ある場合、気化室を低沸点成分の沸点以上に上げて低沸
点成分をカラムに導入した後、残った高沸点成分をカラ
ムに導入することなく気化室から排出（バックフラッシ
ュ）するというプレカット法が用いられる。このように
高沸点成分をカラムに導入しないことにより、分析時間
を短縮することができる他、カラムの温度を上げなくて
済むことからカラムの寿命を延ばすことができるという
利点がある。
ある場合、気化室を低沸点成分の沸点以上に上げて低沸
点成分をカラムに導入した後、残った高沸点成分をカラ
ムに導入することなく気化室から排出（バックフラッシ
ュ）するというプレカット法が用いられる。このように
高沸点成分をカラムに導入しないことにより、分析時間
を短縮することができる他、カラムの温度を上げなくて
済むことからカラムの寿命を延ばすことができるという
利点がある。
【０００５】従来、プレカット法を行なう場合は図４に
示すように、キャリヤガス導入口が上部空間５４と下部
空間５７にそれぞれ（５６１、５６２）設けられた気化
室７０が用いられていた。プレカラム５２を低沸点成分
と高沸点成分との間の温度に加熱した後、上部空間５４
の第１導入口５６１よりキャリヤガスを導入し、試料を
プレカラム５２内に注入する。気化した低沸点成分はキ
ャリヤガスに乗ってカラム６３に送出される。所定時間
が経過し、目的量の低沸点成分がカラム６３に送出され
た時点で、下部空間５７の第２導入口５６２からキャリ
ヤガスを導入するとともに、プレカラム５２の温度を高
沸点成分の沸点以上の温度に上昇させる。これにより、
プレカラム５２に担持されている高沸点成分はキャリヤ
ガスに乗ってセプタムパージ流路６１から排出（バック
フラッシュ）される。なお、このバックフラッシュの際
のパージ流量を十分に確保するため、セプタムパージ流
路６１にはバイパス流路７１が設けられている。
示すように、キャリヤガス導入口が上部空間５４と下部
空間５７にそれぞれ（５６１、５６２）設けられた気化
室７０が用いられていた。プレカラム５２を低沸点成分
と高沸点成分との間の温度に加熱した後、上部空間５４
の第１導入口５６１よりキャリヤガスを導入し、試料を
プレカラム５２内に注入する。気化した低沸点成分はキ
ャリヤガスに乗ってカラム６３に送出される。所定時間
が経過し、目的量の低沸点成分がカラム６３に送出され
た時点で、下部空間５７の第２導入口５６２からキャリ
ヤガスを導入するとともに、プレカラム５２の温度を高
沸点成分の沸点以上の温度に上昇させる。これにより、
プレカラム５２に担持されている高沸点成分はキャリヤ
ガスに乗ってセプタムパージ流路６１から排出（バック
フラッシュ）される。なお、このバックフラッシュの際
のパージ流量を十分に確保するため、セプタムパージ流
路６１にはバイパス流路７１が設けられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記の通り、プレカッ
ト法を用いる場合には通常の気化室５０（図３）とは別
の構造を有する気化室７０（図４）を使用する必要があ
り、気化室の取り替えに時間がかかるとともに、気化室
の管理が大変であった。
ト法を用いる場合には通常の気化室５０（図３）とは別
の構造を有する気化室７０（図４）を使用する必要があ
り、気化室の取り替えに時間がかかるとともに、気化室
の管理が大変であった。
【０００７】本発明はこのような課題を解決するために
成されたものであり、その目的とするところは、従来と
同じ構造の気化室を用いながら通常の分析とプレカット
分析の双方を行なうことができるガスクロマトグラフを
提供することにある。
成されたものであり、その目的とするところは、従来と
同じ構造の気化室を用いながら通常の分析とプレカット
分析の双方を行なうことができるガスクロマトグラフを
提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明は、 a)内部が、試料担持体を挟んで上部空間及び下部空間に
分離され、上部空間に試料注入口、セプタムパージ開口
及び第１開口が、下部空間に第２開口及びカラム接続口
が設けられた気化室と、 b)試料担持体を加熱するヒータと、を備えたガスクロマ
トグラフにおいて、 c)キャリヤガス源と第１開口とを接続し、第１制御弁を
備えた第１流路と、 d)第１制御弁の下流の第１流路と第２開口とを接続し、
三方弁を備えた第２流路と、 e)上記三方弁の第３接続口と外部とを接続し、第２制御
弁を備えた第３流路と、を有することを特徴とするガス
クロマトグラフ。
に成された本発明は、 a)内部が、試料担持体を挟んで上部空間及び下部空間に
分離され、上部空間に試料注入口、セプタムパージ開口
及び第１開口が、下部空間に第２開口及びカラム接続口
が設けられた気化室と、 b)試料担持体を加熱するヒータと、を備えたガスクロマ
トグラフにおいて、 c)キャリヤガス源と第１開口とを接続し、第１制御弁を
備えた第１流路と、 d)第１制御弁の下流の第１流路と第２開口とを接続し、
三方弁を備えた第２流路と、 e)上記三方弁の第３接続口と外部とを接続し、第２制御
弁を備えた第３流路と、を有することを特徴とするガス
クロマトグラフ。
【０００９】
【発明の実施の形態】プレカット法によるスプリット分
析を行なう場合、最初に、三方弁を、第２開口と第３流
路（外部）とを接続するように設定し、第１制御弁及び
第２制御弁を開ける。これにより、キャリヤガスは第１
開口から上部空間に入り、試料担持体を通過して下部空
間に至り、第２開口から外部へ、そしてカラム接続口か
らカラムへ送出される。なお、一部は上部空間からセプ
タムパージ開口より外部に排出される。ヒータにより試
料担持体を低沸点成分の沸点以上高沸点成分の沸点以下
の温度に上昇させ、液体試料を注入して試料担持体に担
持させると、低沸点成分のみが蒸発し、上記キャリヤガ
ス流によりスプリット分析が行なわれる。すなわち、一
部がカラムに送出されて分析されるとともに、スプリッ
ト分が第２開口から三方弁、第３流路を経由してガス放
出口へ放出される。
析を行なう場合、最初に、三方弁を、第２開口と第３流
路（外部）とを接続するように設定し、第１制御弁及び
第２制御弁を開ける。これにより、キャリヤガスは第１
開口から上部空間に入り、試料担持体を通過して下部空
間に至り、第２開口から外部へ、そしてカラム接続口か
らカラムへ送出される。なお、一部は上部空間からセプ
タムパージ開口より外部に排出される。ヒータにより試
料担持体を低沸点成分の沸点以上高沸点成分の沸点以下
の温度に上昇させ、液体試料を注入して試料担持体に担
持させると、低沸点成分のみが蒸発し、上記キャリヤガ
ス流によりスプリット分析が行なわれる。すなわち、一
部がカラムに送出されて分析されるとともに、スプリッ
ト分が第２開口から三方弁、第３流路を経由してガス放
出口へ放出される。
【００１０】所定時間後、三方弁を、第２開口と第１流
路とを接続する方に切り替える。これにより、キャリヤ
ガスは上記の第１流路−第１開口の経路で上部空間に導
入される他、第１流路−第２流路−第２開口の経路から
も下部空間に導入されるようになる。この状態で試料担
持体の温度を高沸点成分の沸点以上の温度に上昇させる
と、試料担持体から蒸発した高沸点成分は、第２開口か
ら下部空間に導入されるキャリヤガスに運ばれ、上部空
間−セプタムパージ出口を通って外部に放出される。こ
のとき、第１開口から導入されるキャリヤガス流は、高
沸点成分による第１流路の汚染を防止する。
路とを接続する方に切り替える。これにより、キャリヤ
ガスは上記の第１流路−第１開口の経路で上部空間に導
入される他、第１流路−第２流路−第２開口の経路から
も下部空間に導入されるようになる。この状態で試料担
持体の温度を高沸点成分の沸点以上の温度に上昇させる
と、試料担持体から蒸発した高沸点成分は、第２開口か
ら下部空間に導入されるキャリヤガスに運ばれ、上部空
間−セプタムパージ出口を通って外部に放出される。こ
のとき、第１開口から導入されるキャリヤガス流は、高
沸点成分による第１流路の汚染を防止する。
【００１１】
【発明の効果】本発明に係るガスクロマトグラフでは、
従来の気化室５０（図３）と同じものを用いながら、上
記の通りプレカット分析を行なうことができる。従っ
て、図４に示すような特別の構造を有する気化室７０を
別途用意する必要がない。また、第１及び第２制御弁
に、ソフトウェア的に制御可能なデジタル式制御弁を用
いることにより、プレカット法によるスプリット分析と
バックフラッシュを自動的に切り替えることができる
他、スプリット比の制御等、通常の分析自体も自動化す
ることができ、全ての動作において完全な自動化が可能
となる。
従来の気化室５０（図３）と同じものを用いながら、上
記の通りプレカット分析を行なうことができる。従っ
て、図４に示すような特別の構造を有する気化室７０を
別途用意する必要がない。また、第１及び第２制御弁
に、ソフトウェア的に制御可能なデジタル式制御弁を用
いることにより、プレカット法によるスプリット分析と
バックフラッシュを自動的に切り替えることができる
他、スプリット比の制御等、通常の分析自体も自動化す
ることができ、全ての動作において完全な自動化が可能
となる。
【００１２】
【実施例】本発明の一実施例であるガスクロマトグラフ
の気化室１０を中心とした部分を図１に示す。本実施例
のガスクロマトグラフでは、気化室１０自体は図３に示
す従来のものと同様のものを用いることができる。ただ
し、その外部における流路の接続は、従来のものと異な
っている。本実施例のガスクロマトグラフでは、キャリ
ヤガス源と第１開口１１とを接続する第１流路１２に、
第１制御弁１３及び流路抵抗ＲFを接続する。この第１
制御弁１３と流路抵抗ＲFとの間の第１流路１２と第２
開口１４との間に第２流路１５を設け、この第２流路１
５に三方弁１６を設ける。三方弁１６の第３の接続口に
第３流路１７を設け、ここに第２制御弁１８を設けると
ともに他端を外部に開放する。なお、第２開口１４近傍
の第２流路１５に圧力センサ１９を設ける。
の気化室１０を中心とした部分を図１に示す。本実施例
のガスクロマトグラフでは、気化室１０自体は図３に示
す従来のものと同様のものを用いることができる。ただ
し、その外部における流路の接続は、従来のものと異な
っている。本実施例のガスクロマトグラフでは、キャリ
ヤガス源と第１開口１１とを接続する第１流路１２に、
第１制御弁１３及び流路抵抗ＲFを接続する。この第１
制御弁１３と流路抵抗ＲFとの間の第１流路１２と第２
開口１４との間に第２流路１５を設け、この第２流路１
５に三方弁１６を設ける。三方弁１６の第３の接続口に
第３流路１７を設け、ここに第２制御弁１８を設けると
ともに他端を外部に開放する。なお、第２開口１４近傍
の第２流路１５に圧力センサ１９を設ける。
【００１３】セプタムパージ流路２０には第３制御弁２
１を設ける。これら第１〜第３制御弁１３、１８、２１
はいずれも外部からの信号により開度が制御可能な弁で
あり、望ましくはデジタル信号により制御可能なデジタ
ル制御弁を使用する。この場合には、圧力センサ１９に
もデジタル式のものを使用することが望ましい。三方弁
１６には電磁弁を使用する。
１を設ける。これら第１〜第３制御弁１３、１８、２１
はいずれも外部からの信号により開度が制御可能な弁で
あり、望ましくはデジタル信号により制御可能なデジタ
ル制御弁を使用する。この場合には、圧力センサ１９に
もデジタル式のものを使用することが望ましい。三方弁
１６には電磁弁を使用する。
【００１４】本実施例のガスクロマトグラフの全ての動
作は、制御部２２により統一的に制御される。制御部２
２は、専用のプログラムを搭載したパソコンにより構成
することができる。プレカット分析を行なう場合に制御
部２２が行なう処理は次の通りである。まず、三方弁１
６を、第２開口１４と第３流路１７とを接続する方に設
定する。そして、第１流路１２の第１制御弁１３、第３
流路１７の第２制御弁１８、及び、セプタムパージ流路
２０の第３制御弁２１を開ける。これにより、キャリヤ
ガスが第１開口１１から気化室１０の上部空間２３に導
入され、一部はセプタムパージ流路２０から外部へ、一
部は第２開口１４−第３流路１７から外部へ、そして残
部がカラム２４に送出される（図２（ａ））。
作は、制御部２２により統一的に制御される。制御部２
２は、専用のプログラムを搭載したパソコンにより構成
することができる。プレカット分析を行なう場合に制御
部２２が行なう処理は次の通りである。まず、三方弁１
６を、第２開口１４と第３流路１７とを接続する方に設
定する。そして、第１流路１２の第１制御弁１３、第３
流路１７の第２制御弁１８、及び、セプタムパージ流路
２０の第３制御弁２１を開ける。これにより、キャリヤ
ガスが第１開口１１から気化室１０の上部空間２３に導
入され、一部はセプタムパージ流路２０から外部へ、一
部は第２開口１４−第３流路１７から外部へ、そして残
部がカラム２４に送出される（図２（ａ））。
【００１５】次に、ヒータ２５によりプレカラムを分析
目的試料に含まれる低沸点成分（正確には、プレカラム
２６内の充填剤との相互作用が弱く、プレカラム２６出
口において早く溶出する成分）の沸点（溶出温度）以上
であって高沸点成分の沸点以下の温度に加熱する。な
お、プレカラム２６の温度は、温度センサ２７により検
出され、制御部２２にフィードバックされる。目的温度
に達した時点で、セプタム２８を貫通して液体試料をプ
レカラム２６に注入する。試料は直ちに蒸発し、上記３
つのキャリヤガス流により、セプタムパージ流路２０、
第３流路１７及びカラム２４へと送出される。制御部２
２は、圧力センサ１９によりカラム入口圧をモニタしつ
つ各流路の制御弁１３、１８、２１の開度を調節するこ
とにより、スプリット比を制御する。
目的試料に含まれる低沸点成分（正確には、プレカラム
２６内の充填剤との相互作用が弱く、プレカラム２６出
口において早く溶出する成分）の沸点（溶出温度）以上
であって高沸点成分の沸点以下の温度に加熱する。な
お、プレカラム２６の温度は、温度センサ２７により検
出され、制御部２２にフィードバックされる。目的温度
に達した時点で、セプタム２８を貫通して液体試料をプ
レカラム２６に注入する。試料は直ちに蒸発し、上記３
つのキャリヤガス流により、セプタムパージ流路２０、
第３流路１７及びカラム２４へと送出される。制御部２
２は、圧力センサ１９によりカラム入口圧をモニタしつ
つ各流路の制御弁１３、１８、２１の開度を調節するこ
とにより、スプリット比を制御する。
【００１６】低沸点成分がカラム２４に導入されるため
に必要な所定時間が経過した後、バックフラッシュモー
ドに入る。制御部２２は、第２開口１４を第１流路１２
に接続するように三方弁１６を切り替え、セプタムパー
ジ流路２０の第３制御弁２１の開度を大きくする。そし
て、プレカラム２６の温度を、試料の高沸点成分以上の
温度に上昇させる。これにより、蒸発した高沸点成分
は、第２流路１５−第２開口１４から下部空間２９に導
入されるキャリヤガスにより上部空間２３−セプタムパ
ージ流路２０を経由して外部に放出される（図２
（ｂ））。キャリヤガスは第１流路１２−第１開口１１
からも上部空間２３に導入され、高沸点成分を含むキャ
リヤガスが逆流して第１流路１２を汚染するのを防止す
る。この第１開口１１から導入されるキャリヤガスが下
部空間２９から上部空間２３へのキャリヤガスの流れを
妨げないように、第１流路１２に設けた流路抵抗ＲF
は、プレカラム２６の流路抵抗ＲPよりも十分大きくす
る。なお、スプリット分析モードからバックフラッシュ
モードに移行する際、キャリヤガスの流量（総流量）は
同一のままとしてもよいし、増加させてもよい。また、
高沸点成分が十分に排出された後は、キャリヤガスの流
量を減少させてもよい。
に必要な所定時間が経過した後、バックフラッシュモー
ドに入る。制御部２２は、第２開口１４を第１流路１２
に接続するように三方弁１６を切り替え、セプタムパー
ジ流路２０の第３制御弁２１の開度を大きくする。そし
て、プレカラム２６の温度を、試料の高沸点成分以上の
温度に上昇させる。これにより、蒸発した高沸点成分
は、第２流路１５−第２開口１４から下部空間２９に導
入されるキャリヤガスにより上部空間２３−セプタムパ
ージ流路２０を経由して外部に放出される（図２
（ｂ））。キャリヤガスは第１流路１２−第１開口１１
からも上部空間２３に導入され、高沸点成分を含むキャ
リヤガスが逆流して第１流路１２を汚染するのを防止す
る。この第１開口１１から導入されるキャリヤガスが下
部空間２９から上部空間２３へのキャリヤガスの流れを
妨げないように、第１流路１２に設けた流路抵抗ＲF
は、プレカラム２６の流路抵抗ＲPよりも十分大きくす
る。なお、スプリット分析モードからバックフラッシュ
モードに移行する際、キャリヤガスの流量（総流量）は
同一のままとしてもよいし、増加させてもよい。また、
高沸点成分が十分に排出された後は、キャリヤガスの流
量を減少させてもよい。
【図１】 本発明の一実施例であるガスクロマトグラフ
の概略構成図。
の概略構成図。
【図２】 実施例のガスクロマトグラフのスプリット分
析時（ａ）、及びバックフラッシュ時（ｂ）の流路図。
析時（ａ）、及びバックフラッシュ時（ｂ）の流路図。
【図３】 従来のガスクロマトグラフの通常の気化室の
構造を示す断面図。
構造を示す断面図。
【図４】 従来のガスクロマトグラフのプレカット用気
化室の構造を示す断面図。
化室の構造を示す断面図。
１０…気化室 １１…第１開口 １２…第１流路 １３…第１制御弁 １４…第２開口 １５…第２流路 １６…三方弁 １７…第３流路 １８…第２制御弁 １９…圧力センサ ２０…セプタムパージ流路 ２１…第３制御弁 ２２…制御部 ２３…上部空間 ２４…クロマトグラフカラム ２５…ヒータ ２６…プレカラム ２７…温度センサ ２８…セプタム ２９…下部空間
Claims (1)
- 【請求項１】 a)内部が、試料担持体を挟んで上部空間
及び下部空間に分離され、上部空間に試料注入口、セプ
タムパージ開口及び第１開口が、下部空間に第２開口及
びカラム接続口が設けられた気化室と、 b)試料担持体を加熱するヒータと、を備えたガスクロマ
トグラフにおいて、 c)キャリヤガス源と第１開口とを接続し、第１制御弁を
備えた第１流路と、 d)第１制御弁の下流の第１流路と第２開口とを接続し、
三方弁を備えた第２流路と、 e)上記三方弁の第３接続口と外部とを接続し、第２制御
弁を備えた第３流路と、 を有することを特徴とするガスクロマトグラフ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3680598A JPH11218527A (ja) | 1998-02-02 | 1998-02-02 | ガスクロマトグラフ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3680598A JPH11218527A (ja) | 1998-02-02 | 1998-02-02 | ガスクロマトグラフ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11218527A true JPH11218527A (ja) | 1999-08-10 |
Family
ID=12480010
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3680598A Pending JPH11218527A (ja) | 1998-02-02 | 1998-02-02 | ガスクロマトグラフ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11218527A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006077912A1 (ja) * | 2005-01-19 | 2006-07-27 | Saika Technological Institute Foundation | ガスクロマトグラフへの大量注入による分析方法及びその装置 |
| JP2009092672A (ja) * | 2008-12-24 | 2009-04-30 | Shimadzu Corp | ガスクロマトグラフ |
| JP2010203951A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Shimadzu Corp | ガスクロマトグラフ装置 |
| JP2012517008A (ja) * | 2009-02-04 | 2012-07-26 | ジョイント・アナリティカル・システムズ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | ガスクロマトグラフィ用サンプルの調製のための装置および方法 |
| CN111487333A (zh) * | 2019-01-25 | 2020-08-04 | 株式会社岛津制作所 | 气相色谱仪 |
-
1998
- 1998-02-02 JP JP3680598A patent/JPH11218527A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006077912A1 (ja) * | 2005-01-19 | 2006-07-27 | Saika Technological Institute Foundation | ガスクロマトグラフへの大量注入による分析方法及びその装置 |
| JP2009092672A (ja) * | 2008-12-24 | 2009-04-30 | Shimadzu Corp | ガスクロマトグラフ |
| JP4743270B2 (ja) * | 2008-12-24 | 2011-08-10 | 株式会社島津製作所 | ガスクロマトグラフ |
| JP2012517008A (ja) * | 2009-02-04 | 2012-07-26 | ジョイント・アナリティカル・システムズ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | ガスクロマトグラフィ用サンプルの調製のための装置および方法 |
| US8925369B2 (en) | 2009-02-04 | 2015-01-06 | Joint Analytical Systems Gmbh | Device and method for preparing samples for gas chromatography |
| JP2010203951A (ja) * | 2009-03-04 | 2010-09-16 | Shimadzu Corp | ガスクロマトグラフ装置 |
| CN111487333A (zh) * | 2019-01-25 | 2020-08-04 | 株式会社岛津制作所 | 气相色谱仪 |
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