JPH11204416A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JPH11204416A
JPH11204416A JP10007919A JP791998A JPH11204416A JP H11204416 A JPH11204416 A JP H11204416A JP 10007919 A JP10007919 A JP 10007919A JP 791998 A JP791998 A JP 791998A JP H11204416 A JPH11204416 A JP H11204416A
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pump
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 バルブが作動するまでの遅れ時間を短くで
き、吐出ポンプ及びバルブを最適のタイミングで作動さ
せることのできる塗布装置を提供する。 【解決手段】 開閉バルブＡＶやサックバックバルブＳ
Ｖの開閉速度をコントロールするスピードコントローラ
ーとして、小型で応答速度が速い電空レギュレータＥＲ
１，ＥＲ２を用いることにより流路全体を短くし、バル
ブが作動するまでの遅れ時間を短縮した。また、吐出ポ
ンプ１２０から吐出されるレジスト液の圧力を圧力セン
サ１２３で検出し、吐出ポンプ１２０、開閉バルブＡ
Ｖ、及びサックバックバルブＳＶの各装置の作動を制御
装置１８０を介して制御することにより、吐出ポンプ１
２０、開閉バルブＡＶ、及びサックバックバルブＳＶを
最適のタイミングで作動させ、レジストノズル６０先端
のレジスト液の滴りによるパーティクルの生成が防止で
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ハ等の被処理体表面にレジスト液などの塗布液を塗布す
る塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば半導体デバイスの製造プロセスに
おけるフォトリソグラフィー工程においては、半導体ウ
エハ（以下、「ウエハ」という）の表面にレジスト膜を
形成するレジスト塗布処理を行い、レジスト塗布後のウ
エハに対し露光処理をした後、現像処理が行われる。
【０００３】図２２は従来のレジスト塗布装置のレジス
ト液供給機構の概略構成を示した図である。
【０００４】レジスト塗布処理を行う塗布装置について
注目すると、従来の塗布装置では図２２に示したよう
に、レジストタンク２０１に収容されたレジスト液を供
給ポンプ２０２で汲み出して一旦バッファタンク２０３
に収容し、次いでバッファタンク２０３に収容されたレ
ジスト液を吐出ポンプ２０４でノズル２０５に向けて圧
送し、吐出ポンプ２０４とノズル２０５との間に設けた
バルブ２０６でレジスト液の流路を開閉することにより
ノズル２０５からレジスト液を吐出するタイミングを調
節している。
【０００５】ここで用いられるバルブ２０６は圧縮空気
を介して駆動されるエアオペレーションバルブであり、
吸い込み側流路と吐出側流路との間を圧縮空気で作動す
るシリンダーにより開閉する構造を備えており、圧縮空
気の流入／停止の切り換えは圧縮空気を送るエアコンプ
レッサーとバルブ２０６との間に配設されたソレノイド
バルブ２０７により行われる。このソレノイドバルブ２
０７は制御装置２０８からの電気信号に基づいてソレノ
イドを駆動して圧縮空気の流路を開閉する構造となって
いる。
【０００６】また、バルブ２０６の開閉速度はソレノイ
ドバルブ２０７とバルブ２０６との間に配設されたスピ
ードコントローラー２０９により調節される。このスピ
ードコントローラー２０９は圧縮空気の流路の幅をニー
ドルの突出量で調節する構造を有し、ニードルの突出量
は手動で調節するようになっている。
【０００７】ところで、ウエハ上に良好なレジスト膜を
形成するには、高速回転させたウエハ上に所定量のレジ
スト液を滴下し、遠心力でウエハ全体に拡散させるとと
もに余分なレジスト液をウエハ上から除去する必要があ
るため、ウエハの回転と、吐出ポンプ２０４と、バルブ
２０６とを所定のタイミングで作動させる必要がある。
しかしながら、上記従来の塗布装置では制御装置２０
８から作動信号が送られてから実際にバルブ２０６が開
閉動作をするまでには遅れ時間が生じ易い。
【０００８】この遅れ時間はスピードコントローラー２
０９で調節するのであるが、流路の長さやバルブ自体の
個体差などにより変動するため、その調節は非常に難し
い。そのため、ウエハの回転に対してレジスト液の吐出
タイミングがずれ、膜厚変動などの塗膜不良が発生する
という問題があった。
【０００９】また、図２２に示したように、レジストタ
ンク２０１を床下に設置する場合、レジストタンク２０
１から吐出ポンプ２０４までの間にバッファタンク２０
３を設ける必要があるが、バッファタンク２０３を設け
ると、それに伴なって液面センサ２１１も必要になるた
め、コストアップやフットプリントの大型化に繋る、レ
ジスト液が空気に触れる表面積が増大してレジスト液が
変質しやすくなる、という問題がある。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
課題を解決するためになされたもので、バルブが作動す
るまでの遅れ時間を可及的に短くできる塗布装置を提供
することを目的とする。本発明は、吐出ポンプ及びバル
ブを最適のタイミングで作動させることのできる塗布装
置を提供することを目的とする。
【００１１】本発明は開閉バルブとサックバックバルブ
とを最適のタイミングで作動させることのできる塗布装
置を提供することを目的とする。
【００１２】本発明は、コストアップや、レジスト液の
変質を防止することのできる塗布装置を提供することを
目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、請求項１記載の本発明の塗布装置は、被処理体に塗
布液を吐出するノズルと、塗布液を収容する容器と、前
記ノズルと前記容器との間に配設され、容器内の塗布液
をノズルに送る吐出ポンプと、前記吐出ポンプと前記ノ
ズルとの間に配設され、開閉速度を電気的に調節する速
度調節手段を備えたバルブとを具備する。
【００１４】請求項２記載の本発明の塗布装置は、請求
項１記載の塗布装置であって、バルブが開閉バルブとサ
ックバックバルブとからなり、これら開閉バルブとサッ
クバックバルブとの作動を制御する専用の制御部を具備
する。
【００１５】請求項３記載の本発明の塗布装置は、被処
理体に塗布液を吐出するノズルと、塗布液を収容する容
器と、前記ノズルと前記容器との間に配設された吐出ポ
ンプと、前記吐出ポンプ下流側の塗布液の圧力を検出す
る圧力検出手段と、前記吐出ポンプと前記ノズルとの間
に配設され、開閉速度を電気的に調節する速度調節手段
を備えたバルブと、前記検出した塗布液の圧力に基づい
て、前記バルブの作動を制御する制御手段と、を具備す
る。
【００１６】請求項４記載の本発明の塗布装置は、請求
項３記載の塗布装置であって、バルブが開閉バルブとサ
ックバックバルブとからなり、これら開閉バルブとサッ
クバックバルブとの作動を制御する専用の制御部を具備
する。
【００１７】請求項５記載の本発明の塗布装置は、被処
理体に塗布液を吐出するノズルと、塗布液を収容する容
器と、前記ノズルと前記容器との間に配設され、容器内
の塗布液をノズルに送る吐出ポンプと、前記容器と前記
吐出ポンプとの間に配設され、容器内の塗布液を前記吐
出ポンプへ供給する供給ポンプと、前記供給ポンプ下流
側の塗布液の圧力を調節する圧力調節手段と、前記吐出
ポンプの動作に基づいて、供給ポンプの圧力を制御する
制御手段と、を具備する。
【００１８】請求項６記載の本発明の塗布装置は、請求
項５記載の塗布装置であって、バルブが開閉バルブとサ
ックバックバルブとからなり、これら開閉バルブとサッ
クバックバルブとの作動を制御する専用の制御部を具備
する。
【００１９】請求項７記載の本発明の塗布装置は、請求
項５又は６記載の塗布装置であって、供給ポンプの上流
側に閉鎖時でも微量の塗布液を流すスローリーク弁を更
に具備する。
【００２０】請求項８記載の本発明の塗布装置は、被処
理体に塗布液を吐出するノズルと、塗布液を収容する容
器と、前記ノズルと前記容器との間に配設され、容器内
の塗布液をノズルに送る吐出ポンプと、前記容器と前記
吐出ポンプとの間に配設され、容器内の塗布液を前記吐
出ポンプへ供給する供給ポンプと、前記供給ポンプ下流
側の塗布液の圧力を調節する圧力調節手段と、前記吐出
ポンプと前記ノズルとの間に配設され、開閉速度を電気
的に調節する速度調節手段を備えたバルブと、前記吐出
ポンプの動作に基づいて、前記供給ポンプの圧力及びバ
ルブの作動時期を制御する制御手段と、を具備する。
【００２１】請求項９記載の本発明の塗布装置は、請求
項８記載の塗布装置であって、バルブが開閉バルブとサ
ックバックバルブとからなり、これら開閉バルブとサッ
クバックバルブとの作動を制御する専用の制御部を具備
する。
【００２２】請求項１０記載の本発明の塗布装置は、請
求項８又は９記載の塗布装置であって、供給ポンプの上
流側に閉鎖時でも微量の塗布液を流すスローリーク弁を
更に具備する。
【００２３】請求項１１記載の本発明の塗布装置は、被
処理体に塗布液を吐出するノズルと、塗布液を収容する
容器と、前記ノズルと前記容器との間に配設された吐出
ポンプと、前記吐出ポンプ下流側の塗布液の圧力を検出
する圧力検出手段と、前記吐出ポンプと前記ノズルとの
間に配設され、開閉速度を電気的に調節する速度調節手
段を備えたバルブと、前記容器と前記吐出ポンプとの間
に配設され、容器内の塗布液を前記吐出ポンプへ供給す
る供給ポンプと、前記供給ポンプ下流側の塗布液の圧力
を調節する圧力調節手段と、前記圧力検出手段により検
出された圧力に基づいて、前記吐出ポンプ及びバルブの
作動を制御するとともに、前記吐出ポンプの動作に基づ
いて供給ポンプの圧力を制御する制御手段と、を具備す
る。
【００２４】請求項１２記載の本発明の塗布装置は、請
求項１１記載の塗布装置であって、バルブが開閉バルブ
とサックバックバルブとからなり、これら開閉バルブと
サックバックバルブとの作動を制御する専用の制御部を
具備する。
【００２５】請求項１３記載の本発明の塗布装置は、請
求項１１又は１２記載の塗布装置であって、供給ポンプ
の上流側に常時微量の塗布液を流すスローリーク弁を更
に具備する。
【００２６】請求項１記載の塗布装置では、バルブの開
閉速度を調節する手段として電気的に調節する速度調節
手段を用いているので、バルブが作動するまでの遅れ時
間を可及的に短くすることができる。
【００２７】請求項２記載の塗布装置では、請求項１記
載の塗布装置において、バルブとして開閉バルブとサッ
クバックバルブとからなるものを用い、これら開閉バル
ブとサックバックバルブとの作動を制御する専用の制御
部を具備しているので、バルブが作動するまでの遅れ時
間を可及的に短くすることができることに加え、開閉バ
ルブとサックバックバルブとを最適のタイミングで作動
させることができる。請求項３記載の塗布装置では、吐
出ポンプに圧力検出手段を配設し、バルブに開閉速度を
電気的に調節する速度調節手段を配設し、前記圧力検出
手段で検出した吐出ポンプ下流側の塗布液の圧力に基づ
いて、前記バルブの作動を制御するようにしたので、バ
ルブが作動するまでの遅れ時間を可及的に短くすること
ができることに加え、吐出ポンプ及びバルブを最適のタ
イミングで作動させることができる。
【００２８】請求項４記載の塗布装置では、請求項３記
載の塗布装置において、バルブとして開閉バルブとサッ
クバックバルブとからなるものを用い、これら開閉バル
ブとサックバックバルブとの作動を制御する専用の制御
部を具備しているので、バルブが作動するまでの遅れ時
間を可及的に短くすることができることに加え、吐出ポ
ンプ、開閉バルブ及びサックバックバルブを最適のタイ
ミングで作動させることができる。
【００２９】請求項５記載の塗布装置では、供給ポンプ
に圧力調節手段を配設し、吐出ポンプの動作に基づい
て、供給ポンプの圧力を調節するようにしたので、供給
ポンプと吐出ポンプとの間にバッファタンクや液面セン
サが不要となり、コストを低減することができる。ま
た、供給ポンプの圧力を圧力調節手段により高精度に調
節しているので、レジスト液に作用する圧力が不用意に
変動してレジスト液が変質するのを防止することができ
る。
【００３０】請求項６記載の塗布装置では、請求項５記
載の塗布装置において、バルブとして開閉バルブとサッ
クバックバルブとからなるものを用い、これら開閉バル
ブとサックバックバルブとの作動を制御する専用の制御
部を具備しているので、コスト低減やレジスト液の変質
防止に加え、吐出ポンプ、開閉バルブ及びサックバック
バルブを最適のタイミングで作動させることができる。
【００３１】請求項７記載の塗布装置では、請求項５又
は６記載の塗布装置において、供給ポンプの上流側に常
時微量の塗布液を流すスローリーク弁を更に具備してい
るので、レジスト液に作用する圧力の変動を未然に防止
することによりレジスト液の変質をより確実に防止する
ことができる。
【００３２】請求項８記載の塗布装置では、供給ポンプ
にポンプ下流側の塗布液の圧力を調節する圧力調節手段
を配設し、バルブにバルブ開閉速度を電気的に調節する
速度調節手段を配設し、吐出ポンプの動作に基づいて、
前記供給ポンプの圧力及びバルブの作動を制御するよう
にしたので、バルブが作動するまでの遅れ時間を可及的
に短くすることができるとともに、供給ポンプと吐出ポ
ンプとの間にバッファタンクや液面センサが不要となる
ためコストを低減することができる。また、供給ポンプ
の圧力を圧力調節手段により高精度に調節しているので
レジスト液に作用する圧力が不用意に変動してレジスト
液が変質するのを防止することができる。 請求項９記
載の塗布装置では、請求項８記載の塗布装置において、
バルブとして開閉バルブとサックバックバルブとからな
るものを用い、これら開閉バルブとサックバックバルブ
との作動を制御する専用の制御部を具備しているので、
コスト低減やレジスト液の変質防止に加え、吐出ポン
プ、開閉バルブ及びサックバックバルブを最適のタイミ
ングで作動させることができる。
【００３３】請求項１０記載の塗布装置では、供給ポン
プの上流側に常時微量の塗布液を流すスローリーク弁を
更に具備しているので、レジスト液に作用する圧力の変
動を未然に防止することによりレジスト液の変質をより
確実に防止することができる。 請求項１１記載の塗布
装置では、吐出ポンプに圧力検出手段を配設し、バルブ
に開閉速度を電気的に調節する速度調節手段を配設し、
供給ポンプにポンプ下流側の塗布液の圧力を調節する圧
力調節手段を配設し、前記圧力検出手段により検出され
た吐出ポンプ下流側の圧力に基づいて、前記吐出ポンプ
及びバルブの作動を制御するとともに、前記吐出ポンプ
の動作に基づいて供給ポンプの圧力を制御するようにし
たので、吐出ポンプとバルブとを最適のタイミングで高
精度に作動させることができる。
【００３４】また、供給ポンプと吐出ポンプとの間にバ
ッファタンクや液面センサが不要となるためコストを低
減することができ、供給ポンプの圧力を圧力調節手段に
より高精度に調節しているのでレジスト液に作用する圧
力が不用意に変動してレジスト液が変質するのを防止す
ることができる。
【００３５】請求項１２記載の塗布装置では、請求項１
１記載の塗布装置において、バルブとして開閉バルブと
サックバックバルブとからなるものを用い、これら開閉
バルブとサックバックバルブとの作動を制御する専用の
制御部を具備しているので、コスト低減やレジスト液の
変質防止に加え、吐出ポンプ、開閉バルブ及びサックバ
ックバルブを最適のタイミングで作動させることができ
る。
【００３６】請求項１３記載の塗布装置では、請求項１
１又は１２記載の塗布装置において、供給ポンプの上流
側に常時微量の塗布液を流すスローリーク弁を更に具備
しているので、レジスト液に作用する圧力の変動を未然
に防止することによりレジスト液の変質をより確実に防
止することができる。
【００３７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態の詳細を
図面に基づいて説明する。
【００３８】図１は本発明の一実施形態に係るレジスト
塗布ユニット（ＣＯＴ）を備えた半導体ウエハ（以下、
「ウエハ」という）の塗布現像処理システム１全体を示
した平面図である。
【００３９】この塗布現像処理システム１では、被処理
体としてのウエハＷをウエハカセットＣＲで複数枚、例
えば２５枚単位で外部からシステムに搬入・搬出した
り、ウエハカセットＣＲに対してウエハＷを搬入・搬出
したりするためのカセットステーション１０と、塗布現
像工程の中で１枚ずつウエハＷに所定の処理を施す枚葉
式の各種処理ユニットを所定位置に多段配置した処理ス
テーション１１と、この処理ステーション１１に隣接し
て設けられる露光装置（図示せず）との間でウエハＷを
受け渡しするためのインタフェース部１２とが一体的に
接続されている。このカセットステーション１０では、
カセット載置台２０上の位置決め突起２０ａの位置に、
複数個例えば４個までのウエハカセットＣＲが、夫々の
ウエハ出入口を処理ステーション１１側に向けてＸ方向
（図１中の上下方向）一列に載置され、このカセット配
列方向（Ｘ方向）およびウエハカセッ卜ＣＲ内に収納さ
れたウエハＷのウエハ配列方向（Ｚ方向；垂直方向）に
移動可能なウエハ搬送体２１が各ウエハカセットＣＲに
選択的にアクセスする。
【００４０】このウエハ搬送体２１はθ方向に回転自在
であり、後述するように処理ステーション１１側の第３
の処理ユニット群Ｇ3 の多段ユニット部に配設されたア
ライメントユニット（ＡＬＩＭ）やイクステンションユ
ニット（ＥＸＴ）にもアクセスできる。
【００４１】処理ステーション１１には、ウエハ搬送装
置を備えた垂直搬送型の主ウエハ搬送機構２２が設けら
れ、その周りに全ての処理ユニットが１組または複数の
組に亙って多段に配置されている。
【００４２】図２は上記塗布現像処理システム１の正面
図である。
【００４３】第１の処理ユニット群Ｇ1 では、カップＣ
Ｐ内でウエハＷをスピンチャックに載せて所定の処理を
行う２台のスピンナ型処理ユニット、例えばレジスト塗
布ユニット（ＣＯＴ）および現像ユニット（ＤＥＶ）が
下から順に２段に重ねられている。第２の処理ユニット
群Ｇ2 では、２台のスピンナ型処理ユニット、例えばレ
ジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）および現像ユニット（Ｄ
ＥＶ）が下から順に２段に重ねられている。これらレジ
スト塗布ユニット（ＣＯＴ）は、レジスト液の排液が機
構的にもメンテナンスの上でも面倒であることから、こ
のように下段に配置するのが好ましい。しかし、必要に
応じて適宜上段に配置することももちろん可能である。
【００４４】図３は上記塗布現像処理システム１の背面
図である。
【００４５】主ウエハ搬送機構２２では、筒状支持体４
９の内側に、ウエハ搬送装置４６が上下方向（Ｚ方向）
に昇降自在に装備されている。筒状支持体４９はモータ
（図示せず）の回転軸に接続されており、このモータの
回転駆動力によって、前記回転軸を中心としてウエハ搬
送装置４６と一体に回転し、それによりこのウエハ搬送
装置４６はθ方向に回転自在となっている。なお筒状支
持体４９は前記モータによって回転される別の回転軸
（図示せず）に接続するように構成してもよい。ウエハ
搬送装置４６には、搬送基台４７の前後方向に移動自在
な複数本の保持部材４８が配設されており、これらの保
持部材４８は各処理ユニット間でのウエハＷの受け渡し
を可能にしている。
【００４６】また、図１に示すようにこの塗布現像処理
システム１では、５つの処理ユニット群Ｇ1 、Ｇ2 、Ｇ
3 、Ｇ4 、Ｇ5 が配置可能であり、第１および第２の処
理ユニット群Ｇ1 、Ｇ2 の多段ユニットは、システム正
面（図１において手前）側に配置され、第３の処理ユニ
ット群Ｇ3 の多段ユニットはカセットステーション１０
に隣接して配置され、第４の処理ユニット群Ｇ4 の多段
ユニットはインタフェース部１２に隣接して配置され、
第５の処理ユニット群Ｇ5 の多段ユニットは背面側に配
置されることが可能である。
【００４７】図３に示すように、第３の処理ユニット群
Ｇ3 では、ウエハＷを保持台（図示せず）に載せて所定
の処理を行うオーブン型の処理ユニット、例えば冷却処
理を行うクーリングユニット（ＣＯＬ）、レジストの定
着性を高めるためのいわゆる疏水化処理を行うアドヒー
ジョンユニット（ＡＤ）、位置合わせを行うアライメン
トユニット（ＡＬＩＭ）、イクステンションユニット
（ＥＸＴ）、露光処理前の加熱処理を行うプリベーキン
グユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）および露光処理後の加熱
処理を行うポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）
が、下から順に例えば８段に重ねられている。第４の処
理ユニット群Ｇ4 でも、オーブン型の処理ユニット、例
えばクーリングユニット（ＣＯＬ）、イクステンション
・クーリングユニット（ＥＸＴＣＯＬ）、イクステンシ
ョンユニット（ＥＸＴ）、クーリングユニッ卜（ＣＯ
Ｌ）、プリベーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）およ
びポストベーキングユニット（ＰＯＢＡＫＥ）が下から
順に、例えば８段に重ねられている。
【００４８】このように処理温度の低いクーリングユニ
ット（ＣＯＬ）、イクステンション・クーリングユニッ
ト（ＥＸＴＣＯＬ）を下段に配置し、処理温度の高いベ
ーキングユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）、ポストベーキン
グユニット（ＰＯＢＡＫＥ）およびアドヒージョンユニ
ット（ＡＤ）を上段に配置することで、ユニット間の熱
的な相互干渉を少なくすることができる。もちろん、ラ
ンダムな多段配置としてもよい。
【００４９】図１に示すように、インタフェース部１２
では、奥行方向（Ｘ方向）は前記処理ステーション１１
と同じ寸法を有するが、幅方向（Ｙ方向）はより小さな
サイズである。このインタフェース部１２の正面部に
は、可搬性のピックアップカセットＣＲと、定置型のバ
ッファカセットＢＲとが２段に配置され、他方背面部に
は周辺露光装置２３が配設され、さらに中央部にはウエ
ハ搬送体２４が設けられている。このウエハ搬送体２４
は、Ｘ方向、Ｚ方向に移動して両カセットＣＲ、ＢＲお
よび周辺露光装置２３にアクセスする。
【００５０】ウエハ搬送体２４は、θ方向にも回転自在
であり、処理ステーション１１側の第４の処理ユニット
群Ｇ4 の多段ユニットに配設されたイクステンションユ
ニット（ＥＸＴ）や、隣接する露光装置側のウエハ受渡
し台（図示せず）にもアクセスできる。
【００５１】また塗布現像処理システム１では、既述の
如く主ウエハ搬送機構２２の背面側にも図１中破線で示
した第５の処理ユニット群Ｇ5 の多段ユニットを配置で
きるが、この第５の処理ユニット群Ｇ5 の多段ユニット
は、案内レール２５に沿ってＹ方向へ移動可能である。
従って、この第５の処理ユニット群Ｇ5 の多段ユニット
を図示の如く設けた場合でも、前記案内レール２５に沿
って移動することにより、空間部が確保されるので、主
ウエハ搬送機構２２に対して背後からメンテナンス作業
が容易に行える。
【００５２】次に、本実施形態に係るレジスト塗布ユニ
ット（ＣＯＴ）について説明する。図４は本実施形態に
係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の概略断面図であ
る。 このレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）の中央部に
は環状のカップＣΡが配設され、カップＣΡの内側には
スピンチャック５１が配置されている。スピンチャック
５１は真空吸着によってウエハＷを固定保持した状態で
駆動モータ５２によって回転駆動される。
【００５３】駆動モータ５２は、ユニット底板５０に設
けられた開口５０ａに昇降移動可能に配置され、たとえ
ばアルミニウムからなるキャップ状のフランジ部材５３
を介してたとえばエアシリンダからなる昇降駆動手段５
４および昇降ガイド手段５５と結合されている。
【００５４】ウエハＷ表面に塗布液としてのレジスト液
を吐出するためのレジストノズル６０は、レジストノズ
ルスキャンアーム６１の先端部にノズル保持体６２を介
して着脱可能に取り付けられている。このレジストノズ
ルスキャンアーム６１は、ユニット底板５０の上に一方
向（Ｙ方向）に敷設されたガイドレール６３上で水平移
動可能な垂直支持部材６４の上端部に取り付けられてお
り、図示しないＹ方向駆動機構によって垂直支持部材６
４と一体にＹ方向に移動するようになっている。 図５
は、本実施形態に係るレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）
の概略平面図である。
【００５５】レジストノズルスキャンアーム６１は、レ
ジストノズル待機部６５でレジストノズル６０を選択的
に取り付けるためにＹ方向と直角なΧ方向にも移動可能
であり、図示しないΧ方向駆動機構によってΧ方向にも
移動できる。
【００５６】さらに、レジストノズル待機部６５でレジ
ストノズル６０の吐出口が溶媒雰囲気室の口６５ａに挿
入され、中で溶媒の雰囲気に晒されることで、レジスト
ノズル６０先端のレジスト液が固化または劣化しないよ
うになっている。また、複数本のレジストノズル６０，
６０，…が設けられ、レジスト液の種類・粘度に応じて
それらのレジストノズル６０が使い分けられるようにな
っている。
【００５７】さらに、ガイドレール６３上には、レジス
トノズルスキャンアーム６１を支持する垂直支持部材６
４だけでなく、リンスノズルスキャンアーム７０を支持
しＹ方向に移動可能な垂直支持部材７１も設けられてい
る。
【００５８】Ｙ方向駆動機構（図示せず）によってリン
スノズルスキャンアーム７０はカップＣＰの側方に設定
されたリンスノズル待機位置（実線の位置）とスピンチ
ャック５１に設置されている半導体ウエハＷの周辺部の
真上に設定されたリンス液吐出位置（点線の位置）との
間で並進または直線移動するようになっている。
【００５９】図４に示すように、レジストノズル６０
は、レジスト供給管６６を介してレジスト塗布ユニット
（ＣＯＴ）の下方室内に配設されたレジスト液供給機構
に接続されている。
【００６０】図６は本実施形態に係るレジスト塗布ユニ
ット（ＣＯＴ）のレジスト液供給機構の概略構成を示し
た図である。
【００６１】本実施形態に係るレジスト塗布ユニット
（ＣＯＴ）のレジスト液供給機構では、ウエハＷにレジ
スト液を吐出するレジストノズル６０と、レジスト液を
収容するレジストタンク７２との間に、下流側のレジス
ト液の圧力を検出する圧力センサ１２３を備えた吐出ポ
ンプ１２０が配設されている。
【００６２】この吐出ポンプ１２０とレジストノズル６
０との間にはバルブ開閉速度を電気的に調節する電空レ
ギュレータＥＲ１，ＥＲ２を備えたバルブ１４０が配設
されている。また、このレジスト塗布ユニット（ＣＯ
Ｔ）では、上記レジストノズル６０の他にもこれと同様
のレジストノズル６１が併設されており、バルブ開閉速
度を電気的に調節する電空レギュレータＥＲ１´，ＥＲ
２´を備えたバルブ１４１が配設されている。これらレ
ジストノズル６０，６１の切替えは制御部１７０，１７
１のそれぞれに接続された電空レギュレータＥＲ１，Ｅ
Ｒ２及びＥＲ１´，ＥＲ２´の動作を切り換えることに
より行われ、これらの制御は制御装置１８０により統括
的に行われるようになっている。例えば、吐出ポンプ１
２０の作動に連動してバルブ１４０と１４１とを順次開
閉してレジストノズル６０，６１から順次吐出させた
り、或いは、吐出ポンプ１２０の作動に連動してバルブ
１４０と１４１とを同時に開閉してレジストノズル６
０，６１から同時に吐出させたりすることもできる。
【００６３】更にレジストタンク７２と吐出ポンプ１２
０との間には、下流側のレジスト液の圧力を調節する電
空レギュレータＥＲ３を備えた供給ポンプ８０が配設さ
れている。この供給ポンプ８０とレジストタンク７２と
の間にはレジストタンク７２内のレジスト液の液面の高
さを検出する液面センサＬＥが配設されている。
【００６４】上記のうち、供給ポンプ８０の電空レギュ
レータＥＲ３、吐出ポンプ１２０のモータ１２１、エン
コーダ１２２、及び圧力センサ１２３は制御装置１８０
と接続されており、この制御装置１８０により作動が制
御される。また、バルブ１４０の電空レギュレータＥＲ
１，ＥＲ２はバルブの作動時期を制御する専用の制御部
１７０を介して制御装置１８０に接続されている。
【００６５】図７は本実施形態に係るレジスト塗布ユニ
ット（ＣＯＴ）の供給ポンプ８０の概略構成を示した図
である。
【００６６】この供給ポンプ８０では、本体８１の中に
レジスト液を収容するためのポンプ室８２と圧縮空気を
収容するための空気室８３とが設けられており、これら
ポンプ室８２と空気室８３とは、例えばシリコーンゴム
などの弾性材料でできたダイヤフラム８４で仕切り分け
られている。
【００６７】本体８１には吸込側流路８５及び吐出側流
路８６が配設されており、吸込側流路８５はポンプ室８
２と繋っており、一方、吐出側流路８６はダイヤフラム
８４を貫通してポンプ室８２と繋っている。また、空気
室８３の図中上部には空気導入孔８７が設けられてお
り、後述する電空レギュレータＥＲ３を介して図示しな
いエアコンプレッサからの圧縮空気をここから空気室８
３の中に導入するようになっている。また、ダイヤフラ
ム８４はスプリング８８によりポンプ室８２の容積を大
きくする図中右方向に付勢されている。
【００６８】吸込側流路８５、吐出側流路８６のそれぞ
れには後述するスローリーク型のチェッキバルブ８９と
通常のチェッキバルブ９６とが配設されており、これら
のチェッキバルブ８９，９６により、レジスト液は図中
矢印で示した方向に流れるようになっている。
【００６９】この供給ポンプ８０の作動は空気導入孔８
７から空気室８３に圧縮空気を出し入れすることにより
行う。
【００７０】空気室に圧縮空気を入れる前の状態では、
ダイヤフラム８４はスプリング８８により図中右方向に
引っ張られ、図７に示すようにお椀形に膨らんだ状態と
なる。このとき、ポンプ室８２の中はレジスト液で満た
されている。
【００７１】この状態で空気導入孔８７から圧縮空気を
空気室８３に導入すると、空気室８３内の気圧は高ま
り、この気圧により図中左方向に押されてダイヤフラム
８４は縮まり容積を小さくしようとする。このときポン
プ室８２内に収容されたレジスト液には圧力が作用する
が、吸込側のチェッキバルブ８９は閉じたままの状態で
ある。
【００７２】一方、吐出側のチェッキバルブ９６は、吐
出方向の圧力が作用すると弁が開いた状態となるので、
圧力がかかったレジスト液は逃げ場を失って吐出側のチ
ェッキバルブ９６を押し開き、吐出側へ流れ出る。この
吐出の結果ダイヤフラム８４は縮み、ポンプ室８２の容
積は小さくなる。
【００７３】次に空気室８３の圧縮空気を空気導入孔８
７から逃がして空気室８３内の圧力を低下させると、ダ
イヤフラム８４はスプリング８８により図中右方向に引
っ張られてポンプ室８２の容積を増大させる。このと
き、ポンプ室８２には負圧が発生するため、吸込側流路
８５内のレジスト液をポンプ室８２に吸い込む。吸込側
流路８５のチェッキバルブ８９は図中右方向にレジスト
液が移動するときに弁が開くように配設されているの
で、吸込側流路９１から順次レジスト液が供給される。
【００７４】次に通常のチェッキバルブ９６とスローリ
ーク構造を備えたチェッキバルブ８９について説明す
る。
【００７５】図８（ａ）は通常のチェッキバルブ９６の
構造を示す断面図であり、図８（ｂ）は図８（ａ）のチ
ェッキバルブ９６を図中Ａ−Ａ面で切断したものを図中
上方から見た状態を示した図である。
【００７６】この図８に示すように、通常のチェッキバ
ルブ９６では流路９８と流路９９との間に球状の弁体１
０１を収容するためのバルブ室１００が設けられてお
り、バルブ室１００の底には丸孔１００ａが設けられた
底板１００が配設されている。この図８に示すように、
底板１００に丸孔１００ａが設けられており、弁体１０
１がこの丸孔１００ａに当接するときには、弁体１０１
と丸孔１０１ａとの間に隙間は殆ど形成されない。
【００７７】そのため、通常のチェッキバルブ９６では
流路９９から流路９８へと図中上から下へレジスト液が
流れようとすると、弁体１０１がレジスト液に押されて
丸孔１００ａに当接し、弁体１０１と丸孔１００ａとの
間に隙間はほとんど形成されないため、バルブ閉鎖時に
はレジスト液の移動は完全に遮られる。
【００７８】反対に図中下方から上方へレジスト液が流
れる場合には、弁体１０１は図中上方に移動して弁体１
０１と丸孔１００ａとの間に形成される隙間を通って流
れる。そのため、通常のチェッキバルブ９６ではレジス
ト液れは図中矢印で示す方向のみに流れ、反対方向には
流れることはできない。
【００７９】図９（ａ）は上記供給ポンプ８０の吸込側
流路８５に配設されたチェッキバルブ８９の構造を示し
た断面図であり、図９（ｂ）は図９（ａ）のチェッキバ
ルブ８９を図中Ｂ−Ｂ面で切断したものを図中上方から
見た状態を示した図である。このチェッキバルブ８９で
も、上記通常のチェッキバルブ９６と同様に、バルブ本
体９０を貫通する流路９１と流路９２との間に設けられ
たバルブ室９３内に球状の弁体９４が上下動可能に収容
され、バルブ室９３の底に底板９５が設けられている。
【００８０】このチェッキバルブ８９では、吐出側流路
８６に用いられるような通常のチェッキバルブ９６とは
異なり、バルブ閉鎖時でも流路９１と流路９２との間に
微量の流体の流出を許容するスローリーク構造を備えて
いる。
【００８１】即ち、図８に示すように底板９５に設けら
れた丸孔９５ａの半径方向に溝９５ｂが付加されてお
り、弁体９４がこの丸孔９５ａに当接してもこの溝９５
ｂの部分は開いたままの状態に保たれる。
【００８２】そのため、レジスト液に押された弁体９４
が丸孔９５ａに当接しても、弁体９４と丸孔９５ａとの
間には溝９５ｂの部分の小さな隙間が確保されるため、
バルブ閉鎖時でも微量のレジスト液が流路９２から流路
９１へと流れ出る。
【００８３】このように、本実施形態の供給ポンプ８０
では、吸込側流路８５側にスローリーク構造を備えたチ
ェッキバルブ８９を配設したので、より圧力変動を小さ
くすることができる。
【００８４】図１０は本実施形態に係る塗布装置に用い
る電空レギュレータＥＲの構成を模式的に示す図であ
る。
【００８５】この電空レギュレータＥＲでは、空気を通
すための吸気側流路１１０と排気側流路１１１との結合
部分に出力側流路１１２が接続されており、吸気側流路
１１０及び排気側流路１１１のそれぞれには制御装置１
１３からの電気信号を受けて流路を開閉する電磁弁１１
４，１１５が配設されている。吸気側流路１１０はエア
コンプレッサなどの圧縮空気供給源につながれ、出力側
流路１１２はバルブやダイヤフラムポンプなど圧縮空気
で駆動される装置につながれる。一方、出力側流路１１
３には制御装置と接続された圧力センサ１１６が配設さ
れている。
【００８６】この状態で電空レギュレータＥＲを作動さ
せると、電磁弁１１４及び１１５は圧力センサ１１６で
検知された出力側流路１１２の圧力に基づいて、制御装
置１１３によりその作動が制御され、出力側流路１１２
内の圧力が設定値となるように調節される。
【００８７】例えば、出力側流路１１２内の圧力を３．
０ｋｇ／ｃｍ２に設定し、エアコンプレッサから５．０
ｋｇ／ｃｍ２の圧縮空気を吸気側流路１１０に供給する
場合、通常は電磁弁１１５は閉じており、電磁弁１１４
を開けて５．０ｋｇ／ｃｍ２の圧縮空気が出力側流路１
１２に送る。圧力センサ１１６により出力側流路１１２
内の圧力が設定値３．０ｋｇ／ｃｍ２を越えていること
が検出されると、制御装置１１３は直ちに吸気側の電磁
弁１１４を閉鎖させて、出力側流路１１２内の圧力が設
定値３．０ｋｇ／ｃｍ２を大きく上回るのを防止する。
それと同時に排気側の電磁弁１１５を開け、出力側流路
１１２内の圧力を低下させて設定値３．０ｋｇ／ｃｍ２
になった時点で排気側の電磁弁１１５を閉鎖する。
【００８８】一方、出力側流路１１２内の圧力が設定値
より低い場合には、電磁弁１１５を閉じ、電磁弁１１４
を開けて高圧の圧縮空気を導入し、圧力センサ１１６で
検出した圧力が設定値になった時点で電磁弁１１４を閉
じる。
【００８９】この電空レギュレータＥＲでは、吸気側流
路１１０、排気側流路１１１、出力側流路１１２、電磁
弁１１４，１１５及び圧力センサ１１６が僅か１〜数セ
ンチ四方の中にコンパクトに納められており、電磁弁１
１４，１１５及び圧力センサ１１６検知部分までの連続
した流路の総延長は僅か１〜数センチに過ぎない。しか
も、電磁弁１１４，１１５は瞬時に開閉するので作動す
るまでの遅れ時間を殆ど無視することができる。
【００９０】そのため、圧縮空気で駆動される装置、例
えば上記した供給ポンプ８０や後述するバルブ１４０な
どとエアコンプレッサとの間にこの電空レギュレータＥ
Ｒを介在させて駆動空気圧の制御に用いることにより、
駆動空気圧が正確になるように制御したり、作動するま
での遅れ時間を可及的に短くすることができる。
【００９１】次に、本実施形態の塗布装置で用いるポン
プについて説明する。
【００９２】図１１は本実施形態に係る塗布装置に用い
るポンプ１２０の詳細を示した図である。
【００９３】このポンプ１２０はフィルタ一体型ベロー
ズポンプであり、液体を圧送する機構としては、ポンプ
室１２４内の圧力を室内容量を変動させることにより可
変してレジスト液の吸液・吐出を行うチューブフラムポ
ンプを採用している。
【００９４】ポンプ１２０では、ポンプ室１２４は略円
柱状に設けられ、その周囲内壁は、流体（液体）を封入
した例えばＰＦＡからなるチューブフラム１２５の弾性
膜１２５ａにより形成されている。このポンプ室１２４
の周囲内壁面はチューブフラム１２５におけるベローズ
部１２６の伸縮運動によって膨脹・収縮変位し、以てポ
ンプ室１２４の容量と圧が可変される。
【００９５】ベローズ部１２６はモータ例えばステッピ
ングモータ１２１の動力によって高精度に伸縮駆動さ
れ、図示しない制御装置によってその伸縮動作タイミン
グや伸縮速度、つまりレジスト液の吸入・吐出タイミン
グや吸入・吐出速度が設定条件に従って制御される。ま
た、ステッピングモータ１２１にはエンコーダ１２２が
接続され、ステッピングモータ１２１の動作量は制御装
置にフィードバックされる。
【００９６】１２７は光透過型センサであり、ベローズ
部１２６の可動支持部１２８に取り付けられたシャッタ
部材１２８ａと干渉して、例えばベローズ部１２６の伸
縮の初期位置或いは終了位置の検出を行う。その検出信
号は制御装置に出力されることにより、ステッピングモ
ータ１２１の制御に供される。
【００９７】ポンプ室１２４内にレジスト液を導入する
ための吸入配管７３は、その先端部周面に多数穿設され
た孔をフィルタ１２９内に開口せしめた状態でポンプ室
１２４と接続され、一方、吐出配管７５はポンプ室１２
４内のフィルタ外の空間に開口せしめた状態で接続され
ている。すなわち、このフィルタ一体型のベローズポン
プ１２０において、レジスト液はポンプ室１２４内の減
圧による吸入過程でフィルタ１２９を通過してその濾過
が行われ、ポンプ室１２４内の加圧時には既に濾過を終
えたレジスト液が吐出される。
【００９８】なお、吸入配管７３及び吐出配管７５の開
口近傍には逆流防止のためのボール式のチェッキバルブ
（図示せず）が各々設けられている。
【００９９】また、このポンプには吐出時のレジスト液
の圧力を検出するための圧力センサ１２３が配設されて
おり、ここで検出した吐出時のレジスト液の圧力を圧力
センサと接続された制御装置１８０へ送るようになって
いる。
【０１００】チューブフラム１２５に封入される流体と
しては、テフロンオイルやその他のオイル、更には純水
などの液体が望ましい。液体をチューブフラム１２５に
封入することによって、気体を封入したものに比べてチ
ューブフラム１２５内の経年的な容量変化を抑制でき、
ポンプ室１２４周囲内壁面の膨脹・収縮変位特性の長期
安定化を図ることができる。
【０１０１】さらに、このフィルタ一体型のチューブフ
ラムポンプ１２０には、ポンプ室１２４内のフィルタ１
２９外の空間に開口した泡抜き用のベント１３０が設け
られている。
【０１０２】このベント１３０の開口と吐出配管７５の
開口との間には高低差ｈが設けられており、ポンプ室１
２４内で発生した泡は吐出配管７５の開口よりも高い位
置に滞留し、そこから泡抜き用のベント１３０により排
出される。これにより、泡が吐出配管７５内に浸入しに
くくなり、ウエハＷに供給されるレジスト液中の気泡の
量を低減できる。
【０１０３】なお、泡抜き用のベント１３０には図示し
ない弁が接続され、定期的に例えばレジストタンク７２
を交換する都度、この弁を開いてポンプ室１２４内の上
部に溜った泡を排出できる。
【０１０４】図１２はフィルター１２９の取付状態を示
した図である。
【０１０５】また、このようなフィルタ一体型のチュー
ブフラムポンプ１２０は、図１２に示すように、泡抜き
用のベント１３０の開口位置が頂点付近にくるように、
水平レベルに対して傾けて配置することが望ましい。こ
のようにすることで、泡抜き用のベント１３０の開口付
近にポンプ室１２４内の泡１３１が集中し、泡の排出を
効率的に行うことが可能となる。
【０１０６】以下、ポンプ１２０の動作について説明す
る。
【０１０７】このポンプ１２０は吸い込み、圧送の各動
作を交互に行う。
【０１０８】図１３は吸い込み時の吐出ポンプ１２０の
動作を示した図である。
【０１０９】吸い込み時には、ステッピングモータ１２
１を駆動してチューブフラム１２５のベローズ部１２６
を矢印方向へ引き伸ばし、ポンプ室１２４の周囲内壁面
を非膨脹（非突出）状態にしてポンプ室１２４内を大気
圧に対して減圧し、レジストタンク７２内のレジスト液
を吸入配管７３を通じてポンプ室１２４内に吸入する。
このとき、吸入配管７３はその先端部周面に多数穿設さ
れた孔をフィルタ１２９の内部で開口させてあるので、
レジスト液はフィルタ１２９内を通過してポンプ室１２
４に吸入され、これによりレジスト液の濾過が行われ
る。
【０１１０】次いで、ポンプ１２０は吸い込んだレジス
ト液を圧送する。
【０１１１】図１４は圧送時の吐出ポンプ１２０の動作
を示した図である。
【０１１２】一旦吸い込んだレジスト液を圧送するに
は、ステッピングモータ１２１を駆動してチューブフラ
ム１２５のベローズ部１２６を圧縮し、ポンプ室１２４
の周囲内壁面を膨脹突出状態にしてポンプ室１２４内の
容量を下げることによりポンプ室１２４内の圧力を上
げ、ポンプ室１２４内の濾過を終えたレジスト液を吐出
配管７５より吐出する。
【０１１３】このポンプ１２０では上記のように吸い込
み時に濾過が行われ、フィルタ１２９に対して比較的遅
い速度でレジスト液を通過させることができるので、一
旦捕捉したパーティクルやゲル化したレジストをフィル
タ１２９に強く押圧してフィルタ１２９の目を通過させ
てしまったり、フィルタ１２９通過時にレジスト液に気
泡を生じさせることがない。
【０１１４】図１５は本実施形態に係るレジスト塗布ユ
ニット（ＣＯＴ）のバルブ１４０の垂直断面図である。
このバルブ１４０は圧縮空気により駆動されて開閉動作
を行うエアオペレーション型のバルブである。
【０１１５】本実施形態に係るレジスト塗布ユニット
（ＣＯＴ）で用いたバルブ１４０には、レジスト液の流
路を開閉する開閉バルブＡＶに加え、この開閉バルブＡ
Ｖのレジスト液移動方向下流側にサックバックバルブＳ
Ｖが配設されている。
【０１１６】開閉バルブＡＶでは、吸込側流路１４１と
吐出側流路１４２との間にシリンダ１４３が設けられ、
吸込側流路１４１と吐出側流路１４２とはテーパ状の先
端を有する管状のゲート部１４９を介して隣接配置され
ている。
【０１１７】シリンダ１４３内には、ロッド１４４がダ
イヤフラム１４５，１４６を介して図中上下に移動可能
に保持されており、スプリング１４７により図中下方に
付勢されている。このダイヤフラム１４５，１４６は可
撓性材料、例えばシリコーンゴムでできている。
【０１１８】ダイヤフラム１４５の中心部分はロッド１
４４と同じ外径の円柱形の弁体１４５ｂを構成してお
り、その上面はロッド１４４の下端と結合している。こ
の弁体１４５ｂはロッド１４４と共に図中上下に移動
し、この弁体１４５ｂの下端面がゲート部１４９の上面
と接離することにより吸込側流路１４１と吐出側流路１
４２との間を開閉させる。
【０１１９】ダイヤフラム１４５及び１４６のそれぞれ
の外周縁部１４５ａ、１４６ａは開閉バルブＡＶ本体側
に設けられた溝１４３ａ及び１４３ｂにそれぞれ嵌合固
定されている。
【０１２０】シリンダ１４３の上部でダイヤフラム１４
６の下側には空気室１４８が設けられており、この空気
室１４８は操作ポート１４８ａを介して外部と連通し、
この操作ポート１４８ａには既述の電空レギュレータＥ
Ｒ１を介してエアコンプレッサ（図示省略）が接続され
る。
【０１２１】電空レギュレータＥＲ１を作動させず、エ
アコンプレッサからの圧縮空気を空気室１４８に送らな
い状態では、スプリング１４７の押圧力によりロッド１
４４下端部の弁体１４５ｂとゲート部１４９との間は閉
鎖されている。
【０１２２】この開閉バルブＡＶを作動させるには、電
空レギュレータＥＲ１を作動させてエアコンプレッサか
らの圧縮空気を空気室１４８に送り込む。するとダイヤ
フラム１４６が圧縮空気の力で変形しロッド１４４が押
し上げられ、弁体１４５ｂとゲート部１４９との間に隙
間が形成されて吸込側流路１４１と吐出側流路１４２と
の間が連通する。
【０１２３】サックバックバルブＳＶでは、吐出側流路
１４２が開閉バルブＡＶ側から延設されており、吐出側
流路１４２の上部にはシリンダ１５０が設けられてい
る。このシリンダ１５０内にはロッド１５１が図中上下
方向に移動可能に収容されており、ロッド１５１の下方
の一部がシリンダ１５０から吐出側流路１４２の上部に
突き出している。
【０１２４】ロッド１５１の上部にはフランジ状のダイ
ヤフラム１５２が配設されており、ダイヤフラム１５２
の外周縁部１５２ａはサックバックバルブＳＶ本体側に
設けられた溝１５３に嵌合固定されている。このダイヤ
フラム１５２は可撓性材料、例えばシリコーンゴムでで
きている。
【０１２５】ロッド１５１の上側にはスプリング１５４
が配設されており、ロッド１５１を図中下方に付勢して
いる。シリンダ１５０の上部でダイヤフラム１５２の下
側には空気室１５０が設けられており、この空気室１５
０は操作ポート１５０ａを介して外部と連通し、この操
作ポート１５０ａには既述の電空レギュレータＥＲ２
（図示省略）を介してエアコンプレッサ（図示省略）が
接続される。
【０１２６】電空レギュレータＥＲ２をさせず、エアコ
ンプレッサからの圧縮空気を空気室１５０に送らない状
態では、スプリング１５４の押圧力によりロッド１５１
の下部は下流側流路１４２内に突出している。
【０１２７】このサックバックバルブＳＶを作動させる
には、電空レギュレータＥＲ２を作動させてエアコンプ
レッサからの圧縮空気を電空レギュレータＥＲ２を介し
て空気室１５０に送り込む。するとダイヤフラム１５４
が圧縮空気の力で変形しロッド１５１が押し上げられ、
ロッド１５１の下部はシリンダ１５０内に引き込まれ
る。
【０１２８】このとき、開閉バルブＡＶは閉じているの
で、ロッド１５１の引き込みにより下流側流路１４２内
のレジスト液に作用する負圧は、バルブ１４０の更に下
流側のレジスト液に作用し、レジストノズル６０先端の
レジスト液面をレジストノズル６０内部に引き込む。
【０１２９】次に上記のように構成された塗布現像処理
システム１の動作を説明する。
【０１３０】本実施形態のレジスト塗布ユニット（ＣＯ
Ｔ）を備えた塗布現像処理システム１を起動すると、ウ
エハカセットＣＲからウエハＷが取り出され、主ウエハ
搬送機構２２により搬送されてレジスト塗布ユニット
（ＣＯＴ）内のスピンチャック５１に吸着保持された
後、以下のレジスト塗布操作が開始される。
【０１３１】まず、スピンチャック５１が回転してウエ
ハＷを回転させ始めると同時に図示しないシンナー吐出
機構が作動してウエハＷのほぼ中心真上の位置からシン
ナーをウエハＷに吐出する。滴下されたシンナーは遠心
力によりウエハＷ表面全体に広がり、余分のシンナーは
遠心力で振り切られ除去される。
【０１３２】次いで、レジストノズルスキャンアーム６
１が移動してレジストノズル６０をウエハＷのほぼ中心
の真上の位置まで移動させる。
【０１３３】一方、スピンチャック５１の回転開始に先
立ち、吐出ポンプ１２０においてレジスト液の吸い込み
動作を行う。吐出ポンプ１２０の吸い込み動作は、吐出
ポンプ１２０の吸い込み動作と供給ポンプ８０の吐出動
作とを同期させて行う。具体的には、吐出ポンプ１２０
のベローズ１２６の容積の増加速度やステッピングモー
タ１２１の駆動量などから吐出ポンプ１２０の吸い込み
速度と吸い込み量とを割り出し、これと等しい速度でレ
ジスト液を吐出ポンプ１２０へ供給するように電空レギ
ュレータＥＲ３を制御して供給ポンプ８０を駆動させ
る。
【０１３４】次に、ウエハＷを保持したスピンチャック
５１を高速で回転させると同時に、このスピンチャック
５１の回転と同期して、吐出ポンプ１２０及び開閉バル
ブＡＶを所定のタイミングで作動させてウエハＷのほぼ
中心の真上で停止したレジストノズル６０から所定量の
レジスト液を滴下する。
【０１３５】滴下されたレジスト液は前記シンナーと同
様に遠心力によりウエハＷ表面全体に広がり、余分のレ
ジスト液は遠心力で振り切られ除去される。次いで、ウ
エハＷはレジスト塗布ユニット（ＣＯＴ）から取り出さ
れ、後続の処理ユニット、例えば乾燥ユニットへと搬送
される。
【０１３６】ここで、本実施形態に係るレジスト塗布ユ
ニット（ＣＯＴ）のレジスト液供給機構の供給ポンプ８
０、吐出ポンプ１２０、開閉バルブＡＶ、サックバック
バルブＳＶ、及びレジストノズル６０相互間の動作につ
いてそれぞれのタイミングチャートに沿って説明する。
【０１３７】図１６は供給ポンプ８０、吐出ポンプ１２
０、開閉バルブＡＶ、及びサックバックバルブＳＶのそ
れぞれの動作のタイミングチャートを示した図であり、
図１７はレジストノズル６０からレジスト液を吐出する
前、吐出ポンプ１２０の吸込動作時の開閉バルブＡＶ、
サックバックバルブＳＶ及びレジストノズル６０のそれ
ぞれの内部状態を模式的に示した図である。
【０１３８】チャートＰ１において時間ｔｌからｔ４に
かけて吐出ポンプ１２０の圧力は負になっており、吸い
込み動作を表している。時間ｔｌで吐出ポンプ１２０の
駆動を開始し時間ｔ２までに規定の吸い込み速度まで加
速する。その後時間ｔ３まで一定の速度で吸い込み、時
間ｔ３から減速して時間ｔ４で停止する。この時間ｔｌ
〜ｔ４までの吐出ポンプ１２０の吸い込み動作に対し、
供給ポンプ８０にはチャートＰ２に示したような吐出動
作をさせる。即ち、時間ｔｌで供給ポンプ８０の駆動を
開始し時間ｔ２までに規定の吐出速度まで加速する。そ
の後時間ｔ３まで一定の速度で吐出させ、時間ｔ３から
減速して時間ｔ４で停止する。このような供給ポンプ８
０の動作は全て電空レギュレータＥＲ３から供給ポンプ
８０に送る圧縮空気の圧力を制御することにより行う。
【０１３９】図１７は時間ｔｌ〜ｔ４の動作を模式的に
示した図である。
【０１４０】時間ｔｌ〜ｔ４では、図１６に示すよう
に、供給ポンプ８０と吐出ポンプのみが作動して吸い込
み動作を行い、開閉バルブＡＶ及びサックバックバルブ
ＳＶのいずれも作動しない。即ち、図１７に示したよう
に、弁体１４５ｂとゲート部１４９との間は閉鎖されて
おり、またサックバックバルブＳＶのロッド１５１は流
路１４２側に突出した状態に保たれる。この状態でレジ
ストノズル６０先端のレジスト液液面は図中上方に凹ん
だ安定状態にあり、レジストノズル６０先端からレジス
ト液が滴り落ちることはない。
【０１４１】次いで、時間ｔ４を過ぎた後ｔ５の少し手
前からスピンチャック５１の回転を開始するとともに吐
出ポンプ１２０の吐出動作を開始させる。このとき、吐
出ポンプ１２０の吐出側の圧力は圧力センサ１２３で検
出しており、スピンチャック５１の回転数とともに制御
装置１８０で監視している。そしてスピンチャック５１
の回転数が規定の回転数（最高値）となる時間ｔ５で吐
出側の圧力が規定の値となるように吐出ポンプ１２０の
駆動を制御する。
【０１４２】時間ｔ５になりスピンチャック５１の回転
速度が最高になった時点でレジストノズル６０からウエ
ハＷ上へレジスト液を吐出させる。
【０１４３】図１８は開閉バルブＡＶが開放されてレジ
ストノズル６０からレジスト液が高速回転するウエハＷ
上へ吐出される状態を模式的に示した図である。
【０１４４】開閉バルブＡＶを開放するには、開閉バル
ブＡＶの操作ポート１４８ａとエアコンプレッサ（図示
省略）との間で開閉バルブＡＶ近傍に配設された電空レ
ギュレータＥＲ１に制御装置１８０から電気信号を送る
ことにより行う。
【０１４５】電気信号を受信した電空レギュレータＥＲ
１が直ちに所定の圧力の圧縮空気を空気室１４８に送り
込むと、圧縮空気はダイヤフラム１４６を変形させロッ
ド１４４を弁体１４５ｂと共に図中上方に持ち上げ、弁
体１４５ｂとゲート部１４９との間に隙間を形成させ、
吸い込み側流路１４１と吐出側流路１４２との間を連通
させる。吸い込み側流路１４１には吐出ポンプ１２０か
らのレジスト液が圧送されるので、レジスト液は弁体１
４５ｂとゲート部１４９との間の隙間を通って吐出側流
路１４２へと流れ込み、流路７８及びレジストノズル６
０を経てウエハＷへと滴下される。なお、この間もサッ
クバックバルブＳＶのロッド１５１は流路１４２側に突
出した状態に保たれている。
【０１４６】次に、時間ｔ６になると吐出ポンプ１２０
の吐出動作が停止すると共に開閉バルブＡＶが閉鎖され
る。
【０１４７】図１６のチャートＰ１に示したように、吐
出ポンプ１２０の吐出動作が時間ｔ６で瞬間的に停止す
るのに対し、開閉バルブＡＶの閉鎖は時間ｔ６からｔ７
にかけて遅い速度で行われる。開閉バルブＡＶの閉鎖速
度をこのように遅くするのは、レジストノズル６０から
レジスト液が滴ってパーティクルを形成するのを防止す
るためである。
【０１４８】このような開閉バルブＡＶの閉鎖速度の制
御は、開閉バルブＡＶの空気室１４８に繋れた電空レギ
ュレータＥＲ１を制御してその出力側流路に出力される
圧縮空気の空気圧を例えば、数１０ミリ秒の間に５ｋｇ
／ｃｍ２から３ｋｇ／ｃｍ２へと徐々に低下させること
により行う。
【０１４９】図１９は吐出ポンプ１２０を停止させた直
後の内部状態を模式的に示した図である。
【０１５０】時間ｔ５〜ｔ６の間に所定量のレジスト液
を吐出させた後、電空レギュレータＥＲ１を介して空気
室１４８に送られる圧縮空気の圧力が低下すると、スプ
リング１４７の押圧力によりロッド１４４とその下部の
弁体１４５ｂがゲート部１４９に当接して吸い込み側流
路１４１と吐出側流路１４２との間を閉鎖する。その結
果、レジストノズル６０先端ではレジスト液の滴下は一
応停止するが、ゲート部１４９からレジストノズル６０
先端までの流路７８はレジスト液で満たされている。そ
のため、図１９に示すようにレジストノズル６０先端の
液面はレジスト液の重量で図中下方に凸型に突出した状
態となる。
【０１５１】更に時間ｔ７から僅かな時間が経過して時
間ｔ８になると、サックバックバルブＳＶの作動を開始
させる。
【０１５２】図２０は時間ｔ８での開閉バルブＡＶ、サ
ックバックバルブＳＶ及びレジストノズル６０のそれぞ
れの内部状態を模式的に示した図である。
【０１５３】開閉バルブＡＶ閉鎖後から所定の微小時間
が経過して時間ｔ８になると、電空レギュレータＥＲ２
を介して空気室１５５へ圧縮空気が送り込まれる。圧縮
空気はダイヤフラム１５２を変形させてロッド１５１を
図中上方に持ち上げる。これにつれてロッド１５１の下
端部が図中上方のシリンダ１５０内に引き込まれると、
ゲート部１４９からレジストノズル６０までの流路７８
内の容積が増大してこの流路７８内に保持されるレジス
ト液に負圧が作用する。
【０１５４】開閉バルブＡＶのゲート部１４９と弁体１
４５ｂとの間は閉鎖されているので、負圧はレジストノ
ズル６０先端の液面に作用し、この液面をレジストノズ
ル６０の内部に引き込み、図１６に示すように図中上方
に凹んだ状態になる。
【０１５５】このように、本実施形態に係るレジスト塗
布ユニット（ＣＯＴ）では、開閉バルブＡＶやサックバ
ックバルブＳＶの開閉速度をコントロールするスピード
コントローラーとして、小型で応答速度が速い電空レギ
ュレータＥＲ１，ＥＲ２を用い、各バルブの近傍に配設
しているので、流路全体を短くすることができ、各バル
ブが作動するまでの遅れ時間を可及的に短くすることが
できる。
【０１５６】また、本実施形態のレジスト塗布ユニット
（ＣＯＴ）では、作動までの遅れ時間が殆どなく、バル
ブの開閉速度を高精度かつ可変自在にコントロールでき
る電空レギュレータＥＲ１，ＥＲ２を採用するととも
に、吐出ポンプ１２０から吐出されるレジスト液の圧力
を圧力センサ１２３でモニタリングして、吐出ポンプ１
２０、開閉バルブＡＶ、及びサックバックバルブＳＶの
各装置の作動を制御装置１８０を介して制御しているの
で、これら吐出ポンプ１２０、開閉バルブＡＶ、及びサ
ックバックバルブＳＶを最適のタイミングで作動させる
ことができ、レジストノズル６０先端のレジスト液の滴
りによるパーティクルの生成を未然に防止することがで
きる。
【０１５７】また、本実施形態のレジスト塗布ユニット
では、開閉バルブＡＶとサックバックバルブＳＶとの作
動時期を制御する専用の制御部１７０を具備しているの
で、雑信号に惑わされることなく、開閉バルブＡＶとサ
ックバックバルブＳＶとを最適のタイミングで正確に作
動させることができる。
【０１５８】更に、本実施形態のレジスト塗布ユニット
では、吐出ポンプ１２０から吐出されるレジスト液の圧
力を圧力センサ１２３でモニタリングする一方、供給ポ
ンプ８０の空気室８３側に電空レギュレータＥＲ３を配
設し、吐出ポンプ１２０と供給ポンプ８０とを関連づけ
て作動させることにより、流路内のレジスト液に作用す
る圧力の変動を防止した結果、レジスト液の変質を防止
することができる。
【０１５９】加えて、バッファタンクを省略でき、液面
センサの数を減らすことができるので、レジスト液が空
気に触れる機会が減ってレジスト液の変質を防止できる
とともに、バッファタンクと液面センサが不要になる
分、コストを低下させることができる。
【０１６０】更に、供給ポンプ８０の上流側に常時微量
の塗布液を流すスローリーク型のチェッキバルブ８９を
配設しているので、レジスト液に作用する圧力の変動が
未然に防止されることによりレジスト液の変質をより確
実に防止することができる。また既述したように、フィ
ルタ１２９を内蔵するチューブフラム式のベローズポン
プ１２０の使用により気泡の発生が防止される。従っ
て、開閉バルブＡＶ、サックバックバルブＳＶ、及び上
記ポンプ１２０の効果が相俟って、より確実に気泡の発
生が防止され、膜厚不良が起きにくくなり、歩留まりが
向上するという効果が得られる。
【０１６１】なお、本発明は上述した実施形態には限定
されない。
【０１６２】例えば、上記実施形態では、開閉バルブや
サックバックバルブのスピードコントローラーとして電
空レギュレータＥＲを備えたバルブを用いたが、電気的
に作動する駆動源であって遅れ時間をほとんど無視でき
るものであれば良く、例えばサーボモータや電磁ソレノ
イドにより開閉動作をするバルブを用いることも可能で
ある。
【０１６３】また、吐出ポンプ１２０としてフィルター
１２９を内蔵したポンプを用いたが、従来から知られて
いる、フィルターを内蔵しないポンプも使用できること
は言うまでもない。
【０１６４】更に、図２１に示すようにそれぞれ別個独
立に構成された吐出ポンプ１２０とフィルター１２９と
を配管で接続して使用することも可能である。
【０１６５】また、本実施形態では、レジスト塗布装置
に本発明を適用した場合について説明したが、本発明
は、例えば反射防止膜をウエハに塗布形成する装置な
ど、その他の処理液をウエハに塗布する塗布装置に適用
できることは言うまでもない。
【０１６６】さらに、本発明は、半導体ウエハ以外の基
板、例えばＬＣＤ基板にレジスト液やその他の処理液を
塗布する装置にも適用可能である。
【０１６７】
【発明の効果】以上詳述したように、請求項１記載の本
発明によれば、バルブの開閉速度を調節する手段として
電気的に調節する速度調節手段を用いているので、バル
ブが作動するまでの遅れ時間を可及的に短くすることが
できる。
【０１６８】請求項２記載の本発明によれば、請求項１
記載の塗布装置において、バルブとして開閉バルブとサ
ックバックバルブとからなるものを用い、これら開閉バ
ルブとサックバックバルブとの作動を制御する専用の制
御部を具備しているので、バルブが作動するまでの遅れ
時間を可及的に短くすることができることに加え、開閉
バルブとサックバックバルブとを最適のタイミングで作
動させることができる。 請求項３記載の本発明によれ
ば、吐出ポンプに圧力検出手段を配設し、バルブに開閉
速度を電気的に調節する速度調節手段を配設し、前記圧
力検出手段で検出した吐出ポンプ下流側の塗布液の圧力
に基づいて、前記バルブの作動を制御するようにしたの
で、バルブが作動するまでの遅れ時間を可及的に短くす
ることができることに加え、吐出ポンプ及びバルブを最
適のタイミングで作動させることができる。
【０１６９】請求項４記載の本発明によれば、請求項３
記載の塗布装置において、バルブとして開閉バルブとサ
ックバックバルブとからなるものを用い、これら開閉バ
ルブとサックバックバルブとの作動を制御する専用の制
御部を具備しているので、バルブが作動するまでの遅れ
時間を可及的に短くすることができることに加え、吐出
ポンプ、開閉バルブ及びサックバックバルブを最適のタ
イミングで作動させることができる。
【０１７０】請求項５記載の本発明によれば、供給ポン
プに圧力調節手段を配設し、吐出ポンプの動作に基づい
て、供給ポンプの圧力を調節するようにしたので、供給
ポンプと吐出ポンプとの間にバッファタンクや液面セン
サが不要となり、コストを低減することができる。ま
た、供給ポンプの圧力を圧力調節手段により高精度に調
節しているので、レジスト液に作用する圧力が不用意に
変動してレジスト液が変質するのを防止することができ
る。
【０１７１】請求項６記載の本発明によれば、請求項５
記載の塗布装置において、バルブとして開閉バルブとサ
ックバックバルブとからなるものを用い、これら開閉バ
ルブとサックバックバルブとの作動を制御する専用の制
御部を具備しているので、コスト低減やレジスト液の変
質防止に加え、吐出ポンプ、開閉バルブ及びサックバッ
クバルブを最適のタイミングで作動させることができ
る。
【０１７２】請求項７記載の本発明によれば、請求項５
又は６記載の塗布装置において、供給ポンプの上流側に
常時微量の塗布液を流すスローリーク弁を更に具備して
いるので、レジスト液に作用する圧力の変動を未然に防
止することによりレジスト液の変質をより確実に防止す
ることができる。
【０１７３】請求項８記載の本発明によれば、供給ポン
プにポンプ下流側の塗布液の圧力を調節する圧力調節手
段を配設し、バルブにバルブ開閉速度を電気的に調節す
る速度調節手段を配設し、吐出ポンプの動作に基づい
て、前記供給ポンプの圧力及びバルブの作動を制御する
ようにしたので、バルブが作動するまでの遅れ時間を可
及的に短くすることができるとともに、供給ポンプと吐
出ポンプとの間にバッファタンクや液面センサが不要と
なるためコストを低減することができる。また、供給ポ
ンプの圧力を圧力調節手段により高精度に調節している
のでレジスト液に作用する圧力が不用意に変動してレジ
スト液が変質するのを防止することができる。
【０１７４】請求項９記載の本発明によれば、請求項８
記載の塗布装置において、バルブとして開閉バルブとサ
ックバックバルブとからなるものを用い、これら開閉バ
ルブとサックバックバルブとの作動を制御する専用の制
御部を具備しているので、コスト低減やレジスト液の変
質防止に加え、吐出ポンプ、開閉バルブ及びサックバッ
クバルブを最適のタイミングで作動させることができ
る。
【０１７５】請求項１０記載の本発明によれば、供給ポ
ンプの上流側に常時微量の塗布液を流すスローリーク弁
を更に具備しているので、レジスト液に作用する圧力の
変動を未然に防止することによりレジスト液の変質をよ
り確実に防止することができる。
【０１７６】請求項１１記載の本発明によれば、吐出ポ
ンプに圧力検出手段を配設し、バルブに開閉速度を電気
的に調節する速度調節手段を配設し、供給ポンプにポン
プ下流側の塗布液の圧力を調節する圧力調節手段を配設
し、前記圧力検出手段により検出された吐出ポンプ下流
側の圧力に基づいて、前記吐出ポンプ及びバルブの作動
を制御するとともに、前記吐出ポンプの動作に基づいて
供給ポンプの圧力を制御するようにしたので、吐出ポン
プとバルブとを最適のタイミングで高精度に作動させる
ことができる。
【０１７７】また、供給ポンプと吐出ポンプとの間にバ
ッファタンクや液面センサが不要となるためコストを低
減することができ、供給ポンプの圧力を圧力調節手段に
より高精度に調節しているのでレジスト液に作用する圧
力が不用意に変動してレジスト液が変質するのを防止す
ることができる。
【０１７８】請求項１２記載の本発明によれば、請求項
１１記載の塗布装置において、バルブとして開閉バルブ
とサックバックバルブとからなるものを用い、これら開
閉バルブとサックバックバルブとの作動を制御する専用
の制御部を具備しているので、コスト低減やレジスト液
の変質防止に加え、吐出ポンプ、開閉バルブ及びサック
バックバルブを最適のタイミングで作動させることがで
きる。
【０１７９】請求項１３記載の本発明によれば、請求項
１１又は１２記載の塗布装置において、供給ポンプの上
流側に常時微量の塗布液を流すスローリーク弁を更に具
備しているので、レジスト液に作用する圧力の変動を未
然に防止することによりレジスト液の変質をより確実に
防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニット
を備えた塗布現像処理システムの平面図である。
【図２】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニット
を備えた塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニット
を備えた塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニット
の概略断面図である。
【図５】本発明の実施形態に係るレジスト塗布ユニット
の概略平面図である。
【図６】本発明の実施形態に係るレジスト液供給機構の
概略構成を示した図である。
【図７】本発明の実施形態に係る供給ポンプの概略構成
を示した図である。
【図８】本発明の実施形態に係るチェッキバルブの断面
図である。
【図９】通常のチェッキバルブの構造を示す断面図であ
る。
【図１０】本発明の実施形態に係る電空レギュレータの
構成を示す模式図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る吐出ポンプの詳細を
示した図である。
【図１２】本発明の実施形態に係るフィルターの取付状
態を示した図である。
【図１３】本発明の実施形態に係る吐出ポンプの吸い込
み時の動作を示した図である。
【図１４】本発明の実施形態に係る吐出ポンプの圧送時
の動作を示した図である。
【図１５】本実施形態に係るバルブの垂直断面図であ
る。
【図１６】本実施形態に係るレジスト液供給機構のタイ
ミングチャートである。
【図１７】本実施形態に係る開閉バルブ、サックバック
バルブ及びレジストノズルの内部状態を示した模式図で
ある。
【図１８】本実施形態に係る開閉バルブ、サックバック
バルブ及びレジストノズルの内部状態を示した模式図で
ある。
【図１９】本実施形態に係る開閉バルブ、サックバック
バルブ及びレジストノズルの内部状態を示した模式図で
ある。
【図２０】本実施形態に係る開閉バルブ、サックバック
バルブ及びレジストノズルの内部状態を示した模式図で
ある。
【図２１】それぞれ独立して構成された吐出ポンプとフ
ィルタとを配管で接続した状態を示した図である。
【図２２】従来のレジスト液供給機構の概略構成を示し
た図である。
【符号の説明】
Ｗ ウエハ ６０ レジストノズル ７２ レジストタンク １２０ 吐出ポンプ ＥＲ１〜３ 電空レギュレータ ＡＶ 開閉バルブ ＳＶ サックバックバルブ １２３ 圧力センサ １８０ 制御手段 ８０ 供給ポンプ ８９ スローリーク型チェッキバルブ 出願人 東京エレクトロン株式会社代理人 弁理士 須
山 佐一
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 葉瀬川 泉 熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地 東京 エレクトロン九州株式会社熊本事業所内

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 被処理体に塗布液を吐出するノズルと、 塗布液を収容する容器と、 前記ノズルと前記容器との間に配設され、容器内の塗布
    液をノズルに送る吐出ポンプと、 前記吐出ポンプと前記ノズルとの間に配設され、開閉速
    度を電気的に調節する速度調節手段を備えたバルブと、
    を具備することを特徴とする塗布装置。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の塗布装置であって、バル
    ブが開閉バルブとサックバックバルブとからなり、これ
    ら開閉バルブとサックバックバルブとの作動を制御する
    専用の制御部を具備することを特徴とする塗布装置。
  3. 【請求項３】 被処理体に塗布液を吐出するノズルと、 塗布液を収容する容器と、 前記ノズルと前記容器との間に配設された吐出ポンプ
    と、 前記吐出ポンプ下流側の塗布液の圧力を検出する圧力検
    出手段と、 前記吐出ポンプと前記ノズルとの間に配設され、開閉速
    度を電気的に調節する速度調節手段を備えたバルブと、 前記検出した塗布液の圧力に基づいて、前記バルブの作
    動を制御する制御手段と、を具備することを特徴とする
    塗布装置。
  4. 【請求項４】 請求項３記載の塗布装置であって、バル
    ブが開閉バルブとサックバックバルブとからなり、これ
    ら開閉バルブとサックバックバルブとの作動を制御する
    専用の制御部を具備することを特徴とする塗布装置。
  5. 【請求項５】 被処理体に塗布液を吐出するノズルと、
    塗布液を収容する容器と、 前記ノズルと前記容器との間に配設され、容器内の塗布
    液をノズルに送る吐出ポンプと、 前記容器と前記吐出ポンプとの間に配設され、容器内の
    塗布液を前記吐出ポンプへ供給する供給ポンプと、 前記供給ポンプ下流側の塗布液の圧力を調節する圧力調
    節手段と、 前記吐出ポンプの動作に基づいて、供給ポンプの圧力を
    制御する制御手段と、を具備することを特徴とする塗布
    装置。
  6. 【請求項６】 請求項５記載の塗布装置であって、バル
    ブが開閉バルブとサックバックバルブとからなり、これ
    ら開閉バルブとサックバックバルブとの作動を制御する
    専用の制御部を具備することを特徴とする塗布装置。
  7. 【請求項７】 請求項５又は６記載の塗布装置であっ
    て、供給ポンプの上流側に閉鎖時でも微量の塗布液を流
    すスローリーク弁を更に具備することを特徴とする塗布
    装置。
  8. 【請求項８】 被処理体に塗布液を吐出するノズルと、 塗布液を収容する容器と、 前記ノズルと前記容器との間に配設され、容器内の塗布
    液をノズルに送る吐出ポンプと、 前記容器と前記吐出ポンプとの間に配設され、容器内の
    塗布液を前記吐出ポンプへ供給する供給ポンプと、 前記供給ポンプ下流側の塗布液の圧力を調節する圧力調
    節手段と、 前記吐出ポンプと前記ノズルとの間に配設され、開閉速
    度を電気的に調節する速度調節手段を備えたバルブと、 前記吐出ポンプの動作に基づいて、前記供給ポンプの圧
    力及びバルブの作動を制御する制御手段と、を具備する
    ことを特徴とする塗布装置。
  9. 【請求項９】 請求項８記載の塗布装置であって、バル
    ブが開閉バルブとサックバックバルブとからなり、これ
    ら開閉バルブとサックバックバルブとの作動時期を制御
    する専用の制御部を具備することを特徴とする塗布装
    置。
  10. 【請求項１０】 請求項８又は９記載の塗布装置であっ
    て、供給ポンプの上流側に閉鎖時でも微量の塗布液を流
    すスローリーク弁を更に具備することを特徴とする塗布
    装置。
  11. 【請求項１１】 被処理体に塗布液を吐出するノズル
    と、 塗布液を収容する容器と、 前記ノズルと前記容器との間に配設された吐出ポンプ
    と、 前記吐出ポンプ下流側の塗布液の圧力を検出する圧力検
    出手段と、 前記吐出ポンプと前記ノズルとの間に配設され、開閉速
    度を電気的に調節する速度調節手段を備えたバルブと、 前記容器と前記吐出ポンプとの間に配設され、容器内の
    塗布液を前記吐出ポンプへ供給する供給ポンプと、 前記供給ポンプ下流側の塗布液の圧力を調節する圧力調
    節手段と、 前記圧力検出手段により検出された圧力に基づいて、前
    記吐出ポンプ及びバルブの作動を制御するとともに、前
    記吐出ポンプの動作に基づいて供給ポンプの圧力を制御
    する制御手段と、を具備することを特徴とする塗布装
    置。
  12. 【請求項１２】 請求項１１記載の塗布装置であって、
    バルブが開閉バルブとサックバックバルブとからなり、
    これら開閉バルブとサックバックバルブとの作動を制御
    する専用の制御部を具備することを特徴とする塗布装
    置。
  13. 【請求項１３】 請求項１１又は１２記載の塗布装置で
    あって、供給ポンプの上流側に常時微量の塗布液を流す
    スローリーク弁を更に具備することを特徴とする塗布装
    置。
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