JPH11201863A - パターン検査装置 - Google Patents
パターン検査装置Info
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- JPH11201863A JPH11201863A JP190798A JP190798A JPH11201863A JP H11201863 A JPH11201863 A JP H11201863A JP 190798 A JP190798 A JP 190798A JP 190798 A JP190798 A JP 190798A JP H11201863 A JPH11201863 A JP H11201863A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶表示板のＩＴＯ基板など、パターニング
された基板におけるパターン欠損を容易に検出すること
ができるパターン検査装置を得る。 【解決手段】 パターン検査装置１０がカメラ１１と画
像処理装置１４と演算装置１５とを有し、カメラ１１が
少なくともパターン３の縁８の一部を含むパターン画像
を視野内に写し込み、画像処理装置１４が、カメラの視
野をマトリクスに分割しこのマトリクスの各画素をパタ
ーン画像の存非によって２値化して対応する行列図形を
生成し、演算装置１５がこの行列図形の変化から判断し
て欠損を検出する。
された基板におけるパターン欠損を容易に検出すること
ができるパターン検査装置を得る。 【解決手段】 パターン検査装置１０がカメラ１１と画
像処理装置１４と演算装置１５とを有し、カメラ１１が
少なくともパターン３の縁８の一部を含むパターン画像
を視野内に写し込み、画像処理装置１４が、カメラの視
野をマトリクスに分割しこのマトリクスの各画素をパタ
ーン画像の存非によって２値化して対応する行列図形を
生成し、演算装置１５がこの行列図形の変化から判断し
て欠損を検出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示板のＩＴ
Ｏ基板など、パターニングされた基板におけるパターン
欠損を容易に検出することができるパターン検査装置に
関する。
Ｏ基板など、パターニングされた基板におけるパターン
欠損を容易に検出することができるパターン検査装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示板の基板は通常、透明基板にフ
ォトエッチング法等によってＩＴＯ薄膜のパターンが形
成されている。このパターンは、基板の画像表示部では
多数本の帯状薄膜が並行縞状に配列されていて、そのパ
ターンの縁は直線になっている。また基板の周辺部で
は、液晶駆動回路と連結するための配線として縁が直線
状ではない異形のパターンが形成されている。
ォトエッチング法等によってＩＴＯ薄膜のパターンが形
成されている。このパターンは、基板の画像表示部では
多数本の帯状薄膜が並行縞状に配列されていて、そのパ
ターンの縁は直線になっている。また基板の周辺部で
は、液晶駆動回路と連結するための配線として縁が直線
状ではない異形のパターンが形成されている。
【０００３】これらのパターンは、エッチング工程やそ
の後の工程で損傷を受け、少なくとも一部に欠損を生じ
ることがある。パターニングされた基板は、製造後に電
気的な断線検査が行われ、断線が認められたものはライ
ンから排除されるが、断線とならない程度の欠損は電気
的には検出が困難である。しかし非断線的欠損であって
も、局所的に電気抵抗が増大するので実使用中に断線し
たり、画素面積が減少して画質を損ねたり、バックライ
トの抜けを起こす等の問題が生じるので、検査をして不
合格となったものはラインから除去しなければならな
い。この検査は従来、パターニング済みの基板をライン
から抜き取り、この抜き取り検体について作業員が顕微
鏡等を用い注意深く目視検査することにより行われてい
た。
の後の工程で損傷を受け、少なくとも一部に欠損を生じ
ることがある。パターニングされた基板は、製造後に電
気的な断線検査が行われ、断線が認められたものはライ
ンから排除されるが、断線とならない程度の欠損は電気
的には検出が困難である。しかし非断線的欠損であって
も、局所的に電気抵抗が増大するので実使用中に断線し
たり、画素面積が減少して画質を損ねたり、バックライ
トの抜けを起こす等の問題が生じるので、検査をして不
合格となったものはラインから除去しなければならな
い。この検査は従来、パターニング済みの基板をライン
から抜き取り、この抜き取り検体について作業員が顕微
鏡等を用い注意深く目視検査することにより行われてい
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、断線しない程
度の微小な欠損を作業員が抜き取り検査で目視により検
査することは高度の熟練と持続的な注意力を要する上に
長時間を要するので効率が悪く、しかも個人差によるバ
ラツキ等により検査精度も十分でなかった。本発明は、
上記の課題を解決するためになされたものであって、従
ってその目的は、基板上のパターン欠損を容易にしかも
正確に検出することができるパターン検査装置を提供す
ることにある。
度の微小な欠損を作業員が抜き取り検査で目視により検
査することは高度の熟練と持続的な注意力を要する上に
長時間を要するので効率が悪く、しかも個人差によるバ
ラツキ等により検査精度も十分でなかった。本発明は、
上記の課題を解決するためになされたものであって、従
ってその目的は、基板上のパターン欠損を容易にしかも
正確に検出することができるパターン検査装置を提供す
ることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明は、請求項１において、基板に形成されたパ
ターンの欠損を検査する装置であって、カメラと画像処
理装置と演算装置とを有し、カメラが、少なくとも前記
パターンの縁の一部を含むパターン画像を視野内に写し
込み、画像処理装置が、カメラの視野をマトリクスに分
割し、このマトリクスの各画素をパターン画像の存非に
よって２値化して対応する行列図形を生成し、演算装置
がこの行列図形の変化から判断して欠損を検出するパタ
ーン検査装置を提供する。
めに本発明は、請求項１において、基板に形成されたパ
ターンの欠損を検査する装置であって、カメラと画像処
理装置と演算装置とを有し、カメラが、少なくとも前記
パターンの縁の一部を含むパターン画像を視野内に写し
込み、画像処理装置が、カメラの視野をマトリクスに分
割し、このマトリクスの各画素をパターン画像の存非に
よって２値化して対応する行列図形を生成し、演算装置
がこの行列図形の変化から判断して欠損を検出するパタ
ーン検査装置を提供する。
【０００６】本発明は請求項２において、カメラとＸＹ
移動装置と画像処理装置と演算装置とを有し、カメラ
が、少なくとも前記パターンの縁の一部を含むパターン
画像を視野内に写し込み、ＸＹ移動装置が、カメラの視
野を前記の縁に沿って水平方向及び／又は垂直方向に移
動させ、画像処理装置が、カメラの視野を少なくとも３
画素×３画素からなるマトリクスに分割し、このマトリ
クスの各画素をパターン画像の存非によって２値化して
対応する行列図形を生成し、演算装置が、ＸＹ移動装置
を用いて視野を縁に沿って移動し、行列図形の変化に対
応してその移動方向をマトリクスに対して垂直及び／又
は水平に変化させて視野を縁に追随させると共に、その
行列図形の逐次的な変化から判断して欠損を検出する請
求項１に記載のパターン検査装置を提供する。
移動装置と画像処理装置と演算装置とを有し、カメラ
が、少なくとも前記パターンの縁の一部を含むパターン
画像を視野内に写し込み、ＸＹ移動装置が、カメラの視
野を前記の縁に沿って水平方向及び／又は垂直方向に移
動させ、画像処理装置が、カメラの視野を少なくとも３
画素×３画素からなるマトリクスに分割し、このマトリ
クスの各画素をパターン画像の存非によって２値化して
対応する行列図形を生成し、演算装置が、ＸＹ移動装置
を用いて視野を縁に沿って移動し、行列図形の変化に対
応してその移動方向をマトリクスに対して垂直及び／又
は水平に変化させて視野を縁に追随させると共に、その
行列図形の逐次的な変化から判断して欠損を検出する請
求項１に記載のパターン検査装置を提供する。
【０００７】本発明は請求項３において、カメラと画像
処理装置と参照図形生成装置と演算装置とを有し、カメ
ラが、少なくとも前記パターンの縁の一部を含むパター
ン画像を視野内に写し込み、画像処理装置が、カメラの
視野をマトリクスに分割し、このマトリクスの各画素を
パターン画像の存非によって２値化して対応する被検行
列図形を生成し、参照図形生成装置が、基板上のパター
ンに対応するマスターパターンを予め記憶し、このマス
ターパターンからカメラの視野に相当する仮想視野を切
り取り、この仮想視野をカメラの視野と同等のマトリク
スに分割し、このマトリクスの各画素をマスターパター
ン画像の存非によって２値化して対応する参照行列図形
を生成し、演算装置が、被検行列図形と参照行列図形と
を比較し、参照行列図形に対する被検行列図形の変化か
ら判断して欠損を検出する請求項１に記載のパターン検
査装置を提供する。
処理装置と参照図形生成装置と演算装置とを有し、カメ
ラが、少なくとも前記パターンの縁の一部を含むパター
ン画像を視野内に写し込み、画像処理装置が、カメラの
視野をマトリクスに分割し、このマトリクスの各画素を
パターン画像の存非によって２値化して対応する被検行
列図形を生成し、参照図形生成装置が、基板上のパター
ンに対応するマスターパターンを予め記憶し、このマス
ターパターンからカメラの視野に相当する仮想視野を切
り取り、この仮想視野をカメラの視野と同等のマトリク
スに分割し、このマトリクスの各画素をマスターパター
ン画像の存非によって２値化して対応する参照行列図形
を生成し、演算装置が、被検行列図形と参照行列図形と
を比較し、参照行列図形に対する被検行列図形の変化か
ら判断して欠損を検出する請求項１に記載のパターン検
査装置を提供する。
【０００８】本発明は請求項４において、検査する基板
が、液晶表示板用の透明基板であって、この透明基板上
にＩＴＯパターンが形成されたものである請求項１〜請
求項３に記載のパターン検査装置を提供する。
が、液晶表示板用の透明基板であって、この透明基板上
にＩＴＯパターンが形成されたものである請求項１〜請
求項３に記載のパターン検査装置を提供する。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を実施
例により図面を用いて説明する。以下の実施例１及び２
において検査に用いた検体は、液晶表示板用のガラス基
板であって、この基板上にフォトエッチング法によって
ＩＴＯ薄膜のパターンが形成されたものである。すなわ
ち図１に示すように、この基板１は、基板の画像表示部
２では一定幅の帯状パターン（直線パターン３）…が並
行縞状に形成され、基板の周辺部４では駆動装置と連結
するための配線としてパターン（異形パターン５）…が
それぞれ非直線的に形成されている。直線パターン３は
縁が直線をなし、異形パターン５は縁が非直線的であ
る。この基板１は、直線パターン３に欠損６が、また異
形パターン５に欠損７が存在するものとして説明する。
例により図面を用いて説明する。以下の実施例１及び２
において検査に用いた検体は、液晶表示板用のガラス基
板であって、この基板上にフォトエッチング法によって
ＩＴＯ薄膜のパターンが形成されたものである。すなわ
ち図１に示すように、この基板１は、基板の画像表示部
２では一定幅の帯状パターン（直線パターン３）…が並
行縞状に形成され、基板の周辺部４では駆動装置と連結
するための配線としてパターン（異形パターン５）…が
それぞれ非直線的に形成されている。直線パターン３は
縁が直線をなし、異形パターン５は縁が非直線的であ
る。この基板１は、直線パターン３に欠損６が、また異
形パターン５に欠損７が存在するものとして説明する。
【００１０】（実施例１）図２に示す実施例１の装置
は、請求項２に基づくパターン検査装置の一例である。
このパターン検査装置１０は、基本的に請求項１で示し
たカメラ１１と、コンピュータ１３に内蔵された画像処
理装置１４及び演算装置１５を有し、更に加えてＸＹ移
動装置１２と表示装置１６とを有している。以下、実施
例１ではこのパターン検査装置１０を用い、直線パター
ン３の欠損を検査する場合について説明する。
は、請求項２に基づくパターン検査装置の一例である。
このパターン検査装置１０は、基本的に請求項１で示し
たカメラ１１と、コンピュータ１３に内蔵された画像処
理装置１４及び演算装置１５を有し、更に加えてＸＹ移
動装置１２と表示装置１６とを有している。以下、実施
例１ではこのパターン検査装置１０を用い、直線パター
ン３の欠損を検査する場合について説明する。
【００１１】カメラ１１は、直線パターン３の縁８の一
部を含むパターン画像を視野内に写し込む。ＸＹ移動装
置１２は、カメラ１１の視野を直線状の縁８に沿って水
平方向及び／又は垂直方向に移動させる。
部を含むパターン画像を視野内に写し込む。ＸＹ移動装
置１２は、カメラ１１の視野を直線状の縁８に沿って水
平方向及び／又は垂直方向に移動させる。
【００１２】画像処理装置１４は、図３の符号１１１で
示すように、先ずカメラ１１の視野１１１を直線状の縁
８に対して水平及び垂直に３画素×３画素からなるマト
リクスに分割し、このマトリクスの各画素１４１…をパ
ターン画像３１の存非によって２値化する。以下、説明
のためにパターン画像３１が一部でも含まれている画素
を黒画素、パターン画像３１が全く含まれていない画素
を白画素と称する。更に画像処理装置１４は、２値化さ
れた画素に対応して例えば黒画素の集積からなる行列図
形を生成する。この視野１１１において行列図形は、中
行３個下行３個の合計６個の黒画素によって長方形に形
成されている。
示すように、先ずカメラ１１の視野１１１を直線状の縁
８に対して水平及び垂直に３画素×３画素からなるマト
リクスに分割し、このマトリクスの各画素１４１…をパ
ターン画像３１の存非によって２値化する。以下、説明
のためにパターン画像３１が一部でも含まれている画素
を黒画素、パターン画像３１が全く含まれていない画素
を白画素と称する。更に画像処理装置１４は、２値化さ
れた画素に対応して例えば黒画素の集積からなる行列図
形を生成する。この視野１１１において行列図形は、中
行３個下行３個の合計６個の黒画素によって長方形に形
成されている。
【００１３】演算装置１５は、図示しないシーケンサー
によってＸＹ移動装置１２を駆動し、カメラの視野１１
１を縁８に沿って１方向（図３では右方向）に１画素単
位で移動させる。そしてこの移動中に視野１１１内の行
列図形に変化が生じると、この行列図形の変化に対応し
て視野の移動方向をマトリクスに対して垂直及び／又は
水平に１画素単位で変化させ、これによって視野を縁８
に追随させる。それと共に演算装置１５は、前記行列図
形の逐次的な変化をとらえ、視野の移動方向と移動量と
から判断し、必要なら許容限界を設けてこれを越える欠
損を検出し、その情報を表示装置１６やその他の図示し
ないデータ処理装置に出力する。
によってＸＹ移動装置１２を駆動し、カメラの視野１１
１を縁８に沿って１方向（図３では右方向）に１画素単
位で移動させる。そしてこの移動中に視野１１１内の行
列図形に変化が生じると、この行列図形の変化に対応し
て視野の移動方向をマトリクスに対して垂直及び／又は
水平に１画素単位で変化させ、これによって視野を縁８
に追随させる。それと共に演算装置１５は、前記行列図
形の逐次的な変化をとらえ、視野の移動方向と移動量と
から判断し、必要なら許容限界を設けてこれを越える欠
損を検出し、その情報を表示装置１６やその他の図示し
ないデータ処理装置に出力する。
【００１４】以下に、この演算装置１５による追随モー
ドの一例を図３を用いて説明する。図３において、いま
視野が正常な直線状の縁画像８１を追随しているときは
視野１１１で示すようにマトリクスの下２行の６画素が
黒画素となって長方形の行列図形を形成している。縁８
が直線を維持している間は、視野を左から右に水平移動
させても行列図形に変化は起こらない。ところが、視野
１１２で示すように視野が縁８の欠損６に出合うと、右
列の２画素が黒画素から白画素に変化し、行列図形が変
化する。このとき演算装置１５は、変化した行列図形か
ら判断して視野１１２の右方進行を停止し１画素分下方
に移動して視野を縁画像８１に追随させる。
ドの一例を図３を用いて説明する。図３において、いま
視野が正常な直線状の縁画像８１を追随しているときは
視野１１１で示すようにマトリクスの下２行の６画素が
黒画素となって長方形の行列図形を形成している。縁８
が直線を維持している間は、視野を左から右に水平移動
させても行列図形に変化は起こらない。ところが、視野
１１２で示すように視野が縁８の欠損６に出合うと、右
列の２画素が黒画素から白画素に変化し、行列図形が変
化する。このとき演算装置１５は、変化した行列図形か
ら判断して視野１１２の右方進行を停止し１画素分下方
に移動して視野を縁画像８１に追随させる。
【００１５】追随が進み、例えば視野１１３に示すよう
に、縁画像８１がオーバーハングとなった場合は、一つ
前の視野の行列図形（図示せず）に対して中行右列の画
素１４２と下行中列の画素１４３とが黒画素から白画素
に転じている。この行列図形の変化に対応して演算装置
１５は、視野１１３を下方に１画素分、左方に１画素分
移動して縁画像８１に追随させる。同様にして演算装置
１５は、それぞれ行列図形の変化を逐次的に読みとって
例えば視野１１４を右方に１画素分移動し、視野１１５
を右方に１画素分、上方に１画素分移動し、視野１１６
を右方に１画素分、上方に１画素分移動し、以後は正常
な直線状の縁８に沿って視野を移動させる。演算装置１
５はこの視野の移動の逐次的な変化から欠損の存在位置
と形状・大きさを計算し、予め与えられた基準に照らし
て欠損が許容限界内（合格）か否（不合格）かを判断
し、許容限界を越えていれば欠損ありとしてそのデータ
を表示装置１６その他に出力する。
に、縁画像８１がオーバーハングとなった場合は、一つ
前の視野の行列図形（図示せず）に対して中行右列の画
素１４２と下行中列の画素１４３とが黒画素から白画素
に転じている。この行列図形の変化に対応して演算装置
１５は、視野１１３を下方に１画素分、左方に１画素分
移動して縁画像８１に追随させる。同様にして演算装置
１５は、それぞれ行列図形の変化を逐次的に読みとって
例えば視野１１４を右方に１画素分移動し、視野１１５
を右方に１画素分、上方に１画素分移動し、視野１１６
を右方に１画素分、上方に１画素分移動し、以後は正常
な直線状の縁８に沿って視野を移動させる。演算装置１
５はこの視野の移動の逐次的な変化から欠損の存在位置
と形状・大きさを計算し、予め与えられた基準に照らし
て欠損が許容限界内（合格）か否（不合格）かを判断
し、許容限界を越えていれば欠損ありとしてそのデータ
を表示装置１６その他に出力する。
【００１６】前記実施例１において視野１１１のマトリ
クスを構成する画素数及び縦横比は３画素×３画素以上
であれば特に限定されない。またその画素１４１のサイ
ズは、欠陥検査に要求される精度に対応して決定され
る。演算装置１５における視野の行列図形変化の認識方
法も前記に限定されるものではない。
クスを構成する画素数及び縦横比は３画素×３画素以上
であれば特に限定されない。またその画素１４１のサイ
ズは、欠陥検査に要求される精度に対応して決定され
る。演算装置１５における視野の行列図形変化の認識方
法も前記に限定されるものではない。
【００１７】実施例１のパターン検査装置１０は直線パ
ターン３の欠損を検査する場合に特に好適に使用できる
が、予め対応するマスターパターンが与えられていると
きはそのマスターパターンの逐次的行列図形と比較する
ことによって異形パターンの検査に使用することも可能
である。
ターン３の欠損を検査する場合に特に好適に使用できる
が、予め対応するマスターパターンが与えられていると
きはそのマスターパターンの逐次的行列図形と比較する
ことによって異形パターンの検査に使用することも可能
である。
【００１８】（実施例２）図４に示す実施例２の装置
は、請求項３に基づくパターン検査装置の一例である。
このパターン検査装置２０は、基本的に請求項１で示し
たカメラ２１と、コンピュータ２３に内蔵された画像処
理装置２４及び演算装置２６を有し、更に加えて走査装
置２２と参照図形生成装置２５と表示装置２７とを有し
ている。以下、実施例２ではこのパターン検査装置２０
を用い、異形パターン５の欠損を検査する場合について
説明する。
は、請求項３に基づくパターン検査装置の一例である。
このパターン検査装置２０は、基本的に請求項１で示し
たカメラ２１と、コンピュータ２３に内蔵された画像処
理装置２４及び演算装置２６を有し、更に加えて走査装
置２２と参照図形生成装置２５と表示装置２７とを有し
ている。以下、実施例２ではこのパターン検査装置２０
を用い、異形パターン５の欠損を検査する場合について
説明する。
【００１９】カメラ２１は、少なくとも検査する異形パ
ターン５の縁８の一部を含むパターン画像を視野内に写
し込む。走査装置２２は、カメラ２１の視野が基板１の
計測領域の全域を走査できるようにカメラ及び／又は基
板を移動させる。
ターン５の縁８の一部を含むパターン画像を視野内に写
し込む。走査装置２２は、カメラ２１の視野が基板１の
計測領域の全域を走査できるようにカメラ及び／又は基
板を移動させる。
【００２０】画像処理装置２４は、図５に示すように、
カメラの視野２１１をマトリクスに分割し、このマトリ
クスの各画素２４１…をパターン画像５１の存非によっ
て２値化して対応する被検行列図形５２を生成する。説
明のためにパターン画像５１が一部でも含まれている画
素を黒画素、パターン画像５１が全く含まれていない画
素を白画素とし、視野２１１内で黒画素が構成する集積
像を被検行列図形５２とした。
カメラの視野２１１をマトリクスに分割し、このマトリ
クスの各画素２４１…をパターン画像５１の存非によっ
て２値化して対応する被検行列図形５２を生成する。説
明のためにパターン画像５１が一部でも含まれている画
素を黒画素、パターン画像５１が全く含まれていない画
素を白画素とし、視野２１１内で黒画素が構成する集積
像を被検行列図形５２とした。
【００２１】参照図形生成装置２５は、基板１上の異形
パターン５に対応するマスターパターン２８を予め記憶
し、図６に示すように、このマスターパターン２８から
カメラ２１の視野２１１（図５）に相当する仮想視野２
５１を切り取り、この仮想視野２５１をカメラの視野２
１１と同等のマトリクスに分割し、このマトリクスの各
画素をマスターパターン画像２８１の存非によって２値
化して対応する参照行列図形２８２を生成する。
パターン５に対応するマスターパターン２８を予め記憶
し、図６に示すように、このマスターパターン２８から
カメラ２１の視野２１１（図５）に相当する仮想視野２
５１を切り取り、この仮想視野２５１をカメラの視野２
１１と同等のマトリクスに分割し、このマトリクスの各
画素をマスターパターン画像２８１の存非によって２値
化して対応する参照行列図形２８２を生成する。
【００２２】演算装置２６は、前記の被検行列図形５２
（図５）と参照行列図形２８２（図６）とを比較する。
もし被検行列図形５２と参照行列図形２８２とが、予め
設定された許容範囲内で同一と認定されれば、この視野
２１１の範囲内で検査した異形パターン５は合格と判断
し、走査装置２２を作動して隣接する視野に移動し、検
査を繰り返す。許容範囲を越える差異が認められた場合
には、参照行列図形２８２に対する被検行列図形５２の
変化から欠損ありと判断し、その変化の位置や大きさ・
形状を計測し、そのデータを表示装置２７その他に出力
する。その上で走査装置２２を作動して隣接する視野に
移動し、検査を繰り返す。
（図５）と参照行列図形２８２（図６）とを比較する。
もし被検行列図形５２と参照行列図形２８２とが、予め
設定された許容範囲内で同一と認定されれば、この視野
２１１の範囲内で検査した異形パターン５は合格と判断
し、走査装置２２を作動して隣接する視野に移動し、検
査を繰り返す。許容範囲を越える差異が認められた場合
には、参照行列図形２８２に対する被検行列図形５２の
変化から欠損ありと判断し、その変化の位置や大きさ・
形状を計測し、そのデータを表示装置２７その他に出力
する。その上で走査装置２２を作動して隣接する視野に
移動し、検査を繰り返す。
【００２３】実施例２に示したパターン検査装置は、異
形パターン５の検査に限らず、直線パターン３の欠損も
同時に検査することができ、更にパターン内部に生じた
ピンホール状の欠損やパターンが切断された断線状態の
欠損も検出することができる。従ってこのパターン検査
装置を用い、基板１の全面を順次に走査すれば、基板１
の全てのパターンについて、欠損の有無、また欠損があ
る場合はその個数、それぞれの位置、それぞれの大きさ
等を一括して検知することができる。
形パターン５の検査に限らず、直線パターン３の欠損も
同時に検査することができ、更にパターン内部に生じた
ピンホール状の欠損やパターンが切断された断線状態の
欠損も検出することができる。従ってこのパターン検査
装置を用い、基板１の全面を順次に走査すれば、基板１
の全てのパターンについて、欠損の有無、また欠損があ
る場合はその個数、それぞれの位置、それぞれの大きさ
等を一括して検知することができる。
【００２４】実施例２のパターン検査装置において、視
野のマトリクスを構成する画素の数や縦横比に特に制限
はない。パターンに対して視野が十分に小さければ１視
野１画素であってもよく、また基板１の全体、若しくは
異形パターン５を含む周辺部４の全面を１視野に収める
ものであってもよい。１視野で検査を終了する場合は走
査装置２２は不要となる。
野のマトリクスを構成する画素の数や縦横比に特に制限
はない。パターンに対して視野が十分に小さければ１視
野１画素であってもよく、また基板１の全体、若しくは
異形パターン５を含む周辺部４の全面を１視野に収める
ものであってもよい。１視野で検査を終了する場合は走
査装置２２は不要となる。
【００２５】本発明のパターン検査装置は、基板上に形
成された全てのパターン、例えば配線基板の配線パター
ンや集積回路の回路パターンの検査にも使用できるが、
特に透明基板上にＩＴＯパターンが形成された液晶表示
板用基板の検査に有用であり、液晶表示板の生産効率を
大幅に向上することができる。
成された全てのパターン、例えば配線基板の配線パター
ンや集積回路の回路パターンの検査にも使用できるが、
特に透明基板上にＩＴＯパターンが形成された液晶表示
板用基板の検査に有用であり、液晶表示板の生産効率を
大幅に向上することができる。
【００２６】
【発明の効果】本発明のパターン検査装置は、基本的に
カメラと画像処理装置と演算装置とを有し、カメラが少
なくとも前記パターンの縁の一部を含むパターン画像を
視野内に写し込み、画像処理装置がカメラの視野をマト
リクスに分割しこのマトリクスの各画素をパターン画像
の存非によって２値化して対応する行列図形を生成し、
演算装置がこの行列図形の変化から判断して欠損を検出
するものであるので、パターンの欠損を人手によらず、
高い精度でしかも効率よく検査することができる。本発
明のパターン検査装置は、特に液晶表示板のＩＴＯ透明
基板の検査に適用するとき、生産効率を大幅に向上する
ことができる。
カメラと画像処理装置と演算装置とを有し、カメラが少
なくとも前記パターンの縁の一部を含むパターン画像を
視野内に写し込み、画像処理装置がカメラの視野をマト
リクスに分割しこのマトリクスの各画素をパターン画像
の存非によって２値化して対応する行列図形を生成し、
演算装置がこの行列図形の変化から判断して欠損を検出
するものであるので、パターンの欠損を人手によらず、
高い精度でしかも効率よく検査することができる。本発
明のパターン検査装置は、特に液晶表示板のＩＴＯ透明
基板の検査に適用するとき、生産効率を大幅に向上する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 検査基板を示す平面図
【図２】 請求項２のパターン検査装置の一実施例を示
す構成図
す構成図
【図３】 カメラの視野がパターン縁部を追随する態様
の一例を示す状態図
の一例を示す状態図
【図４】 請求項３のパターン検査装置の一実施例を示
す構成図
す構成図
【図５】 カメラの視野の一例を示す状態図
【図６】 マスターパターンの仮想視野の一例を示す状
態図
態図
１：基板 ２：画像表示部 ３：直線パターン ４：周辺部 ５：異形パターン ６，７：欠損 ８：縁 １０，２０：パターン検査装置 １１，２１：カメラ １２：ＸＹ移動装置 １３，２３：コンピュータ １４，２４：画像処理装置 １５，２６：演算装置 １６，２７：表示装置 ２２：走査装置 ２５：参照図形生成装置 ２８：マスターパターン ３１，５１：パターン画像 ５２：被検行列図形 ８１：縁画像 １１１，１１２，１１３，１１４，１１５，１１６，２
１１：視野 １４１，１４２，１４３，２４１，２５２：画素 ２５１：仮想視野 ２８１：マスターパターン画像 ２８２：参照行列図形
１１：視野 １４１，１４２，１４３，２４１，２５２：画素 ２５１：仮想視野 ２８１：マスターパターン画像 ２８２：参照行列図形
Claims (4)
- 【請求項１】 基板に形成されたパターンの欠損を検査
する装置であって、カメラと画像処理装置と演算装置と
を有し、 カメラが、少なくとも前記パターンの縁の一部を含むパ
ターン画像を視野内に写し込み、 画像処理装置が、カメラの視野をマトリクスに分割し、
このマトリクスの各画素をパターン画像の存非によって
２値化して対応する行列図形を生成し、 演算装置がこの行列図形の変化から判断して欠損を検出
することを特徴とするパターン検査装置。 - 【請求項２】 カメラとＸＹ移動装置と画像処理装置と
演算装置とを有し、 カメラが、少なくとも前記パターンの縁の一部を含むパ
ターン画像を視野内に写し込み、 ＸＹ移動装置が、カメラの視野を前記の縁に沿って水平
方向及び／又は垂直方向に移動させ、 画像処理装置が、カメラの視野を少なくとも３画素×３
画素からなるマトリクスに分割し、このマトリクスの各
画素をパターン画像の存非によって２値化して対応する
行列図形を生成し、 演算装置が、ＸＹ移動装置を用いて視野を縁に沿って移
動し、行列図形の変化に対応してその移動方向をマトリ
クスに対して垂直及び／又は水平に変化させて視野を縁
に追随させると共に、その行列図形の逐次的な変化から
判断して欠損を検出することを特徴とする請求項１に記
載のパターン検査装置。 - 【請求項３】 カメラと画像処理装置と参照図形生成装
置と演算装置とを有し、 カメラが、少なくとも前記パターンの縁の一部を含むパ
ターン画像を視野内に写し込み、 画像処理装置が、カメラの視野をマトリクスに分割し、
このマトリクスの各画素をパターン画像の存非によって
２値化して対応する被検行列図形を生成し、 参照図形生成装置が、基板上のパターンに対応するマス
ターパターンを予め記憶し、このマスターパターンから
カメラの視野に相当する仮想視野を切り取り、この仮想
視野をカメラの視野と同等のマトリクスに分割し、この
マトリクスの各画素をマスターパターン画像の存非によ
って２値化して対応する参照行列図形を生成し、 演算装置が、被検行列図形と参照行列図形とを比較し、
参照行列図形に対する被検行列図形の変化から判断して
欠損を検出することを特徴とする請求項１に記載のパタ
ーン検査装置。 - 【請求項４】 検査する基板が、液晶表示板用の透明基
板であって、この透明基板上にＩＴＯパターンが形成さ
れたものであることを特徴とする請求項１〜請求項３に
記載のパターン検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP190798A JPH11201863A (ja) | 1998-01-07 | 1998-01-07 | パターン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP190798A JPH11201863A (ja) | 1998-01-07 | 1998-01-07 | パターン検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11201863A true JPH11201863A (ja) | 1999-07-30 |
Family
ID=11514662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP190798A Withdrawn JPH11201863A (ja) | 1998-01-07 | 1998-01-07 | パターン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11201863A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101146081B1 (ko) | 2003-03-17 | 2012-05-15 | 오르보테크 엘티디. | 마이크로-검사 입력을 이용한 매크로 결함 검출 방법 및시스템 |
-
1998
- 1998-01-07 JP JP190798A patent/JPH11201863A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101146081B1 (ko) | 2003-03-17 | 2012-05-15 | 오르보테크 엘티디. | 마이크로-검사 입력을 이용한 매크로 결함 검출 방법 및시스템 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041004 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20041012 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20041213 |