JPH11194218A - 偏光性及び非偏光性領域が一体化されたガラスの作成方法 - Google Patents
偏光性及び非偏光性領域が一体化されたガラスの作成方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 偏光性及び非偏光性領域が一体化されたガラ
スの作成方法を簡便化する。 【解決の手段】 ハロゲン化銀を有することにより相分
離が可能で銅及び銀を含むガラスの表面にガラスフリッ
トを含む混合物からなる保護材を施して、還元性気体雰
囲気からガラス表面が保護される領域と保護されない領
域のパターンを形成する。
スの作成方法を簡便化する。 【解決の手段】 ハロゲン化銀を有することにより相分
離が可能で銅及び銀を含むガラスの表面にガラスフリッ
トを含む混合物からなる保護材を施して、還元性気体雰
囲気からガラス表面が保護される領域と保護されない領
域のパターンを形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は偏光ガラスの作成方
法に関し、特に偏光ガラスと非偏光ガラスが一体化され
たガラスの作成方法に関するものである。
法に関し、特に偏光ガラスと非偏光ガラスが一体化され
たガラスの作成方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】偏光ガラスの作成には良く知られた方法
がいくつか存在する。工業化されている方法の１つは、
ガラス中の銀または鉛イオンを原子状態に還元すること
によるものである。ある用途では最近、偏光性及び非偏
光性領域を一体化したガラスの供給が望まれるようにな
っている。偏光性ガラスの作成方法が、数１０年の間知
られているが、偏光性及び非偏光ガラス領域を１つのガ
ラス面に一体化して作ることができるということが、最
近になってようやく広く知られるようになった。２つの
そうした技法が現在出願中の国際特許出願ＰＣＴ／ＵＳ
９７／０４８７０号及び米国特許出願第６０／０４４，
７９０号（両件とも参照として本明細書に含まれる）で
開示されており、フォトリソグラフィー法及びイオン交
換法という異なる手法が提案されている。
がいくつか存在する。工業化されている方法の１つは、
ガラス中の銀または鉛イオンを原子状態に還元すること
によるものである。ある用途では最近、偏光性及び非偏
光性領域を一体化したガラスの供給が望まれるようにな
っている。偏光性ガラスの作成方法が、数１０年の間知
られているが、偏光性及び非偏光ガラス領域を１つのガ
ラス面に一体化して作ることができるということが、最
近になってようやく広く知られるようになった。２つの
そうした技法が現在出願中の国際特許出願ＰＣＴ／ＵＳ
９７／０４８７０号及び米国特許出願第６０／０４４，
７９０号（両件とも参照として本明細書に含まれる）で
開示されており、フォトリソグラフィー法及びイオン交
換法という異なる手法が提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記最近の技法による
偏光性及び非偏光性領域が一体化されたガラスの作成方
法に対して、より簡単で改良された作成方法が強く要求
されている。
偏光性及び非偏光性領域が一体化されたガラスの作成方
法に対して、より簡単で改良された作成方法が強く要求
されている。
【０００４】本発明の目的は、非偏光ガラス中に偏光性
領域を作成する新しく改良された方法を提供することに
ある。
領域を作成する新しく改良された方法を提供することに
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】略記すれば、本発明は、
ハロゲン化銀粒子の存在により相分離が可能な銅及び銀
を含むガラスを作成し、該ガラスに応力を加えて引き伸
ばすことにより前記粒子を前記応力の方向に引き伸ばし
て整列させ、前記ガラスの表面に気体、特に水素を遮断
して該気体の前記下地ガラスへの接触を妨げることので
きる保護材（フリット・バリア層）を施すことにより保
護される領域と保護されない領域のパターンを形成し、
前記フリット材を焼結し、前記ガラスを還元性雰囲気に
入れて前記ガラスの前記保護されない領域にある前記還
元可能な相を還元することにより前記ガラスの前記領域
を偏光性にし、前記保護される領域から前記ガラスフリ
ット材を除去して下地の前記非偏光性ガラスを露出させ
ることによる、偏光性領域と非偏光性領域を一体化して
有するガラスの形成方法に関する。得られるガラスは、
偏光性及び非偏光性のガラス領域のパターンで識別され
る。
ハロゲン化銀粒子の存在により相分離が可能な銅及び銀
を含むガラスを作成し、該ガラスに応力を加えて引き伸
ばすことにより前記粒子を前記応力の方向に引き伸ばし
て整列させ、前記ガラスの表面に気体、特に水素を遮断
して該気体の前記下地ガラスへの接触を妨げることので
きる保護材（フリット・バリア層）を施すことにより保
護される領域と保護されない領域のパターンを形成し、
前記フリット材を焼結し、前記ガラスを還元性雰囲気に
入れて前記ガラスの前記保護されない領域にある前記還
元可能な相を還元することにより前記ガラスの前記領域
を偏光性にし、前記保護される領域から前記ガラスフリ
ット材を除去して下地の前記非偏光性ガラスを露出させ
ることによる、偏光性領域と非偏光性領域を一体化して
有するガラスの形成方法に関する。得られるガラスは、
偏光性及び非偏光性のガラス領域のパターンで識別され
る。
【０００６】還元可能で引き伸ばされた相、例えばＡｇ
ＣｌxＢｒ1-x、ＣｕＣｌxＢｒ1-x（ここでｘは０と１の
間の値をとる）、を含むガラスであればどれでも、また
相が分離された硼酸鉛ガラスは、偏光性をもたせること
ができる。他の有用な還元可能な相には、ＡｇＩ，Ｃｕ
Ｉ及びハロゲン化銅―ハロゲン化カドミウムがある。そ
のようなガラスの１例は、米国特許第４，１９０，４５
１号に記述され，酸化物の重量比で、Ｌｉ2Ｏが０〜
２．５％、Ｎａ2Ｏが０〜９％、Ｋ2Ｏが０〜１７％、Ｃ
ｓ2Ｏが０〜６％、ただしＬｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｃ
ｓ2Ｏは８〜２０％、Ｂ2Ｏ3が１４〜２３％、Ａｌ2Ｏ3
が５〜２５％、Ｐ2Ｏ5が０〜２５％、ＳｉＯ2が２０〜
６５％、ＣｕＯが０．００４〜０．０２％、Ａｇが０．
１５〜０．３％、Ｃｌが０．１〜０．２５％、及びＢｒ
が０．１〜０．２％であり、アルカリ金属酸化物：Ｂ2
Ｏ3が約０．５５〜０．８５（モル比）の範囲にある組
成をもつ、コーニング（Ｃｏｒｎｉｎｇ）社のフォトグ
レイ−エキストラ（Ｐｈｏｔｏｇｒａｙ−Ｅｘｔｒａ）
（登録商標）である。ここで、前記組成は実質的にＣｕ
Ｏ以外の２価金属の酸化物を含まず、Ａｇ：（Ｃｌ＋Ｂ
ｒ）は約０．６５〜０．９５（重量比）の範囲にある。
ＣｌxＢｒ1-x、ＣｕＣｌxＢｒ1-x（ここでｘは０と１の
間の値をとる）、を含むガラスであればどれでも、また
相が分離された硼酸鉛ガラスは、偏光性をもたせること
ができる。他の有用な還元可能な相には、ＡｇＩ，Ｃｕ
Ｉ及びハロゲン化銅―ハロゲン化カドミウムがある。そ
のようなガラスの１例は、米国特許第４，１９０，４５
１号に記述され，酸化物の重量比で、Ｌｉ2Ｏが０〜
２．５％、Ｎａ2Ｏが０〜９％、Ｋ2Ｏが０〜１７％、Ｃ
ｓ2Ｏが０〜６％、ただしＬｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｃ
ｓ2Ｏは８〜２０％、Ｂ2Ｏ3が１４〜２３％、Ａｌ2Ｏ3
が５〜２５％、Ｐ2Ｏ5が０〜２５％、ＳｉＯ2が２０〜
６５％、ＣｕＯが０．００４〜０．０２％、Ａｇが０．
１５〜０．３％、Ｃｌが０．１〜０．２５％、及びＢｒ
が０．１〜０．２％であり、アルカリ金属酸化物：Ｂ2
Ｏ3が約０．５５〜０．８５（モル比）の範囲にある組
成をもつ、コーニング（Ｃｏｒｎｉｎｇ）社のフォトグ
レイ−エキストラ（Ｐｈｏｔｏｇｒａｙ−Ｅｘｔｒａ）
（登録商標）である。ここで、前記組成は実質的にＣｕ
Ｏ以外の２価金属の酸化物を含まず、Ａｇ：（Ｃｌ＋Ｂ
ｒ）は約０．６５〜０．９５（重量比）の範囲にある。
【０００７】このようなガラスを偏光性にするには、ま
ず前記ガラスに応力を加えて引っ張る、すなわち引き伸
ばすことにより、前記ハロゲン化銀の粒子を引っ張り、
すなわち引き伸ばして前記応力の方向に整列させる。前
記現在出願中の明細書に記述されているように、前記ハ
ロゲン化銀粒子を還元し前記ガラスを偏光性にするため
に、引き伸ばされた粒子を含む前記引っ張られたガラス
は、次に還元性気体処理またはイオン交換浴を受ける
か、または紫外光にさらされ加熱される。
ず前記ガラスに応力を加えて引っ張る、すなわち引き伸
ばすことにより、前記ハロゲン化銀の粒子を引っ張り、
すなわち引き伸ばして前記応力の方向に整列させる。前
記現在出願中の明細書に記述されているように、前記ハ
ロゲン化銀粒子を還元し前記ガラスを偏光性にするため
に、引き伸ばされた粒子を含む前記引っ張られたガラス
は、次に還元性気体処理またはイオン交換浴を受ける
か、または紫外光にさらされ加熱される。
【０００８】発明者等は、フリットとガラスのスラリー
を用いて、一体化された偏光性及び非偏光性領域のパタ
ーンを形成する比較的簡単な手法を発見した。本発明に
使用できるガラスフリットには、硼酸ガラスフリット及
び燐酸ガラスフリットがあり、特に鉛−亜鉛−燐酸ガラ
スフリット、鉛−亜鉛−硼酸ガラスフリット、珪硼酸ガ
ラスフリット及び硼燐酸ガラスフリット、例えば酸化物
の重量％で、Ｂ2Ｏ3が１０重量％、Ａｌ2Ｏ3が１０重量
％、ＳｉＯ2が７重量％、及びＰｂＯが７３重量％、と
いう組成を有するコーニング社のＣＦ１４１６ガラスフ
リットが有用である。最良の結果を得るには、前記ガラ
スフリットの熱膨張係数が４×１０-6から９×１０-6の
範囲にあることが望ましい。一般に、前記選ばれたガラ
スフリットの熱膨張係数は、前記偏光性化可能な下地ガ
ラスの熱膨張係数とできるだけ近い値でなければならな
い。
を用いて、一体化された偏光性及び非偏光性領域のパタ
ーンを形成する比較的簡単な手法を発見した。本発明に
使用できるガラスフリットには、硼酸ガラスフリット及
び燐酸ガラスフリットがあり、特に鉛−亜鉛−燐酸ガラ
スフリット、鉛−亜鉛−硼酸ガラスフリット、珪硼酸ガ
ラスフリット及び硼燐酸ガラスフリット、例えば酸化物
の重量％で、Ｂ2Ｏ3が１０重量％、Ａｌ2Ｏ3が１０重量
％、ＳｉＯ2が７重量％、及びＰｂＯが７３重量％、と
いう組成を有するコーニング社のＣＦ１４１６ガラスフ
リットが有用である。最良の結果を得るには、前記ガラ
スフリットの熱膨張係数が４×１０-6から９×１０-6の
範囲にあることが望ましい。一般に、前記選ばれたガラ
スフリットの熱膨張係数は、前記偏光性化可能な下地ガ
ラスの熱膨張係数とできるだけ近い値でなければならな
い。
【０００９】本発明による偏光性及び非偏光性領域が一
体化されたガラスの作成方法は、 ａ） ガラス中のハロゲン化銀粒子の存在により相分離
が可能な、銅及び銀を含むガラスを作成し、 ｂ） 前記ガラスに応力を加えて引き伸ばして、前記粒
子を前記応力の方向に引き伸ばし、整列させ、 ｃ） 還元性気体を遮断できる保護材を前記ガラスの表
面に施して、保護される領域と保護されない領域のパタ
ーンを形成し、 ｄ） 前記ガラスを還元性気体雰囲気に入れて前記ガラ
スの前記保護されない領域にある還元可能な相を還元
し、これによって該領域の前記ガラスを偏光性にし、 ｅ） 前記保護材を前記ガラスから除去して下地の非偏
光ガラスを露出させることにより、偏光性及び非偏光性
領域が一体化されたガラスを形成する方法において、前
記保護材がガラスフリットを含有する混合物であること
を特徴とするものである。
体化されたガラスの作成方法は、 ａ） ガラス中のハロゲン化銀粒子の存在により相分離
が可能な、銅及び銀を含むガラスを作成し、 ｂ） 前記ガラスに応力を加えて引き伸ばして、前記粒
子を前記応力の方向に引き伸ばし、整列させ、 ｃ） 還元性気体を遮断できる保護材を前記ガラスの表
面に施して、保護される領域と保護されない領域のパタ
ーンを形成し、 ｄ） 前記ガラスを還元性気体雰囲気に入れて前記ガラ
スの前記保護されない領域にある還元可能な相を還元
し、これによって該領域の前記ガラスを偏光性にし、 ｅ） 前記保護材を前記ガラスから除去して下地の非偏
光ガラスを露出させることにより、偏光性及び非偏光性
領域が一体化されたガラスを形成する方法において、前
記保護材がガラスフリットを含有する混合物であること
を特徴とするものである。
【００１０】前記工程（ｄ）に先立ち、さらに前記保護
材を焼結することが望ましい。
材を焼結することが望ましい。
【００１１】前記保護材を４２０から５００℃の範囲の
温度で焼結する工程を含むことが望ましい。
温度で焼結する工程を含むことが望ましい。
【００１２】前記保護材を水素及び酸素の存在の下で焼
結することが望ましい。
結することが望ましい。
【００１３】前記相分離可能なガラスは、酸化物基準の
重量％で、０〜２．５％のＬｉ2Ｏ，０〜９％のＮａ
2Ｏ，０〜１７％のＫ2Ｏ，０〜６％のＣｓ2Ｏ，ただし
Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｃｓ2Ｏは８〜２０％，１４
〜２３％のＢ2Ｏ3，５〜２５％のＡｌ2Ｏ3，０〜２５％
のＰ2Ｏ5，２０〜６５％のＳｉＯ2，０．００４〜０．
０２％のＣｕＯ，０．１５〜０．３％のＡｇ，０．１〜
０．２５％のＣｌ，及び０．１〜０．２％のＢｒを含
み、アルカリ金属の酸化物対Ｂ2Ｏ3のモル比が約０．５
５〜０．８５の範囲にあり、ＣｕＯ以外の２価金属の酸
化物を実質的に組成に含まず、ＡｇとＣｌ＋Ｂｒの重量
比が約約０．６５〜０．９５の範囲であることが望まし
い。
重量％で、０〜２．５％のＬｉ2Ｏ，０〜９％のＮａ
2Ｏ，０〜１７％のＫ2Ｏ，０〜６％のＣｓ2Ｏ，ただし
Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｃｓ2Ｏは８〜２０％，１４
〜２３％のＢ2Ｏ3，５〜２５％のＡｌ2Ｏ3，０〜２５％
のＰ2Ｏ5，２０〜６５％のＳｉＯ2，０．００４〜０．
０２％のＣｕＯ，０．１５〜０．３％のＡｇ，０．１〜
０．２５％のＣｌ，及び０．１〜０．２％のＢｒを含
み、アルカリ金属の酸化物対Ｂ2Ｏ3のモル比が約０．５
５〜０．８５の範囲にあり、ＣｕＯ以外の２価金属の酸
化物を実質的に組成に含まず、ＡｇとＣｌ＋Ｂｒの重量
比が約約０．６５〜０．９５の範囲であることが望まし
い。
【００１４】前記保護材は、ガラスフリット、フォトレ
ジスト、結合剤及びこれらの組合せを含むことが望まし
い。
ジスト、結合剤及びこれらの組合せを含むことが望まし
い。
【００１５】前記ガラスフリットは、珪硼酸ガラスフリ
ット、燐酸ガラスフリット及び硼燐酸ガラスフリットか
らなる群より選ばれる成形温度の低いガラスフリットを
含むことが望ましい。
ット、燐酸ガラスフリット及び硼燐酸ガラスフリットか
らなる群より選ばれる成形温度の低いガラスフリットを
含むことが望ましい。
【００１６】前記ガラスフリットは、鉛−珪硼酸ガラス
フリット、鉛−亜鉛−燐酸ガラスフリット及び鉛−亜鉛
−硼酸ガラスフリットからなる群より選ばれることが望
ましい。
フリット、鉛−亜鉛−燐酸ガラスフリット及び鉛−亜鉛
−硼酸ガラスフリットからなる群より選ばれることが望
ましい。
【００１７】前記ガラスフリットは、酸化物基準の重量
％で、１０重量％のＢ2Ｏ3，１０重量％のＡｌ2Ｏ3，７
重量％のＳｉＯ2，及び７３重量％のＰｂＯを含むこと
が望ましい。
％で、１０重量％のＢ2Ｏ3，１０重量％のＡｌ2Ｏ3，７
重量％のＳｉＯ2，及び７３重量％のＰｂＯを含むこと
が望ましい。
【００１８】前記保護材は、ＺｎＯとＣｕＯの少なくと
もいずれか１つと、結合剤とＢ2Ｏ3の少なくともいずれ
か１つとの混合物を含むことが望ましい。
もいずれか１つと、結合剤とＢ2Ｏ3の少なくともいずれ
か１つとの混合物を含むことが望ましい。
【００１９】前記結合剤は、ポリ（２−エチル−２−オ
キサゾリン）及びアミルアセテート−ニトロセルロース
からなる群から選ばれるものであることが望ましい。
キサゾリン）及びアミルアセテート−ニトロセルロース
からなる群から選ばれるものであることが望ましい。
【００２０】前記保護材は、酸エッチングにより除去さ
れることが望ましい。
れることが望ましい。
【００２１】前記保護材は、ガラスフリットとフォトレ
ジストの混合物を含むことが望ましい。
ジストの混合物を含むことが望ましい。
【００２２】
【実施の形態】本発明の第１の実施の形態では、相分離
が可能なハロゲン化銀粒子を含有する、銀を含むガラス
表面を、ガラスフリットとフォトレジストの混合物で被
覆する。該混合物は、スプレー、ステンシル、ナイフ被
覆、スクリーン印刷、スピンまたは浸漬被覆等のあらゆ
る実用的方法を用いて前記ガラス表面に施される。望ま
しくは、前記混合物は適度な粘性を示し、ピンホールが
ほとんどまたは全くない一様な厚さの被覆を形成できな
ければならない。次いで前記被覆されたガラスを乾燥
し、所望の偏光−非偏光ガラスパターンを含むマスクを
通して紫外光で露光する。露光後、前記ガラスを現像し
て（用いられるフォトレジストがポジ型かネガ型かしだ
いで）前記露光部または非露光部のフリット材を除去
し、次いで加熱して残るガラスフリット材を焼結する。
ネガ型で作用するシステムでは、紫外光にさらされたフ
ォトレジスト領域は前記現像液に不溶となり、非露光領
域が溶け去った後には元のパターンのネガ像が得られ
る。前記フリット層を焼結した後、前記ガラスを還元性
気体処理して銀イオンを原子状態に還元し、よって前記
ガラスを偏光性にする。次いで前記焼結されたフリット
材をあらゆる適当な方法、例えば酸エッチング、で除去
し前記下地の非偏光性ガラスを露出させる。こうして得
られたガラスは、偏光性及び非偏光性のガラス領域のパ
ターンで識別される。
が可能なハロゲン化銀粒子を含有する、銀を含むガラス
表面を、ガラスフリットとフォトレジストの混合物で被
覆する。該混合物は、スプレー、ステンシル、ナイフ被
覆、スクリーン印刷、スピンまたは浸漬被覆等のあらゆ
る実用的方法を用いて前記ガラス表面に施される。望ま
しくは、前記混合物は適度な粘性を示し、ピンホールが
ほとんどまたは全くない一様な厚さの被覆を形成できな
ければならない。次いで前記被覆されたガラスを乾燥
し、所望の偏光−非偏光ガラスパターンを含むマスクを
通して紫外光で露光する。露光後、前記ガラスを現像し
て（用いられるフォトレジストがポジ型かネガ型かしだ
いで）前記露光部または非露光部のフリット材を除去
し、次いで加熱して残るガラスフリット材を焼結する。
ネガ型で作用するシステムでは、紫外光にさらされたフ
ォトレジスト領域は前記現像液に不溶となり、非露光領
域が溶け去った後には元のパターンのネガ像が得られ
る。前記フリット層を焼結した後、前記ガラスを還元性
気体処理して銀イオンを原子状態に還元し、よって前記
ガラスを偏光性にする。次いで前記焼結されたフリット
材をあらゆる適当な方法、例えば酸エッチング、で除去
し前記下地の非偏光性ガラスを露出させる。こうして得
られたガラスは、偏光性及び非偏光性のガラス領域のパ
ターンで識別される。
【００２３】前記フリットとガラスのスラリーの作成に
用い得るフォトレジストの例には、米国マサチューセッ
ツ州のシプレイ社（Ｓｈｉｐｌｅｙ Ｉｎｃ．）が製造
し、マイクロエレクトロニク・ケミカル・コーポレーシ
ョン（Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ） 社が販売しているＳ
−１８１８，ＳＴＲ−１０４５，及びＳ−１８０５があ
る。
用い得るフォトレジストの例には、米国マサチューセッ
ツ州のシプレイ社（Ｓｈｉｐｌｅｙ Ｉｎｃ．）が製造
し、マイクロエレクトロニク・ケミカル・コーポレーシ
ョン（Ｍｉｃｒｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｃ
ａｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ） 社が販売しているＳ
−１８１８，ＳＴＲ−１０４５，及びＳ−１８０５があ
る。
【００２４】前記未反応のスラリーのみを溶解すること
ができる溶剤または溶液はどれでも前記ガラスの現像に
使用できる。前記現像液は、プリント基板工業で一般に
用いられている希釈カーボネート水溶液、例えばナトリ
ウム・カーボネート水溶液のような、水溶液であること
が望ましい。
ができる溶剤または溶液はどれでも前記ガラスの現像に
使用できる。前記現像液は、プリント基板工業で一般に
用いられている希釈カーボネート水溶液、例えばナトリ
ウム・カーボネート水溶液のような、水溶液であること
が望ましい。
【００２５】本発明の第２の実施の形態にしたがえば、
フリットと高分子結合剤からなる混合物を前記ガラス表
面の選ばれた領域に施して、該領域にバリア層を形成す
る。前記フリット−重合体混合物を前記ガラスの前記表
面に施して前記所望のパターンを形成した後、空気乾燥
し、次いで３８０℃で１５分加熱して前記結合剤及び余
分な水分を除去する。さらに前記試料を、（前記フリッ
トの組成により）４２０〜５００℃の温度範囲で約１５
〜３０分焼成して、前記フリットを焼結する。焼結は一
般に酸化性雰囲気で行われるが、後に還元処理されるべ
き前記ガラスの前記保護されていない領域の過剰な酸化
を防ぐため、水素と酸素の混合雰囲気としても差し支え
ない。
フリットと高分子結合剤からなる混合物を前記ガラス表
面の選ばれた領域に施して、該領域にバリア層を形成す
る。前記フリット−重合体混合物を前記ガラスの前記表
面に施して前記所望のパターンを形成した後、空気乾燥
し、次いで３８０℃で１５分加熱して前記結合剤及び余
分な水分を除去する。さらに前記試料を、（前記フリッ
トの組成により）４２０〜５００℃の温度範囲で約１５
〜３０分焼成して、前記フリットを焼結する。焼結は一
般に酸化性雰囲気で行われるが、後に還元処理されるべ
き前記ガラスの前記保護されていない領域の過剰な酸化
を防ぐため、水素と酸素の混合雰囲気としても差し支え
ない。
【００２６】焼結前の前記フリットの厚さは、おそらく
２０〜６０μｍの範囲にあるであろう。前記フリットが
焼結されてガラス層を形成した後、該ガラスの厚さは一
般に、前記フリット厚さの４０〜６０％の範囲になる。
２０〜６０μｍの範囲にあるであろう。前記フリットが
焼結されてガラス層を形成した後、該ガラスの厚さは一
般に、前記フリット厚さの４０〜６０％の範囲になる。
【００２７】焼結後、前記ガラスを還元性気体処理し
て、前記ガラスの前記保護されていない領域を偏光性に
する。次いで前記バリア層を除去して下地の非偏光性領
域を露出し、偏光性及び非偏光性領域が一体化したパタ
ーンをもつガラスを作成する。本実施の形態において
は、前記バリア材のパターンはあらゆる適当な方法で形
成できる。望ましい実施の形態においては、前記フリッ
トと高分子材の混合物は前記所望のパターンをもつ薄板
を通して、スプレー、スクリーン及びステンシル印刷に
より前記ガラス表面に施される。
て、前記ガラスの前記保護されていない領域を偏光性に
する。次いで前記バリア層を除去して下地の非偏光性領
域を露出し、偏光性及び非偏光性領域が一体化したパタ
ーンをもつガラスを作成する。本実施の形態において
は、前記バリア材のパターンはあらゆる適当な方法で形
成できる。望ましい実施の形態においては、前記フリッ
トと高分子材の混合物は前記所望のパターンをもつ薄板
を通して、スプレー、スクリーン及びステンシル印刷に
より前記ガラス表面に施される。
【００２８】本実施の形態で用い得る還元性気体遮断材
料の例にはＺｎＯ及びＣｕＯがある。ＺｎＯ及びＣｕＯ
は単独であるいは混合物として、１）結合剤と混合され
るか、２）Ｂ2Ｏ3と混合されるか、または３）結合剤及
びＢ2Ｏ3と混合されて、前記ガラス表面に施される。
料の例にはＺｎＯ及びＣｕＯがある。ＺｎＯ及びＣｕＯ
は単独であるいは混合物として、１）結合剤と混合され
るか、２）Ｂ2Ｏ3と混合されるか、または３）結合剤及
びＢ2Ｏ3と混合されて、前記ガラス表面に施される。
【００２９】前記ガラスフリット−結合剤混合物は、少
なくとも４０重量％のガラスフリット、５〜１０％の結
合剤を含み、残りは水であることが望ましい。結合剤の
種類に応じて、例えば結合剤の溶解度を高めるためのア
ルコール等、他の溶媒を加えることが有用であることが
ある。また濡れ性改善のために、界面活性剤が加えられ
ることもある。一般に、前記フリット含有量が少なくな
るほど前記粘性は低くなり、前記保護層の前記焼結後の
厚さが小さくなる。
なくとも４０重量％のガラスフリット、５〜１０％の結
合剤を含み、残りは水であることが望ましい。結合剤の
種類に応じて、例えば結合剤の溶解度を高めるためのア
ルコール等、他の溶媒を加えることが有用であることが
ある。また濡れ性改善のために、界面活性剤が加えられ
ることもある。一般に、前記フリット含有量が少なくな
るほど前記粘性は低くなり、前記保護層の前記焼結後の
厚さが小さくなる。
【００３０】前記フリット・スラリーの作成に用い得る
結合剤及び接着剤の例には、米国アリゾナ州のポリマー
・ケミストリー・イノベイションズ（Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｉｎｏｖａｔｉｏｎｓ）社からア
クアゾル（Ａｑｕａｚｏｌ）（登録商標）という名称で
市販されているポリ（２−エチル−２−オキサゾリ
ン）、及びアミルアセテート−ニトロセルロース溶液が
ある。
結合剤及び接着剤の例には、米国アリゾナ州のポリマー
・ケミストリー・イノベイションズ（Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｉｎｏｖａｔｉｏｎｓ）社からア
クアゾル（Ａｑｕａｚｏｌ）（登録商標）という名称で
市販されているポリ（２−エチル−２−オキサゾリ
ン）、及びアミルアセテート−ニトロセルロース溶液が
ある。
【００３１】
【実施例】１．本発明のフリット−結合剤の気体遮断効
果を示すため、フェロ社（Ｆｅｒｒｏ Ｉｎｃ．）から
購入した品番１４１６ガラスフリット１０グラムをアミ
ル−アセテートニトロセルロース（結合剤）２５ｃｍ3
と混合し、混合が十分行われるように前記混合物を一晩
中ローラー・ミキサーにかけた。コーニング社の品番８
１１１ガラス（やはり米国ニューヨーク州コーニングの
コーニング社から市販されている、ハロゲン化銀粒子が
引き伸ばされているという特色をもつ、相分離が可能な
銅と銀を含むガラス）試料をいくつか、１インチ×３イ
ンチの大きさに切り分けた。各試料の寸法１インチ×
０．５インチの領域を、テープを用いてマスクした。次
いで前記ガラス試料のマスクされていない領域を前記フ
リット−結合剤混合物で浸漬被覆した。被覆後、前記ガ
ラス試料を室温で空気乾燥し、前記テープをはがしてか
ら、前記ガラス試料をオーブンに入れて３８０℃で１５
分加熱し、前記結合剤を除去した。最後に、約１０℃／
分の率で５００℃まで温度を上げ、５００℃で１５分保
持して前記試料を加熱した。前記加熱されたフリットは
流れて、前記ガラスの表面に１２〜１５μｍの範囲の厚
さをもつガラス層を形成する。前記ガラス試料表面に前
記フリット層を形成した後、いくつかの対照試料（被覆
のない品番８１１１ガラス）と一緒に、前記ガラス試料
を水素還元炉内で６時間加熱した。
果を示すため、フェロ社（Ｆｅｒｒｏ Ｉｎｃ．）から
購入した品番１４１６ガラスフリット１０グラムをアミ
ル−アセテートニトロセルロース（結合剤）２５ｃｍ3
と混合し、混合が十分行われるように前記混合物を一晩
中ローラー・ミキサーにかけた。コーニング社の品番８
１１１ガラス（やはり米国ニューヨーク州コーニングの
コーニング社から市販されている、ハロゲン化銀粒子が
引き伸ばされているという特色をもつ、相分離が可能な
銅と銀を含むガラス）試料をいくつか、１インチ×３イ
ンチの大きさに切り分けた。各試料の寸法１インチ×
０．５インチの領域を、テープを用いてマスクした。次
いで前記ガラス試料のマスクされていない領域を前記フ
リット−結合剤混合物で浸漬被覆した。被覆後、前記ガ
ラス試料を室温で空気乾燥し、前記テープをはがしてか
ら、前記ガラス試料をオーブンに入れて３８０℃で１５
分加熱し、前記結合剤を除去した。最後に、約１０℃／
分の率で５００℃まで温度を上げ、５００℃で１５分保
持して前記試料を加熱した。前記加熱されたフリットは
流れて、前記ガラスの表面に１２〜１５μｍの範囲の厚
さをもつガラス層を形成する。前記ガラス試料表面に前
記フリット層を形成した後、いくつかの対照試料（被覆
のない品番８１１１ガラス）と一緒に、前記ガラス試料
を水素還元炉内で６時間加熱した。
【００３２】前記水素処理後、前記フリット層を酸エッ
チングで除去した。前記試料の前記被覆された領域の下
地の前記ガラスは品番８１１１ガラスの本来の色を保っ
ているので、水素処理の影響を受けていないこと、すな
わち前記ガラスフリットが前記還元性気体（この場合は
水素）の遮断及び前記気体の前記下地ガラスとの接触の
防止に有効であることを示していることを発明者等は認
めた。前記保護されていないガラス領域は、前記水素処
理により偏光性になっていることが認められた。
チングで除去した。前記試料の前記被覆された領域の下
地の前記ガラスは品番８１１１ガラスの本来の色を保っ
ているので、水素処理の影響を受けていないこと、すな
わち前記ガラスフリットが前記還元性気体（この場合は
水素）の遮断及び前記気体の前記下地ガラスとの接触の
防止に有効であることを示していることを発明者等は認
めた。前記保護されていないガラス領域は、前記水素処
理により偏光性になっていることが認められた。
【００３３】２．次の例では、フォトリソグラフィ工程
により偏光ガラスのパターンを非偏光ガラス上に形成す
る、本発明の実施例を説明する。 （ａ）スラリー： ナルジェン（Ｎａｌｇｅｎｅ）の２
５０ｍｌ瓶にＵＶ光が入らないようにダクト（ｄｕｃ
ｔ）・テープを巻き付け、前記瓶の底にセラミック製の
薬剤撹拌球を１０個置いた。コーニング・ガラス品番Ｃ
Ｆ１４１６ガラスフリットの粉末を重さをはかり、１４
０ｇを前記瓶に入れ、黄色光のクリーンルーム内でシプ
レイ社のフォトレジストＳ−１８０５を計量して、７０
ｇを前記フリットに加えた。前記瓶のふたをダクト・テ
ープで密閉し、前記混合液の入った瓶を一晩中ローラー
・ミキサーの上に置いて、均質に混合されたスラリーを
得た。 （ｂ）塗布及び乾燥： 試料へのスプレーは、３０ｐｓ
ｉに設定した空気圧調整器及び小さなビンク（Ｂｉｎ
ｋ）・スプレーガンを用いて、クリーンルーム内で行っ
た。上記２（ａ）のガラスフリット・スラリーの１パス
・スプレーにより前記ガラス試料に被覆した（１パス・
スプレーとは、試料がスプレーを受けるためにスプレー
ガンの前を１回だけ通過することをいう）。前記スプレ
ー被覆された試料を、９０℃のオーブン内に１５分間入
れて乾燥した。 （ｃ）ＵＶ露光： ガラスフリットがスプレーされた試
料３枚をそれぞれ５秒、１０秒及び１５秒、ＵＶ光で露
光した。１５秒露光した試料で最も良い結果が得られ
た。精確で、型くずれがなく、輪郭が鮮明な円が前記パ
ターン内に５０倍の視野ではっきりと見えた。露光後、
前記試料を純水とシプレー社の３５１現像液の５：１混
合液を用いて現像した。前記５秒及び１０秒露光の試料
は、こすり洗いしなければ露光したフリット−フォトレ
ジストを除去できなかった。現像後、前記試料を純水で
リンスし、空気乾燥して、９０℃のオーブン内に１５分
間入れて乾燥した。デクタック（Ｄｅｋｔａｋ）社の段
差測定器により、パターンの平均膜厚が約１０μｍであ
ることがわかった。最後に前記試料の背面、すなわち裏
面に約１０μｍ厚のガラスフリットをスプレーした。 （ｄ）焼結： 前記試料を室温でオーブンに入れ、１０
℃／分の率で温度を最高温度の５００℃まで上げ、最高
温度に１５分間保持し、その後室温まで自然冷却するこ
とで焼結を行った。 （ｅ）水素処理： 前記焼結した試料を３気圧の水素環
境中に５．５時間置き、前記ガラスの前記露光した領域
を還元して、該領域を偏光性にした。前記還元工程後、
前記試料を２０％酢酸水溶液で洗い、前記ガラスフリッ
トを除去した。前記試料の顕微鏡検査では、型くずれの
ない円形の非偏光性領域パターンが見られた。
により偏光ガラスのパターンを非偏光ガラス上に形成す
る、本発明の実施例を説明する。 （ａ）スラリー： ナルジェン（Ｎａｌｇｅｎｅ）の２
５０ｍｌ瓶にＵＶ光が入らないようにダクト（ｄｕｃ
ｔ）・テープを巻き付け、前記瓶の底にセラミック製の
薬剤撹拌球を１０個置いた。コーニング・ガラス品番Ｃ
Ｆ１４１６ガラスフリットの粉末を重さをはかり、１４
０ｇを前記瓶に入れ、黄色光のクリーンルーム内でシプ
レイ社のフォトレジストＳ−１８０５を計量して、７０
ｇを前記フリットに加えた。前記瓶のふたをダクト・テ
ープで密閉し、前記混合液の入った瓶を一晩中ローラー
・ミキサーの上に置いて、均質に混合されたスラリーを
得た。 （ｂ）塗布及び乾燥： 試料へのスプレーは、３０ｐｓ
ｉに設定した空気圧調整器及び小さなビンク（Ｂｉｎ
ｋ）・スプレーガンを用いて、クリーンルーム内で行っ
た。上記２（ａ）のガラスフリット・スラリーの１パス
・スプレーにより前記ガラス試料に被覆した（１パス・
スプレーとは、試料がスプレーを受けるためにスプレー
ガンの前を１回だけ通過することをいう）。前記スプレ
ー被覆された試料を、９０℃のオーブン内に１５分間入
れて乾燥した。 （ｃ）ＵＶ露光： ガラスフリットがスプレーされた試
料３枚をそれぞれ５秒、１０秒及び１５秒、ＵＶ光で露
光した。１５秒露光した試料で最も良い結果が得られ
た。精確で、型くずれがなく、輪郭が鮮明な円が前記パ
ターン内に５０倍の視野ではっきりと見えた。露光後、
前記試料を純水とシプレー社の３５１現像液の５：１混
合液を用いて現像した。前記５秒及び１０秒露光の試料
は、こすり洗いしなければ露光したフリット−フォトレ
ジストを除去できなかった。現像後、前記試料を純水で
リンスし、空気乾燥して、９０℃のオーブン内に１５分
間入れて乾燥した。デクタック（Ｄｅｋｔａｋ）社の段
差測定器により、パターンの平均膜厚が約１０μｍであ
ることがわかった。最後に前記試料の背面、すなわち裏
面に約１０μｍ厚のガラスフリットをスプレーした。 （ｄ）焼結： 前記試料を室温でオーブンに入れ、１０
℃／分の率で温度を最高温度の５００℃まで上げ、最高
温度に１５分間保持し、その後室温まで自然冷却するこ
とで焼結を行った。 （ｅ）水素処理： 前記焼結した試料を３気圧の水素環
境中に５．５時間置き、前記ガラスの前記露光した領域
を還元して、該領域を偏光性にした。前記還元工程後、
前記試料を２０％酢酸水溶液で洗い、前記ガラスフリッ
トを除去した。前記試料の顕微鏡検査では、型くずれの
ない円形の非偏光性領域パターンが見られた。
【００３４】３．次に、最終焼成段階において水素を遮
断する目的で、シルクスクリーン及びステンシル印刷を
用いて、透明なスライドガラス上に直径２．４５ｍｍの
フリット像及びべた塗りフリット層を作成した実施例を
説明する。
断する目的で、シルクスクリーン及びステンシル印刷を
用いて、透明なスライドガラス上に直径２．４５ｍｍの
フリット像及びべた塗りフリット層を作成した実施例を
説明する。
【００３５】シルクスクリーン・ドット印刷工程 ａ）黒地に透明な９０個のドットパターンをもった石英
ガラスを作業マスクとして用いてポジ・フィルムを作成
し、該フィルムを用いて１２インチ×１２インチの版枠
にはられた４００メッシュのステンレススチール製シル
クスクリーンを作成した； ｂ） 前記シルクスクリーン上に、米国ニューヨーク
州、ジョンソン・シティにあるＩＲＩインターナショナ
ル社から市販されているＨＰエマルジョンインクを１０
μｍの厚さに被覆した； ｃ） 後で前記シルクスクリーンを通して前記パターン
を印刷するため、フリットを入れた２種の媒質を作成し
た；第１の媒質は、パイン油をＣＦ−１４１６フリット
と一緒に粘度が約８０，０００ｃｐｓになるまで練りロ
ール機にかけて作成した。一方第２の媒質は、ヘラウス
・コーポレーション（ＨｅｒａｅｕｓＣｏｒｐｏｒａｔ
ｉｏｎ）社から市販されているＩＰ−９０２５Ｗを粘度
９６，０００ｃｐｓで用いた。ＩＰ−９０２５Ｗは実質
的にテリピネオール・ビ−ブチルフタレートとガラスフ
リットの混合物である。 ｄ） 前記４００メッシュのステンレススチール製シル
クスクリーン及び前記２種の媒質を用いて、前記パター
ンをスクリーン印刷機で印刷した。該スクリーン印刷機
はジュロメータ硬度６０のスキージー及び媒質を前記ス
クリーン上に拡げるフラッドバーを備え、印刷速度を毎
秒２．５インチとした。 ｅ） 次いで前記透明なガラス試料を５００℃で焼成
し、評価した。
ガラスを作業マスクとして用いてポジ・フィルムを作成
し、該フィルムを用いて１２インチ×１２インチの版枠
にはられた４００メッシュのステンレススチール製シル
クスクリーンを作成した； ｂ） 前記シルクスクリーン上に、米国ニューヨーク
州、ジョンソン・シティにあるＩＲＩインターナショナ
ル社から市販されているＨＰエマルジョンインクを１０
μｍの厚さに被覆した； ｃ） 後で前記シルクスクリーンを通して前記パターン
を印刷するため、フリットを入れた２種の媒質を作成し
た；第１の媒質は、パイン油をＣＦ−１４１６フリット
と一緒に粘度が約８０，０００ｃｐｓになるまで練りロ
ール機にかけて作成した。一方第２の媒質は、ヘラウス
・コーポレーション（ＨｅｒａｅｕｓＣｏｒｐｏｒａｔ
ｉｏｎ）社から市販されているＩＰ−９０２５Ｗを粘度
９６，０００ｃｐｓで用いた。ＩＰ−９０２５Ｗは実質
的にテリピネオール・ビ−ブチルフタレートとガラスフ
リットの混合物である。 ｄ） 前記４００メッシュのステンレススチール製シル
クスクリーン及び前記２種の媒質を用いて、前記パター
ンをスクリーン印刷機で印刷した。該スクリーン印刷機
はジュロメータ硬度６０のスキージー及び媒質を前記ス
クリーン上に拡げるフラッドバーを備え、印刷速度を毎
秒２．５インチとした。 ｅ） 次いで前記透明なガラス試料を５００℃で焼成
し、評価した。
【００３６】シルクスクリーンべた印刷工程 ａ） ３６ｍｍ×７６ｍｍのべたパターンをもつルビリ
ス（ｒｕｂｙｌｉｔｈ）フィルムのポジ型マスターマス
クを作成した； ｂ） 前記マスクを用いて前記べたパターンを形成した
４００メッシュステンレススチール製シルクスクリーン
及びＣＦ−１４１６フリットを混ぜたサーデック（ＣＥ
ＲＤＥＣ）４７９油及び上述のＩＰ−９０２６Ｗ媒質を
用いて、スクリーン印刷機で透明なガラス上にシルクス
クリーン印刷した。また、前記べたパターンをＣＦ−１
４１６フリットとシプレイ社のＳＴＲ−１０４５フォト
レジストの混合物を用いてスクリーン印刷し、ＵＶ光源
で露光して、フォトリソグラフィにより前記べたパター
ンを作成した； ｃ） 次いで前記透明なガラスを５００℃で焼成し、評
価した。
ス（ｒｕｂｙｌｉｔｈ）フィルムのポジ型マスターマス
クを作成した； ｂ） 前記マスクを用いて前記べたパターンを形成した
４００メッシュステンレススチール製シルクスクリーン
及びＣＦ−１４１６フリットを混ぜたサーデック（ＣＥ
ＲＤＥＣ）４７９油及び上述のＩＰ−９０２６Ｗ媒質を
用いて、スクリーン印刷機で透明なガラス上にシルクス
クリーン印刷した。また、前記べたパターンをＣＦ−１
４１６フリットとシプレイ社のＳＴＲ−１０４５フォト
レジストの混合物を用いてスクリーン印刷し、ＵＶ光源
で露光して、フォトリソグラフィにより前記べたパター
ンを作成した； ｃ） 次いで前記透明なガラスを５００℃で焼成し、評
価した。
【００３７】ステンシル印刷工程 ａ） ドットパターンをコンピュータファイル上にデジ
タイズし、これを用いて０．００２インチ及び０．００
３インチ厚のステンシル板をレーザエッチングした； ｂ） （ｉ）ヘラウスＩＰ−９０２５Ｗを粘度９６，０
００ｃｐｓで、（ｉｉ）ヘラウスＩＰ−９０２６を粘度
１１２，０００ｃｐｓで，また（ｉｉｉ）ヘラウスＩＰ
−９０３９を粘度２２０，０００ｃｐｓで用いて、数種
のインク材を作成した； ｃ） ステンレススチール製スキージー及びフラッドバ
ーを備えた印刷機を用い、印刷速度を毎秒１〜５インチ
として、前記パターンを透明なガラス及びコーニング社
のポーラコア（Ｐｏｌａｒｃｏｒ）（登録商標）ガラス
にステンシル印刷した； ｄ） 次いで前記ガラス試料を５００℃で焼成し、印刷
品質を評価した。
タイズし、これを用いて０．００２インチ及び０．００
３インチ厚のステンシル板をレーザエッチングした； ｂ） （ｉ）ヘラウスＩＰ−９０２５Ｗを粘度９６，０
００ｃｐｓで、（ｉｉ）ヘラウスＩＰ−９０２６を粘度
１１２，０００ｃｐｓで，また（ｉｉｉ）ヘラウスＩＰ
−９０３９を粘度２２０，０００ｃｐｓで用いて、数種
のインク材を作成した； ｃ） ステンレススチール製スキージー及びフラッドバ
ーを備えた印刷機を用い、印刷速度を毎秒１〜５インチ
として、前記パターンを透明なガラス及びコーニング社
のポーラコア（Ｐｏｌａｒｃｏｒ）（登録商標）ガラス
にステンシル印刷した； ｄ） 次いで前記ガラス試料を５００℃で焼成し、印刷
品質を評価した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０２Ｃ 7/12 Ｇ０２Ｃ 7/12
Claims (13)
- 【請求項１】 ａ） ガラス中のハロゲン化銀粒子の存
在により相分離が可能な、銅及び銀を含むガラスを作成
し、 ｂ） 前記ガラスに応力を加えて引き伸ばして、前記粒
子を前記応力の方向に引き伸ばし、整列させ、 ｃ） 還元性気体を遮断できる保護材を前記ガラスの表
面に施して、保護される領域と保護されない領域のパタ
ーンを形成し、 ｄ） 前記ガラスを還元性気体雰囲気にさらして前記ガ
ラスの前記保護されない領域にある還元可能な相を還元
し、これによって該領域の前記ガラスを偏光性にし、 ｅ） 前記保護材を前記ガラスから除去して下地の非偏
光ガラスを露出させることにより、偏光性及び非偏光性
領域が一体化されたガラスを形成する方法において、 前記保護材がガラスフリットを含有する混合物であるこ
とを特徴とする方法。 - 【請求項２】 前記工程（ｄ）に先立ち、さらに前記保
護材を焼結する工程を含むことを特徴とする請求項１記
載の方法。 - 【請求項３】 前記保護材を４２０から５００℃の範囲
の温度で焼結することを特徴とする請求項２記載の方
法。 - 【請求項４】 前記保護材を水素及び酸素の存在の下で
焼結することを特徴とする請求項３記載の方法。 - 【請求項５】 前記相分離可能なガラスが、酸化物の重
量％で、０〜２．５％のＬｉ2Ｏ，０〜９％のＮａ2Ｏ，
０〜１７％のＫ2Ｏ，０〜６％のＣｓ2Ｏ，ただしＬｉ2
Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ＋Ｃｓ2Ｏは８〜２０％，１４〜２
３％のＢ2Ｏ3，５〜２５％のＡｌ2Ｏ3，０〜２５％のＰ
2Ｏ5，２０〜６５％のＳｉＯ2，０．００４〜０．０２
％のＣｕＯ，０．１５〜０．３％のＡｇ，０．１〜０．
２５％のＣｌ，及び０．１〜０．２％のＢｒを含み、ア
ルカリ金属の酸化物対Ｂ2Ｏ3のモル比が約０．５５〜
０．８５の範囲にあり、ＣｕＯ以外の２価金属の酸化物
を実質的に組成に含まず、Ａｇ対Ｃｌ＋Ｂｒの重量比が
約約０．６５〜０．９５の範囲であることを特徴とする
請求項１記載の方法。 - 【請求項６】 前記保護材がガラスフリット、フォトレ
ジスト、結合剤及びこれらの組合せを含むことを特徴と
する請求項１記載の方法。 - 【請求項７】 前記ガラスフリットが珪硼酸ガラスフリ
ット、燐酸ガラスフリット及び硼燐酸ガラスフリットか
らなる群より選ばれる成形温度の低いガラスフリットを
含むことを特徴とする請求項６記載の方法。 - 【請求項８】 前記ガラスフリットが鉛−珪硼酸ガラス
フリット、鉛−亜鉛−燐酸ガラスフリット及び鉛−亜鉛
−硼酸ガラスフリットからなる群より選ばれることを特
徴とする請求項７記載の方法。 - 【請求項９】 前記ガラスフリットが酸化物基準の重量
％で、１０重量％のＢ2Ｏ3，１０重量％のＡｌ2Ｏ3，７
重量％のＳｉＯ2，及び７３重量％のＰｂＯを含むこと
を特徴とする請求項８記載の方法。 - 【請求項１０】 前記保護材がＺｎＯとＣｕＯの少なく
ともいずれか１つと、結合剤とＢ2Ｏ3の少なくともいず
れか１つとの混合物を含むことを特徴とする請求項１記
載の方法。 - 【請求項１１】 前記結合剤がポリ（２−エチル−２−
オキサゾリン）及びアミルアセテート−ニトロセルロー
スからなる群から選ばれることを特徴とする請求項１０
記載の方法。 - 【請求項１２】 前記保護材が酸エッチングにより除去
されることを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１３】 前記保護材がガラスフリットとフォト
レジストの混合物を含むことを特徴とする請求項１記載
の方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US6374197P | 1997-10-17 | 1997-10-17 | |
| US063741 | 1997-10-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11194218A true JPH11194218A (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=22051185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10294775A Pending JPH11194218A (ja) | 1997-10-17 | 1998-10-16 | 偏光性及び非偏光性領域が一体化されたガラスの作成方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6058738A (ja) |
| EP (1) | EP0909744B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11194218A (ja) |
| KR (1) | KR100488201B1 (ja) |
| DE (1) | DE69802774T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6171762B1 (en) * | 1996-03-28 | 2001-01-09 | Corning Incorporated | Polarizing glasses having integral non-polarizing regions |
| US6524773B1 (en) * | 1996-03-28 | 2003-02-25 | Corning Incorporated | Polarizing glasses having integral non-polarizing regions |
| WO2008078524A1 (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-03 | Arisawa Mfg. Co., Ltd. | 偏光ガラスおよび偏光ガラスの製造方法 |
| JP2008225483A (ja) * | 2008-03-27 | 2008-09-25 | Arisawa Mfg Co Ltd | 偏光ガラスおよび偏光ガラスの製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
| EP1017642A4 (en) * | 1997-04-24 | 2002-06-26 | Corning Inc | METHOD FOR PRODUCING GLASS WITH POLARIZING AND NON-POLARIZING AREAS |
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| US7110179B2 (en) * | 2002-12-19 | 2006-09-19 | Corning Incorporated | Polarizers and isolators and methods of manufacture |
| JP5708096B2 (ja) * | 2011-03-18 | 2015-04-30 | セイコーエプソン株式会社 | 偏光素子の製造方法 |
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| KR101366501B1 (ko) | 2012-09-28 | 2014-02-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 도광판 제조장치 및 도광판 제조방법 |
| CN112876084B (zh) * | 2020-12-25 | 2022-12-09 | 温州大学 | 量子点微晶玻璃及其制备和应用3d打印技术制备量子点微晶玻璃制品的方法 |
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|---|---|---|---|---|
| US3961120A (en) * | 1974-02-13 | 1976-06-01 | Ppg Industries, Inc. | Coating glass sheets on both surfaces |
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| KR0174316B1 (ko) * | 1994-07-05 | 1999-04-01 | 모리시다 요이치 | 미세패턴 형성방법 |
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1998
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- 1998-09-02 DE DE69802774T patent/DE69802774T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-16 US US09/173,892 patent/US6058738A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-10-16 JP JP10294775A patent/JPH11194218A/ja active Pending
- 1998-10-16 KR KR10-1998-0043322A patent/KR100488201B1/ko not_active IP Right Cessation
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1999
- 1999-06-08 US US09/327,870 patent/US6089042A/en not_active Expired - Fee Related
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| KR100488201B1 (ko) | 2005-07-07 |
| EP0909744A3 (en) | 1999-04-28 |
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| EP0909744A2 (en) | 1999-04-21 |
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| DE69802774T2 (de) | 2002-08-08 |
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