JPH11169854A - 膜ろ過装置及びその運転方法 - Google Patents
膜ろ過装置及びその運転方法Info
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- JPH11169854A JPH11169854A JP9346605A JP34660597A JPH11169854A JP H11169854 A JPH11169854 A JP H11169854A JP 9346605 A JP9346605 A JP 9346605A JP 34660597 A JP34660597 A JP 34660597A JP H11169854 A JPH11169854 A JP H11169854A
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- B01D65/00—Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
- B01D65/02—Membrane cleaning or sterilisation ; Membrane regeneration
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01D61/00—Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
- B01D61/14—Ultrafiltration; Microfiltration
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01D—SEPARATION
- B01D65/00—Accessories or auxiliary operations, in general, for separation processes or apparatus using semi-permeable membranes
- B01D65/08—Prevention of membrane fouling or of concentration polarisation
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2321/00—Details relating to membrane cleaning, regeneration, sterilization or to the prevention of fouling
- B01D2321/18—Use of gases
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B01D2321/2066—Pulsated flow
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- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】膜面の全体を洗浄することができ、良好な運転
を長期間継続して行うことができるようにする。 【解決手段】処理槽３１と、該処理槽３１に浸漬（せ
き）され、平膜状の膜エレメントを積層することによっ
て形成された膜ユニット５０と、該膜ユニット５０の底
部に配設された筒状のスカート部７１と、該スカート部
７１の下方に配設され、気体を噴射するばっ気装置６１
と、前記膜ユニット５０の底部に配設され、前記スカー
ト部７１内において該スカート部７１との間に区画室７
４〜７６を形成する仕切り７２、７３と、前記区画室７
４〜７６に気体を供給する気体供給手段とを有する。前
記気体供給手段によって各区画室７４〜７６に気体が供
給されるので、各膜間における膜ユニット５０の両側縁
部を流れる気泡の量を多くすることができる。膜面５２
の全体を洗浄することができる。
を長期間継続して行うことができるようにする。 【解決手段】処理槽３１と、該処理槽３１に浸漬（せ
き）され、平膜状の膜エレメントを積層することによっ
て形成された膜ユニット５０と、該膜ユニット５０の底
部に配設された筒状のスカート部７１と、該スカート部
７１の下方に配設され、気体を噴射するばっ気装置６１
と、前記膜ユニット５０の底部に配設され、前記スカー
ト部７１内において該スカート部７１との間に区画室７
４〜７６を形成する仕切り７２、７３と、前記区画室７
４〜７６に気体を供給する気体供給手段とを有する。前
記気体供給手段によって各区画室７４〜７６に気体が供
給されるので、各膜間における膜ユニット５０の両側縁
部を流れる気泡の量を多くすることができる。膜面５２
の全体を洗浄することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、浸漬（せき）型の
膜ろ過装置及びその運転方法に関するものである。
膜ろ過装置及びその運転方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、廃水処理、水中の有価物回収処理
等においては、多くの場合、固液分離が行われ、その手
法の一つとして精密ろ過膜、限外ろ過膜等の複数の膜エ
レメントによって形成された膜ユニットを使用する膜ろ
過装置が提供されている。この場合、前記膜エレメント
において、被処理水側に圧力を加えたり、処理水側に吸
引力を発生させたりすることによって処理水が透過させ
られ、処理水だけが膜を透過する。
等においては、多くの場合、固液分離が行われ、その手
法の一つとして精密ろ過膜、限外ろ過膜等の複数の膜エ
レメントによって形成された膜ユニットを使用する膜ろ
過装置が提供されている。この場合、前記膜エレメント
において、被処理水側に圧力を加えたり、処理水側に吸
引力を発生させたりすることによって処理水が透過させ
られ、処理水だけが膜を透過する。
【０００３】ところが、前記膜エレメントにおいては、
膜の表面、すなわち、膜面に懸濁物質等の固形物が付着
すると、膜を構成する素材自身の抵抗以外にろ過抵抗が
発生し、増大して膜エレメントの透過性能を低下させて
しまう。そして、定量ろ過方式の場合は、被処理水側の
圧力と処理水側の圧力との差、すなわち、ろ過差圧が大
きくなり、ろ過に要するエネルギーが増大する。また、
定圧ろ過方式の場合は、透過水量、すなわち、処理水の
量が減少する。そこで、前記膜面の流速を大きくした
り、スポンジボール、担体等による洗浄を行ったりし
て、膜面への固形物の付着を極力少なくするようにした
膜ろ過装置も提供されている。
膜の表面、すなわち、膜面に懸濁物質等の固形物が付着
すると、膜を構成する素材自身の抵抗以外にろ過抵抗が
発生し、増大して膜エレメントの透過性能を低下させて
しまう。そして、定量ろ過方式の場合は、被処理水側の
圧力と処理水側の圧力との差、すなわち、ろ過差圧が大
きくなり、ろ過に要するエネルギーが増大する。また、
定圧ろ過方式の場合は、透過水量、すなわち、処理水の
量が減少する。そこで、前記膜面の流速を大きくした
り、スポンジボール、担体等による洗浄を行ったりし
て、膜面への固形物の付着を極力少なくするようにした
膜ろ過装置も提供されている。
【０００４】そして、水中に膜ユニットを浸漬してろ過
を行う浸漬型の膜ろ過装置においては、膜エレメントの
下方にばっ気装置を配設し、該ばっ気装置によって空気
を噴射してばっ気を行い、エアリフト作用によって膜面
に剪（せん）断力を加え、膜面を気液混合流によって洗
浄するようにしている（特公平４−７０９５８号公報参
照）。
を行う浸漬型の膜ろ過装置においては、膜エレメントの
下方にばっ気装置を配設し、該ばっ気装置によって空気
を噴射してばっ気を行い、エアリフト作用によって膜面
に剪（せん）断力を加え、膜面を気液混合流によって洗
浄するようにしている（特公平４−７０９５８号公報参
照）。
【０００５】また、前記ばっ気装置によって噴射された
空気を各膜間に均一に、かつ、効率的に供給するため
に、上端及び下端が開放された包囲体内に膜ユニットを
配設し、前記包囲体内の下部にばっ気装置を配設（特公
平７−２０５９２号公報参照）したり、上端及び下端が
開放された包囲体内に膜ユニットを配設し、前記包囲体
内の下部にばっ気装置を配設し、かつ、膜ユニットとば
っ気装置との間に整流手段を配設（特開平８−２８１０
８０号公報参照）したり、膜ユニットの下端にスカート
部を配設（特開平８−２８１０８３号公報参照）したり
した装置が提供されている。
空気を各膜間に均一に、かつ、効率的に供給するため
に、上端及び下端が開放された包囲体内に膜ユニットを
配設し、前記包囲体内の下部にばっ気装置を配設（特公
平７−２０５９２号公報参照）したり、上端及び下端が
開放された包囲体内に膜ユニットを配設し、前記包囲体
内の下部にばっ気装置を配設し、かつ、膜ユニットとば
っ気装置との間に整流手段を配設（特開平８−２８１０
８０号公報参照）したり、膜ユニットの下端にスカート
部を配設（特開平８−２８１０８３号公報参照）したり
した装置が提供されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の浸漬型の膜ろ過装置においては、前記ばっ気装置に
よって噴射された空気を各膜間に均一に供給することは
できるが、膜間を上昇するのに伴って気泡が徐々に膜面
の中央側を流れるようになってしまう。図２は従来の浸
漬型の膜ろ過装置の概念図である。
来の浸漬型の膜ろ過装置においては、前記ばっ気装置に
よって噴射された空気を各膜間に均一に供給することは
できるが、膜間を上昇するのに伴って気泡が徐々に膜面
の中央側を流れるようになってしまう。図２は従来の浸
漬型の膜ろ過装置の概念図である。
【０００７】図において、１０はラインＬ１を介して供
給された被処理水を収容する処理槽、１１は膜エレメン
ト、１２は膜、１３はフレームであり、該フレーム１３
の上端に集水ノズル１４が取り付けられ、該集水ノズル
１４に処理水を排出するためのラインＬ２が接続され
る。そして、該ラインＬ２に、吸引力を加えるためにポ
ンプＰが配設される。なお、前記膜エレメント１１は、
複数個隣接させ、積層して配設され、膜ユニットを構成
する。
給された被処理水を収容する処理槽、１１は膜エレメン
ト、１２は膜、１３はフレームであり、該フレーム１３
の上端に集水ノズル１４が取り付けられ、該集水ノズル
１４に処理水を排出するためのラインＬ２が接続され
る。そして、該ラインＬ２に、吸引力を加えるためにポ
ンプＰが配設される。なお、前記膜エレメント１１は、
複数個隣接させ、積層して配設され、膜ユニットを構成
する。
【０００８】また、膜面を洗浄するために、前記膜ユニ
ットの下方にばっ気装置１５が配設され、該ばっ気装置
１５は図示されない空気供給源にラインＬ３を介して接
続される。そして、前記ばっ気装置１５によって噴射さ
れた空気が、多数の気泡１６になって膜エレメント１１
の下端Ｓ１の全体に均一に供給され、膜間を被処理水と
共に流れて上昇させられる。なお、前記膜ユニットとば
っ気装置１５との間には、該ばっ気装置１５によって噴
射された空気を上方に案内するためのスカート部１７が
配設される。
ットの下方にばっ気装置１５が配設され、該ばっ気装置
１５は図示されない空気供給源にラインＬ３を介して接
続される。そして、前記ばっ気装置１５によって噴射さ
れた空気が、多数の気泡１６になって膜エレメント１１
の下端Ｓ１の全体に均一に供給され、膜間を被処理水と
共に流れて上昇させられる。なお、前記膜ユニットとば
っ気装置１５との間には、該ばっ気装置１５によって噴
射された空気を上方に案内するためのスカート部１７が
配設される。
【０００９】ところで、前記膜エレメント１１が処理槽
１０内において所定の長さにわたって延びるので、各膜
１２間を上昇しようとする気泡１６に対して膜エレメン
ト１１の両側縁部のフレーム１３、その近傍の被処理水
等が抵抗になる。したがって、前記気泡１６は、各膜間
を上昇するのに伴って、徐々に膜面の中央側に移動し、
膜エレメント１１の上端Ｓ２の前記両側縁部において
は、気泡１６の量が低下する。すなわち、前記気泡１６
は、台形状の領域ＡＲ１において多く流れ、三角形状の
領域ＡＲ２、ＡＲ３において相対的に少なくなる。その
結果、領域ＡＲ１においては、気泡１６によって汚泥が
除去されるが、領域ＡＲ２、ＡＲ３においては、洗浄効
果が低下するので汚泥が付着しやすくなり、最終的に、
膜面の全体を洗浄することができなくなる。そして、各
膜面間が汚泥、ＳＳ、コロイド等によって閉塞（そく）
し、良好な運転を長期間継続して行うことができなくな
ってしまう。
１０内において所定の長さにわたって延びるので、各膜
１２間を上昇しようとする気泡１６に対して膜エレメン
ト１１の両側縁部のフレーム１３、その近傍の被処理水
等が抵抗になる。したがって、前記気泡１６は、各膜間
を上昇するのに伴って、徐々に膜面の中央側に移動し、
膜エレメント１１の上端Ｓ２の前記両側縁部において
は、気泡１６の量が低下する。すなわち、前記気泡１６
は、台形状の領域ＡＲ１において多く流れ、三角形状の
領域ＡＲ２、ＡＲ３において相対的に少なくなる。その
結果、領域ＡＲ１においては、気泡１６によって汚泥が
除去されるが、領域ＡＲ２、ＡＲ３においては、洗浄効
果が低下するので汚泥が付着しやすくなり、最終的に、
膜面の全体を洗浄することができなくなる。そして、各
膜面間が汚泥、ＳＳ、コロイド等によって閉塞（そく）
し、良好な運転を長期間継続して行うことができなくな
ってしまう。
【００１０】本発明は、前記従来の膜ろ過装置の問題点
を解決して、膜面の全体を洗浄することができ、良好な
運転を長期間継続して行うことができる膜ろ過装置及び
その運転方法を提供することを目的とする。
を解決して、膜面の全体を洗浄することができ、良好な
運転を長期間継続して行うことができる膜ろ過装置及び
その運転方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】そのために、本発明の膜
ろ過装置においては、処理槽と、該処理槽に浸漬され、
平膜状の膜エレメントを積層することによって形成され
た膜ユニットと、該膜ユニットの底部に配設された筒状
のスカート部と、該スカート部の下方に配設され、気体
を噴射するばっ気装置と、前記膜ユニットの底部に配設
され、前記スカート部内において該スカート部との間に
区画室を形成する仕切りと、前記区画室に気体を供給す
る気体供給手段とを有する。
ろ過装置においては、処理槽と、該処理槽に浸漬され、
平膜状の膜エレメントを積層することによって形成され
た膜ユニットと、該膜ユニットの底部に配設された筒状
のスカート部と、該スカート部の下方に配設され、気体
を噴射するばっ気装置と、前記膜ユニットの底部に配設
され、前記スカート部内において該スカート部との間に
区画室を形成する仕切りと、前記区画室に気体を供給す
る気体供給手段とを有する。
【００１２】本発明の他の膜ろ過装置においては、処理
槽と、該処理槽に浸漬され、平膜状の膜エレメントを積
層することによって形成された膜ユニットと、該膜ユニ
ットの底部に配設された筒状のスカート部と、該スカー
ト部の下方に配設され、気体を噴射するばっ気装置と、
前記膜ユニットの底部に配設され、前記スカート部内に
おいて該スカート部との間に区画室を形成する仕切りと
を有する。
槽と、該処理槽に浸漬され、平膜状の膜エレメントを積
層することによって形成された膜ユニットと、該膜ユニ
ットの底部に配設された筒状のスカート部と、該スカー
ト部の下方に配設され、気体を噴射するばっ気装置と、
前記膜ユニットの底部に配設され、前記スカート部内に
おいて該スカート部との間に区画室を形成する仕切りと
を有する。
【００１３】そして、該仕切りは、下端をスカート部の
中央に向けて傾斜させられる。本発明の更に他の膜ろ過
装置においては、さらに、前記区画室に気体を供給する
気体供給手段を有する。本発明の膜ろ過装置の運転方法
においては、処理槽に、平膜状の膜エレメントを積層す
ることによって形成された膜ユニットが浸漬され、該膜
ユニットの底部にスカート部が配設され、該スカート部
の下方にばっ気装置が配設されるとともに、前記スカー
ト部内に複数の区画室が形成されるようになっている。
中央に向けて傾斜させられる。本発明の更に他の膜ろ過
装置においては、さらに、前記区画室に気体を供給する
気体供給手段を有する。本発明の膜ろ過装置の運転方法
においては、処理槽に、平膜状の膜エレメントを積層す
ることによって形成された膜ユニットが浸漬され、該膜
ユニットの底部にスカート部が配設され、該スカート部
の下方にばっ気装置が配設されるとともに、前記スカー
ト部内に複数の区画室が形成されるようになっている。
【００１４】そして、前記各区画室に選択的に気体を供
給する。
給する。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の
第１の実施の形態における膜ろ過装置の概念図、図３は
本発明の第１の実施の形態における膜ろ過装置の斜視
図、図４は本発明の第１の実施の形態における膜ユニッ
トの斜視図、図５は本発明の第１の実施の形態における
膜エレメントの要部斜視図である。
て図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の
第１の実施の形態における膜ろ過装置の概念図、図３は
本発明の第１の実施の形態における膜ろ過装置の斜視
図、図４は本発明の第１の実施の形態における膜ユニッ
トの斜視図、図５は本発明の第１の実施の形態における
膜エレメントの要部斜視図である。
【００１６】図において、３１はラインＬ１を介して供
給された被処理水を収容する処理槽、５０は該処理槽３
１中の被処理水に浸漬された膜ユニットであり、該膜ユ
ニット５０は、膜面５２が垂直方向に延びるように所定
の間隔を置いて配設された複数の平膜状の膜エレメント
５１を積層することによって形成される。なお、前記膜
５２間の間隔は通常５〜１５〔ｍｍ〕程度にされる。
給された被処理水を収容する処理槽、５０は該処理槽３
１中の被処理水に浸漬された膜ユニットであり、該膜ユ
ニット５０は、膜面５２が垂直方向に延びるように所定
の間隔を置いて配設された複数の平膜状の膜エレメント
５１を積層することによって形成される。なお、前記膜
５２間の間隔は通常５〜１５〔ｍｍ〕程度にされる。
【００１７】前記膜エレメント５１は、例えば、精密ろ
過膜、限外ろ過膜等の膜から成り、周縁に中空のフレー
ム５１ａを備え、該フレーム５１ａに膜を透過した後の
処理水が集められるようになっている。なお、各膜面５
２にはスペーサ５１ｃが配設される。そして、前記フレ
ーム５１ａの上端は集水ノズル５１ｂを介してラインＬ
２に接続されるとともに、該ラインＬ２にポンプＰ１が
配設され、図示されない制御装置によって前記ポンプＰ
１を駆動することにより、前記膜エレメント５１内に負
圧が発生させられ、処理水が吸引される。この場合、前
記制御装置によってポンプＰ１の回転数を調整すること
により、吸引される処理水の量を調整し、透過流束を変
更することができる。
過膜、限外ろ過膜等の膜から成り、周縁に中空のフレー
ム５１ａを備え、該フレーム５１ａに膜を透過した後の
処理水が集められるようになっている。なお、各膜面５
２にはスペーサ５１ｃが配設される。そして、前記フレ
ーム５１ａの上端は集水ノズル５１ｂを介してラインＬ
２に接続されるとともに、該ラインＬ２にポンプＰ１が
配設され、図示されない制御装置によって前記ポンプＰ
１を駆動することにより、前記膜エレメント５１内に負
圧が発生させられ、処理水が吸引される。この場合、前
記制御装置によってポンプＰ１の回転数を調整すること
により、吸引される処理水の量を調整し、透過流束を変
更することができる。
【００１８】前記構成の膜ろ過装置において、被処理水
をラインＬ１を介して供給し、前記ポンプＰ１を駆動す
ると、被処理水中の処理水だけが吸引され、前記膜エレ
メント５１の膜を透過させられる。このとき、前記膜面
５２に懸濁物質等の図示されない固形物が付着すると、
膜を構成する素材自身の抵抗のほかにろ過抵抗が発生
し、増大してろ過差圧が大きくなり、膜エレメント５１
の透過性能を低下させてしまう。
をラインＬ１を介して供給し、前記ポンプＰ１を駆動す
ると、被処理水中の処理水だけが吸引され、前記膜エレ
メント５１の膜を透過させられる。このとき、前記膜面
５２に懸濁物質等の図示されない固形物が付着すると、
膜を構成する素材自身の抵抗のほかにろ過抵抗が発生
し、増大してろ過差圧が大きくなり、膜エレメント５１
の透過性能を低下させてしまう。
【００１９】そこで、膜面５２を気液混合流によって掃
流し、洗浄することにより、膜面５２への固形物の付着
を極力少なくするようにしている。そのために、前記膜
ユニット５０の下方にばっ気装置６１が配設され、該ば
っ気装置６１は図示されない空気供給源にラインＬ３を
介して接続される。そして、前記ラインＬ３に調整弁６
３が配設され、前記制御装置によって、例えば、調整弁
６３の開度を変更し、ばっ気装置６１によって噴射され
る気体としての空気の量を調整し、膜面流速を変更する
ことができる。本実施の形態においては、膜間における
空気の供給量は０．０５〜３〔ｍ／ｍｉｎ〕程度にされ
る。
流し、洗浄することにより、膜面５２への固形物の付着
を極力少なくするようにしている。そのために、前記膜
ユニット５０の下方にばっ気装置６１が配設され、該ば
っ気装置６１は図示されない空気供給源にラインＬ３を
介して接続される。そして、前記ラインＬ３に調整弁６
３が配設され、前記制御装置によって、例えば、調整弁
６３の開度を変更し、ばっ気装置６１によって噴射され
る気体としての空気の量を調整し、膜面流速を変更する
ことができる。本実施の形態においては、膜間における
空気の供給量は０．０５〜３〔ｍ／ｍｉｎ〕程度にされ
る。
【００２０】したがって、膜エレメント５１によって被
処理水がろ過される間にばっ気装置６１によって空気を
噴射すると、該空気が多数の気泡１６になって膜エレメ
ント５１の下端Ｓ１の全体に均一に供給され、各膜間を
被処理水と共に上昇させられる。その結果、エアリフト
作用によって膜面５２に剪断力が加えられ、該膜面５２
を洗浄することができる。その後、気泡１６は処理槽３
１の上端から大気中に放出され、被処理水は処理槽３１
の周縁部を下降して還流させられる。
処理水がろ過される間にばっ気装置６１によって空気を
噴射すると、該空気が多数の気泡１６になって膜エレメ
ント５１の下端Ｓ１の全体に均一に供給され、各膜間を
被処理水と共に上昇させられる。その結果、エアリフト
作用によって膜面５２に剪断力が加えられ、該膜面５２
を洗浄することができる。その後、気泡１６は処理槽３
１の上端から大気中に放出され、被処理水は処理槽３１
の周縁部を下降して還流させられる。
【００２１】ところで、前記膜エレメント５１が処理槽
３１内において所定の長さにわたって延びるので、各膜
間を被処理水とともに流れて上昇しようとする気泡１６
に対して膜エレメント５１の両側縁部のフレーム５１
ａ、その近傍の被処理水等が抵抗になる。したがって、
前記気泡１６は、各膜間を上昇するのに伴って、徐々に
膜面５２の中央側に移動しようとする。
３１内において所定の長さにわたって延びるので、各膜
間を被処理水とともに流れて上昇しようとする気泡１６
に対して膜エレメント５１の両側縁部のフレーム５１
ａ、その近傍の被処理水等が抵抗になる。したがって、
前記気泡１６は、各膜間を上昇するのに伴って、徐々に
膜面５２の中央側に移動しようとする。
【００２２】そこで、前記膜ユニット５０とばっ気装置
６１との間に、該ばっ気装置６１によって噴射された空
気を上方に案内するとともに、整流するための四角筒状
のスカート部７１が配設される。該スカート部７１は、
前記膜ユニット５０の下側の投影面の外周部分のわずか
に内側に配設され、上端及び下端が開放される。また、
前記スカート部７１によって形成された空間内には、膜
ユニット５０の幅方向における両側の２箇所に長手方
向、すなわち、膜エレメント５１の積層方向に仕切り７
２、７３が配設される。該仕切り７２、７３は、前記ス
カート部７１の側壁７１ａ、７１ｂと平行になるように
延在させられ、前記側壁７１ａ、７１ｂと仕切り７２、
７３との間にそれぞれ区画室７４、７５を、仕切り７
２、７３間に区画室７６をそれぞれ形成する。なお、７
９は架台である。また、前記スカート部７１及び仕切り
７２、７３によって区画ユニットが構成される。
６１との間に、該ばっ気装置６１によって噴射された空
気を上方に案内するとともに、整流するための四角筒状
のスカート部７１が配設される。該スカート部７１は、
前記膜ユニット５０の下側の投影面の外周部分のわずか
に内側に配設され、上端及び下端が開放される。また、
前記スカート部７１によって形成された空間内には、膜
ユニット５０の幅方向における両側の２箇所に長手方
向、すなわち、膜エレメント５１の積層方向に仕切り７
２、７３が配設される。該仕切り７２、７３は、前記ス
カート部７１の側壁７１ａ、７１ｂと平行になるように
延在させられ、前記側壁７１ａ、７１ｂと仕切り７２、
７３との間にそれぞれ区画室７４、７５を、仕切り７
２、７３間に区画室７６をそれぞれ形成する。なお、７
９は架台である。また、前記スカート部７１及び仕切り
７２、７３によって区画ユニットが構成される。
【００２３】この場合、必要に応じて仕切りの数を多く
し、区画室の数を多くすることもできるが、区画室が多
くなると膜ろ過装置の構造が複雑になる。また、被処理
水と空気との混合性及び流動性を良好に保つために、各
仕切りは、膜ユニット５０の中心に対して対称に配設す
るのが好ましい。そして、前記スカート部７１と仕切り
７２、７３との間隔は、膜エレメント５１及び膜ユニッ
ト５０の寸法に対応させて決定され、例えば、幅が１
〔ｍ〕程度の膜ユニット５０においては、１〜１０〔ｃ
ｍ〕程度にされる。
し、区画室の数を多くすることもできるが、区画室が多
くなると膜ろ過装置の構造が複雑になる。また、被処理
水と空気との混合性及び流動性を良好に保つために、各
仕切りは、膜ユニット５０の中心に対して対称に配設す
るのが好ましい。そして、前記スカート部７１と仕切り
７２、７３との間隔は、膜エレメント５１及び膜ユニッ
ト５０の寸法に対応させて決定され、例えば、幅が１
〔ｍ〕程度の膜ユニット５０においては、１〜１０〔ｃ
ｍ〕程度にされる。
【００２４】また、区画室７４にラインＬ４を介して、
区画室７５にラインＬ５を介してそれぞれ図示されない
空気供給源が接続され、各区画室７４、７５にそれぞれ
独立して空気を供給することができるようになってい
る。そして、前記ラインＬ４、Ｌ５にそれぞれ調整弁７
７、７８が配設され、前記制御装置によって、例えば、
調整弁７７、７８の開度を変更し、各区画室７４、７５
に供給される空気の量を調整することができる。なお、
空気に代えて他の気体を各区画室７４、７５に供給する
こともできる。そして、前記ラインＬ４、Ｌ５、調整弁
７７、７８及び空気供給源によって気体供給手段が構成
される。
区画室７５にラインＬ５を介してそれぞれ図示されない
空気供給源が接続され、各区画室７４、７５にそれぞれ
独立して空気を供給することができるようになってい
る。そして、前記ラインＬ４、Ｌ５にそれぞれ調整弁７
７、７８が配設され、前記制御装置によって、例えば、
調整弁７７、７８の開度を変更し、各区画室７４、７５
に供給される空気の量を調整することができる。なお、
空気に代えて他の気体を各区画室７４、７５に供給する
こともできる。そして、前記ラインＬ４、Ｌ５、調整弁
７７、７８及び空気供給源によって気体供給手段が構成
される。
【００２５】また、前記ラインＬ４、Ｌ５は、ラインＬ
３と独立させて配設することができるが、ラインＬ３か
ら分岐させて配設することもできる。さらに、前記各区
画室７４、７５の下方又は内部に別の図示されないばっ
気装置を配設し、該ばっ気装置にラインＬ４、Ｌ５を接
続することもできる。このように、前記スカート部７１
によって形成された空間内の周縁部に区画室７４、７５
が、中央部に区画室７６がそれぞれ形成されるので、ば
っ気装置６１によって噴射された空気は、気泡１６にな
って仕切り７２、７３によって案内されて区画室７４〜
７６内を上昇する。したがって、区画室７４、７５の上
部から各膜間に進入したときの気泡１６の上昇力を大き
くすることができるので、各膜間を上昇するのに伴って
気泡１６が徐々に膜面５２の中央側に移動するのを防止
することができる。なお、仕切り７２、７３は、気泡１
６が区画室７４、７５と区画室７６との間で連通して流
れることがないように、膜ユニット５０の底部に密接さ
せて配設される。
３と独立させて配設することができるが、ラインＬ３か
ら分岐させて配設することもできる。さらに、前記各区
画室７４、７５の下方又は内部に別の図示されないばっ
気装置を配設し、該ばっ気装置にラインＬ４、Ｌ５を接
続することもできる。このように、前記スカート部７１
によって形成された空間内の周縁部に区画室７４、７５
が、中央部に区画室７６がそれぞれ形成されるので、ば
っ気装置６１によって噴射された空気は、気泡１６にな
って仕切り７２、７３によって案内されて区画室７４〜
７６内を上昇する。したがって、区画室７４、７５の上
部から各膜間に進入したときの気泡１６の上昇力を大き
くすることができるので、各膜間を上昇するのに伴って
気泡１６が徐々に膜面５２の中央側に移動するのを防止
することができる。なお、仕切り７２、７３は、気泡１
６が区画室７４、７５と区画室７６との間で連通して流
れることがないように、膜ユニット５０の底部に密接さ
せて配設される。
【００２６】また、各区画室７４、７５に空気が供給さ
れるので、各膜間における膜エレメント５１の両側縁部
を流れる気泡１６の量を多くすることができる。したが
って、膜面５２の全体を洗浄することができ、各膜面５
２間が汚泥、ＳＳ、コロイド等によって閉塞することが
なくなるので、ろ過抵抗が大きくなることがなく、良好
な運転を長期間継続して行うことができる。
れるので、各膜間における膜エレメント５１の両側縁部
を流れる気泡１６の量を多くすることができる。したが
って、膜面５２の全体を洗浄することができ、各膜面５
２間が汚泥、ＳＳ、コロイド等によって閉塞することが
なくなるので、ろ過抵抗が大きくなることがなく、良好
な運転を長期間継続して行うことができる。
【００２７】しかも、ろ過に必要な動力を小さくするこ
とができ、人手による定期的な洗浄、薬品による洗浄等
の頻度を低くすることができる。なお、この場合、膜ユ
ニット５０を図示されない包囲体内に収容する必要がな
いので、膜ろ過装置の寸法を小さくすることができる。
また、膜ろ過装置の構造を簡素化することができる。
とができ、人手による定期的な洗浄、薬品による洗浄等
の頻度を低くすることができる。なお、この場合、膜ユ
ニット５０を図示されない包囲体内に収容する必要がな
いので、膜ろ過装置の寸法を小さくすることができる。
また、膜ろ過装置の構造を簡素化することができる。
【００２８】次に、前記構成の膜ろ過装置の運転方法の
動作について説明する。図６は本発明の第１の実施の形
態における膜ろ過装置の第１の態様図、図７は本発明の
第１の実施の形態における膜ろ過装置の第２の態様図、
図８は本発明の第１の実施の形態における膜ろ過装置の
第３の態様図、図９は本発明の第１の実施の形態におけ
る膜ろ過装置の第４の態様図である。
動作について説明する。図６は本発明の第１の実施の形
態における膜ろ過装置の第１の態様図、図７は本発明の
第１の実施の形態における膜ろ過装置の第２の態様図、
図８は本発明の第１の実施の形態における膜ろ過装置の
第３の態様図、図９は本発明の第１の実施の形態におけ
る膜ろ過装置の第４の態様図である。
【００２９】この場合、調整弁６３、７７、７８を開放
することによって、各区画室７４〜７６に空気を供給す
ると、図６に示されるように、気泡１６は膜面５２の全
体を流れ、調整弁６３を閉鎖し、調整弁７７、７８を開
放することによって、各区画室７４、７５だけに空気を
供給すると、図７に示されるように、気泡１６は主とし
て膜面５２の両側縁部を流れ、調整弁６３、７７を閉鎖
し、調整弁７８を開放することによって、区画室７５だ
けに空気を供給すると、図８に示されるように、気泡１
６は主として膜面５２一方の側縁部を流れ、調整弁７
７、７８を閉鎖し、調整弁６３を開放することによっ
て、各区画室７４〜７６に空気を供給すると、図９に示
されるように、気泡１６は主として膜面５２の中央を流
れる。
することによって、各区画室７４〜７６に空気を供給す
ると、図６に示されるように、気泡１６は膜面５２の全
体を流れ、調整弁６３を閉鎖し、調整弁７７、７８を開
放することによって、各区画室７４、７５だけに空気を
供給すると、図７に示されるように、気泡１６は主とし
て膜面５２の両側縁部を流れ、調整弁６３、７７を閉鎖
し、調整弁７８を開放することによって、区画室７５だ
けに空気を供給すると、図８に示されるように、気泡１
６は主として膜面５２一方の側縁部を流れ、調整弁７
７、７８を閉鎖し、調整弁６３を開放することによっ
て、各区画室７４〜７６に空気を供給すると、図９に示
されるように、気泡１６は主として膜面５２の中央を流
れる。
【００３０】したがって、前記各態様を組み合わせるこ
とによって、膜面５２の任意の箇所を洗浄することがで
きる。例えば、連続洗浄時においては、調整弁６３、７
７、７８が連続的に開放される。また、連続・間欠付加
洗浄時においては、調整弁６３が連続的に開放され、調
整弁７７、７８が間欠的に開放される。この場合、調整
弁７７、７８を、同時に開閉しても、独立させて開閉し
てもよい。
とによって、膜面５２の任意の箇所を洗浄することがで
きる。例えば、連続洗浄時においては、調整弁６３、７
７、７８が連続的に開放される。また、連続・間欠付加
洗浄時においては、調整弁６３が連続的に開放され、調
整弁７７、７８が間欠的に開放される。この場合、調整
弁７７、７８を、同時に開閉しても、独立させて開閉し
てもよい。
【００３１】そして、定期的間欠洗浄時においては、調
整弁６３を一時的に閉鎖し、この間、調整弁７７、７８
の少なくとも一方を開放する。この場合、ばっ気装置６
１からの空気の噴射が一時的に停止させられるので、膜
ユニット５０の中心部における洗浄が不十分になるの
で、この操作はなるべく短時間で行う方がよい。例え
ば、１回当たりの調整弁６３の閉鎖時間は５秒〜５分程
度とし、１日当たりの実施頻度は１〜１５００回程度と
する。なお、Ｌ３〜Ｌ５はライン、Ｐ１はポンプであ
る。
整弁６３を一時的に閉鎖し、この間、調整弁７７、７８
の少なくとも一方を開放する。この場合、ばっ気装置６
１からの空気の噴射が一時的に停止させられるので、膜
ユニット５０の中心部における洗浄が不十分になるの
で、この操作はなるべく短時間で行う方がよい。例え
ば、１回当たりの調整弁６３の閉鎖時間は５秒〜５分程
度とし、１日当たりの実施頻度は１〜１５００回程度と
する。なお、Ｌ３〜Ｌ５はライン、Ｐ１はポンプであ
る。
【００３２】次に、本発明の第２の実施の形態について
説明する。図１０は本発明の第２の実施の形態における
区画ユニットの平面図、図１１は本発明の第２の実施の
形態における区画ユニットの斜視図である。この場合、
スカート部７１によって形成された空間内には、膜ユニ
ット５０（図４）の幅方向における両側の２箇所に、膜
エレメント５１の積層方向に仕切り１０１、１０２が配
設される。該仕切り１０１、１０２は、前記スカート部
７１の側壁７１ａ、７１ｂと平行になるように延在させ
られ、側壁７１ａ、７１ｂと仕切り１０１、１０２との
間に区画室１０６、１０７を区画ユニットの中心に対し
て対称に形成する。
説明する。図１０は本発明の第２の実施の形態における
区画ユニットの平面図、図１１は本発明の第２の実施の
形態における区画ユニットの斜視図である。この場合、
スカート部７１によって形成された空間内には、膜ユニ
ット５０（図４）の幅方向における両側の２箇所に、膜
エレメント５１の積層方向に仕切り１０１、１０２が配
設される。該仕切り１０１、１０２は、前記スカート部
７１の側壁７１ａ、７１ｂと平行になるように延在させ
られ、側壁７１ａ、７１ｂと仕切り１０１、１０２との
間に区画室１０６、１０７を区画ユニットの中心に対し
て対称に形成する。
【００３３】また、仕切り１０１、１０２によって形成
された空間内には、膜エレメント５１の積層方向におけ
る両側の２箇所に、膜ユニット５０の幅方向に仕切り１
０３、１０４が配設される。該仕切り１０３、１０４
は、前記スカート部７１の側壁７１ｃ、７１ｄと平行に
なるように延在させられ、側壁７１ｃ、７１ｄと仕切り
１０３、１０４との間に区画室１０８、１０９を区画ユ
ニットの中心に対して対称に形成する。
された空間内には、膜エレメント５１の積層方向におけ
る両側の２箇所に、膜ユニット５０の幅方向に仕切り１
０３、１０４が配設される。該仕切り１０３、１０４
は、前記スカート部７１の側壁７１ｃ、７１ｄと平行に
なるように延在させられ、側壁７１ｃ、７１ｄと仕切り
１０３、１０４との間に区画室１０８、１０９を区画ユ
ニットの中心に対して対称に形成する。
【００３４】さらに、前記仕切り１０１〜１０４の内側
に区画室１０５が形成される。したがって、膜ユニット
５０の幅方向における両側縁部だけでなく、膜エレメン
ト５１の積層方向における両側縁部において膜面５２を
十分に洗浄することができる。次に、本発明の第３の実
施の形態について説明する。
に区画室１０５が形成される。したがって、膜ユニット
５０の幅方向における両側縁部だけでなく、膜エレメン
ト５１の積層方向における両側縁部において膜面５２を
十分に洗浄することができる。次に、本発明の第３の実
施の形態について説明する。
【００３５】図１２は本発明の第３の実施の形態におけ
る区画ユニットの平面図、図１３は本発明の第３の実施
の形態における区画ユニットの斜視図である。この場
合、スカート部７１によって形成された空間内には、方
形の筒状の仕切り１１１が前記スカート部７１の側壁７
１ａ〜７１ｄと平行になるように配設される。そして、
スカート部７１と仕切り１１１との間に区画室１１２が
区画ユニットの中心に対して対称に形成される。また、
仕切り１１１の内側に区画室１１３が形成される。
る区画ユニットの平面図、図１３は本発明の第３の実施
の形態における区画ユニットの斜視図である。この場
合、スカート部７１によって形成された空間内には、方
形の筒状の仕切り１１１が前記スカート部７１の側壁７
１ａ〜７１ｄと平行になるように配設される。そして、
スカート部７１と仕切り１１１との間に区画室１１２が
区画ユニットの中心に対して対称に形成される。また、
仕切り１１１の内側に区画室１１３が形成される。
【００３６】したがって、膜ユニット５０（図４）の幅
方向における両側縁部だけでなく、膜エレメント５１の
積層方向における両側縁部において膜面５２を十分に洗
浄することができる。次に、本発明の第４の実施の形態
について説明する。図１４は本発明の第４の実施の形態
における膜ろ過装置の概念図、図１５は本発明の第４の
実施の形態における膜ろ過装置の要部斜視図である。な
お、第１の実施の形態と同じ構造を有するものについて
は、同じ符号を付与することによってその説明を省略す
る。
方向における両側縁部だけでなく、膜エレメント５１の
積層方向における両側縁部において膜面５２を十分に洗
浄することができる。次に、本発明の第４の実施の形態
について説明する。図１４は本発明の第４の実施の形態
における膜ろ過装置の概念図、図１５は本発明の第４の
実施の形態における膜ろ過装置の要部斜視図である。な
お、第１の実施の形態と同じ構造を有するものについて
は、同じ符号を付与することによってその説明を省略す
る。
【００３７】この場合、スカート部７１によって形成さ
れた空間内には、膜ユニット５０の幅方向における両側
の２箇所に、膜エレメント５１（図４）の積層方向に仕
切り１７２、１７３が配設される。該仕切り１７２、１
７３は、前記スカート部７１の側壁７１ａ、７１ｂに対
して傾斜させて延在させられ、前記側壁７１ａ、７１ｂ
と仕切り１７２、１７３との間にそれぞれ区画室１７
４、１７５を、仕切り１７２、１７３間に区画室１７６
をそれぞれ形成する。
れた空間内には、膜ユニット５０の幅方向における両側
の２箇所に、膜エレメント５１（図４）の積層方向に仕
切り１７２、１７３が配設される。該仕切り１７２、１
７３は、前記スカート部７１の側壁７１ａ、７１ｂに対
して傾斜させて延在させられ、前記側壁７１ａ、７１ｂ
と仕切り１７２、１７３との間にそれぞれ区画室１７
４、１７５を、仕切り１７２、１７３間に区画室１７６
をそれぞれ形成する。
【００３８】そして、前記仕切り１７２、１７３は、下
端をスカート部７１の中央に向けて傾斜させられるの
で、前記区画室１７４、１７５は下方から上方になるほ
ど狭くなる。したがって、区画室１７４、１７５内にお
いて気泡１６及び被処理水が上昇する速度を高くするこ
とができる。また、ばっ気装置６１によって空気を噴射
すると、多くの気泡１６が区画室１７４、１７５に供給
されることになる。したがって、膜面５２の両側縁部を
気泡１６が多く流れるので、膜面５２を十分に洗浄する
ことができる。この場合、調整弁７７、７８を閉鎖する
こともできる。
端をスカート部７１の中央に向けて傾斜させられるの
で、前記区画室１７４、１７５は下方から上方になるほ
ど狭くなる。したがって、区画室１７４、１７５内にお
いて気泡１６及び被処理水が上昇する速度を高くするこ
とができる。また、ばっ気装置６１によって空気を噴射
すると、多くの気泡１６が区画室１７４、１７５に供給
されることになる。したがって、膜面５２の両側縁部を
気泡１６が多く流れるので、膜面５２を十分に洗浄する
ことができる。この場合、調整弁７７、７８を閉鎖する
こともできる。
【００３９】次に、本発明の第５の実施の形態について
説明する。図１６は本発明の第５の実施の形態における
膜エレメントの要部斜視図である。図において、１５１
は中空糸膜又は管状膜を平板状にモジュール化した膜エ
レメント、１５１ａはフレーム、１５１ｂは前記フレー
ム１５１ａの上端に形成された集水ノズル、１５２は膜
面である。
説明する。図１６は本発明の第５の実施の形態における
膜エレメントの要部斜視図である。図において、１５１
は中空糸膜又は管状膜を平板状にモジュール化した膜エ
レメント、１５１ａはフレーム、１５１ｂは前記フレー
ム１５１ａの上端に形成された集水ノズル、１５２は膜
面である。
【００４０】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させ
ることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除す
るものではない。
るものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々変形させ
ることが可能であり、それらを本発明の範囲から排除す
るものではない。
【００４１】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、膜ろ過装置においては、処理槽と、該処理槽に浸
漬され、平膜状の膜エレメントを積層することによって
形成された膜ユニットと、該膜ユニットの底部に配設さ
れた筒状のスカート部と、該スカート部の下方に配設さ
れ、気体を噴射するばっ気装置と、前記膜ユニットの底
部に配設され、前記スカート部内において該スカート部
との間に区画室を形成する仕切りと、前記区画室に気体
を供給する気体供給手段とを有する。 この場合、ばっ
気装置によって噴射された気体が気泡になり、該気泡
が、各区画室に供給され、各区画室内を上昇するので、
各膜間に進入したときの気泡の上昇力を大きくすること
ができる。
れば、膜ろ過装置においては、処理槽と、該処理槽に浸
漬され、平膜状の膜エレメントを積層することによって
形成された膜ユニットと、該膜ユニットの底部に配設さ
れた筒状のスカート部と、該スカート部の下方に配設さ
れ、気体を噴射するばっ気装置と、前記膜ユニットの底
部に配設され、前記スカート部内において該スカート部
との間に区画室を形成する仕切りと、前記区画室に気体
を供給する気体供給手段とを有する。 この場合、ばっ
気装置によって噴射された気体が気泡になり、該気泡
が、各区画室に供給され、各区画室内を上昇するので、
各膜間に進入したときの気泡の上昇力を大きくすること
ができる。
【００４２】また、前記気体供給手段によって各区画室
に気体が供給されるので、各膜間における膜ユニットの
両側縁部を流れる気泡の量を多くすることができる。し
たがって、膜面の全体を洗浄することができ、各膜面間
が汚泥、ＳＳ、コロイド等によって閉塞することがなく
なるので、ろ過抵抗が大きくなることがなく、良好な運
転を長期間継続して行うことができる。
に気体が供給されるので、各膜間における膜ユニットの
両側縁部を流れる気泡の量を多くすることができる。し
たがって、膜面の全体を洗浄することができ、各膜面間
が汚泥、ＳＳ、コロイド等によって閉塞することがなく
なるので、ろ過抵抗が大きくなることがなく、良好な運
転を長期間継続して行うことができる。
【００４３】しかも、ろ過に必要な動力を小さくするこ
とができ、人手による定期的な洗浄、薬品による洗浄等
の頻度を低くすることができる。本発明の他の膜ろ過装
置においては、処理槽と、該処理槽に浸漬され、平膜状
の膜エレメントを積層することによって形成された膜ユ
ニットと、該膜ユニットの底部に配設された筒状のスカ
ート部と、該スカート部の下方に配設され、気体を噴射
するばっ気装置と、前記膜ユニットの底部に配設され、
前記スカート部内において該スカート部との間に区画室
を形成する仕切りとを有する。そして、該仕切りは、下
端をスカート部の中央に向けて傾斜させられる。
とができ、人手による定期的な洗浄、薬品による洗浄等
の頻度を低くすることができる。本発明の他の膜ろ過装
置においては、処理槽と、該処理槽に浸漬され、平膜状
の膜エレメントを積層することによって形成された膜ユ
ニットと、該膜ユニットの底部に配設された筒状のスカ
ート部と、該スカート部の下方に配設され、気体を噴射
するばっ気装置と、前記膜ユニットの底部に配設され、
前記スカート部内において該スカート部との間に区画室
を形成する仕切りとを有する。そして、該仕切りは、下
端をスカート部の中央に向けて傾斜させられる。
【００４４】この場合、前記区画室は下方から上方にな
るほど狭くなる。したがって、区画室内において気泡及
び被処理水が上昇する速度を高くすることができる。ま
た、ばっ気装置によって気体を噴射すると、多くの気泡
が区画室に供給されることになる。したがって、膜面の
両側縁部を多く気泡が流れるので、膜面を十分に洗浄す
ることができる。
るほど狭くなる。したがって、区画室内において気泡及
び被処理水が上昇する速度を高くすることができる。ま
た、ばっ気装置によって気体を噴射すると、多くの気泡
が区画室に供給されることになる。したがって、膜面の
両側縁部を多く気泡が流れるので、膜面を十分に洗浄す
ることができる。
【００４５】本発明の更に他の膜ろ過装置においては、
さらに、前記区画室に気体を供給する気体供給手段を有
する。この場合、前記気体供給手段によって各区画室に
気体が供給されるので、各膜間における膜ユニットの両
側縁部を流れる気泡の量を一層多くすることができる。
さらに、前記区画室に気体を供給する気体供給手段を有
する。この場合、前記気体供給手段によって各区画室に
気体が供給されるので、各膜間における膜ユニットの両
側縁部を流れる気泡の量を一層多くすることができる。
【００４６】本発明の膜ろ過装置の運転方法において
は、処理槽に、平膜状の膜エレメントを積層することに
よって形成された膜ユニットが浸漬され、該膜ユニット
の底部にスカート部が配設され、該スカート部の下方に
ばっ気装置が配設されるとともに、前記スカート部内に
複数の区画室が形成されるようになっている。そして、
前記各区画室に選択的に気体を供給する。
は、処理槽に、平膜状の膜エレメントを積層することに
よって形成された膜ユニットが浸漬され、該膜ユニット
の底部にスカート部が配設され、該スカート部の下方に
ばっ気装置が配設されるとともに、前記スカート部内に
複数の区画室が形成されるようになっている。そして、
前記各区画室に選択的に気体を供給する。
【００４７】この場合、ばっ気装置によって噴射された
気体が各区画室に供給され、各区画室内を上昇するの
で、各膜間に進入したときの気泡の上昇力を大きくする
ことができる。また、前記各区画室に気体が供給される
ので、各膜間における膜ユニットの両側縁部を流れる気
泡の量を多くすることができる。
気体が各区画室に供給され、各区画室内を上昇するの
で、各膜間に進入したときの気泡の上昇力を大きくする
ことができる。また、前記各区画室に気体が供給される
ので、各膜間における膜ユニットの両側縁部を流れる気
泡の量を多くすることができる。
【００４８】したがって、膜面の全体を洗浄することが
でき、各膜面間が汚泥、ＳＳ、コロイド等によって閉塞
することがなくなるので、ろ過抵抗が大きくなることが
なく、良好な運転を長期間継続して行うことができる。
しかも、ろ過に必要な動力を小さくすることができ、人
手による定期的な洗浄、薬品による洗浄等の頻度を低く
することができる。
でき、各膜面間が汚泥、ＳＳ、コロイド等によって閉塞
することがなくなるので、ろ過抵抗が大きくなることが
なく、良好な運転を長期間継続して行うことができる。
しかも、ろ過に必要な動力を小さくすることができ、人
手による定期的な洗浄、薬品による洗浄等の頻度を低く
することができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態における膜ろ過装置
の概念図である。
の概念図である。
【図２】従来の浸漬型の膜ろ過装置の概念図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態における膜ろ過装置
の斜視図である。
の斜視図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態における膜ユニット
の斜視図である。
の斜視図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態における膜エレメン
トの要部斜視図である。
トの要部斜視図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態における膜ろ過装置
の第１の態様図である。
の第１の態様図である。
【図７】本発明の第１の実施の形態における膜ろ過装置
の第２の態様図である。
の第２の態様図である。
【図８】本発明の第１の実施の形態における膜ろ過装置
の第３の態様図である。
の第３の態様図である。
【図９】本発明の第１の実施の形態における膜ろ過装置
の第４の態様図である。
の第４の態様図である。
【図１０】本発明の第２の実施の形態における区画ユニ
ットの平面図である。
ットの平面図である。
【図１１】本発明の第２の実施の形態における区画ユニ
ットの斜視図である。
ットの斜視図である。
【図１２】本発明の第３の実施の形態における区画ユニ
ットの平面図である。
ットの平面図である。
【図１３】本発明の第３の実施の形態における区画ユニ
ットの斜視図である。
ットの斜視図である。
【図１４】本発明の第４の実施の形態における膜ろ過装
置の概念図である。
置の概念図である。
【図１５】本発明の第４の実施の形態における膜ろ過装
置の要部斜視図である。
置の要部斜視図である。
【図１６】本発明の第５の実施の形態における膜エレメ
ントの要部斜視図である。
ントの要部斜視図である。
３１ 処理槽 ５０ 膜ユニット ５１、１５１ 膜エレメント ６１ ばっ気装置 ７１ スカート部 ７２、７３、１０１〜１０４、１１１、１７２、１７３
仕切り ７４〜７６、１０５〜１０９、１１２、１１３、１７４
〜１７６ 区画室 ７７、７８ 調整弁 Ｌ４、Ｌ５ ライン
仕切り ７４〜７６、１０５〜１０９、１１２、１１３、１７４
〜１７６ 区画室 ７７、７８ 調整弁 Ｌ４、Ｌ５ ライン
Claims (4)
- 【請求項１】 （ａ）処理槽と、（ｂ）該処理槽に浸漬
され、平膜状の膜エレメントを積層することによって形
成された膜ユニットと、（ｃ）該膜ユニットの底部に配
設された筒状のスカート部と、（ｄ）該スカート部の下
方に配設され、気体を噴射するばっ気装置と、（ｅ）前
記膜ユニットの底部に配設され、前記スカート部内にお
いて該スカート部との間に区画室を形成する仕切りと、
（ｆ）前記区画室に気体を供給する気体供給手段とを有
することを特徴とする膜ろ過装置。 - 【請求項２】 （ａ）処理槽と、（ｂ）該処理槽に浸漬
され、平膜状の膜エレメントを積層することによって形
成された膜ユニットと、（ｃ）該膜ユニットの底部に配
設された筒状のスカート部と、（ｄ）該スカート部の下
方に配設され、気体を噴射するばっ気装置と、（ｅ）前
記膜ユニットの底部に配設され、前記スカート部内にお
いて該スカート部との間に区画室を形成する仕切りとを
有するとともに、（ｆ）該仕切りは、下端をスカート部
の中央に向けて傾斜させられることを特徴とする膜ろ過
装置。 - 【請求項３】 前記区画室に気体を供給する気体供給手
段を有する請求項２に記載の膜ろ過装置。 - 【請求項４】 処理槽に、平膜状の膜エレメントを積層
することによって形成された膜ユニットが浸漬され、該
膜ユニットの底部にスカート部が配設され、該スカート
部の下方にばっ気装置が配設されるとともに、前記スカ
ート部内に複数の区画室が形成された膜ろ過装置の運転
方法において、 前記各区画室に選択的に気体を供給することを特徴とす
る膜ろ過装置の運転方法。
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