JPH11158101A - フェノール性化合物及びその製造方法 - Google Patents
フェノール性化合物及びその製造方法Info
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- JPH11158101A JPH11158101A JP9324855A JP32485597A JPH11158101A JP H11158101 A JPH11158101 A JP H11158101A JP 9324855 A JP9324855 A JP 9324855A JP 32485597 A JP32485597 A JP 32485597A JP H11158101 A JPH11158101 A JP H11158101A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、フォトレジスト用感放射線性組成
物の原料、エポキシ樹脂及びその硬化剤として有用であ
る新規なフェノール性化合物及びその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 酸性触媒下で、５−ヒドロキシ−１，
１，３−トリメチル−２−インデン及び／又はその重合
体中の５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル−２−
インデン単位１モルに対し、レゾルシン０．３モル以
上、０．８モル未満を用いて反応させて、新規化合物
４，６−ビス（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキ
シインダン−３−イル）レゾルシノールを製造する。
物の原料、エポキシ樹脂及びその硬化剤として有用であ
る新規なフェノール性化合物及びその製造方法を提供す
る。 【解決手段】 酸性触媒下で、５−ヒドロキシ−１，
１，３−トリメチル−２−インデン及び／又はその重合
体中の５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル−２−
インデン単位１モルに対し、レゾルシン０．３モル以
上、０．８モル未満を用いて反応させて、新規化合物
４，６−ビス（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキ
シインダン−３−イル）レゾルシノールを製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なフェノール
性化合物である４，６−ビス（１，１，３−トリメチル
−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノー
ル、及びその製造方法に関する。本発明により提供され
る４，６−ビス（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロ
キシインダン−３−イル）レゾルシノールは、フォトレ
ジスト用感放射線性成分の原料、エポキシ樹脂及びそれ
らの硬化剤として有用な化合物である。
性化合物である４，６−ビス（１，１，３−トリメチル
−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノー
ル、及びその製造方法に関する。本発明により提供され
る４，６−ビス（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロ
キシインダン−３−イル）レゾルシノールは、フォトレ
ジスト用感放射線性成分の原料、エポキシ樹脂及びそれ
らの硬化剤として有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】新規なフェノール性化合物である４，６
−ビス（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキシイン
ダン−３−イル）レゾルシノール及びその製造方法は知
られていない。
−ビス（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキシイン
ダン−３−イル）レゾルシノール及びその製造方法は知
られていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、新規
なフェノール性化合物である４，６−ビス（１，１，３
−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レ
ゾルシノール及びその製造方法を提供することにある。
なフェノール性化合物である４，６−ビス（１，１，３
−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レ
ゾルシノール及びその製造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意検討した結果、酸性触媒下、５−ヒ
ドロキシ−１，１，３−トリメチル−２−インデン及び
／又はその重合体とレゾルシンとを特定のモル比で反応
させることにより、容易に４，６−ビス（１，１，３−
トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾ
ルシノールが得られることを見出し、本発明を完成し
た。
を達成するため鋭意検討した結果、酸性触媒下、５−ヒ
ドロキシ−１，１，３−トリメチル−２−インデン及び
／又はその重合体とレゾルシンとを特定のモル比で反応
させることにより、容易に４，６−ビス（１，１，３−
トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾ
ルシノールが得られることを見出し、本発明を完成し
た。
【０００５】即ち、本発明は、下記式（１）〔化２〕
【化２】 で示される４，６−ビス（１，１，３−トリメチル−５
−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノール及び
その製造方法である。
−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノール及び
その製造方法である。
【０００６】上記化合物は、酸性触媒下で、５−ヒドロ
キシ−１，１，３−トリメチル−２−インデン及び／又
はその重合体中の５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメ
チル−２−インデン単位１モルに対し、レゾルシン０．
３モル以上、０．８モル未満を用いて反応させることに
より製造できる。
キシ−１，１，３−トリメチル−２−インデン及び／又
はその重合体中の５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメ
チル−２−インデン単位１モルに対し、レゾルシン０．
３モル以上、０．８モル未満を用いて反応させることに
より製造できる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明に用いる５−ヒドロキシ−１，１，３−ト
リメチル−２−インデン（以下、ヒドロキシインデンと
略称する）及び／又はその重合体は、公知の技術で得ら
れる。例えば、５−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシ
フェニル）−１，１，３−トリメチルインダンを酸触媒
又はアルカリ触媒の存在下に加熱分解した後、フェノー
ルを除去することにより得られる。また、ｐ−イソプロ
ペニルフェノール及び／又はそのオリゴマーを酸触媒の
存在下に加熱することによっても得られる。本発明にお
いて、ヒドロキシインデンの重合体とは、ヒドロキシイ
ンデンの２量体、３量体、４量体等を意味し、高分子量
のものとして１０量体程度のものも含む。
する。本発明に用いる５−ヒドロキシ−１，１，３−ト
リメチル−２−インデン（以下、ヒドロキシインデンと
略称する）及び／又はその重合体は、公知の技術で得ら
れる。例えば、５−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシ
フェニル）−１，１，３−トリメチルインダンを酸触媒
又はアルカリ触媒の存在下に加熱分解した後、フェノー
ルを除去することにより得られる。また、ｐ−イソプロ
ペニルフェノール及び／又はそのオリゴマーを酸触媒の
存在下に加熱することによっても得られる。本発明にお
いて、ヒドロキシインデンの重合体とは、ヒドロキシイ
ンデンの２量体、３量体、４量体等を意味し、高分子量
のものとして１０量体程度のものも含む。
【０００８】本発明においてヒドロキシインデン及び／
又はその重合体を反応させるに際し用いる酸性触媒とし
ては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の無機酸、ジメ
チル硫酸及びジエチル硫酸等の硫酸エステル、メタンス
ルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸、陽イオ
ン交換樹脂等が挙げられる。これらは、２種以上を混合
して用いることもできる。これらの中でも塩酸、臭化水
素酸が好ましい。触媒の使用量は、原料であるヒドロキ
シインデン及び／又はその重合体とレゾルシンの合計重
量に対して、０．００１〜５重量％が好ましい。更に好
ましくは０．００５〜１重量％の範囲である。触媒量が
０．００１重量％未満の場合は反応時間が長くなり、５
重量％を超えると副生物の生成が多くなる。
又はその重合体を反応させるに際し用いる酸性触媒とし
ては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸等の無機酸、ジメ
チル硫酸及びジエチル硫酸等の硫酸エステル、メタンス
ルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸、陽イオ
ン交換樹脂等が挙げられる。これらは、２種以上を混合
して用いることもできる。これらの中でも塩酸、臭化水
素酸が好ましい。触媒の使用量は、原料であるヒドロキ
シインデン及び／又はその重合体とレゾルシンの合計重
量に対して、０．００１〜５重量％が好ましい。更に好
ましくは０．００５〜１重量％の範囲である。触媒量が
０．００１重量％未満の場合は反応時間が長くなり、５
重量％を超えると副生物の生成が多くなる。
【０００９】ヒドロキシインデン及び／又はその重合体
とレゾルシンのモル比（ヒドロキシインデンの重合体の
モル数はヒドロキシインデン単位）は、前者１モルに対
して、後者０．３モル以上、０．８モル未満が好まし
い。更に好ましくは０．４〜０．６モルの範囲である。
０．８モル以上の場合は、目的の化合物以外の生成物が
多くなる。また、０．３モル未満の場合は、ヒドロキシ
インデンの重合体が多く生成し精製が煩雑となる。
とレゾルシンのモル比（ヒドロキシインデンの重合体の
モル数はヒドロキシインデン単位）は、前者１モルに対
して、後者０．３モル以上、０．８モル未満が好まし
い。更に好ましくは０．４〜０．６モルの範囲である。
０．８モル以上の場合は、目的の化合物以外の生成物が
多くなる。また、０．３モル未満の場合は、ヒドロキシ
インデンの重合体が多く生成し精製が煩雑となる。
【００１０】反応は溶媒中で行うのが好ましく、反応溶
媒としては、例えば、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭
化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類、及び水が挙げられ
る。これらの反応溶媒は単独又は２種類以上を混合して
用いることができる。溶媒の使用量は、原料のヒドロキ
シインデン及び／又はその重合体とレゾルシンを加えた
重量に対して１〜１０倍以上が好ましく、更に好ましく
は２〜８倍である。１倍未満の場合は、反応時の攪拌が
難しくなる。不均一系反応となる脂肪族炭化水素、芳香
族炭化水素、ハロゲン化炭化水素は攪拌可能な状態に保
つことが好ましい。
媒としては、例えば、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭
化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類、及び水が挙げられ
る。これらの反応溶媒は単独又は２種類以上を混合して
用いることができる。溶媒の使用量は、原料のヒドロキ
シインデン及び／又はその重合体とレゾルシンを加えた
重量に対して１〜１０倍以上が好ましく、更に好ましく
は２〜８倍である。１倍未満の場合は、反応時の攪拌が
難しくなる。不均一系反応となる脂肪族炭化水素、芳香
族炭化水素、ハロゲン化炭化水素は攪拌可能な状態に保
つことが好ましい。
【００１１】反応温度は０〜１００℃が好ましく、更に
好ましくは３０〜７０℃である。温度が０℃未満の場合
は反応時間が長くなり、１００℃を超えると副生物の生
成が多くなる。
好ましくは３０〜７０℃である。温度が０℃未満の場合
は反応時間が長くなり、１００℃を超えると副生物の生
成が多くなる。
【００１２】反応後の処理は、反応物が結晶性スラリー
の場合は濾過し、結晶を溶媒で洗浄し、更に水洗した
後、乾燥する。また、反応物が均一溶液の場合は、結晶
性スラリーが得られるまで蒸留、窒素バブリング等の方
法で溶媒を除いた後濾過し、同様に洗浄、水洗、乾燥す
る。結晶の洗浄に用いる溶媒としては、例えば、ヘプタ
ン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素が挙げられる。洗浄に使用する溶媒の
使用量は、希望する結晶の純度によって異なるが、通
常、結晶に対して０．１〜１０倍（重量比）を用いて繰
り返される。水洗に用いる水の量には特に制限は無く、
水洗後の水がほぼ中性になるまで水洗を行う。
の場合は濾過し、結晶を溶媒で洗浄し、更に水洗した
後、乾燥する。また、反応物が均一溶液の場合は、結晶
性スラリーが得られるまで蒸留、窒素バブリング等の方
法で溶媒を除いた後濾過し、同様に洗浄、水洗、乾燥す
る。結晶の洗浄に用いる溶媒としては、例えば、ヘプタ
ン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素が挙げられる。洗浄に使用する溶媒の
使用量は、希望する結晶の純度によって異なるが、通
常、結晶に対して０．１〜１０倍（重量比）を用いて繰
り返される。水洗に用いる水の量には特に制限は無く、
水洗後の水がほぼ中性になるまで水洗を行う。
【００１３】更に、高純度を必要とする場合は、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類とベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素の混合溶媒で再結晶することが好
ましい。再結晶溶媒の混合割合、結晶に対する使用量に
は特に制限は無いが、例えば、アルコール類／芳香族炭
化水素を用いる場合は、前者／後者の重量比が１〜９／
９〜１の混合割合の溶媒を結晶に対して１〜１０倍（重
量比）用いることが効果的である。再結晶を行なう時の
温度は、溶媒により異なるが、通常、室温〜溶媒の沸点
未満の温度範囲で溶解した後、得られた溶液を０〜室温
程度まで冷却して結晶を析出させることが好ましい。
ール、エタノール等のアルコール類とベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素の混合溶媒で再結晶することが好
ましい。再結晶溶媒の混合割合、結晶に対する使用量に
は特に制限は無いが、例えば、アルコール類／芳香族炭
化水素を用いる場合は、前者／後者の重量比が１〜９／
９〜１の混合割合の溶媒を結晶に対して１〜１０倍（重
量比）用いることが効果的である。再結晶を行なう時の
温度は、溶媒により異なるが、通常、室温〜溶媒の沸点
未満の温度範囲で溶解した後、得られた溶液を０〜室温
程度まで冷却して結晶を析出させることが好ましい。
【００１４】本発明の４，６−ビス（１，１，３−トリ
メチル−５−ヒドロキシインダン）レゾルシノールは、
上記の製造方法の他、先ず、ヒドロキシインデン１モル
とレゾルシン１モルが反応した４−（１，１，３−トリ
メチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシ
ノールを合成し、次いで、得られた４−（１，１，３−
トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾ
ルシノールとヒドロキシインデンとを上記方法で反応す
ることによっても製造することができる。
メチル−５−ヒドロキシインダン）レゾルシノールは、
上記の製造方法の他、先ず、ヒドロキシインデン１モル
とレゾルシン１モルが反応した４−（１，１，３−トリ
メチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシ
ノールを合成し、次いで、得られた４−（１，１，３−
トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾ
ルシノールとヒドロキシインデンとを上記方法で反応す
ることによっても製造することができる。
【００１５】この方法に用いるヒドロキシインデン及び
／又はその重合体は、前記と同様のものが用いられる。
ヒドロキシインデン及び／又はその重合体を反応させる
に際し用いる酸性触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硫
酸、燐酸等の無機酸、ジメチル硫酸及びジエチル硫酸等
の硫酸エステル、メタンスルホン酸、パラトルエンスル
ホン酸等の有機酸、陽イオン交換樹脂等の固体酸が挙げ
られる。これらは、２種以上を混合して用いることもで
きる。これらの中でも塩酸、臭化水素酸が好ましい。触
媒の使用量は、原料であるヒドロキシインデン及び／又
はその重合体とレゾルシンの合計量に対して、０．００
１〜５重量％が好ましい。更に好ましくは０．００５〜
１重量％の範囲である。触媒量が０．００１重量％未満
の場合は反応時間が長くなり、５重量％を超えると副生
物の生成が多くなる。
／又はその重合体は、前記と同様のものが用いられる。
ヒドロキシインデン及び／又はその重合体を反応させる
に際し用いる酸性触媒としては、塩酸、臭化水素酸、硫
酸、燐酸等の無機酸、ジメチル硫酸及びジエチル硫酸等
の硫酸エステル、メタンスルホン酸、パラトルエンスル
ホン酸等の有機酸、陽イオン交換樹脂等の固体酸が挙げ
られる。これらは、２種以上を混合して用いることもで
きる。これらの中でも塩酸、臭化水素酸が好ましい。触
媒の使用量は、原料であるヒドロキシインデン及び／又
はその重合体とレゾルシンの合計量に対して、０．００
１〜５重量％が好ましい。更に好ましくは０．００５〜
１重量％の範囲である。触媒量が０．００１重量％未満
の場合は反応時間が長くなり、５重量％を超えると副生
物の生成が多くなる。
【００１６】ヒドロキシインデン及び／又はその重合体
に対するレゾルシンのモル比（ヒドロキシインデンの重
合体のモル数はヒドロキシインデン単位）は、前者１モ
ルに対して、後者を少なくとも０．８モルを用いて反応
させることが好ましい。更に好ましくは１モル以上であ
る。レゾルシンが０．８モル未満の場合は、フェノール
性化合物の収率が低下する。反応性の点ではレゾルシン
の上限量については特に制限はないが、反応の後、過剰
のレゾルシンを除去する必要があるので多過ぎることは
好ましくない。かかる点を考慮すると、通常、レゾルシ
ンの上限は５モル程度である。好ましくは２モル程度で
ある。
に対するレゾルシンのモル比（ヒドロキシインデンの重
合体のモル数はヒドロキシインデン単位）は、前者１モ
ルに対して、後者を少なくとも０．８モルを用いて反応
させることが好ましい。更に好ましくは１モル以上であ
る。レゾルシンが０．８モル未満の場合は、フェノール
性化合物の収率が低下する。反応性の点ではレゾルシン
の上限量については特に制限はないが、反応の後、過剰
のレゾルシンを除去する必要があるので多過ぎることは
好ましくない。かかる点を考慮すると、通常、レゾルシ
ンの上限は５モル程度である。好ましくは２モル程度で
ある。
【００１７】反応は溶媒中で行うのが好ましく、反応溶
媒としては、例えば、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭
化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類及び水が挙げられ
る。これらの反応溶媒は単独又は２種類以上を混合して
用いることができる。
媒としては、例えば、ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭
化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素、メタノ
ール、エタノール等のアルコール類及び水が挙げられ
る。これらの反応溶媒は単独又は２種類以上を混合して
用いることができる。
【００１８】溶媒の使用量は原料のヒドロキシインデン
及び／又はその重合体とレゾルシンの合計重量に対して
１〜１０倍が好ましく、更に好ましくは２〜８倍であ
る。１倍未満の場合は、反応時の攪拌が難しくなる。不
均一系反応となる脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ハ
ロゲン化炭化水素は攪拌可能な状態に保つのが好まし
い。
及び／又はその重合体とレゾルシンの合計重量に対して
１〜１０倍が好ましく、更に好ましくは２〜８倍であ
る。１倍未満の場合は、反応時の攪拌が難しくなる。不
均一系反応となる脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ハ
ロゲン化炭化水素は攪拌可能な状態に保つのが好まし
い。
【００１９】反応温度は０〜１００℃が好ましく、更に
好ましくは３０〜７０℃である。温度が０℃未満の場合
は反応時間が長くなり、１００℃を超えると副生物の生
成が多くなる。反応後の処理は前記と同様の方法が適用
される。
好ましくは３０〜７０℃である。温度が０℃未満の場合
は反応時間が長くなり、１００℃を超えると副生物の生
成が多くなる。反応後の処理は前記と同様の方法が適用
される。
【００２０】本発明により提供される４，６−ビス
（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−
３−イル）レゾルシノールは、フォトレジスト用感放射
線性組成物の原料、エポキシ樹脂の原料及びその硬化剤
として有用である。
（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−
３−イル）レゾルシノールは、フォトレジスト用感放射
線性組成物の原料、エポキシ樹脂の原料及びその硬化剤
として有用である。
【００２１】
【実施例】以下、実施例を示して本発明について更に詳
細に説明する。尚、実施例に示した各種分析結果は下記
方法により測定した値である。 （１）13Ｃ核磁気共鳴分析 試料をｄ6 −ＤＭＳＯに溶解し（試料濃度３０重量
％）、日本電子（株）製の核磁気共鳴装置（形式：ＦＸ
−９０Ｑ（９０ＭＨｚ）を用いて、トリメチルシランを
基準物質として化学シフトを測定した。 （２）赤外線吸収スペクトル分析 試料を臭化カリウム錠剤法により（株）島津製作所製の
赤外線吸収スペクトル分析装置（形式：ＦＩ−ＩＲ４２
００）により、積算回数１０回にて測定した。 （３）質量分析 日本電子（株）製の質量分析装置（形式：ＤＸ−３０
０）で、ＤＩ／ＥＩ法にて測定した。
細に説明する。尚、実施例に示した各種分析結果は下記
方法により測定した値である。 （１）13Ｃ核磁気共鳴分析 試料をｄ6 −ＤＭＳＯに溶解し（試料濃度３０重量
％）、日本電子（株）製の核磁気共鳴装置（形式：ＦＸ
−９０Ｑ（９０ＭＨｚ）を用いて、トリメチルシランを
基準物質として化学シフトを測定した。 （２）赤外線吸収スペクトル分析 試料を臭化カリウム錠剤法により（株）島津製作所製の
赤外線吸収スペクトル分析装置（形式：ＦＩ−ＩＲ４２
００）により、積算回数１０回にて測定した。 （３）質量分析 日本電子（株）製の質量分析装置（形式：ＤＸ−３０
０）で、ＤＩ／ＥＩ法にて測定した。
【００２２】（４）元素分析 （株）柳本製作所製の元素分析装置（形式：ＴＡＮＡＣ
Ｏ ＭＴ−２）で分析した。 （５）ガスクロマトグラフ （株）島津製作所製ガスクロマトグラフ（形式：ＧＣ−
９Ａ）でカラムとしてＳＥ−３０（（株）日立）製作所
製）を用いて分析した。 （６）液体クロマトグラフ分析 日本分光（株）製ＧＰＣ装置（カラム：昭和電工（株）
製、Ｓｈｏｄｅｘ ＫＦ８０４、８０３、８０２×２を
４本直列）を用いて、テトラヒドロフランを溶離液とし
て、４０℃において測定した。
Ｏ ＭＴ−２）で分析した。 （５）ガスクロマトグラフ （株）島津製作所製ガスクロマトグラフ（形式：ＧＣ−
９Ａ）でカラムとしてＳＥ−３０（（株）日立）製作所
製）を用いて分析した。 （６）液体クロマトグラフ分析 日本分光（株）製ＧＰＣ装置（カラム：昭和電工（株）
製、Ｓｈｏｄｅｘ ＫＦ８０４、８０３、８０２×２を
４本直列）を用いて、テトラヒドロフランを溶離液とし
て、４０℃において測定した。
【００２３】調製例１ ＜ヒドロキシインデンの合成＞温度計、攪拌器、蒸留カ
ラム（内径２５ｍｍ、長さ１００ｍｍ、ステンレス製金
網充填）付１０００ｍｌセパラブルフラスコに、ｐ−イ
ソプロペニルフェノール及びそのオリゴマー混合物（三
井化学（株）製、商品名：パーマノール２００、組成：
ｐ−イソプロペニルフェノール２．５重量％、同線状二
量体７２重量％、同線状三量体４．３重量％及び同線状
四量体以上４．５重量％、その他１６．７重量％）８０
０ｇを装入し昇温した。内容物が完全に溶解した後、１
０％硫酸水溶液０．４０ｇを装入し、かきまぜながら１
８０℃まで昇温した。次いで真空にして内容物を留出さ
せながら反応を行った。その後、留出が殆ど無くなる２
６０℃まで内温を上げ６１３ｇの留出物を得た。得られ
た留出物を蒸留カラム（内径２５ｍｍ、長さ２５０ｍ
ｍ、ステンレス製金網充填）を用いて蒸留し、低沸点留
分としてフェノール２０５．５ｇ及び高沸点部の１４５
〜１４７℃、圧力５ｍｍＨｇにおける留分としてヒドロ
キシインデン３３０ｇを得た。
ラム（内径２５ｍｍ、長さ１００ｍｍ、ステンレス製金
網充填）付１０００ｍｌセパラブルフラスコに、ｐ−イ
ソプロペニルフェノール及びそのオリゴマー混合物（三
井化学（株）製、商品名：パーマノール２００、組成：
ｐ−イソプロペニルフェノール２．５重量％、同線状二
量体７２重量％、同線状三量体４．３重量％及び同線状
四量体以上４．５重量％、その他１６．７重量％）８０
０ｇを装入し昇温した。内容物が完全に溶解した後、１
０％硫酸水溶液０．４０ｇを装入し、かきまぜながら１
８０℃まで昇温した。次いで真空にして内容物を留出さ
せながら反応を行った。その後、留出が殆ど無くなる２
６０℃まで内温を上げ６１３ｇの留出物を得た。得られ
た留出物を蒸留カラム（内径２５ｍｍ、長さ２５０ｍ
ｍ、ステンレス製金網充填）を用いて蒸留し、低沸点留
分としてフェノール２０５．５ｇ及び高沸点部の１４５
〜１４７℃、圧力５ｍｍＨｇにおける留分としてヒドロ
キシインデン３３０ｇを得た。
【００２４】実施例１ 調製例１で得られたヒドロキシインデン７．００ｇ
（０．０４モル）、レゾルシン２．２０ｇ（０．０２モ
ル）、及びトルエン２０．００ｇをフラスコに仕込み、
攪拌しながら６３℃に昇温して１０重量％の塩酸水溶液
０．０３５６ｇを添加した。温度を６３℃に保ち３時間
反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応物で
ある結晶性スラリーを濾過して結晶を得、それをトルエ
ン２０ｇで洗浄した。更に、水２００ｍｌで２回洗浄を
繰り返した後、乾燥して結晶５．４５ｇを得た。この結
晶をトルエン／メタノール（１２ｇ／６ｇ）の混合溶媒
に加えて６８℃に加熱、溶解して、その後２時間かけて
室温まで冷却、再結晶して、融点２３２〜２３３℃の白
色結晶１．１７ｇを得た。ガスクロマトグラフ分析及び
液体クロマトグラフ分析の結果、この結晶はほぼ単一で
あった。
（０．０４モル）、レゾルシン２．２０ｇ（０．０２モ
ル）、及びトルエン２０．００ｇをフラスコに仕込み、
攪拌しながら６３℃に昇温して１０重量％の塩酸水溶液
０．０３５６ｇを添加した。温度を６３℃に保ち３時間
反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応物で
ある結晶性スラリーを濾過して結晶を得、それをトルエ
ン２０ｇで洗浄した。更に、水２００ｍｌで２回洗浄を
繰り返した後、乾燥して結晶５．４５ｇを得た。この結
晶をトルエン／メタノール（１２ｇ／６ｇ）の混合溶媒
に加えて６８℃に加熱、溶解して、その後２時間かけて
室温まで冷却、再結晶して、融点２３２〜２３３℃の白
色結晶１．１７ｇを得た。ガスクロマトグラフ分析及び
液体クロマトグラフ分析の結果、この結晶はほぼ単一で
あった。
【００２５】得られた結晶について、元素分析、質量分
析、13Ｃ核磁気共鳴分析（ＮＭＲ）及び赤外分光分析
（ＩＲ）を行い、４，６−ビス（１，１，３−トリメチ
ル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノー
ルであることを確認した。 元素分析 Ｃ：７８．０重量％、Ｈ：７．３重量％（実測値） Ｃ：７８．６重量％、Ｈ：７．４重量％（理論値、Ｃ30Ｈ34Ｏ4 として） 質量分析 Ｍ+ ＝４５８ ＩＲスペクトル 図１に示した。13 Ｃ核磁気共鳴分析 以下の化学シフト（ｐｐｍ）のシグナルが得られ、それ
ぞれのシグナルは式（２）（化３）のように同定され
た。 ａ：１５５．８８ ｇ：１２２．２８ ｍ： ４１．５０ ｂ：１５３．３８ ｈ：１１３．７２ ｎ： ３１．５３ ｃ：１５１．８１ ｉ：１１０．３６ ｏ： ３０．４０ ｄ：１４１．７９ ｊ：１０４．７９ ｐ： ２９．３７ ｅ：１２７．１６ ｋ： ５５．９１ ｆ：１２４．１８ ｌ： ４８．３３
析、13Ｃ核磁気共鳴分析（ＮＭＲ）及び赤外分光分析
（ＩＲ）を行い、４，６−ビス（１，１，３−トリメチ
ル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノー
ルであることを確認した。 元素分析 Ｃ：７８．０重量％、Ｈ：７．３重量％（実測値） Ｃ：７８．６重量％、Ｈ：７．４重量％（理論値、Ｃ30Ｈ34Ｏ4 として） 質量分析 Ｍ+ ＝４５８ ＩＲスペクトル 図１に示した。13 Ｃ核磁気共鳴分析 以下の化学シフト（ｐｐｍ）のシグナルが得られ、それ
ぞれのシグナルは式（２）（化３）のように同定され
た。 ａ：１５５．８８ ｇ：１２２．２８ ｍ： ４１．５０ ｂ：１５３．３８ ｈ：１１３．７２ ｎ： ３１．５３ ｃ：１５１．８１ ｉ：１１０．３６ ｏ： ３０．４０ ｄ：１４１．７９ ｊ：１０４．７９ ｐ： ２９．３７ ｅ：１２７．１６ ｋ： ５５．９１ ｆ：１２４．１８ ｌ： ４８．３３
【００２６】
【化３】
【００２７】実施例２ 調製例１で得られたヒドロキシインデン３５．５１ｇ
（０．２０４モル）、レゾルシン１１．０１ｇ（０ ．
１０モル）、及びトルエン１０６．０ｇをフラスコに仕
込み、攪拌しながら５０℃に昇温して１０重量％の塩酸
水溶液０．１５７８ｇを添加した。温度を５０℃に保ち
５時間反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反
応物である結晶性スラリーを濾過し、得られた結晶をト
ルエン１００ｇで２回洗浄を繰り返した。更に、水２０
０ｍｌで２回洗浄した後、乾燥して粗結晶４０．１５ｇ
を得た。この結晶の純度は９１重量％であった。
（０．２０４モル）、レゾルシン１１．０１ｇ（０ ．
１０モル）、及びトルエン１０６．０ｇをフラスコに仕
込み、攪拌しながら５０℃に昇温して１０重量％の塩酸
水溶液０．１５７８ｇを添加した。温度を５０℃に保ち
５時間反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反
応物である結晶性スラリーを濾過し、得られた結晶をト
ルエン１００ｇで２回洗浄を繰り返した。更に、水２０
０ｍｌで２回洗浄した後、乾燥して粗結晶４０．１５ｇ
を得た。この結晶の純度は９１重量％であった。
【００２８】実施例３ 調製例１で得られたヒドロキシインデン７．００ｇ
（０．０４０モル）、レゾルシン２．２０ｇ（０．０２
モル）、及びトルエン２０．００ｇをフラスコに仕込
み、攪拌しながら７５℃に昇温して１０重量％の硫酸水
溶液０．０７０１ｇを添加した。温度を７５℃に保ち３
時間反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応
物である結晶性スラリーを濾過して得た結晶をトルエン
３０ｇで洗浄した。更に、水２００ｍｌで洗浄した後、
乾燥して粗結晶５．５３ｇを得た。この結晶の純度は５
０重量％であった。
（０．０４０モル）、レゾルシン２．２０ｇ（０．０２
モル）、及びトルエン２０．００ｇをフラスコに仕込
み、攪拌しながら７５℃に昇温して１０重量％の硫酸水
溶液０．０７０１ｇを添加した。温度を７５℃に保ち３
時間反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応
物である結晶性スラリーを濾過して得た結晶をトルエン
３０ｇで洗浄した。更に、水２００ｍｌで洗浄した後、
乾燥して粗結晶５．５３ｇを得た。この結晶の純度は５
０重量％であった。
【００２９】実施例４ 調製例１で得られたヒドロキシインデン３４．８０ｇ
（０．２０モル）、レゾルシン８．８０ｇ（０．０８モ
ル）、及びトルエン１０９．０ｇをフラスコに仕込み、
攪拌しながら６０℃に昇温して１０重量％の塩酸水溶液
０．４４０８ｇを添加した。温度を６０℃に保ち３時間
反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応物で
ある結晶性スラリーを濾過し、結晶を得てそれをトルエ
ン２００ｇで洗浄し、更に、水４００ｍｌで洗浄を２回
繰り返した後、乾燥して粗結晶３１．１ｇを得た。この
結晶の純度は９５重量％であった。
（０．２０モル）、レゾルシン８．８０ｇ（０．０８モ
ル）、及びトルエン１０９．０ｇをフラスコに仕込み、
攪拌しながら６０℃に昇温して１０重量％の塩酸水溶液
０．４４０８ｇを添加した。温度を６０℃に保ち３時間
反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応物で
ある結晶性スラリーを濾過し、結晶を得てそれをトルエ
ン２００ｇで洗浄し、更に、水４００ｍｌで洗浄を２回
繰り返した後、乾燥して粗結晶３１．１ｇを得た。この
結晶の純度は９５重量％であった。
【００３０】実施例５ 調製例１で得られたヒドロキシインデン１７．４０ｇ
（０．１０モル）、レゾルシン７．７０ｇ（０．０７モ
ル）、及びトルエン５７．７０ｇをフラスコに仕込み、
攪拌しながら６０℃に昇温して１０重量％の塩酸水溶液
０．２５１１ｇを添加した。温度を６０℃に保ち１時間
反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応物で
ある結晶性スラリーを濾過し、結晶を得てそれをトルエ
ン２００ｇで洗浄し、更に、水４００ｍｌで洗浄を２回
繰り返した後、乾燥して粗結晶２０．０ｇを得た。この
結晶の純度は８０重量％であった。
（０．１０モル）、レゾルシン７．７０ｇ（０．０７モ
ル）、及びトルエン５７．７０ｇをフラスコに仕込み、
攪拌しながら６０℃に昇温して１０重量％の塩酸水溶液
０．２５１１ｇを添加した。温度を６０℃に保ち１時間
反応を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応物で
ある結晶性スラリーを濾過し、結晶を得てそれをトルエ
ン２００ｇで洗浄し、更に、水４００ｍｌで洗浄を２回
繰り返した後、乾燥して粗結晶２０．０ｇを得た。この
結晶の純度は８０重量％であった。
【００３１】実施例６ 調製例１で得られたヒドロキシインデン６．９９ｇ
（０．０４モル）、及びトルエン２１．００ｇをフラス
コに仕込み、攪拌しながら６０℃に昇温して溶解した
後、硫酸０．０６８８ｇを添加して３時間反応を行っ
た。この反応物はヒドロキシインデン６．２重量％、そ
の二量体２８．８重量％、三量体３１．２重量％及び四
量体以上３３．８重量％の組成を有するヒドロキシイン
デン及びそのオリゴマー混合物であった。前記反応物に
レゾルシン２．２０ｇ（０．０２モル）、及び１０％塩
酸水溶液０．０８３６ｇを添加して６０℃で２時間反応
を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応物である
結晶性スラリーを濾過して結晶を得て、それをトルエン
２０ｇで３回洗浄し、更に、水２００ｍｌで２回洗浄を
繰り返して粗結晶３．２２ｇを得た。この結晶の純度は
７６重量％であった。
（０．０４モル）、及びトルエン２１．００ｇをフラス
コに仕込み、攪拌しながら６０℃に昇温して溶解した
後、硫酸０．０６８８ｇを添加して３時間反応を行っ
た。この反応物はヒドロキシインデン６．２重量％、そ
の二量体２８．８重量％、三量体３１．２重量％及び四
量体以上３３．８重量％の組成を有するヒドロキシイン
デン及びそのオリゴマー混合物であった。前記反応物に
レゾルシン２．２０ｇ（０．０２モル）、及び１０％塩
酸水溶液０．０８３６ｇを添加して６０℃で２時間反応
を行った後、室温まで冷却した。次いで、反応物である
結晶性スラリーを濾過して結晶を得て、それをトルエン
２０ｇで３回洗浄し、更に、水２００ｍｌで２回洗浄を
繰り返して粗結晶３．２２ｇを得た。この結晶の純度は
７６重量％であった。
【００３２】実施例１〜６の主な反応条件、及び得られ
た粗結晶の収率と純度を表１（表１）に示す。
た粗結晶の収率と純度を表１（表１）に示す。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【発明の効果】本発明により、新規なフェノール性化合
物である４，６−ビス（１，１，３−トリメチル−５−
ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノールが収率
良く得られる。該化合物は、フォトレジスト用感放射線
性組成物の原料、エポキシ樹脂の原料及びその硬化剤と
して有用である。
物である４，６−ビス（１，１，３−トリメチル−５−
ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノールが収率
良く得られる。該化合物は、フォトレジスト用感放射線
性組成物の原料、エポキシ樹脂の原料及びその硬化剤と
して有用である。
【図１】実施例１で得られた４，６−ビス（１，１，３
−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レ
ゾルシノールのＩＲスペクトルを示す。
−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レ
ゾルシノールのＩＲスペクトルを示す。
Claims (4)
- 【請求項１】下記式（１）〔化１〕 【化１】 で示される４，６−ビス（１，１，３−トリメチル−５
−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシノール。 - 【請求項２】酸性触媒下で、５−ヒドロキシ−１，１，
３−トリメチル−２−インデン及び／又はその重合体中
の５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル−２−イン
デン単位１モルに対し、レゾルシン０．３モル以上、
０．８モル未満を用いて反応させることを特徴とする
４，６−ビス（１，１，３−トリメチル−５−ヒドロキ
シインダン−３−イル）レゾルシノールの製造方法。 - 【請求項３】５−ヒドロキシ−１，１，３−トリメチル
−２−インデン及び／又はその重合体とレゾルシンの総
量に対し、酸性触媒０．００１〜５重量％を用いること
を特徴とする請求項２記載の４，６−ビス（１，１，３
−トリメチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レ
ゾルシノールの製造方法。 - 【請求項４】反応温度が０〜１００℃であることを特徴
とする請求項２記載の４，６−ビス（１，１，３−トリ
メチル−５−ヒドロキシインダン−３−イル）レゾルシ
ノールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9324855A JPH11158101A (ja) | 1997-11-26 | 1997-11-26 | フェノール性化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9324855A JPH11158101A (ja) | 1997-11-26 | 1997-11-26 | フェノール性化合物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11158101A true JPH11158101A (ja) | 1999-06-15 |
Family
ID=18170412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9324855A Pending JPH11158101A (ja) | 1997-11-26 | 1997-11-26 | フェノール性化合物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11158101A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20060056712A (ko) * | 2004-11-22 | 2006-05-25 | 삼성전자주식회사 | 포토리소그래피에 사용되는 바텀 레지스트용 폴리머 및 그제조 방법 |
-
1997
- 1997-11-26 JP JP9324855A patent/JPH11158101A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20060056712A (ko) * | 2004-11-22 | 2006-05-25 | 삼성전자주식회사 | 포토리소그래피에 사용되는 바텀 레지스트용 폴리머 및 그제조 방법 |
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