JPH11153800A - 液晶表示素子用シール剤および該シール剤を用いた液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子用シール剤および該シール剤を用いた液晶表示素子Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板としてプラスチックフィルムを用いた液
晶表示素子において、該素子のシール剤として、フィル
ム液晶セルの組立工程の加熱温度条件で、プラスチック
フィルム基板の屈曲に追従可能な可撓性を有し、かつ耐
薬品性に優れたシール剤、および該シール剤を使用した
液晶表示素子の提供。 【解決手段】 少なくともエポキシ成分としてビスフェ
ノール型エポキシ樹脂および非ビスフェノール型エポキ
シ樹脂と硬化剤成分として芳香族アミンおよび／または
脂環式アミンを含有することを特徴とするプラスチック
基板を用いた液晶表示素子用シール剤。
晶表示素子において、該素子のシール剤として、フィル
ム液晶セルの組立工程の加熱温度条件で、プラスチック
フィルム基板の屈曲に追従可能な可撓性を有し、かつ耐
薬品性に優れたシール剤、および該シール剤を使用した
液晶表示素子の提供。 【解決手段】 少なくともエポキシ成分としてビスフェ
ノール型エポキシ樹脂および非ビスフェノール型エポキ
シ樹脂と硬化剤成分として芳香族アミンおよび／または
脂環式アミンを含有することを特徴とするプラスチック
基板を用いた液晶表示素子用シール剤。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラスチックフィルム
またはシートを基板に用いた液晶表示素子（以下、フィ
ルム型液晶表示素子とも言う）に用いられる接着性、可
撓性、耐熱性等が良好なシール剤および該シール剤を用
いた液晶表示素子に関する。
またはシートを基板に用いた液晶表示素子（以下、フィ
ルム型液晶表示素子とも言う）に用いられる接着性、可
撓性、耐熱性等が良好なシール剤および該シール剤を用
いた液晶表示素子に関する。
【０００２】
【従来技術】液晶表示素子は、薄く軽量で消費電力が低
いことから、パソコンやワープロ用のディスプレイを始
めとした多くの表示ディスプレイとして使用されてい
る。これら液晶表示素子としては液晶セル基板にガラス
を使用したもの（以下、ガラス型液晶表示素子とも言
う）が大部分を占めていたが、近年、いわゆるモバイル
機器への液晶表示素子の搭載が進展するに伴い、軽量性
や可破砕性の要求からプラスチックフィルムまたはシー
トを基板に用いた液晶表示セルが一部で用いられるよう
になってきた。
いことから、パソコンやワープロ用のディスプレイを始
めとした多くの表示ディスプレイとして使用されてい
る。これら液晶表示素子としては液晶セル基板にガラス
を使用したもの（以下、ガラス型液晶表示素子とも言
う）が大部分を占めていたが、近年、いわゆるモバイル
機器への液晶表示素子の搭載が進展するに伴い、軽量性
や可破砕性の要求からプラスチックフィルムまたはシー
トを基板に用いた液晶表示セルが一部で用いられるよう
になってきた。
【０００３】液晶表示素子はシール剤により液晶を素子
の基板に封入させた形態で使用がなされている。前記シ
ール剤には液晶表示素子にかかる応力で破壊されない接
着強度が必要であり、また、液晶分子と直接に接するた
め、液晶分子に悪影響を及ぼさない性質や、さらに、プ
ラスチックフイルムを基板に用いた液晶表示素子では曲
面の表示へのニーズもあるため、可撓性も備えた総合的
な特性が必要とされる。特に近年では、モバイル用途の
拡大に伴い、従来よりも耐熱性の優れたシール剤への要
求も高くなってきている。
の基板に封入させた形態で使用がなされている。前記シ
ール剤には液晶表示素子にかかる応力で破壊されない接
着強度が必要であり、また、液晶分子と直接に接するた
め、液晶分子に悪影響を及ぼさない性質や、さらに、プ
ラスチックフイルムを基板に用いた液晶表示素子では曲
面の表示へのニーズもあるため、可撓性も備えた総合的
な特性が必要とされる。特に近年では、モバイル用途の
拡大に伴い、従来よりも耐熱性の優れたシール剤への要
求も高くなってきている。
【０００４】液晶表示表示素子のシール剤には熱硬化性
エポキシ樹脂が用いられているが、ガラス基板を用いる
液晶セルに対し、合成樹脂フィルムまたはシートを基板
として用いるフィルム型の液晶セルでは、ガラス基板に
比べて合成樹脂フィルムまたはシートの耐熱性が低いた
め、シール剤の硬化温度をガラス基板を用いる場合と同
程度に高く設定できず、従ってシール層の耐熱性が劣る
欠点があった。
エポキシ樹脂が用いられているが、ガラス基板を用いる
液晶セルに対し、合成樹脂フィルムまたはシートを基板
として用いるフィルム型の液晶セルでは、ガラス基板に
比べて合成樹脂フィルムまたはシートの耐熱性が低いた
め、シール剤の硬化温度をガラス基板を用いる場合と同
程度に高く設定できず、従ってシール層の耐熱性が劣る
欠点があった。
【０００５】また、フィルム型液晶表示素子では、ガラ
ス型液晶表示素子ではほとんど必要とされない可撓性を
具備しなければならない。このためフィルム型液晶素子
では、ガラス型液晶表示素子ガラス素子とは異なるシー
ル剤を用いたり、また、ガラス用シール剤を低い温度で
硬化させて使用することがなされてきた。このため、フ
ィルム型液晶表示素子では、ガラス表示素子に比べ、シ
ール剤に必要とされる特性の中で、特に高温で保存する
と、シール剤中に液晶が混入、膨潤することで引き起こ
される接着強度の低下や、シール剤による液晶のスイッ
チング電流の増大による動作不良等の耐液晶性に問題が
あり、これを克服した信頼性の高いシール剤が求められ
ていた。
ス型液晶表示素子ではほとんど必要とされない可撓性を
具備しなければならない。このためフィルム型液晶素子
では、ガラス型液晶表示素子ガラス素子とは異なるシー
ル剤を用いたり、また、ガラス用シール剤を低い温度で
硬化させて使用することがなされてきた。このため、フ
ィルム型液晶表示素子では、ガラス表示素子に比べ、シ
ール剤に必要とされる特性の中で、特に高温で保存する
と、シール剤中に液晶が混入、膨潤することで引き起こ
される接着強度の低下や、シール剤による液晶のスイッ
チング電流の増大による動作不良等の耐液晶性に問題が
あり、これを克服した信頼性の高いシール剤が求められ
ていた。
【０００６】そこで、これらの問題を解決するため、特
開昭６２−１８５２３では、フィルム表示素子用シール
剤としてポリオール型のエポキシ樹脂を用いたシール剤
が開示されている。これによりシール剤の可撓性と接着
強度は達成できるが、８０℃程度の高温下で液晶セルを
保存すると、シール剤の膨潤や、液晶のスイッチング電
流値が徐々に上昇し、耐熱性がまだ十分でない問題があ
った。
開昭６２−１８５２３では、フィルム表示素子用シール
剤としてポリオール型のエポキシ樹脂を用いたシール剤
が開示されている。これによりシール剤の可撓性と接着
強度は達成できるが、８０℃程度の高温下で液晶セルを
保存すると、シール剤の膨潤や、液晶のスイッチング電
流値が徐々に上昇し、耐熱性がまだ十分でない問題があ
った。
【０００７】また、特開平９−１２６７９では、フィル
ム型液晶表示素子用シール剤として室温で液状のシリコ
ーン変性エポキシ樹脂を１０〜５０重量部、室温で液状
のビスフェノール型エポキシ樹脂を９０〜５０重量部、
室温で液状の３官能チオール硬化剤を２０〜８０重量
部、シランカップリング剤を０．５〜５．０重量部、平
均粒径がｌμｍ以下の無定型シリカを１〜１０重量部、
平均粒径が２μｍ以下の無定型シリカ以外の無機充填を
５〜５０重量部を必須成分として含有するシール剤が開
示されているが、８０℃程度の高温下で液晶セルを保存
すると液晶のスイノチング電流値が徐々に上昇し、耐熱
性がまだ十分でない問題があった。
ム型液晶表示素子用シール剤として室温で液状のシリコ
ーン変性エポキシ樹脂を１０〜５０重量部、室温で液状
のビスフェノール型エポキシ樹脂を９０〜５０重量部、
室温で液状の３官能チオール硬化剤を２０〜８０重量
部、シランカップリング剤を０．５〜５．０重量部、平
均粒径がｌμｍ以下の無定型シリカを１〜１０重量部、
平均粒径が２μｍ以下の無定型シリカ以外の無機充填を
５〜５０重量部を必須成分として含有するシール剤が開
示されているが、８０℃程度の高温下で液晶セルを保存
すると液晶のスイノチング電流値が徐々に上昇し、耐熱
性がまだ十分でない問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、基板
としてプラスチックフィルムを用いた液晶表示素子にお
いて、該素子のシール剤として、フィルム液晶セルの組
立工程の加熱温度条件で、プラスチックフィルム基板の
屈曲に追従可能な可撓性を有し、かつ耐薬品性に優れた
シール剤および該シール剤を使用することにより前記課
題を解決した液晶表示素子を提供することにある。
としてプラスチックフィルムを用いた液晶表示素子にお
いて、該素子のシール剤として、フィルム液晶セルの組
立工程の加熱温度条件で、プラスチックフィルム基板の
屈曲に追従可能な可撓性を有し、かつ耐薬品性に優れた
シール剤および該シール剤を使用することにより前記課
題を解決した液晶表示素子を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決するために種々検討した結果、フィルム型液晶表示
素子の液晶セル用シール剤として、エポキシ成分として
特定種類のエポキシ樹脂の組み合わせ、さらに硬化剤と
して特定の種類のアミン化合物を使用することで上記問
題点が解決されることを見出し本発明に到達することが
できた。すなわち、本発明者らは高い耐液晶性を与える
エポキシ樹脂と硬化剤について種々検討した結果、エポ
キシ樹脂としてビスフェノール型エポキシ（エポキシ
１）を用い、これに芳香族アミン系硬化剤、脂環式アミ
ン系硬化剤あるいはこれら両者を用いると良好な結果が
得られることが分かった。この理由は明確ではないが、
ビスフェノール型のエポキシ樹脂は芳香環を分子内に複
数有するため凝集力が強いことや、ガラス転移温度が高
く分子運動が不活発のため、液晶分子が硬化したエポキ
シ樹脂に入りにくくなり、耐液晶性が向上するものと考
えられる。芳香族アミン系や脂環式アミン系硬化剤を用
いると、このような作用がさらに顕著になるものと考え
られる。しかしながら、ビスフェノール型のエポキシ樹
脂のみと芳香族アミン系硬化剤、脂環式アミン系硬化剤
あるいはこれら両者との組み合わせでは、硬化後のシー
ル剤が固くなり、基板に応力を加えると、いわゆる界面
剥離が顕著になり剥離強度が確保できなくなることが分
かった。そこで、剥離強度を向上させるために、さらに
検討した結果、前記ビスフェノール型エポキシ樹脂に非
ビスフェノール型のエポキシ樹脂を混合させることで耐
液晶性と剥離強度が両立するシール剤が得られることが
分かった。
解決するために種々検討した結果、フィルム型液晶表示
素子の液晶セル用シール剤として、エポキシ成分として
特定種類のエポキシ樹脂の組み合わせ、さらに硬化剤と
して特定の種類のアミン化合物を使用することで上記問
題点が解決されることを見出し本発明に到達することが
できた。すなわち、本発明者らは高い耐液晶性を与える
エポキシ樹脂と硬化剤について種々検討した結果、エポ
キシ樹脂としてビスフェノール型エポキシ（エポキシ
１）を用い、これに芳香族アミン系硬化剤、脂環式アミ
ン系硬化剤あるいはこれら両者を用いると良好な結果が
得られることが分かった。この理由は明確ではないが、
ビスフェノール型のエポキシ樹脂は芳香環を分子内に複
数有するため凝集力が強いことや、ガラス転移温度が高
く分子運動が不活発のため、液晶分子が硬化したエポキ
シ樹脂に入りにくくなり、耐液晶性が向上するものと考
えられる。芳香族アミン系や脂環式アミン系硬化剤を用
いると、このような作用がさらに顕著になるものと考え
られる。しかしながら、ビスフェノール型のエポキシ樹
脂のみと芳香族アミン系硬化剤、脂環式アミン系硬化剤
あるいはこれら両者との組み合わせでは、硬化後のシー
ル剤が固くなり、基板に応力を加えると、いわゆる界面
剥離が顕著になり剥離強度が確保できなくなることが分
かった。そこで、剥離強度を向上させるために、さらに
検討した結果、前記ビスフェノール型エポキシ樹脂に非
ビスフェノール型のエポキシ樹脂を混合させることで耐
液晶性と剥離強度が両立するシール剤が得られることが
分かった。
【００１０】本発明に用いられるビスフェノール型のエ
ポキシ樹脂としては、ビスフェノール型のものであれば
特にその種類に制限なく用いることができるが、例えば
下記の一般式（１）で表されるビスフェノールＡ型のエ
ポキシ樹脂や一般式（２）で表されるビスフェノールＦ
型のエポキシ樹脂が挙げられる。
ポキシ樹脂としては、ビスフェノール型のものであれば
特にその種類に制限なく用いることができるが、例えば
下記の一般式（１）で表されるビスフェノールＡ型のエ
ポキシ樹脂や一般式（２）で表されるビスフェノールＦ
型のエポキシ樹脂が挙げられる。
【００１１】ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
【化１】 （ｎは、０または１である。）
【００１２】ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂
【化２】 （ｎは、０または１である。）
【００１３】前記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の具
体例として、例えばエピコート８２８、８３４、１００
１、１００４〔油化シェルエポキシ（株）製〕、エピク
ロン８５０、８６０、４０５５〔大日本インキ化学工業
（株）製〕等が挙げられる。ビスフェノールＦ型エポキ
シ樹脂の具体例としては、例えばエピコート８０７〔油
化シェルエポキシ（株）製〕、エピクロン８３０〔大日
本インキ化学工業（株）製〕等が挙げられる。
体例として、例えばエピコート８２８、８３４、１００
１、１００４〔油化シェルエポキシ（株）製〕、エピク
ロン８５０、８６０、４０５５〔大日本インキ化学工業
（株）製〕等が挙げられる。ビスフェノールＦ型エポキ
シ樹脂の具体例としては、例えばエピコート８０７〔油
化シェルエポキシ（株）製〕、エピクロン８３０〔大日
本インキ化学工業（株）製〕等が挙げられる。
【００１４】非ビスフェノール型エポキシ樹脂（エポキ
シ２）としては、例えばアルコール型エポキシ樹脂、ポ
リサルファイド変性エポキシ樹脂、シリコーンオイル変
性エポキシ樹脂等が挙げられる。アルコール型エポキシ
樹脂としては、例えばアルコール性ＯＨとエピクロルヒ
ドリンが反応したグリシジルエーテル基を有する材料で
あって、例えば下式（３）〜（６）のようなものが挙げ
られる。
シ２）としては、例えばアルコール型エポキシ樹脂、ポ
リサルファイド変性エポキシ樹脂、シリコーンオイル変
性エポキシ樹脂等が挙げられる。アルコール型エポキシ
樹脂としては、例えばアルコール性ＯＨとエピクロルヒ
ドリンが反応したグリシジルエーテル基を有する材料で
あって、例えば下式（３）〜（６）のようなものが挙げ
られる。
【００１５】ポリエチレングリコール型
【化３】 （ｎは、５≦ｎ≦１５である。）
【００１６】プロピレングリコール型
【化４】
【００１７】１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエ
ーテル型
ーテル型
【化５】
【００１８】ポリサルファイド変性エポキシ樹脂として
は、分子骨格内に−Ｓ−結合を有し、両末端にエポキシ
基（グリシジル基）を有する材料で例えば下式（７）で
表わされるポリスルフィド変性エポキシ樹脂が挙げられ
る。
は、分子骨格内に−Ｓ−結合を有し、両末端にエポキシ
基（グリシジル基）を有する材料で例えば下式（７）で
表わされるポリスルフィド変性エポキシ樹脂が挙げられ
る。
【化６】 （ｎは、１≦ｎ≦１０である。） 前記ポリスルフィド変性エポキシ樹脂としては、ＦＬＥ
Ｐ−１０、ＦＬＥＰ−５０、ＦＬＥＰ−６０、ＦＬＥＰ
−８０（商品名、東レチオコール社製）が挙げられる。
Ｐ−１０、ＦＬＥＰ−５０、ＦＬＥＰ−６０、ＦＬＥＰ
−８０（商品名、東レチオコール社製）が挙げられる。
【００１９】シリコーンオイル変性エポキシ樹脂として
は、分子骨格にＳｉＯ結合を有し、両末端にエポキシ基
を有する材料で、例えば下式（８）に示すような材料が
挙げられる。
は、分子骨格にＳｉＯ結合を有し、両末端にエポキシ基
を有する材料で、例えば下式（８）に示すような材料が
挙げられる。
【化７】 （式中、Ｒはメチル基またはフェニル基を表わす。また
ｎは、１≦ｎ≦９である。） 前記エポキシ１とエポキシ２はおのおの２種類以上のエ
ポキシ樹脂が含まれていてもよい。
ｎは、１≦ｎ≦９である。） 前記エポキシ１とエポキシ２はおのおの２種類以上のエ
ポキシ樹脂が含まれていてもよい。
【００２０】さらに本発明者らは、本発明のシール材の
耐液晶性に対する評価法について検討を行ったところ、
シール剤を高温下で液晶中に保存し、保存後の液晶の固
有抵抗値を計測することや、シール剤への液晶の膨潤度
を計測することで、シール材の耐液晶性がよく評価でき
ることを確認でき、これら評価法によると、耐液晶性が
悪いシール材を高温下で保存した後の液晶は低い固有抵
抗値となり、また、シール材へ液晶が浸透膨潤しシール
材の重量が増加する。固有抵抗値が高いものは膨潤しな
い傾向となり、このような性能を有するシール剤は耐液
晶性が高いと判定される。
耐液晶性に対する評価法について検討を行ったところ、
シール剤を高温下で液晶中に保存し、保存後の液晶の固
有抵抗値を計測することや、シール剤への液晶の膨潤度
を計測することで、シール材の耐液晶性がよく評価でき
ることを確認でき、これら評価法によると、耐液晶性が
悪いシール材を高温下で保存した後の液晶は低い固有抵
抗値となり、また、シール材へ液晶が浸透膨潤しシール
材の重量が増加する。固有抵抗値が高いものは膨潤しな
い傾向となり、このような性能を有するシール剤は耐液
晶性が高いと判定される。
【００２１】本発明で用いられる芳香族アミンとして
は、ジアミノジフェニルメタン（ＤＤＭ）、メタフェニ
レンジアミン、ジアミノジフェニルスルホン、３，３′
−ジメチル−５，５′−ジエチル−４，４′−ジアミノ
フェニルメタン、ジメチルエチルメタフェニレンジアミ
ン、ＤＤＭのエポキシアダクト物等が挙げられる。
は、ジアミノジフェニルメタン（ＤＤＭ）、メタフェニ
レンジアミン、ジアミノジフェニルスルホン、３，３′
−ジメチル−５，５′−ジエチル−４，４′−ジアミノ
フェニルメタン、ジメチルエチルメタフェニレンジアミ
ン、ＤＤＭのエポキシアダクト物等が挙げられる。
【００２２】また、本発明で用いられる脂環式アミンと
しては、イソホロンジアミン、ノルボルネンジアミン、
シクロへキシレンジアミン、ジメチルジアミノジシクロ
へキシルメタン等が挙げられる。
しては、イソホロンジアミン、ノルボルネンジアミン、
シクロへキシレンジアミン、ジメチルジアミノジシクロ
へキシルメタン等が挙げられる。
【００２３】本発明のシール剤には、該シール剤の硬化
時間の短縮および／または硬化温度の低下のためにさら
に硬化触媒を添加することができる。添加する硬化触媒
の例としては、シリカ等の無機固体酸、サリチル酸等の
有機酸等を挙げることが出来る。硬化触媒として、前記
のような酸を含有させることにより、例えば４０℃以下
の低温度で硬化反応が進み、硬化反応の低温化が達成で
きる。硬化触媒を含有しない場合、メタフェニレンジア
ミン、ジアミノジフェニルメタン等の芳香族アミンは６
０℃以上の温度で硬化させる必要があるが、硬化触媒を
混入させることにより、４０℃での硬化が可能になる。
この場合に、４０℃程度で硬化後、１２０℃でさらにベ
ークするが、最初（Ｆｉｒｓｔ Ｓｔｅｐ）の硬化は基
板を加圧しながらベークし、セルギヤップだしを行うた
め、基板の変形、打痕後等の問題を軽減するため、低温
下で行うことが好ましく、本発明のように４０℃以下で
硬化が実施できることは非常に有利である。また、硬化
触媒として微粉末シリカを用いる場合には、その表面に
存在するプロトン（−ＯＨ基が解離し、Ｈ+になる）に
より酸性触媒となるが、下記のようにシリカはシール剤
を増粘する作用を奏するので、増粘作用と前記触媒作用
を兼用することか可能となる。
時間の短縮および／または硬化温度の低下のためにさら
に硬化触媒を添加することができる。添加する硬化触媒
の例としては、シリカ等の無機固体酸、サリチル酸等の
有機酸等を挙げることが出来る。硬化触媒として、前記
のような酸を含有させることにより、例えば４０℃以下
の低温度で硬化反応が進み、硬化反応の低温化が達成で
きる。硬化触媒を含有しない場合、メタフェニレンジア
ミン、ジアミノジフェニルメタン等の芳香族アミンは６
０℃以上の温度で硬化させる必要があるが、硬化触媒を
混入させることにより、４０℃での硬化が可能になる。
この場合に、４０℃程度で硬化後、１２０℃でさらにベ
ークするが、最初（Ｆｉｒｓｔ Ｓｔｅｐ）の硬化は基
板を加圧しながらベークし、セルギヤップだしを行うた
め、基板の変形、打痕後等の問題を軽減するため、低温
下で行うことが好ましく、本発明のように４０℃以下で
硬化が実施できることは非常に有利である。また、硬化
触媒として微粉末シリカを用いる場合には、その表面に
存在するプロトン（−ＯＨ基が解離し、Ｈ+になる）に
より酸性触媒となるが、下記のようにシリカはシール剤
を増粘する作用を奏するので、増粘作用と前記触媒作用
を兼用することか可能となる。
【００２４】本発明のシール剤にはスクリーン印刷適合
性のためフィラーを添加することができる。すなわち、
シール剤は通常スクリーン印刷法により基板上に形成さ
れるが、このためシール剤粘度は３０〜５０Ｐａ・ｓ程
度に粘度調整を行う必要があるが、そのために添加する
フィラーの例としては、酸化チタン、シリカ、アルミ
ナ、炭酸カルシウム等を挙げることが出来る。前記フィ
ラーは単独あるいは複数で用いることが出来、エポキシ
成分、硬化剤成分、あるいはその両方に添加することが
出来る。添加の方法はホモジナイザーや３本ロールミル
が適当である。フィラー添加量はエポキシ成分あるいは
硬化剤成分の１００重量部に対して０〜１００重量部が
適当である。
性のためフィラーを添加することができる。すなわち、
シール剤は通常スクリーン印刷法により基板上に形成さ
れるが、このためシール剤粘度は３０〜５０Ｐａ・ｓ程
度に粘度調整を行う必要があるが、そのために添加する
フィラーの例としては、酸化チタン、シリカ、アルミ
ナ、炭酸カルシウム等を挙げることが出来る。前記フィ
ラーは単独あるいは複数で用いることが出来、エポキシ
成分、硬化剤成分、あるいはその両方に添加することが
出来る。添加の方法はホモジナイザーや３本ロールミル
が適当である。フィラー添加量はエポキシ成分あるいは
硬化剤成分の１００重量部に対して０〜１００重量部が
適当である。
【００２５】本発明のシール剤には接着強度の向上のた
めシランカップリング剤を添加することが出来る。シラ
ンカップリング剤の例としては、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシンラン、γ−グリシドキシプロピルト
リエトキシンラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジ
エトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらシ
ランカップリング剤の添加量はエポキシ樹脂１００重量
部に対して０．５〜２０重量部、好ましくは１〜１０重
量部である。
めシランカップリング剤を添加することが出来る。シラ
ンカップリング剤の例としては、γ−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシンラン、γ−グリシドキシプロピルト
リエトキシンラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジ
エトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノ
プロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらシ
ランカップリング剤の添加量はエポキシ樹脂１００重量
部に対して０．５〜２０重量部、好ましくは１〜１０重
量部である。
【００２６】プラスチックフィルム基板のベース材料と
しては、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルサル
フォンフィルム、ポリサルフォンフィルム等がある。し
かし、ベース基板単独ではガスハリヤー性、耐溶剤性等
の諸特性が不十分のため基板の両面、あるいは片面にガ
スバリヤー層、保護膜等の無機あるいは有機物のコーテ
ィング膜が形成され、その上にＩＴＯ膜が形成される。
基板厚は総厚で０．１〜０．３ｍｍである。
しては、ポリカーボネートフィルム、ポリエーテルサル
フォンフィルム、ポリサルフォンフィルム等がある。し
かし、ベース基板単独ではガスハリヤー性、耐溶剤性等
の諸特性が不十分のため基板の両面、あるいは片面にガ
スバリヤー層、保護膜等の無機あるいは有機物のコーテ
ィング膜が形成され、その上にＩＴＯ膜が形成される。
基板厚は総厚で０．１〜０．３ｍｍである。
【００２７】〈プラスチックフィルム基板を用いた液晶
表示素子の製造方法〉少なくとも１枚のプラスチックフ
ィルム基板からなりＩＴＯ電極が形成されている。フォ
トリソグラフィー法等の公知の方法でパターンを形成形
する。基板面の洗浄後、ポリアミド、ポリイミド等の配
向膜をフレキソ印刷法で任意のパターンに印刷する。所
定の温度でベーク後、ラビング処理し、液晶の配向処理
を完成する。ラビングゴミを超音波ドライ洗浄で除去
後、一方あるいは両方の基板に電極端子部に対応する位
置の窓枠をあける（プレカット工程と略称する）。さら
にゴミを完全に除去するために超音波洗浄（３０〜６０
ＫＨｚの超音波水洗浄と１メガＨｚ近傍の周波数での水
洗浄）を実施する。
表示素子の製造方法〉少なくとも１枚のプラスチックフ
ィルム基板からなりＩＴＯ電極が形成されている。フォ
トリソグラフィー法等の公知の方法でパターンを形成形
する。基板面の洗浄後、ポリアミド、ポリイミド等の配
向膜をフレキソ印刷法で任意のパターンに印刷する。所
定の温度でベーク後、ラビング処理し、液晶の配向処理
を完成する。ラビングゴミを超音波ドライ洗浄で除去
後、一方あるいは両方の基板に電極端子部に対応する位
置の窓枠をあける（プレカット工程と略称する）。さら
にゴミを完全に除去するために超音波洗浄（３０〜６０
ＫＨｚの超音波水洗浄と１メガＨｚ近傍の周波数での水
洗浄）を実施する。
【００２８】一方の基板にセルギャップを決定するプラ
スチックあるいは無機物からなる球状粒子のギャップ材
を散布し、他方の基板には、本発明で示すシール剤をス
クリーン印刷し、両基板の位置をアライメントし、重ね
合わせる。重ね合わされた一対の基板はエアーバッグ方
式の加圧焼成器にセットし、６０℃以下の温度でシール
ベークする。シール材で固定された一対の基板を個々の
セルに分断するためのカットを実施する（一般的には大
面積基板に多数個のセルを配置する多数個取り工法を用
いるため）。個々のセルに分割されたセルをさらに１０
０℃以上の高温でベークしシール材の架橋反応を向上さ
せる。この時のベークはセルをカセット等の治具に収納
し、セルは無加圧でベークする。
スチックあるいは無機物からなる球状粒子のギャップ材
を散布し、他方の基板には、本発明で示すシール剤をス
クリーン印刷し、両基板の位置をアライメントし、重ね
合わせる。重ね合わされた一対の基板はエアーバッグ方
式の加圧焼成器にセットし、６０℃以下の温度でシール
ベークする。シール材で固定された一対の基板を個々の
セルに分断するためのカットを実施する（一般的には大
面積基板に多数個のセルを配置する多数個取り工法を用
いるため）。個々のセルに分割されたセルをさらに１０
０℃以上の高温でベークしシール材の架橋反応を向上さ
せる。この時のベークはセルをカセット等の治具に収納
し、セルは無加圧でベークする。
【００２９】液晶注入は気圧差を利用した真空法で注入
する。注入後のセルは過剰に液晶が注入され、セルギャ
ップの均一が充分でないので、プレスして過剰液晶を注
入口から押し出した後に封止する。封止材はＵＶ硬化型
樹脂が生産性の点で優れているが、エポキシ系の熱硬化
型樹脂でもよい。フロント側に偏光板あるいは位相差板
つき偏光板を貼付する（ＴＮ型は偏光板、ＳＴＮ型は、
位相差板つき偏光板）。リヤー側には反射板つき偏光板
あるいは半透過板つき偏光板を貼付し、反射型、あるい
は半透過式パネルとする。ＬＣＤユニットはさらに駆動
回路や駆動回路とのコネクターを実装する。
する。注入後のセルは過剰に液晶が注入され、セルギャ
ップの均一が充分でないので、プレスして過剰液晶を注
入口から押し出した後に封止する。封止材はＵＶ硬化型
樹脂が生産性の点で優れているが、エポキシ系の熱硬化
型樹脂でもよい。フロント側に偏光板あるいは位相差板
つき偏光板を貼付する（ＴＮ型は偏光板、ＳＴＮ型は、
位相差板つき偏光板）。リヤー側には反射板つき偏光板
あるいは半透過板つき偏光板を貼付し、反射型、あるい
は半透過式パネルとする。ＬＣＤユニットはさらに駆動
回路や駆動回路とのコネクターを実装する。
【００３０】最近携帯電話、ＰＨＳ、カードページャー
等の軽量、薄型の情報端末機が多く生産されてきたが、
これらに求められる液晶材料特性はＤｕｔｙ比が１／１
６〜１／６４、低電圧、高速応答のＳＴＮ型液晶表示素
子（ＬＣＤ）である。液晶材料は液晶表示素子（ＬＣ
Ｄ）に対する要求特性（例えばＤｕｔｙ比、駆動電圧、
応答速度）によって材料の種類、配合比等を調整し、１
０種類程度の混合物となっているが、液晶に低電圧化や
高速化を求めると、液晶材料が敏感になり、周辺材料の
影響を受けやすくなることかわかった。すなわち、液晶
のしきい値電圧（Ｖｔｈ）か１．５Ｖ以下、液晶のΔε
が１０以上の材料を用いると、特に周辺材料の影響を受
けやすく、液晶の比抵抗の低下に伴う消電電流の増加、
配向性の劣化等の問題が発生する。従って、本発明は特
に周辺材料の影響を受けやすい低電圧液晶材料を用いた
ＰＦ−ＬＣＤにおいて、特に有効であり、他のシール材
料系では達成達不可能な信頼性を達成した画期的なシー
ル材を提供するものである。
等の軽量、薄型の情報端末機が多く生産されてきたが、
これらに求められる液晶材料特性はＤｕｔｙ比が１／１
６〜１／６４、低電圧、高速応答のＳＴＮ型液晶表示素
子（ＬＣＤ）である。液晶材料は液晶表示素子（ＬＣ
Ｄ）に対する要求特性（例えばＤｕｔｙ比、駆動電圧、
応答速度）によって材料の種類、配合比等を調整し、１
０種類程度の混合物となっているが、液晶に低電圧化や
高速化を求めると、液晶材料が敏感になり、周辺材料の
影響を受けやすくなることかわかった。すなわち、液晶
のしきい値電圧（Ｖｔｈ）か１．５Ｖ以下、液晶のΔε
が１０以上の材料を用いると、特に周辺材料の影響を受
けやすく、液晶の比抵抗の低下に伴う消電電流の増加、
配向性の劣化等の問題が発生する。従って、本発明は特
に周辺材料の影響を受けやすい低電圧液晶材料を用いた
ＰＦ−ＬＣＤにおいて、特に有効であり、他のシール材
料系では達成達不可能な信頼性を達成した画期的なシー
ル材を提供するものである。
【００３１】
【実施例】以下、本発明の実施例を示す。
【００３２】実施例１ 下記のエポキシ成分をホモジナイーザー及び３本ロール
ミルを用いて混合し、エポキシ主剤を作製した。また、
下記の硬化剤成分をホモジナイザーで混合し硬化剤を作
製した。このようにして作製したエポキシ主剤２７部と
硬化剤３部を配合し、６０℃で５時間、ついで１２０℃
で２時間硬化させた。この硬化物約０．１ｇを液晶〔ロ
ディック（株）ＲＤＰ−６０４２９Ｅ０５９〕ｌ．２ｍ
ｌ中に投入し、８５℃で４日間保存し、保存後の液晶の
固有抵抗（以下、比抵抗と称す）と、保存前後のエポキ
シ硬化物の重量変化率（以下、膨潤率と称す）を測定し
た。その結果、比抵抗は３．０×１０10Ωｃｍ、膨潤率
は１．００（膨脹せず）であった。
ミルを用いて混合し、エポキシ主剤を作製した。また、
下記の硬化剤成分をホモジナイザーで混合し硬化剤を作
製した。このようにして作製したエポキシ主剤２７部と
硬化剤３部を配合し、６０℃で５時間、ついで１２０℃
で２時間硬化させた。この硬化物約０．１ｇを液晶〔ロ
ディック（株）ＲＤＰ−６０４２９Ｅ０５９〕ｌ．２ｍ
ｌ中に投入し、８５℃で４日間保存し、保存後の液晶の
固有抵抗（以下、比抵抗と称す）と、保存前後のエポキ
シ硬化物の重量変化率（以下、膨潤率と称す）を測定し
た。その結果、比抵抗は３．０×１０10Ωｃｍ、膨潤率
は１．００（膨脹せず）であった。
【００３３】 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ７０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＢＰＰ３５０〕 ３０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 無定型ンリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 １０重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ７重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤アンカミンＺ（ＡＣＩジャパン） １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部
【００３４】また、ＩＴＯ付きフィルム〔帝人（株）Ａ
Ｍ７０１５Ｃ、Ｆ−１００−３００〕のＩＴＯ層をエッ
チング剥離した基板上にスクリーン印刷した前記配合品
を挟み込み、同様条件で硬化させ、その９０度剥離強度
（以下、剥離強度と称す）を測定したところ３２０ｇｆ
／５ｍｍであり、剥離面は基板とコート層の界面であ
り、基板表面との密着性は充分であった。
Ｍ７０１５Ｃ、Ｆ−１００−３００〕のＩＴＯ層をエッ
チング剥離した基板上にスクリーン印刷した前記配合品
を挟み込み、同様条件で硬化させ、その９０度剥離強度
（以下、剥離強度と称す）を測定したところ３２０ｇｆ
／５ｍｍであり、剥離面は基板とコート層の界面であ
り、基板表面との密着性は充分であった。
【００３５】次に前述したＰＦ−ＬＣＤの製造方法と同
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９Ｅ０５９である。この
液晶のＶｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であっ
た。シール材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時
間であった。得られたパネルの信頼性は以下の通りであ
る。
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９Ｅ０５９である。この
液晶のＶｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であっ
た。シール材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時
間であった。得られたパネルの信頼性は以下の通りであ
る。
【００３６】
【表１】
【００３７】実施例２ 実施例１のエポキシ樹脂を下記のものに変え、主剤と硬
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ５０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＢＰＰ３５０〕 ５０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ８重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤アンカミンＺ〔ＡＣＩジャパン〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝７５／１０ 結果 液晶比抵抗 ２．２×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．０ 剥離強度 ３６０ｇ／５ｍｍ
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ５０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＢＰＰ３５０〕 ５０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ８重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤アンカミンＺ〔ＡＣＩジャパン〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝７５／１０ 結果 液晶比抵抗 ２．２×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．０ 剥離強度 ３６０ｇ／５ｍｍ
【００３８】次に前述したＰＦ−ＬＣＤの製造方法と同
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９である。この液晶のＶ
ｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であった。シー
ル材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得ら
れたパネルの信頼性は以下の通りである。
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９である。この液晶のＶ
ｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であった。シー
ル材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得ら
れたパネルの信頼性は以下の通りである。
【００３９】
【表２】
【００４０】実施例３ 実施例１のエポキシ樹脂を下記のものに変え、主剤と硬
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ９０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＢＰ３００Ｐ〕 １０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 ８重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ３重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤アンカミンＺ〔ＡＣＩジャパン〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝９０／１５ 結果 液晶比抵抗 ２．６×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．０ 剥離強度 ３７０ｇ／５ｍｍ
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ９０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＢＰ３００Ｐ〕 １０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 ８重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ３重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤アンカミンＺ〔ＡＣＩジャパン〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝９０／１５ 結果 液晶比抵抗 ２．６×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．０ 剥離強度 ３７０ｇ／５ｍｍ
【００４１】次に前述したＰＦ−ＬＣＤの製造方法と同
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はＲＣ
４０８７〔チッソ（株）〕である。この液晶のＶｔｈは
１．３８Ｖ、またΔεは１２．４の材料である。シール
材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で、得ら
れたパネルの信頼性は以下の通りである。
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はＲＣ
４０８７〔チッソ（株）〕である。この液晶のＶｔｈは
１．３８Ｖ、またΔεは１２．４の材料である。シール
材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で、得ら
れたパネルの信頼性は以下の通りである。
【００４２】
【表３】
【００４３】実施例４ 実施例１のエポキシ樹脂を下記のものに変え、主剤と硬
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ９０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＰＰ３００Ｐ〕 １０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 ８重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ４重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤〔ＥＨ−５３１（旭電化工業）〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝１００／５０ 結果 液晶比抵抗 １．９×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．０ 剥離強度 ３１０ｇ／５ｍｍ
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ９０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＰＰ３００Ｐ〕 １０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 ８重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ４重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤〔ＥＨ−５３１（旭電化工業）〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝１００／５０ 結果 液晶比抵抗 １．９×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．０ 剥離強度 ３１０ｇ／５ｍｍ
【００４４】次に前述したＰＦ−ＬＣＤの製造方法と同
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はＲＣ
４０８７〔チッソ（株）〕である。この液晶のＶｔｈは
１．３８Ｖ、またΔεは１２．４の材料である。シール
材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得られ
たパネルの信頼性は以下の通りである。
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はＲＣ
４０８７〔チッソ（株）〕である。この液晶のＶｔｈは
１．３８Ｖ、またΔεは１２．４の材料である。シール
材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得られ
たパネルの信頼性は以下の通りである。
【００４５】
【表４】
【００４６】実施例５ 実施例１のエポキシ樹脂を下記のものに変え、主剤と硬
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様な評価
を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ９０重量部 アルコール型３官能エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）ヘロキシＨＭ−５０５Ｐ〕 １０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 ８重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ２重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤アンカミンＺ〔ＡＣＩジャパン〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝９０／１３ 結果 液晶比抵抗 １．７×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．１ 剥離強度 ３９０ｇ／５ｍｍ
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様な評価
を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ９０重量部 アルコール型３官能エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）ヘロキシＨＭ−５０５Ｐ〕 １０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 ８重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ２重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤アンカミンＺ〔ＡＣＩジャパン〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝９０／１３ 結果 液晶比抵抗 １．７×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．１ 剥離強度 ３９０ｇ／５ｍｍ
【００４７】次に前述したＰＦ−ＬＣＤの製造方法と同
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はＲＣ
４０８７〔チッソ（株）〕である。この液晶のＶｔｈは
１．３８Ｖ、またΔεは１２．４の材料である。シール
材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得られ
たパネルの信頼性は以下の通りである。
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はＲＣ
４０８７〔チッソ（株）〕である。この液晶のＶｔｈは
１．３８Ｖ、またΔεは１２．４の材料である。シール
材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得られ
たパネルの信頼性は以下の通りである。
【００４８】
【表５】
【００４９】実施例６ 実施例１のエポキシ樹脂を下記のものに変え、主剤と硬
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ５０重量部 ポリサルファイド変性エポキシ樹脂 〔東レチオコール（株）フレップ５０〕 ５０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ４０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 １０重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤アンカミンＺ〔ＡＣＩジャパン〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝８６／１０ 結果 液晶比抵抗 ２．０×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．１ 剥離強度 ４１０ｇ／５ｍｍ
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ５０重量部 ポリサルファイド変性エポキシ樹脂 〔東レチオコール（株）フレップ５０〕 ５０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ４０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 １０重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤アンカミンＺ〔ＡＣＩジャパン〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝８６／１０ 結果 液晶比抵抗 ２．０×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．１ 剥離強度 ４１０ｇ／５ｍｍ
【００５０】次に前述したＰＦ−ＬＣＤの製造方法と同
じ方法で１／６４Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はＲＣ
４０８７〔チッソ（株）〕である。この液晶のＶｔｈは
１．３８Ｖ、またΔεは１２．４の材料である。シール
材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得られ
たパネルの信頼性は以下の通りである。
じ方法で１／６４Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はＲＣ
４０８７〔チッソ（株）〕である。この液晶のＶｔｈは
１．３８Ｖ、またΔεは１２．４の材料である。シール
材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得られ
たパネルの信頼性は以下の通りである。
【００５１】
【表６】
【００５２】実施例７ 実施例１のエポキシ樹脂を下記のものに変え、主剤と硬
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ９０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＢＰＰ３５０〕 １０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 ８重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） 脂環型アミン硬化剤エピキュアー１１３ 〔油化シェルエポキシ（株）〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 １０重量部 主剤／硬化剤＝４６／１０ 結果 液晶比抵抗 １．５×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．１ 剥離強度 ３００ｇ／５ｍｍ
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ９０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＢＰＰ３５０〕 １０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 ８重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） 脂環型アミン硬化剤エピキュアー１１３ 〔油化シェルエポキシ（株）〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 １０重量部 主剤／硬化剤＝４６／１０ 結果 液晶比抵抗 １．５×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．１ 剥離強度 ３００ｇ／５ｍｍ
【００５３】次に前述したＰＦ−ＬＣＤの製造方法と同
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９である。この液晶のＶ
ｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であった。シー
ル材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得ら
れたパネルの信頼性は以下の通りである。
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９である。この液晶のＶ
ｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であった。シー
ル材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得ら
れたパネルの信頼性は以下の通りである。
【００５４】
【表７】
【００５５】実施例８ 実施例１のエポキシ樹脂を下記のものに変え、主剤と硬
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ５０重量部 ポリサルファイド変性エポキシ樹脂 〔東レチオコール（株）フレップ５０〕 ５０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ４０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 １０重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） 脂環型アミン硬化剤 エピキュアー１１３ 〔油化シェルエポキシ（株）〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 １０重量部 主剤／硬化剤＝５０／１０ 結果 液晶比抵抗 １．６×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．０ 剥離強度 ４２０ｇ／５ｍｍ
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ５０重量部 ポリサルファイド変性エポキシ樹脂 〔東レチオコール（株）フレップ５０〕 ５０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ４０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 １０重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） 脂環型アミン硬化剤 エピキュアー１１３ 〔油化シェルエポキシ（株）〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 １０重量部 主剤／硬化剤＝５０／１０ 結果 液晶比抵抗 １．６×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．０ 剥離強度 ４２０ｇ／５ｍｍ
【００５６】次に前述したＰＦ−ＬＣＤの製造方法と同
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９Ｅ０５９である。この
液晶のＶｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であっ
た。シール材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時
間で得られたパネルの信頼性は以下の通りである。
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９Ｅ０５９である。この
液晶のＶｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であっ
た。シール材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時
間で得られたパネルの信頼性は以下の通りである。
【００５７】
【表８】
【００５８】比較例１ 実施例１の硬化剤を下記のポリアミドアミン型に変え、
主剤と硬化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同
様にして評価を行った。結果は以下の通りであった。主
剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ７０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＢＰＰ３５０〕 ３０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 １０重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ３重量部 硬化剤（硬化剤成分） ポリアミド型アミン〔トーマイド２９６（富士化成）〕 １００重量部 主剤／硬化剤＝１００／４０ 結果 液晶比抵抗 ８．７×１０8Ωｃｍ 膨潤率 １．８ 剥離強度 ３６０ｇ／５ｍｍ
主剤と硬化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同
様にして評価を行った。結果は以下の通りであった。主
剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ７０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＢＰＰ３５０〕 ３０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 １０重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ３重量部 硬化剤（硬化剤成分） ポリアミド型アミン〔トーマイド２９６（富士化成）〕 １００重量部 主剤／硬化剤＝１００／４０ 結果 液晶比抵抗 ８．７×１０8Ωｃｍ 膨潤率 １．８ 剥離強度 ３６０ｇ／５ｍｍ
【００５９】次に前述したＰＦ−ＬＣＤの製造方法と同
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９である。この液晶のＶ
ｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であった。シー
ル材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得ら
れたパネルの信頼性は以下の通りである。
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９である。この液晶のＶ
ｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であった。シー
ル材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得ら
れたパネルの信頼性は以下の通りである。
【００６０】
【表９】
【００６１】比較例２ 実施例１のエポキシ樹脂を下記のものに変え、主剤と硬
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。結果は以下の通りであった。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ７０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＢＰＰ３５０〕 ３０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）ＡＩ2Ｏ3−Ｃ〕 １０重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） ３官能チオール ＴＨＩＥＣ−ＢＭＰＡ（淀化学） １００重量部 無定型シリカ（日本アエロジル（株）Ｒ−８０５） １０重量部 主剤／硬化剤＝１３／１ 結果 液晶比抵抗 ３．５×１０9Ωｃｍ 膨潤率 １．３ 剥離強度 ４５０ｇ／５ｍｍ
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。結果は以下の通りであった。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 ７０重量部 アルコール型２官能エポキシ樹脂 〔三洋化成（株）グリシェールＢＰＰ３５０〕 ３０重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）ＡＩ2Ｏ3−Ｃ〕 １０重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） ３官能チオール ＴＨＩＥＣ−ＢＭＰＡ（淀化学） １００重量部 無定型シリカ（日本アエロジル（株）Ｒ−８０５） １０重量部 主剤／硬化剤＝１３／１ 結果 液晶比抵抗 ３．５×１０9Ωｃｍ 膨潤率 １．３ 剥離強度 ４５０ｇ／５ｍｍ
【００６２】次に前述したＰＦ−ＬＣＤの製造方法と同
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９である。この液晶のＶ
ｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であった。シー
ル材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得ら
れたパネルの信頼性は以下の通りである。
じ方法で１／３２Ｄｕｔｙ比のＳＴＮパネルを作製し
た。用いたシール材は下記の主剤と硬化剤、液晶はロデ
ィック（株）ＲＤＰ−６０４２９である。この液晶のＶ
ｔｈは１．３８Ｖ、またΔεは１２．９であった。シー
ル材の硬化条件は６０℃５時間＋１２０℃２時間で得ら
れたパネルの信頼性は以下の通りである。
【００６３】
【表１０】
【００６４】比較例３ 実施例１のエポキシ樹脂を下記のものに変え、主剤と硬
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 １００重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 １０重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤〔アンカミンＺ（ＡＣＩジャパン）〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝５６／１０ 結果 液晶比抵抗 ３．７×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．０ 剥離強度 ８０ｇ／５ｍｍ 剥離強度が小さく、セル化工程でシールはがれが発生し
たため、パネル評価は未実施。
化剤の配合を下記に変えた以外は実施例１と同様にして
評価を行った。 主剤（エポキシ成分） 高純度ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂 〔油化シェルエポキシ（株）エピコートＹＬ−９８０〕 １００重量部 酸化チタン〔日本アエロジル（株）Ｐ−２５〕 ２０重量部 アルミナ〔日本アエロジル（株）Ａｌ2Ｏ3−Ｃ〕 １０重量部 シランカップリング剤〔信越シリコーン社ＫＢＭ４０３〕 ５重量部 硬化剤（硬化剤成分） 芳香族アミン型硬化剤〔アンカミンＺ（ＡＣＩジャパン）〕 １００重量部 無定型シリカ〔日本アエロジル（株）Ｒ−８０５〕 ５重量部 主剤／硬化剤＝５６／１０ 結果 液晶比抵抗 ３．７×１０10Ωｃｍ 膨潤率 １．０ 剥離強度 ８０ｇ／５ｍｍ 剥離強度が小さく、セル化工程でシールはがれが発生し
たため、パネル評価は未実施。
【００６５】
【効果】１．請求項１ 耐液晶性が飛躍的に向上する。特に、高温信頼性、例え
ば８５℃放置試験を実施しても、液晶の種類を問わず、
液晶の比抵抗値変化が小さいシール剤を提供できる。 ２．請求項２、３、４ 硬化物の可とう性、基板に対する接着性が向上する。 ３．請求項５ ４０℃以下の低温度で硬化反応が進み、低温化が達成で
きる。 ４．請求項６ 表面にプロトンが存在するシリカを用いることにより、
増粘と触媒を兼用することが可能となる。 ５．請求項７および８ 本発明のシール剤を用いた液晶表示素子は特に信頼性に
優れる。高温放置試験では、８５℃５００時間以上は達
成できる。すなわち、液晶の消費電流変化率が小さく、
シール剤近傍の配向不良がなく、液晶応答性変化のない
高信頼性液晶表示素子を提供できる。また、フレキシブ
ルなプラスチックフィルム基板に対応した硬化物となっ
ており、高い剥離強度を有する。その結果、製造プロセ
ス及び信頼性試験でシール部が剥離することなく、高信
頼性のシール接着性が達成できる。
ば８５℃放置試験を実施しても、液晶の種類を問わず、
液晶の比抵抗値変化が小さいシール剤を提供できる。 ２．請求項２、３、４ 硬化物の可とう性、基板に対する接着性が向上する。 ３．請求項５ ４０℃以下の低温度で硬化反応が進み、低温化が達成で
きる。 ４．請求項６ 表面にプロトンが存在するシリカを用いることにより、
増粘と触媒を兼用することが可能となる。 ５．請求項７および８ 本発明のシール剤を用いた液晶表示素子は特に信頼性に
優れる。高温放置試験では、８５℃５００時間以上は達
成できる。すなわち、液晶の消費電流変化率が小さく、
シール剤近傍の配向不良がなく、液晶応答性変化のない
高信頼性液晶表示素子を提供できる。また、フレキシブ
ルなプラスチックフィルム基板に対応した硬化物となっ
ており、高い剥離強度を有する。その結果、製造プロセ
ス及び信頼性試験でシール部が剥離することなく、高信
頼性のシール接着性が達成できる。
Claims (9)
- 【請求項１】 少なくともエポキシ成分としてビスフェ
ノール型エポキシ樹脂（以下、エポキシ１とも言う）お
よび非ビスフェノール型エポキシ樹脂（エポキシ２とも
言う）と硬化剤成分として芳香族アミンおよび／または
脂環式アミンを含有することを特徴とするプラスチック
基板を用いた液晶表示素子用シール剤。 - 【請求項２】 エポキシ２がアルコール型エポキシ樹脂
である請求項１記載の液晶表示素子用シール剤。 - 【請求項３】 エポキシ２がポリサルファイド変性エポ
キシ樹脂である請求項１記載の液晶表示素子用シール
剤。 - 【請求項４】 エポキシ２がシリコーンオイル変性エポ
キシ樹脂である請求項１記載の液晶表示素子用シール
剤。 - 【請求項５】 シール剤が硬化触媒として酸を含むもの
である請求項１、２、３または４記載の液晶表示素子用
シール剤。 - 【請求項６】 酸がシリカである請求項５記載の液晶表
示素子用シール剤。 - 【請求項７】 酸が有機酸である請求項５記載の液晶表
示素子用シール剤。 - 【請求項８】 プラスチックフィルム基板の周辺をシー
ル剤でシールされた液晶表示素子において、シール剤が
請求項１、２、３、４、５、６または７記載の液晶表示
素子。 - 【請求項９】 液晶材料がΔε（誘電異方性）が１０以
上、しきい値電圧が１．５Ｖ以下の材料である液晶表示
素子。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9336491A JPH11153800A (ja) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | 液晶表示素子用シール剤および該シール剤を用いた液晶表示素子 |
| CNB981224059A CN1195038C (zh) | 1997-11-20 | 1998-11-17 | 密封剂及使用该密封剂的液晶显示元件 |
| US09/195,227 US6379759B2 (en) | 1997-11-20 | 1998-11-18 | Sealing agent for liquid crystal display and liquid crystal display using the sealing agent |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9336491A JPH11153800A (ja) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | 液晶表示素子用シール剤および該シール剤を用いた液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11153800A true JPH11153800A (ja) | 1999-06-08 |
Family
ID=18299688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9336491A Pending JPH11153800A (ja) | 1997-11-20 | 1997-11-20 | 液晶表示素子用シール剤および該シール剤を用いた液晶表示素子 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6379759B2 (ja) |
| JP (1) | JPH11153800A (ja) |
| CN (1) | CN1195038C (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|---|
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| US6521529B1 (en) * | 2000-10-05 | 2003-02-18 | Advanced Micro Devices, Inc. | HDP treatment for reduced nickel silicide bridging |
| CN100398621C (zh) * | 2001-05-16 | 2008-07-02 | 积水化学工业株式会社 | 固化树脂组合物及用于显示器的密封剂和封端材料 |
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