JPH11135754A - 半導体メモリ装置 - Google Patents
半導体メモリ装置Info
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- JPH11135754A JPH11135754A JP9316080A JP31608097A JPH11135754A JP H11135754 A JPH11135754 A JP H11135754A JP 9316080 A JP9316080 A JP 9316080A JP 31608097 A JP31608097 A JP 31608097A JP H11135754 A JPH11135754 A JP H11135754A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 46
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 abstract description 7
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 21
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 6
- 101150110971 CIN7 gene Proteins 0.000 description 5
- 101150110298 INV1 gene Proteins 0.000 description 5
- 101100397044 Xenopus laevis invs-a gene Proteins 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 101100286980 Daucus carota INV2 gene Proteins 0.000 description 1
- 101100397045 Xenopus laevis invs-b gene Proteins 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
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- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/10—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
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- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
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- G11C29/78—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/70—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
- G11C29/78—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices
- G11C29/84—Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices with improved access time or stability
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Dram (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
ドレス線遷移のスピード、リダンダンシー選択のスピー
ドを速くした半導体メモリ装置を提供する。 【解決手段】 リダンダンシー用スペアエレメントを増
やすためにアドレスフューズの並び1、1′を複数段に
した場合、同一アドレスに対応する複数のアドレスフュ
ーズからなるアドレスフューズ群の少なくともひとつを
複数段のどれかひとつのフューズの並びに配置すること
を特徴とする。そのアドレスフューズ群に対応するアド
レス線ADD〈0〜n〉の数をアドレスフューズの並び
の段数よりも少なくし、そのアドレス線の1つを対応す
るアドレスフューズ群を含む隣接する2段のアドレスフ
ューズの並びの段の中心よりも対応するアドレスフュー
ズ群寄りに配置する。アドレス線はローカル配線を介し
てリダンダンシーコントロール回路6に接続される。特
定アドレスに対するアドレス線容量が抑えられる。
Description
に係り、特に、DRAMにおいてアドレスフューズの並
びが複数段で構成されたリダンダンシーに関するもので
ある。
み込まれている半導体素子が微細化され、1チップの中
に含まれる素子数が巨大化するにつれて、欠陥に対する
対策の水準も向上するが、開発段階や量産の初期におい
ては低い歩留まりが問題になっている。この問題を解決
するために冗長回路(以下、リダンダンシー(redu
ndancy)又はリダンダンシー回路という)技術が
提案され実用化されてきた。例えば、メモリ素子の製造
工程中に作られる欠陥を救済するリダンダンシーにおい
て、メモリセルの配列中に欠陥のロウ又はカラムが存在
した場合に、スペアのロウラインやカラムラインを各々
何本か用意しておき、欠陥部分に相当するアドレス信号
が入力されたときに、スペアのロウラインやカラムライ
ンを選択するように回路を構成することで欠陥を含みな
がらも良品として扱うことができる。このリダンダンシ
ーによってチップ面積は若干増大するが歩留まりが大幅
に向上する。
おいてリダンダンシー用スペアエレメントを活性化する
ためにスペアエレメントのそれぞれに対し、図9に示さ
れるリダンダンシーコントロール回路6が存在する。リ
ダンダンシーコントロール回路6は、スペアエレメント
を選択するために必要なアドレス数分のフューズラッチ
回路(図10参照)からなるフューズラッチ回路群4と
比較回路5(図12参照)から構成されている。
ように、フューズラッチイニシャライズ信号Aがゲート
に入力されるPMOSトランジスタTr1、ソース/ド
レインの一方がトランジスタTr1のソース/ドレイン
の一方に接続され、他方がアドレスフューズ3に接続さ
れ、フューズラッチイニシャライズ信号Bがゲートに入
力されるNMOSトランジスタTr2と、入力側がトラ
ンジスタTr1、Tr2のソース/ドレインの一方に接
続されるインバータINV1と、PMOSトランジスタ
とNMOSトランジスタとから構成され、NMOSトラ
ンジスタのゲートがインバータINV1の出力側にトラ
ンスミッションゲートTr3と、NMOSトランジスタ
のゲートがトランスミッションゲートTr3のPMOS
トランジスタのゲート及びインバータINV1の入力側
に接続され、PMOSトランジスタのゲートがインバー
タINV1の出力側に接続されたトランスミッションゲ
ートTr4と、入力側がトランスミッションゲートTr
4のPMOSトランジスタのゲート及びインバータIN
V1の出力側に接続され、出力側がインバータINV1
の入力側及びトランジスタTr1、Tr2のソース/ド
レインの一方に接続されるインバータINV2とから構
成されている。トランスミッションゲートTr3にはア
ドレスADD〈i〉が入力され、FOUT〈i〉が出力
される。トランスミッションゲートTr4にはアドレス
bADD〈i〉(「b」は、当該信号の反転信号(相補
信号)を表わす。以下、同じである。)が入力され、F
OUT〈i〉が出力される。
入力側のNAND回路とこれに直列接続された出力側の
NOT回路から構成されている。フューズラッチ回路群
4を構成するフューズラッチ回路にはアドレスバス(ア
ドレス線)からローカル配線を介して相補的なアドレス
信号ADD〈i〉、bADD〈i〉を入力するが、この
ためにはアドレスバス自体が相補的な信号であってもロ
ーカルに相補信号を生成しても構わない。フューズラッ
チ回路は、パワーオン時、図11のようなフューズラッ
チイニシャライズ信号A、Bによってイニシャライズさ
れる。アドレスが遷移すると、フューズの状態に応じて
ADD〈i〉又はbADD〈i〉のどちらかがフューズ
ラッチ回路の出力FOUT〈i〉に接続される。そし
て、比較回路において全てのFOUT〈i〉がハイ(又
はロウ)になるようなアドレスが入力した場合にリダン
ダンシーエレメントイネーブル信号RENABLEが発
生されてリダンダンシーエレメントを活性化する。リダ
ンダンシーエレメント(スペアエレメント)のそれぞれ
に、複数のアドレスに対応した複数のアドレスフューズ
からなるフューズセットが存在する。したがって、リダ
ンダンシーエレメントを増やそうとするとアドレスフュ
ーズの総数は増えて一列のフューズ並びには収まりきれ
なくなり、図8のようにアドレスフューズ3を、例え
ば、2段のアドレスフューズの並び1、1′に配置しな
ければならなくなる。図において、アドレスバス(アド
レス線)は、複数段のアドレスフューズの並び1、1′
の間に配線されている。
ちらかに配置する際、従来の方法では図13のように、
あるスペアエレメントに属する複数のアドレスに対応し
た複数のアドレスフューズからなるフューズセットを一
まとまりとして、そのフューズセットをどちらかのフュ
ーズの並びに振り分けていた(grouped fus
e sets)。図において、1段目のアドレスフュー
ズの並び1には、あるスペアエレメントに属するフュー
ズセット2(A0、A1、A2、・・・、An)があ
り、2段目のアドレスフューズの並び1′には、別のス
ペアエレメントに属するフューズセット2′(A0、A
1、A2、・・・、An)が配置されている。つまり、
ある特定のアドレスに対応する複数のアドレスフューズ
は、2列のフューズの並びのどちらにも存在していた。
では、アドレス線とフューズラッチ回路を接続するアド
レスローカル配線において、図14のようにあるアドレ
ス線ADD〈n〉から2段のリダンダンシーコントロー
ル回路6のフューズラッチ回路へのアドレスローカル配
線がレイアウトし難い場合には、2段のアドレスフュー
ズの並び1、1′それぞれに対し1つずつ2本のアドレ
ス線(相補的なアドレス信号の場合合計4本)を準備し
ていた。1段目のアドレスフューズの並び1でも2段目
のアドレスフューズの並び1′でもそれぞれA0、A
1、A2、・・・、An(図では6本を表示する)から
なるアドレス線ADD〈n〉が配線されている。つま
り、ひとつのアドレスに対し2本のアドレス線が存在す
ることになり、チップ全体に占めるアドレス線の領域が
大きくなりチップ面積の増加に繋がった。また、アドレ
ス線を駆動する際の消費電流も大きくなるし、アドレス
線の容量が増加するためアドレスドライバのサイズを大
きくしないとアドレス線の遷移するスピードが遅くなり
ひいてはリダンダンシー選択のスピードが遅くなるとい
う問題があった。
線ADD〈n〉からのアドレスローカル配線が可能な場
合がある。1段目のアドレスフューズの並び1と2段目
のアドレスフューズの並び1′との間にA0、A1、A
2、・・・、An(図では6本を表示する)からなるア
ドレス線ADD〈n〉が配線され、双方のアドレスフュ
ーズの並び1、1′にそれぞれアドレスローカル配線を
介してリダンダンシーコントロール回路6のフューズラ
ッチ回路に接続されている。つまり、この場合、アドレ
スローカル配線を2方向に伸ばさなければならず、全体
としてのローカル配線の長さが長くなりアドレスバスの
寄生容量は大きくなり、アドレスバスを駆動する際の消
費電流が大きくなる。したがって、アドレスドライバの
サイズを大きくしないと、アドレス線の遷移するスピー
ドが遅くなりひいてはリダンダンシー選択のスピードが
遅くなるという問題があった。本発明は、このような事
情によりなされたものであり、チップ面積の増加を抑
え、消費電流を減らし、アドレス線遷移のスピード、リ
ダンダンシー選択のスピードを速くする半導体メモリを
提供する。
ー用スペアエレメントを増やすためにアドレスフューズ
の並びを複数段にした場合において、同一アドレスに対
応する複数のアドレスフューズからなるアドレスフュー
ズ群の少なくともひとつを複数段のどれかひとつのフュ
ーズの並びに配置することを特徴とする。また、そのア
ドレスフューズ群に対応するアドレス線の数をアドレス
フューズの並びの段数よりも少なくし、そのアドレス線
の1つを対応するアドレスフューズ群を含む隣接する2
段のアドレスフューズの並びの段の中心よりも対応する
アドレスフューズ群寄りに配置することを特徴とする。
複数のアドレス信号からなるアドレスバスのうち、少な
くとも1つを2段のアドレスフューズの並びに対して唯
1つだけ準備すれば良いので、アドレス線の占める面積
を抑え、その特定アドレスに対するアドレス線の容量が
抑えられる。またローカル配線が一方向にのみ伸び、か
つローカル配線長を短くすることができるので、ローカ
ル配線の寄生容量が抑えられる。
複数のメモリセルが行列状に配列されているメモリセル
アレイと、アドレス信号に基づいて複数のワード線から
その一部を選択するロウデコーダと、アドレス信号に基
づいて複数のビット線からその一部を選択するカラムデ
コーダと、前記ワード線又はビット線に接続された不良
メモリセルを置き換える複数のスペアエレメントと、前
記不良メモリセルを前記スペアエレメントに置き換える
情報をプログラムする複数のアドレスフューズと、前記
アドレスフューズにアドレス信号を伝えるアドレス線と
を備え、前記アドレスフューズの並びは、複数段から構
成され、かつ同一アドレスに対応する複数のアドレスフ
ューズからなるアドレスフューズ群の少なくとも1つは
前記複数段のどれか1つのアドレスフューズの並びの段
に配置されていることを特徴としている。前記アドレス
線は、対応するアドレスフューズ群が配置されている前
記アドレスフューズの並びの段に近接して配置されてい
るようにしても良い。前記複数段のどれか1つのアドレ
スフューズの並びの段に配置されているアドレスフュー
ズ群に対応するアドレス線の数が、前記複数段のアドレ
スフューズの並びの数よりも少ないようにしても良い。
前記対応するアドレスフューズ群が複数段のどれか1つ
のアドレスフューズの並びの段に配置されたアドレス線
の1つを前記対応するアドレスフューズ群を含む隣接す
る2段の中心よりも、前記対応するアドレスフューズ群
が配置された段寄りに配置するようにしても良い。前記
複数段のどれか1つのアドレスフューズの並びの段に配
置されているアドレスフューズ群内のアドレスフューズ
少なくとも2個を隣り合わせに配置するようにしても良
い。前記アドレスフューズの並びの段の内少なくとも1
つをロウデコーダ又はカラムデコーダに近接して配置
し、前記複数段の内前記ロウデコーダ又はカラムデコー
ダに近いアドレスフューズの並びの段の所定のアドレス
フューズ間に前記アドレス線が通る間隙を形成しても良
い。前記対応するアドレスフューズ群が複数段のどれか
1つのアドレスフューズの並びの段に配置されたアドレ
ス線の1つは、前記アドレスフューズ間に隙間を作った
アドレスフューズの並びの段を含む隣接する2段のアド
レスフューズの並びの段の間に配置され、このアドレス
線がロウデコーダ、カラムデコーダもしくはセカンドセ
ンスアンプに用いられるアドレス線として共有しても良
い。前記複数段のどれか1つのアドレスフューズの並び
の段にはロウスペアエレメントに対応するリダンダンシ
ー及びカラムスペアエレメントに対応するリダンダンシ
ーの両方に用いられるアドレスフューズが含まれるよう
にしても良い。あるアドレスに対応する複数のロウスペ
アエレメントに対応するリダンダンシー用アドレスフュ
ーズの少なくとも2個を隣り合わせに配置し且つそのア
ドレスに対応する複数のカラムスペアエレメントに対応
するリダンダンシー用アドレスフューズの少なくとも2
個を隣り合わせに配置するようにしても良い。前記アド
レスフューズがカラムデコーダに隣接する側に配置され
ている場合において、隣り合わせに配置されたカラムス
ペアエレメントに対応するリダンダンシー用アドレスフ
ューズを、一方の隣り合わせに配置されたロウスペアエ
レメントに対応するリダンダンシー用アドレスフューズ
よりも、フューズの隙間近くに配置し、もしこれらアド
レスフューズがロウデコーダに隣接する側に配置されて
いる場合には、隣り合わせに配置されたロウスペアエレ
メントに対応するリダンダンシー用アドレスフューズ
を、他方の隣り合わせに配置されたカラムスペアエレメ
ントに対応するリダンダンシー用アドレスフューズより
もアドレスフューズの隙間近くに配置しても良い。
の形態を説明する。まず、図1及び図2を参照して第1
の実施例を説明する。図1及び図2は、DRAMなどの
半導体メモリ装置の複数段のアドレスフューズの並びと
アドレスローカル配線(以下、ローカル配線という)を
介してフューズラッチ回路と接続されたアドレス線の配
置を示すブロック図である。この実施例では、アドレス
フューズの並びの複数断として2段を例示している。本
発明ではアドレスフューズの並びは2段に限らず、3
段、4段、・・・と多段で構成されていても良い。ま
た、アドレス線ADD〈0〜n〉は、6本(A0、A
1、A2、・・・、An)で例示している。さらに、こ
の実施例では、ローカル配線は、半導体チップ上におい
て、第1層目のアルミニウムなどの金属配線層から形成
され、アドレス線は、第2層目のアルミニウムなどの金
属配線層から形成されている。アドレス線は、また、ロ
ーカル配線を介してフューズラッチ回路群4及び比較回
路5から構成される(図9参照)リダンダンシーコント
ロール回路6に接続される。リダンダンシーコントロー
ル回路6は、対応するアドレスフューズが配置されてい
るアドレスフューズの並びの段に近接して配置されてい
る。
シー用スペアエレメントを増やす目的でアドレスフュー
ズの並びを図8の場合と同様に2段にした場合、同一ア
ドレスADD〈i〉に対応する複数のアドレスフューズ
からなるアドレスフューズ群の少なくとも1つを2段の
どちらかのフューズの並びの一方に配置する。そして、
この同一アドレスADD〈i〉は、対応する複数のアド
レスフューズが配置されているアドレスフューズの並び
の段に近接してアドレス線が配置されるように構成され
ている。アドレスADD〈i〜n〉に対応する複数のア
ドレスフューズからなる複数のアドレスフューズ群は、
1段目のアドレスフューズの並び1に配置される。そし
て、対応するアドレス線(Ai〜An)は、2段のアド
レスフューズの並び1、1′の間隙の中心(2列の中心
線)よりもアドレスフューズの並び1寄りに配置されて
いる。アドレスADDに対応する複数のアドレスフュー
ズからなる複数のアドレスフューズ群は、2段目のアド
レスフューズの並び1′に配置される。そして、対応す
るアドレス線(A0〜Ai−1)は、2段のアドレスフ
ューズの並び1、1′の間隙の中心(2列の中心線)よ
りもアドレスフューズの並び1′寄りに配置されてい
る。つまり、下段(2段目)のアドレスフューズの並び
1′にはADD〈n〉に対応するアドレスフューズAn
は存在しない。このように構成することによりそのアド
レスフューズ群に対応するアドレス線からのローカル配
線は、2段のどちらかの一方向に伸ばせば良いので、そ
のアドレス線を対応するアドレスフューズ群が存在する
アドレスフューズの並びに近く、つまりそのアドレス線
を2段のアドレスフューズの並びの中心よりも対応する
アドレスフューズ群寄りに唯1つだけ配置することが容
易にできる。
号からなるアドレスバスのうち、少なくとも1つを2段
のアドレスフューズの並びに対して唯1つだけ準備すれ
ば良いので(図14の従来例では2つのアドレスバスを
用いる)、アドレス線の占める面積を抑え、その特定ア
ドレスに対するアドレス線の容量を抑えられる。さら
に、アドレス線を対応するアドレスフューズ群の含まれ
るアドレスフューズの並びの段近くに走らせられるの
で、アドレス線からフューズラッチ回路へのローカル配
線が一方向にのみ伸び、かつローカル配線の長さを短く
することができるので、ローカル配線の寄生容量が抑え
られる。また、ローカル配線のレイアウトが容易となる
利点もある。ローカル配線の寄生容量が抑えられれば、
それが繋がるアドレス線の総容量も小さくなり、アドレ
ス線を駆動する際の消費電流が小さくなり、アドレス線
の遷移するスピードが速くなり、ひいてはリダンダンシ
ー選択のスピードが速くなる。
群が複数段のアドレスフューズの並びのどちらか1つに
配置される構成は、そのようなアドレス数が増えれば増
える程、その効果が大きくなることは明らかである。ま
た、そのようなアドレス信号をレイアウトする際、配線
容量(ゲート容量も含む)の大きなアドレス線をフュー
ズラッチ回路に近い側に走らせることでローカル配線長
を短くすることが出来るのでアドレス線同士の容量ばら
つきを最小化できる。アドレス間の容量差が少なけれ
ば、同じ大きさ(駆動能力)のアドレスドライバを用い
ることができるし、アドレス間のスキューも最少化でき
る。図2は、2段のアドレスフューズの並びのどちらか
一方に振り分けられたアドレスフューズ群の中の各々の
アドレスフューズの配置方法を示している。同一のアド
レスに対応するアドレスフューズ群内のアドレスフュー
ズAnの少なくとも2個を隣り合わせに配置すること
で、アドレス線からフューズラッチ回路へのローカル配
線の本数を減らすことができる。その結果、ローカル配
線に起因するアドレス線の容量増加を抑えることができ
る。
例を説明する。図3は、半導体メモリ装置(DRAM)
のブロック図、図4は、リダンダンシー部分を含む図3
の半導体メモリ装置の一部を拡大したブロック図であ
る。半導体メモリ装置の主要部は、メモリセル部7、ロ
ウデコーダ及びカラムデコーダを備えている。メモリセ
ルが行列状に配列されたメモリセルアレイと不良のメモ
リセルを救済する(身代わりになる)スペアエレメント
(リダンダンシーエレメント)が形成配置されている。
メモリセルアレイから所定のメモリセルを選択するに
は、アドレス信号に基づいてロウデコーダ及びカラムデ
コーダがワード線及びビット線を選択し、これにより所
定のメモリセルのデータが選択される。図1や図2など
に示されるアドレスフューズの並び、それに附随するリ
ダンダンシーコントロール回路及びアドレス線は、リダ
ンダンシー部を構成している。このリダンダンシー部
は、半導体チップの任意の位置に配置させることがで
が、第2の実施例では、ロウデコーダもしくはカラムデ
コーダに近接して形成されている。すなわち、リダンダ
ンシー部の2段のアドレスフューズの並び(A)は、ロ
ウデコーダに隣接して配置される。また、アドレスフュ
ーズの並び(B)は、カラムデコーダ又は2ndセンス
アンプに隣接する位置に配置される。
ズの並びは、適宜アドレスフューズ間に隙間を形成する
ことができるので、その隙間に配線を通すことがでる。
この実施例では2段のアドレスフューズの並びのうち、
少なくともロウデコーダやカラムデコーダに面する側の
アドレスフューズの並びに隙間を形成し、そこに配線を
通すことができるので、本発明における対応するアドレ
スフューズ群が2段のアドレスフューズの並びのどちら
か一方に配置されている1本のアドレス線(アドレス線
が相補的な信号の場合は一組2本)は、Aの側に配置さ
れている場合にはロウデコーダ用のアドレス線として、
Bの側に配置されている場合にはカラムデコーダ、セカ
ンドセンスアンプ用のアドレス線として共用することが
できる。このように構成することによりリダンダンシー
用の1本とは別にロウデコーダ、カラムデコーダ用のア
ドレス線をそれぞれ設ける必要がなくなるので、その分
アドレス線の占有面積を減らすことができる。さらに、
アドレス線の総容量が減るので消費電流も減らすことが
可能となる。
ある場合において、その内少なくとも二つのアドレスに
関して、アドレス線からのローカル配線を直接アドレス
フューズの並びの隙間を通しロウデコーダやカラムデコ
ーダで使うのではなく、そのアドレスをプリデコードし
た信号をアドレスフューズの並び1の隙間を通し、ロウ
デコーダやカラムデコーダでその信号を使う。つまり、
そのアドレスのプリデコード回路は、2段のアドレスフ
ューズの並び1、1′の間であって、且つアドレスフュ
ーズの並び1、1′の隙間の近く、すなわち、隣接する
フューズラッチ回路等のリダンダンシーコントロール回
路間に配置する。その結果、アドレス線からプリデコー
ド回路へのローカル配線長を短くできるのでアドレス線
の寄生容量をさらに最少化できる。
例を説明する。図5は、DRAMなどの半導体メモリ装
置の複数段のアドレスフューズの並びとローカル配線を
介してアドレスフューズラッチ回路と接続されたアドレ
ス線の配置を示すブロック図、図6は、リダンダンシー
部分を含む半導体メモリ装置の一部を拡大したブロック
図である。図5では、あるアドレスに対応するロウスペ
アエレメントに対応するリダンダンシー(ロウリダンダ
ンシー)及びカラムスペアエレメントに対応するリダン
ダンシー(カラムリダンダンシー)用の両方の複数のア
ドレスフューズが図3に示す半導体メモリ装置と同様に
ロウデコーダもしくはカラムデコーダに隣接して2段の
アドレスフューズの並び(A又はB)として配置され
る。1段目のアドレスフューズの並び1には、ロウリダ
ンダンシー用アドレスフューズ(AR0、AR1、AR
2)及びカラムリダンダンシー用アドレスフューズ(A
C0、AC1、AC2)が混在している。それぞれ対応
するフューズラッチ回路を有し、ローカル配線を介して
対応するアドレス線(A0、A1、A2)に接続されて
いる。2段目のアドレスフューズの並び1′には、ロウ
リダンダンシー用アドレスフューズ(AR3、AR4、
AR5)及びカラムリダンダンシー用アドレスフューズ
(AC3、AC4、AC5)が混在している。それぞれ
対応するフューズラッチ回路を有し、ローカル配線を介
して対応するアドレス線(A3、A4、A5)に接続さ
れている。
ドレスフューズからなるアドレスフューズ群の少なくと
もひとつが2段のアドレスフューズの並びのどちらか一
方に配置されている。したがって、上述のようにそのア
ドレスに対応するロウ及びカラムアドレスフューズの両
方が2段のどちらか一方に配置される。こうすること
で、その対応するアドレス線を2段のアドレスフューズ
の並びに対して唯1つだけ走らせる上述の効果に加え、
ロウ及びカラムリダンダンシーの両方でマルチプレクス
したアドレス線を共有できるのでチップ全体に占めるア
ドレス線の面積を減らすことができる。その結果、アド
レス線を駆動する為の消費電流も小さくすることができ
る。このようなロウ及びカラムリダンダンシーで共有さ
れるアドレス線の数が増えれば増える程、その効果が大
きくなる。また、更にロウ及びカラムリダンダンシーの
両方で共有したアドレス線を2段のアドレスフューズの
並びの少なくとも一方のアドレスフューズの並びに隙間
を作り、図3のA側もしくはB側に配置されているかに
応じて、ロウデコーダもしくはカラムデコーダ用のアド
レス線として更に共有すればその効果は更に大きくな
る。
のアドレスフューズの並びのどちらか一方に振り分けら
れ、あるアドレスに対応するロウ及びカラムリダンダン
シー用の複数のアドレスフューズの配置方法を示してい
る。そのアドレスに対応する複数のロウリダンダンシー
用アドレスフューズARiの少なくとも2個を隣り合わ
せに配置し、かつそのアドレスに対応する複数のカラム
リダンダンシー用アドレスフューズACiの少なくとも
2個を隣り合わせに配置する。そして、これらアドレス
フューズが、図3のB(2段のカラムデコーダ側のアド
レスフューズの並び1、1′)に配置されている場合に
は、隣り合わせに配置されたカラムリダンダンシー用ア
ドレスフューズを、もう一方の隣り合わせに配置された
ロウリダンダンシー用アドレスフューズよりも、アドレ
スフューズの並び1のアドレスフューズの隙間近くに配
置する。カラムリダンダンシーコントロール回路6の出
力(例えばリダンダンシーイネーブル信号)はカラムデ
コーダや2ndセンスアンプで必要となるので、アドレ
スフューズの隙間を走ってカラムデコーダ(又は2nd
センスアンプ)に入力されることになるが、カラムリダ
ンダンシー用のアドレスフューズをアドレスフューズの
隙間近くに配置すればその配線長を短くできるので配線
の寄生容量を小さくできる。その結果、リダンダンシー
選択のスピードを速くすることができる。
置されている場合には、隣り合わせに配置されたロウリ
ダンダンシー用アドレスフューズ(ARi)を、もう一
方の隣り合わせに配置されたカラムリダンダンシー用ア
ドレスフューズ(ACi)よりも、アドレスフューズの
並び1のアドレスフューズの隙間近くに配置することで
同様な効果が得られる。次に、図7を参照してアドレス
フューズの並びとこの並びに近接させるアドレス線の配
置について説明する。図は、2段のアドレスフューズの
並びとアドレス線との配置関係を説明するブロック図で
ある。本発明は、同一アドレスに対応する複数のアドレ
スフューズからなるアドレスフューズ群の少なくとも1
つを複数段のどれか1つのアドレスフューズの並びに配
置することを特徴とし、また、そのアドレスフューズ群
に対応するアドレス線の数をアドレスフューズの並びの
段数よりも少なくし、そのアドレス線の1つを対応する
アドレスフューズ群を含むアドレスフューズの並びに隣
接して配置することを特徴としている。
び1、1′は、リダンダンシーコントロール回路が配置
できるように間隔をあけて対向している。1段目のアド
レスフューズの並び1に属すべきアドレス線(A0〜A
i−1)は、アドレスフューズの並び1の下に、これに
近接して配置される。2段目のアドレスフューズの並び
1′に属すべきアドレス線(Ai〜An)は、アドレス
フューズの並び1′の上に、これに近接して配置され
る。すなわちこれらアドレス配線は、いずれもアドレス
フューズの並び1、1′の間の隙間に直接対向して配置
されている(図7(c))。第2の例では2段のアドレ
スフューズの並び1、1′は、隙間をあけて対向してい
る。1段目のアドレスフューズの並び1に属すべきアド
レス線(A0〜Ai−1)はアドレスフューズの並び1
の上に、これに近接して配置される。2段目のアドレス
フューズの並び1′に属すべきアドレス線(Ai〜A
n)は、アドレスフューズの並び1′の上に、これに近
接して配置される(図7(d))。第3の例では2段の
アドレスフューズの並びを半導体メモリ装置に形成する
場合、このアドレスフューズの並び1、1′を実質的に
接触させている。
1に属すべきアドレス線(A0〜Ai−1)は、アドレ
スフューズの並び1の上に、これに近接して配置され
る。2段目のアドレスフューズの並び1′に属すべきア
ドレス線(Ai〜An)は、アドレスフューズの並び
1′の下に、これに近接して配置される(図7
(a))。第4の例では2段のアドレスフューズの並び
1、1′は、間隔をあけて対向している。1段目のアド
レスフューズの並び1に属すべきアドレス線(A0〜A
i−1)は、アドレスフューズの並び1の上に、これに
近接して配置される。2段目のアドレスフューズの並び
1′に属すべきアドレス線(Ai〜An)は、アドレス
フューズの並び1′の下に、これに近接して配置され
る。即ち、これらアドレス配線は、いずれもアドレスフ
ューズの並び1、1′の間の隙間外に配置されている
(図7(b))。
用例が含まれることは勿論である。例えば、対応するア
ドレスフューズ群が複数段のどれか1つのアドレスフュ
ーズの並びに配置されたアドレスが複数あり、それらア
ドレスフューズ群が同一のフューズの並びに配置された
場合、対応するフューズラッチ回路に入力するその複数
のアドレス線に関し、配線容量(ゲート容量も含む)の
大きなアドレス線をフューズラッチ回路に近い側に走ら
せるようにすることは本発明に含まれる。
配線の寄生容量が抑えられそれに繋がるアドレス線の総
容量も小さくなり、アドレス線を駆動する際の消費電流
が小さく、アドレス線の遷移するスピードが速く、リダ
ンダンシー選択のスピードが速くなる。さらに、チップ
面積の増加を抑えることができる。
の並びとアドレス配線との位置関係を説明するブロック
図。
の並びとアドレス配線との位置関係を説明するブロック
図。
の並びとプリデコード回路との位置関係を説明するブロ
ック図。
の並びとアドレス配線との位置関係を説明するブロック
図。
2ndセンスアンプと、アドレスフューズの並びと、リ
ダンダンシーコントロール回路との位置関係を説明する
ブロック図。
の並びとアドレス配線との位置関係を説明するブロック
図。
並びとアドレス配線との位置関係を説明するブロック
図。
ンダンシーコントロール回路との位置関係を説明するブ
ロック図。
路関係を説明するブロック図。
路に入力されるイニシャライズ信号の波形図。
路配線図。
の並びとアドレス配線との位置関係を説明するブロック
図。
の並びとアドレス配線との位置関係を説明するブロック
図。
ドレス配線との位置を説明するブロック図。
・フューズセット、 3・・・アドレスフューズ、4
・・・フューズラッチ回路群、 5・・・比較回路、
6・・・リダンダンシーコントロール回路、 7・・
・メモリセル部。
Claims (10)
- 【請求項1】 複数のメモリセルが行列状に配列されて
いるメモリセルアレイと、 アドレス信号に基づいて複数のワード線からその一部を
選択するロウデコーダと、 アドレス信号に基づいて複数のビット線からその一部を
選択するカラムデコーダと、 前記ワード線又はビット線に接続された不良メモリセル
を置き換える複数のスペアエレメントと、 前記不良メモリセルを前記スペアエレメントに置き換え
る情報をプログラムする複数のアドレスフューズと、 前記アドレスフューズにアドレス信号を伝えるアドレス
線とを備え、 前記アドレスフューズの並びは、複数段から構成され、
かつ同一アドレスに対応する複数のアドレスフューズか
らなるアドレスフューズ群の少なくとも1つは、前記複
数段のどれか1つのアドレスフューズの並びの段に配置
されていることを特徴とする半導体メモリ装置。 - 【請求項2】 前記アドレス線は、対応するアドレスフ
ューズ群が配置されている前記アドレスフューズの並び
の段に近接して配置されていることを特徴とする請求項
1に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項3】 前記複数段のどれか1つのアドレスフュ
ーズの並びの段に配置されているアドレスフューズ群に
対応するアドレス線の数が、前記複数段のアドレスフュ
ーズの並びの数よりも少ないことを特徴とする請求項2
に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項4】 前記対応するアドレスフューズ群が複数
段のどれか1つのアドレスフューズの並びの段に配置さ
れたアドレス線の1つを前記対応するアドレスフューズ
群を含む隣接する2段の中心よりも、前記対応するアド
レスフューズ群が配置された段寄りに配置することを特
徴とする請求項3に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項5】 前記複数段のどれか1つのアドレスフュ
ーズの並びの段に配置されているアドレスフューズ群内
のアドレスフューズ少なくとも2個を隣り合わせに配置
することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半
導体メモリ装置。 - 【請求項6】 前記アドレスフューズの並びの段の内少
なくとも1つをロウデコーダ又はカラムデコーダに近接
して配置し、前記複数段の内前記ロウデコーダ又はカラ
ムデコーダに近いアドレスフューズの並びの段の所定の
アドレスフューズ間に前記アドレス線が通る間隙を形成
することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半
導体メモリ装置。 - 【請求項7】 前記対応するアドレスフューズ群が複数
段のどれか1つのアドレスフューズの並びの段に配置さ
れたアドレス線の1つは、前記アドレスフューズ間に隙
間を作ったアドレスフューズの並びの段を含む隣接する
2段のアドレスフューズの並びの段の間に配置され、こ
のアドレス線がロウデコーダ、カラムデコーダもしくは
セカンドセンスアンプに用いられるアドレス線として共
有されることを特徴とする請求項6に記載の半導体メモ
リ装置。 - 【請求項8】 前記複数段のどれか1つのアドレスフュ
ーズの並びの段にはロウスペアエレメントに対応するリ
ダンダンシー及びカラムスペアエレメントに対応するリ
ダンダンシーの両方に用いられるアドレスフューズが含
まれていることを特徴とする請求項1乃至請求項7のい
ずれかに記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項9】 あるアドレスに対応する複数のロウスペ
アエレメントに対応するリダンダンシー用アドレスフュ
ーズの少なくとも2個を隣り合わせに配置し、且つその
アドレスに対応する複数のカラムスペアエレメントに対
応するリダンダンシー用アドレスフューズの少なくとも
2個を隣り合わせに配置することを特徴とする請求項8
に記載の半導体メモリ装置。 - 【請求項10】 前記アドレスフューズがカラムデコー
ダに隣接する側に配置されている場合において、隣り合
わせに配置されたカラムスペアエレメントに対応するリ
ダンダンシー用アドレスフューズを、一方の隣り合わせ
に配置されたロウスペアエレメントに対応するリダンダ
ンシー用アドレスフューズよりも、フューズの隙間近く
に配置し、もしこれらアドレスフューズがロウデコーダ
に隣接する側に配置されている場合には、隣り合わせに
配置されたロウスペアエレメントに対応するリダンダン
シー用アドレスフューズを、他方の隣り合わせに配置さ
れたカラムスペアエレメントに対応するリダンダンシー
用アドレスフューズよりも、アドレスフューズの隙間近
くに配置したことを特徴とする請求項9に記載の半導体
メモリ装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31608097A JP3803477B2 (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 半導体メモリ装置 |
TW087117884A TW393766B (en) | 1997-10-31 | 1998-10-28 | Semiconductor memory |
US09/181,977 US5991211A (en) | 1997-10-31 | 1998-10-29 | Semiconductor memory device with redundancy control circuits |
KR1019980046597A KR100280165B1 (ko) | 1997-10-31 | 1998-10-31 | 반도체 메모리 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31608097A JP3803477B2 (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 半導体メモリ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11135754A true JPH11135754A (ja) | 1999-05-21 |
JP3803477B2 JP3803477B2 (ja) | 2006-08-02 |
Family
ID=18073038
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31608097A Expired - Fee Related JP3803477B2 (ja) | 1997-10-31 | 1997-10-31 | 半導体メモリ装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5991211A (ja) |
JP (1) | JP3803477B2 (ja) |
KR (1) | KR100280165B1 (ja) |
TW (1) | TW393766B (ja) |
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US8433404B2 (en) | 2009-05-19 | 2013-04-30 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Integrated high voltage output circuit |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1997
- 1997-10-31 JP JP31608097A patent/JP3803477B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-10-28 TW TW087117884A patent/TW393766B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-10-29 US US09/181,977 patent/US5991211A/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
TW393766B (en) | 2000-06-11 |
KR19990037561A (ko) | 1999-05-25 |
JP3803477B2 (ja) | 2006-08-02 |
US5991211A (en) | 1999-11-23 |
KR100280165B1 (ko) | 2001-02-01 |
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Legal Events
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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