JP3926517B2 - リダンダンシーシステムを搭載した半導体記憶装置 - Google Patents
リダンダンシーシステムを搭載した半導体記憶装置 Download PDFInfo
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体記憶装置のリダンダンシーシステムに関し、特にレーザーフューズと電気フューズが混載されたシステムに使用されるものである。
【0002】
【従来の技術】
半導体メモリーにおいて、歩留まりを向上させる為に不良エレメントをリダンダンシーエレメントで置き換えるリダンダンシーシステムが利用されてきた。リダンダンシーシステムにおいては、不良エレメントのアドレスを記憶しなければならないが、アドレスを記憶する方法としてフューズが利用されていて、その種類としてはレーザーによってフューズを溶断するレーザーフューズが主流である。これは、レーザーフューズだとフューズの状態を変える為の回路(装置)をチップ内部に備える必要が無い事と、レーザーフューズの技術がブロウ装置を含めて確立された技術である事による。リダンダンシーによる欠陥救済の手順は、まずウェハ段階でテストを実施し、パッケージング前にフューズをブロウすることにより、欠陥を含むエレメントのアドレスをプログラミングする。
【0003】
一方、パッケージング後に電気的にフューズの状態を変える事が出来る電気フューズの技術も、にわかに脚光を浴びてきている。これは、電気フューズでは、フューズの状態を変える為の回路(装置)がチップに内蔵されている為、パッケージング後に現れる欠陥を救済する事が可能であるという特徴を有している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ウェハ段階でテストを実施し、リダンダンシーによる欠陥救済が行われているにも係わらず、パッケージ製品に不良が発生する事がある。その原因としては、1)システム上、リダンダンシーエレメントをテストできない様になっているケース。2)ウェハレベルのテストがパッケージング後のテストを全て網羅していないケース。3)シンクロナスDRAMやラムパスDRAMの様な高速DRAMなどにおいて、もともと回路動作にマージンが少ない為、パッケージング前後のわずかな条件の違いだけでも不良してしまうケース。等が考えられる。現在主流であるレーザーフューズの欠点は、パッケージング後には、フューズを溶断できないため、このようにパッケージング後に欠陥が現れた場合、そのチップは救済できないという事がある。
【0005】
この様な問題は、パッケージング後に電気的にフューズの状態を変える事が出来る電気フューズの技術によって克服可能である。しかしながら、その電気フューズ技術にもフューズの状態を変える為の回路(装置)をチップに内蔵しなければならない事と、フューズ自身がレーザーフューズの様に特定の配線層の単純な並びでなかったりする為にリダンダンシー回路全体の面積が大きくなるという問題がある。
【0006】
従って、本発明は、上記従来の問題点を克服し、歩留まりが高く占有面積の小さいリダンダンシーシステムを搭載した半導体記憶装置を提供することを目的としたものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
即ち、上記目的を達成するため本発明による半導体記憶装置は、レーザーフューズと電気フューズを混載したリダンダンシーシステムにおいて、ロウまたはカラムリダンダンシーのいずれか一方のリダンダンシーが電気フューズを含み、他方はレーザーフューズのみで構成されており、電気フューズを含む一方のリダンダンシーの各リダンダンシーエレメントに対する救済領域が、他方の救済領域よりも大きいことを特徴とするリダンダンシーシステムを搭載した。
【0008】
又、本発明による半導体記憶装置の別の様相によれば、レーザーフューズと電気フューズを混載したリダンダンシーシステムにおいて、ロウまたはカラムリダンダンシーのいずれか一方のリダンダンシーが電気フューズを含み、他方はレーザーフューズのみで構成されており、電気フューズを含む一方のリダンダンシーが別アレイになっている。
【0009】
更に、本発明による半導体記憶装置の別の様相によれば、レーザーフューズと電気フューズを混載したリダンダンシーシステムにおいて、ロウまたはカラムリダンダンシーのいずれか一方のリダンダンシーが電気フューズを含み、他方はレーザーフューズのみで構成されており、電気フューズを含む一方のリダンダンシー回路が対応するエレメントを選択するデコーダに隣接して配置されていない。
【0010】
更に、本発明による半導体記憶装置の別の様相によれば、レーザーフューズと電気フューズを混載したリダンダンシーシステムにおいて、ロウまたはカラムリダンダンシーのいずれか一方のリダンダンシーが電気フューズを含み、他方はレーザーフューズのみで構成されており、救済領域内の総エレメント数に対するレーザーフューズエレメント数の割合は、電気フューズを含む一方のリダンダンシーの方が、他方よりも低いことを特徴とする。
【0011】
更に、本発明による半導体記憶装置の別の様相によれば、複数のレーザーフューズエレメントと複数の電気フューズエレメントの両方を含むリダンダンシーシステムにおいて、それぞれのエレメントに対する複数のフューズからなるフューズセットに関して、複数の電気フューズエレメントのうち少なくとも2つのエレメントに対するフューズセットを隣接して配置されたことを特徴とする。
【0012】
又、好適な実施例では、前記複数の電気フューズエレメントのうちひとつの救済領域に対応するフューズセットの全てを集中配置する事を特徴とする。
【0013】
更に、好適な実施例では、前記隣接して配置された電気フューズエレメントに対する複数のフューズセット内の、ある特定アドレスに対する複数の電気フューズまたは対応するフューズラッチ回路のうち少なくとも二つを隣り合わせに配置することを特徴とする。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いてこの発明の実施形態を説明する。図1は、半導体記憶装置のアドレスバスとリダンダンシーコントロール回路の概要を説明する図であり、図2は、リダンダンシーコントロール回路のフューズラッチ回路を説明する図であり、図3は、フューズラッチ回路に入力される制御信号の波形図であり、図4は、リダンダンシーコントロール回路の比較回路を説明する図である。以上の図面には,本発明の特徴部分を図示していないが、本発明と従来の構成の共通回路を構成する部分を示している。従って、同等の機能を有する他の構成も、本発明における同様の目的で採用することができる。
【0024】
一般に、DRAMでは、プログラムされた特定の入力アドレス時においてリダンダンシー用スペアエレメントを活性化するためにスペアエレメントのそれぞれに対し、図1に示されるリダンダンシーコントロール回路6が存在する。リダンダンシーコントロール回路6は、スペアエレメントを選択するために必要なアドレス数分のフューズラッチ回路(図2参照)からなるフューズラッチ回路群4と比較回路5(図4参照)から構成されている。
【0025】
フューズラッチ回路は、図2に示されるように、フューズラッチイニシャライズ信号Aがゲートに入力されるPMOSトランジスタTr1、ソース/ドレインの一方がトランジスタTr1のソース/ドレインの一方に接続され、他方がレーザーフューズ3に接続され、フューズラッチイニシャライズ信号Bがゲートに入力されるNMOSトランジスタTr2と、入力側がトランジスタTr1、Tr2のソース/ドレインの一方に接続されるインバータINV1と、PMOSトランジスタとNMOSトランジスタとから構成され、NMOSトランジスタのゲートがインバータINV1の出力側に接続され、PMOSトランジスタのゲートがインバータINV1の入力側に接続されたトランスミッションゲートTr3と、NMOSトランジスタのゲートがトランスミッションゲートTr3のPMOSトランジスタのゲート及びインバータINV1の入力側に接続され、PMOSトランジスタのゲートがインバータINV1の出力側に接続されたトランスミッションゲートTr4と、入力側がトランスミッションゲートTr4のPMOSトランジスタのゲート及びインバータINV1の出力側に接続され、出力側がインバータINV1の入力側及びトランジスタTr1、Tr2のソース/ドレインの一方に接続されるインバータINV2とから構成されている。トランスミッションゲートTr3にはアドレスADD〈i〉が入力され、FOUT〈i〉が出力される。トランスミッションゲートTr4にはアドレスbADD〈i〉(「b」は、当該信号の反転信号(相補信号)を表わす。以下、同じである。)が入力され、FOUT〈i〉が出力される。
【0026】
比較回路5は、図4に示されるように、入力側のNAND回路とこれに直列接続された出力側のNOT回路から構成されている。フューズラッチ回路群4を構成するフューズラッチ回路にはアドレスバス(アドレス線)からローカル配線を介して相補的なアドレス信号ADD〈i〉、bADD〈i〉を入力するが、このためにはアドレスバス自体が相補的な信号であってもローカルに相補信号を生成しても構わない。フューズラッチ回路は、パワーオン時、図3のようなフューズラッチイニシャライズ信号A、Bによってイニシャライズされる。アドレスが遷移すると、フューズの状態に応じてADD〈i〉又はbADD〈i〉のどちらかがフューズラッチ回路の出力FOUT〈i〉に接続される。
【0027】
そして、比較回路において全てのFOUT〈i〉がハイ(又はロウ)になるようなアドレスが入力した場合にリダンダンシーエレメントイネーブル信号RENABLEが発生されてリダンダンシーエレメントを活性化する。又、リダンダンシーエレメント(スペアエレメント)のそれぞれに、複数のアドレスに対応した複数のフューズからなるフューズセットが存在する。
【0028】
又、レーザーフューズ3は、図5に示したDRAMのレイアウトの例にあるように、DRAMの各バンクのメモりアレイ7の傍らに参照番号3’の様に複数並んで配置されている。このレーザーフューズ3を、適宜レーザーによって溶断し、リダンダンシーエレメントのアドレスの各ビットをプログラムすることが出来る。
【0029】
本発明は、DRAMのこのレーザーフューズ3の一部を電気フューズに置き換えている。一般に、電気フューズは、絶縁膜を挟み二つの電極で形成された素子を含んでいる。この素子に選択的に高電圧を印可し、絶縁破壊を起こして導通状態にすることによってプログラムが行われる。この絶縁破壊によって選択的に導通する素子で、直接レーザーフューズ3を置き換えてもよいが、そうではなくこの絶縁破壊によって選択的に導通した素子によって導通状態が制御されるトランジスタ等の素子でレーザーフューズ3を置き換えてもよい。即ち、図6に示されているように、トランジスタ3aでレーザーフューズ3を置き換えてもよいし、図7に示されているように、レーザーフューズ3を選択的に絶縁破壊を行う素子3bで直接置き換えてもよい。いずれにせよ、パッケージング後に現れる欠陥を救済する事が可能である。
【0030】
ここでは、レーザーフューズ3を置き換える素子、即ち絶縁破壊によって選択的に導通した素子又は絶縁破壊によって選択的に導通した素子によって導通状態が制御されるトランジスタ等の素子を電気フューズエレメントと呼ぶことにする。このような電気フューズ技術ははよく知られ、例えばUSP5,324,681又は(USP5,110、754)に開示されている。
【0031】
(1)第1の実施形態
一つのリダンダンシーエレメントがその領域内のいかなる不良エレメントをも置き換える事が出来る領域を、リダンダンシーエレメントに対する救済領域と言うが、メモリアレイの規模をX(Mb)、救済領域の規模をY(Mb)とすると、このメモリアレイに対する電気フューズエレメントは最低X/Y個必要である。これは、パッケージング後の欠陥が何処に現れるかはわからない為、電気フューズエレメントがメモリアレイ全体をカバーしなければならないからである。
【0032】
本発明の第1の実施形態においては、レーザーフューズと電気フューズを混載したリダンダンシーシステムにおいて、電気フューズをロウまたはカラムリダンダンシーのいずれかに組み込む際、リダンダンシーエレメントに対する救済領域が大きい方に電気フューズを組み込む。こうすれば、メモリアレイ全体をカバーする為の最低必要な電気フューズのエレメント数は少なくなるし、リダンダンシーエレメント数が一定ならば対応する救済領域が大きいほど救済効率が良くなるという事実を考慮すれば、結果として搭載しなければならない電気フューズエレメントの数を少なく出来るという効果がある。元々、このようなフューズの混載システムにおいては、電気フューズはパッケージング後に現れる少数の不良を救済する事を目的としている事から、電気フューズエレメントの数が多い必要はない。
【0033】
また電気フューズをパッケージング後に現れる少数の不良を救済するだけに使う事を前提とすれば、アレイ全体をカバーする為に多くの電気フューズを搭載するということは、そのロウまたはカラムのリダンダンシーシステムにおける"電気フューズエレメント数/レーザーフューズエレメント数"の割合が大きくなる事につながるので、その電気フューズを混載している方のロウまたはカラムのリダンダンシーシステムにおいて、有効に使用できるレーザーフューズ数が相対的に少なくなってしまうという問題があるが、本発明は第1の実施形態はそれを回避する事も出来る。
【0034】
さらに電気フューズのシステムがチップ面積を増大させる傾向がある事を考えれば、この実施形態では結果としてリダンダンシーシステム全体の面積を小さく抑えられるという効果も得られる。
【0035】
(2)第2の実施形態
本発明の第2の実施形態は、ロウまたはカラムどちらかのリダンダンシーが、リダンダンシー用の別アレイになっている場合に、リダンダンシーの別アレイになっている方に電気フューズを組み込む。
【0036】
まず図8は、別アレイになっていないリダンダンシーシステムのレイアウトの概略を現している。メモリアレイ全体が、いくつかのブロックに分割されそれらが救済領域になると同時に各ブロック内にノーマルエレメントと共にリダンダンシーエレメントを含む。そして、メモリアレイに隣接してノーマルおよびリダンダンシーエレメント様のロウまたはカラムデコーダ11が配置される。この場合、フューズ、フューズラッチ回路、そしてリダンダンシーコントロール回路などのリダンダンシー回路13は、リダンダンシーエレメントの近く、ノーマルおよびリダンダンシーエレメント用のロウまたはカラムデコーダに隣接して配置しないと相互間の配線が困難であるし、回路動作のスピードが悪化する可能性がある。またリダンダンシー回路はおおよそリダンダンシーエレメントを含むメモリーブロックの繰り返しピッチ内にレイアウトされるのが普通である。
【0037】
こういった事は、別アレイになっていないリダンダンシーシステムに電気フューズを混載した場合も同様で、電気フューズに関係する回路(電気フューズ、フューズラッチ回路、リダンダンシーコントロール回路等)を何処に配置するかという点でも、レイアウト的に大きな制限を受けてしまう。レイアウト的に制限が多い事は一般的にチップ面積の増大につながる。又、電気フューズに関係する回路には、電気フューズ特有の回路、配線などが有るが、これらをメモりブロックごとにレーザーフューズ回路とともに分散配置することは無駄が多い。
【0038】
またチップに内蔵された電気フューズの状態を変える為のコントロール回路は比較的大きな回路となるために、リダンダンシーエレメントの近く、メモリーブロックの繰り返しピッチ内にレイアウトする事は困難である事から、電気フューズに関係する回路と、電気フューズの状態を変える為のコントロール回路の配線が難しいという問題もある。
【0039】
一方、図9は第2の実施形態の場合で、別アレイになっているリダンダンシーシステムに電気フューズを混載する。リダンダンシー用の別アレイ15はノーマルアレイ17の端に独立している為、電気フューズに関係する回路を何処に配置するかという点で自由度が大きい。つまり、リダンダンシー用のロウまたはカラムデコーダの近く、図のAに配置したりBに配置したり出来る。さらに電気フューズの状態を変える為の回路をAまたはBに配置された電気フューズに関係する回路の近くに配置する事が容易となり、相互間の配線が楽になるというメリットもある。このようにレイアウトの自由度が大きくなる事は、リダンダンシーシステム全体の面積を抑えられるという効果ももたらす。
【0040】
また別アレイのリダンダンシーシステムは一般的にリダンダンシーエレメントに対する救済領域を大きく出来るので、第1実施形態で述べた効果も得られる。
【0041】
(3)第3の実施形態
本発明の第3の実施形態では、レーザーフューズと電気フューズを混載したリダンダンシーシステムにおいて、電気フューズエレメントをロウまたはカラムリダンダンシーのいずれかに組み込む際、リダンダンシー回路(フューズ、フューズラッチ回路、リダンダンシーコントロール回路)がデコーダに隣接していない方のリダンダンシーに電気フューズを組み込む。
【0042】
図10は、本発明の第3の実施形態の場合で、カラムリダンダンシー回路35は、カラムデコーダ33に隣接して配置されるのに対して、ローリダンダンシー回路37は、ローデコーダ31には隣接せず、このローリダンダンシーに電気フューズが組み込まれている。デコーダに隣接するカラムデコーダに関しては、第2の実施形態のところで述べたようなレイアウト的な制限が大きくなるが、アレイの端に独立しているローリダンダンシー回路は、第2の実施形態のところで述べた効果と同様に、レイアウトの自由度が大きくなるので、リダンダンシーシステム全体の面積を押さえられるという効果が得られる。
【0043】
又、「隣接していない」とは、リダンダンシー回路からデコーダへのコントロール信号39が、図10の様に、複数のデコーダを横断する形で配置されているということである。
【0044】
(4)第4の実施形態
本発明の第4の実施形態では、レーザーフューズと電気フューズを混載したリダンダンシーシステムにおいて、電気フューズエレメントをロウまたはカラムリダンダンシーのいずれかに組み込む際、電気フューズエレメントで置き換えなければならない欠陥を含むエレメントが、レーザーフューズエレメントを使って既に置き換えられたリダンダンシーエレメントである可能性が低い方に電気フューズを組み込む。
【0045】
パッケージング後に現れる欠陥は何処に現れるかはわからないので、その欠陥がレーザーフューズエレメントを使って既に置き換えられたリダンダンシーエレメントに含まれる可能性がある。既に不良エレメントを置き換えているレーザーフューズエレメントをさらに電気フューズエレメントで置き換えられる様にする事は、回路を複雑にし結果としてチップサイズを大きくしてしまうので、一般に不良エレメントを置き換えているレーザーフューズエレメントをさらに電気フューズエレメントで置き換えられない。したがってそのような確立が低くなるようにする事で、製品の歩留まりの低下を抑える事が出来る。
【0046】
具体的には、救済領域内の総エレメント数をt本とし、その救済領域に対応する"リダンダンシー"レーザーフューズエレメントの数をu本とすれば、レーザーフューズエレメント全てを救済に使用している場合を仮定すると、パッケージング後に現れる欠陥がレーザーフューズエレメントを使って既に置き換えられたリダンダンシーエレメントに含まれる可能性はu/tという事になる。ロウまたはカラムリダンダンシーにおいてこの数値が低い方に、電気フューズを組み込めば良い。
【0047】
(5)第5の実施形態
本発明の第5の実施形態は、ある救済領域に対するリダンダンシーシステムが複数のレーザーフューズエレメントと複数の電気フューズエレメントの両方を含む場合に、それぞれのリダンダンシーエレメントに対する複数のフューズからなるフューズセットに関して、複数の電気フューズによるリダンダンシーエレメントのうち少なくとも2つのエレメントに対するフューズセットを隣接して配置する。ここでの隣接するフューズセットとはフューズ自身でもよいし、それぞれに対応するフューズラッチ回路でも良い。
【0048】
図11は、本発明とは異なり複数の電気フューズエレメントに対するフューズセットの各々が、隣接して配置されない場合、つまり分散配置される場合を表している。この場合、電気フューズの状態を変える為のコントロール回路23から分散されたそれぞれの電気フューズに関係する回路21(電気フューズ、対応するフューズラッチ回路、リダンダンシーコントロール回路等)へコントロール信号を配線しなければならない。
【0049】
それに対して図12は、本発明の場合で複数(図12では2つ)の電気フューズによるリダンダンシーエレメントのうち少なくとも2つのエレメントに対するフューズセットを隣接して配置している。こうすれば、電気フューズの状態を変える為のコントロール回路23から電気フューズに関係する回路へのコントロール信号を、図中のa)もしくはb)の様にまとめる事が出来るので、レイアウトが容易であり、チップ面積が小さくなる効果もある。
【0050】
また図12は説明を簡単にする為、それぞれのリダンダンシーエレメントに対するフューズセットをまとめてレイアウトする場合(grouped fuse set)を示しているが、あるアドレスに対応する複数のフューズを複数のフューズセットから抜き出し、それらを隣接して配置する場合(distributed fusee set)でも同様の効果が得られる。
【0051】
例えば、図面で説明すれば、図13は、それぞれのリダンダンシーエレメントに対するフューズセットAn....Aoをまとめてレイアウトしている場合を示している。それに対して、図14は、あるアドレスに対応する複数のフューズAo....Ao乃至An....Anを複数のフューズセットから抜き出し、それらを隣接して配置する場合を示している。
【0052】
即ち、本発明では、あるアドレスに対応する複数の電気フューズ(または対応するフューズラッチ回路)が隣り合わない様に分散配置するのではなく、あるアドレスに対応する複数の電気フューズ(または対応するフューズラッチ回路)のうち少なくとも2つを隣り合わせに配置するという事である。
【0053】
図15(B)は、図4において電気フューズの状態を変える為のコントロール回路からの信号を図15(A)の様にフューズの並びの横から配置する場合の拡大図で、レーザーフューズ部29lはレーザーで溶断する必要性から、フューズの上下には他の信号線を配置できないが、電気フューズ部では多層配線を駆使できるので、電気フューズ29eの状態を変える為のコントロール回路からの信号線27をフューズ部を横断して配線する事が出来る。そしてうまくレイアウトすれば、それら全ての信号線をレーザーフューズの高さの間に配線する事が出来る。
【0054】
例えば図15(B)は複数のレーザーフューズが背合わせにレイアウトされている場合に、その一方のフューズの並びの端にまとまって電気フューズが配置されている場合を示しているが、もし電気フューズの状態を変える為のコントロール回路からの信号がレーザーフューズの高さの間に配線できれば、背合わせになっているレーザーフューズ同士を最小の距離で配線できるので、電気フューズを混載する事によるチップ面積の増加を最小限に抑えられる。
【0055】
(6)第6の実施形態
図16は、本発明の第6の実施形態で、ロウリダンダンシーフューズとカラムリダンダンシーフューズを背合わせに配置する場合に、ロウリダンダンシー用のフューズの並びにあるギャップとカラムリダンダンシー用のフューズの並びにあるギャップを揃える。特別な場合には、一方のレイアウトのギャップの繰り返しピッチを他方のレイアウトのギャップの繰り返しピッチの整数倍にする。尚、ここで「背合わせ」とは、2段のフューズエレメントの並びの間には、機能回路が置かれないという意味である。言い替えれば、並びの間には、ウェルコンタクトであるガードリングや配線などしか置かれていないということである。
【0056】
即ち、ロウリダンダンシーフューズとカラムリダンダンシーフューズを背合わせに配置する場合には、ロウリダンダンシーとカラムリダンダンシーではフューズの総数が異なる為、たとえ両者のフューズの並びにギャップがあったとしてもギャップの位置が食い違っていると、両者の間に信号線を通す事は困難であるが、図17の様に、ロウリダンダンシー用のフューズの並びにあるギャップとカラムリダンダンシー用のフューズの並びにあるギャップを揃えれば、ロウリダンダンシー側に走っているロウアドレス信号ARnを、その揃えたギャップを通してカラムリダンダンシー側で使用する事が出来る。
【0057】
従って、わざわざカラムリダンダンシー側に別のロウアドレス信号を走らす必要が無いのでその分チップサイズを小さくする事が出来る。また、レイアウトにおける一方のギャップの繰り返しピッチをもう一方のギャップの繰り返しピッチの整数倍にすれば、通すロウアドレス信号のレイアウトが楽になるし、ギャップが微妙にずれても配線が通せるように両者のギャップの大きさに余裕を持たせる必要が無いのでギャップの大きさをミニマムに抑えられる。ギャップの大きさをミニマムに抑えられるという事は、リダンダンシー回路全体の大きさを小さく出来たり、限られたエリアにより多くのフューズを並べられるという効果が得られる。
【0058】
この様にカラムリダンダンシーで利用されるロウアドレス信号を、ロウ及びカラムリダンダンシーで共用する際、利用されるロウアドレス信号線は、ロウリダンダンシー内を走る複数のロウアドレス信号線内ではよりカラムリダンダンシー側に配置すれば、ギャップを通すローカル配線の長さを抑えられるのでそのグローバルなロウアドレス信号線の寄生容量を抑える事が出来るし、さらにロウリダンダンシー側でリドライブした信号をギャップに通せば寄生容量は更に抑える事が出来る。
【0059】
尚、カラムリダンダンシーでロウアドレス信号が利用される例としては次のような場合がある。即ち、図17の様に、一本のスペアCSLをロウアドレスで分割して使用することにより、不良カラムセレクトラインをリダンダンシーのスペアカラムセレクトラインで置き換える場合である。図17では、二つのロウアドレスRAP<x>,RAP<y>で一本のスペアCSLを4分割してしようとしている。ここで、カラムダンダンシーシステムでロウアドレスが必要になる。この様にすることで、一本のスペアCSLで、最大4本の不良を救済できる。
【0060】
(7)第7の実施形態
本発明の第7の実施形態を図18を用いながら説明する。図18は、1/2ピッチセルアレイのアレイ構成を表わした図である。メモリセルはチップに入力されたデータ状態(極性)と実際にセルに書き込まれるデータ状態(極性)が一致するかどうかに応じて2種類に分けられ、図18においてその2種類は、T(True)セル及びC(Complement)セルで表わされている。1/2ピッチセルアレイでは、この様なデータ状態の物理的な最小の繰り返し単位はワード線4(=2 2 )本分であり、この事は各セルが、TセルなのかCセルなのかの判定が、ワード線に対する2ビットの物理アドレス(APP11,APP00)の組み合わせで判定できる事を表わしている。
【0061】
今、ノーマルアレイにおいて物理的なロウアドレス(AP<1>,AP<0>)とチップに入力されるアドレスである論理アドレス(AL<1>,AL<0>)が一致していて、リダンダンシーの置き換え単位がワード線2本である場合を考える。またリダンダンシーセルもノーマルアレイと同じアレイ構成になっている。つまり、論理アドレスAL<0>=AP<0>の割り当て順番が同一である。リダンダンシーのスペアワード線を選択する際、入力アドレスAL<0>に応じてリダンダンシーのスペアワード線2本のうち1本を選択する訳だが、このAL<0>をリダンダンシーセルの物理アドレスRAP<0>に一致させると置き換えの前後で、セルのデータ状態が反転しまう場合が起こるという問題がある。
【0062】
具体的にはAの位置のノーマル2本をAの位置のスペア2本で置き換えたり、Bの位置のノーマル2本をBの位置のスペア2本で置き換えれば、問題ないがAをBで置き換えたり、BをAで置き換えたりするとデータ状態は反転する。たとえばA位置の2本のノーマルワード線において、AL<0>=1 とすればそれはTセルが選ばれる訳だが、これをBの位置のスペアの物理アドレスRAP<0>に一致させるとCセルが選ばれてしまう。
【0063】
これはノーマルセルに物理的な"H"レベルを書き込もうとしていた場合にリダンダンシーセルに物理的には"L"レベルが書かれしまったりする事を意味する。これは、ポーズテストのように、全てのセルに同一の極性のレベルを書き込みたい時に問題となり、テスト時間が増えるという問題が有る。また、このようなデータ状態の反転を避ける為に、Aの位置のノーマルはAの位置のスペアで置き換えたり、Bの位置のノーマルはBの位置のスペアで置き換える様にするというように、置き換え方に制限を加える事も出来るがそうすると、リダンダンシー効率が低くなってしまうという問題がある。
【0064】
そこで本発明の第6の実施形態では、ノーマルセルの最下位から2番面の物理アドレスAP<1>とそれを置き換えるスペアセルの最下位から2番目の物理アドレスRAP<1>が一致しない場合には、最下位アドレスAP<0>(これは論理アドレスAL<0>に一致している)を反転した値が、2本のうち1本のスペアワード線を選択する為の最下位物理アドレスRAP<0>の値と一致するように対応させる。この様にする事で置き換えの前後でデータ状態が反転することを防ぎ、かつリダンダンシー効率の低下を避けられる。図19は、これを実現する為の回路である。
【0065】
(8)実施形態8
実施形態8では、ノーマルアレイにおける物理的なロウアドレス(AP<1>,AP<0>)とチップに入力されるアドレスである論理アドレス(AL<1>,AL<0>)が一致していたので、各セルが、TセルなのかCセルなのかの判定が、ワード線に対する2ビットの物理アドレス(AP<1>,AP<0>)の組み合わせで判定できたが、実施形態8では、論理ロウアドレスAL<0>1ビットでビット状態が判定できるように論理アドレスの割付を図20の様に変更している。この様にする事で、AL<0>1ビットの状態で選ばれるセルがTセルかCセルかを判定できる。
【0066】
図21は1/4ピッチセルアレイの場合の論理アドレスの割付け方を表わしていて、A側のセンスアンプに接続するセルでは、AL<1>(=AP<1>)1ビットで、B側のセンスアンプに接続するセルでは、AL<0>1ビットでビット状態を判定できる。
【0067】
セルアレイのデータ状態の物理的な最小繰り返し単位が2 n である場合には、nビットの物理アドレスでTセルかCセルかを判定できる訳だが、nビットより少ないmビットの論理アドレスでデータ状態が判定できるように、セルアレイにおける論理アドレスの割付(ビットマップ)をすると、ビット数が少ない分、データ状態の判定が簡略化できる。特開平8−195099([請求項10]、図17)では、アドレスによりセルのデータ状態を判定し入力データがセルに巻き込まれる物理的なデータ状態に一致させるシステムが提案されているが、この様なシステムにおいて上記の様にデータ状態の判定が簡略化できることは、判定のスピートが早くできるし、回路のレイアウト面積を抑える事が可能となる。
【0068】
さらに図20でリダンダンシーの置き換え単位をワード線2本とした場合に、リダンダンシーのメモリアレイにおける物理アドレスに対する論理アドレスAL<0>1ビットの割付け順をノーマルアレイにおける物理アドレスに対する論理アドレスAL<0>1ビットの割付け順と同じにすれば、置き換えの前後でデータ状態の反転は起こらない。この様に本実施形態では、リダンダンシーの置き換え単位内の各々のワード線を選ぶ(区別する)為のアドレスに関して、実施形態7の様に条件によりその入力アドレス(論理アドレス)を変換して(反転して)リダンダンシーのアレイにおける物理アドレスに対応させる必要がなく、入力論理アドレスAL<0>をそのままリダンダンシーのメモリアレイにおける論理アドレスAL<0>として使う事が出来る。したがって実施形態7よりもはるかに簡単に置き換えの前後でデータ状態の反転を防ぐ事が可能となる。これがリダンダンシー選択のスピード及び回路面積に関して有利である事は明らかである。
【0069】
本実施形態の特徴を一般的な言葉で述べれば、ビットマップがnビットより少ないmビットの論理アドレスでデータ状態が判定できる様になっていてリダンダンシーの置き換え単位が2 m である場合に、2 m のそれぞれを選ぶmビットのアドレスに関して、ノーマルセルアレイとリダンダンシーのセルアレイで物理アドレスに対する論理アドレスの割り付けを同じにすることで、mビットの論理アドレスをそのまま2 m のリダンダンシーエレメントから各々を選択するのに使用できるという事である。またここで2 m のリダンダンシーの置き換え単位は必ずしも物理的に連続するものである必要はない。
【0070】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、歩留まりのよいリダンダンシーシステムを搭載した半導体記憶装置を小型に構成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】半導体記憶装置のアドレスバスとリダンダンシーコントロール回路の概要を説明する図。
【図2】リダンダンシーコントロール回路のフューズラッチ回路を説明する図。
【図3】フューズラッチ回路に入力される制御信号の波形図。
【図4】リダンダンシーコントロール回路の比較回路を説明する図。
【図5】DRAMのレイアウトの例を説明する図。
【図6】トランジスタでレーザーフューズを置き換えた例を説明する図。
【図7】絶縁破壊素子でレーザーフューズを置き換えた例を説明する図。
【図8】別アレイになっていないリダンダンシーシステムのレイアウトの概略を示す図。
【図9】第2の実施形態を示す図。
【図10】第3の実施形態を示す図。
【図11】複数の電気フューズエレメントに対するフューズセットの各々が、隣接して配置されない場合を示す図。
【図12】複数の電気フューズによるリダンダンシーエレメントのうち少なくとも2つのエレメントに対するフューズセットを隣接して配置している場合を示す図。
【図13】それぞれのリダンダンシーエレメントに対するフューズセットをまとめてレイアウトしている場合を示す図。
【図14】あるアドレスに対応する複数のフューズを複数のフューズセットから抜き出し、それらを隣接して配置する場合を示す図。
【図15】図12において電気フューズの状態を変える為のコントロール回路からの信号をフューズの並びの横から配置する場合を示す図。
【図16】図16は第6の実施形態を示す図。
【図17】一本のスペアCSLをロウアドレスで分割して使用する場合の図。
【図18】1/2ピッチセルアレイのアレイ構成を表わした図。
【図19】第7の実施形態を示す図。
【図20】第8の実施形態を示す図。
【図21】第8の実施形態を示す図。
【符号の説明】
1 論理ロウアドレス
2 スペアワード線
3 レーザーフューズ
3a トランジスタ
3b 絶縁破壊素子
4 フューズラッチ回路群
5 比較回路
6 リダンダンシーコントロール回路
7 メモりアレイ
11 カラムデコーダ又はローデコーダ
13 リダンダンシー回路
15 別アレイ
17 ノーマルアレイ
23 コントロール回路
27 信号線
Claims (7)
- レーザーフューズと電気フューズを混載したリダンダンシーシステムにおいて、ロウまたはカラムリダンダンシーのいずれか一方のリダンダンシーが電気フューズを含み、他方はレーザーフューズのみで構成されており、電気フューズを含む一方のリダンダンシーの各リダンダンシーエレメントに対する救済領域が、他方の救済領域よりも大きいことを特徴とするリダンダンシーシステムを搭載した半導体記憶装置。
- レーザーフューズと電気フューズを混載したリダンダンシーシステムにおいて、ロウまたはカラムリダンダンシーのいずれか一方のリダンダンシーが電気フューズを含み、他方はレーザーフューズのみで構成されており、電気フューズを含む一方のリダンダンシーが別アレイになっていることを特徴とするリダンダンシーシステムを搭載した半導体記憶装置。
- レーザーフューズと電気フューズを混載したリダンダンシーシステムにおいて、ロウまたはカラムリダンダンシーのいずれか一方のリダンダンシーが電気フューズを含み、他方はレーザーフューズのみで構成されており、電気フューズを含む一方のリダンダンシー回路が対応するエレメントを選択するデコーダに隣接して配置されていないことを特徴とするリダンダンシーシステムを搭載した半導体記憶装置。
- レーザーフューズと電気フューズを混載したリダンダンシーシステムにおいて、ロウまたはカラムリダンダンシーのいずれか一方のリダンダンシーが電気フューズを含み、他方はレーザーフューズのみで構成されており、救済領域内の総エレメント数に対するレーザーフューズエレメント数の割合は、電気フューズを含む一方のリダンダンシーの方が、他方よりも低いことを特徴とするリダンダンシーシステムを搭載した半導体記憶装置。
- 複数のレーザーフューズエレメントと複数の電気フューズエレメントの両方を含むリダンダンシーシステムにおいて、それぞれのエレメントに対する複数のフューズからなるフューズセットに関して、複数の電気フューズエレメントのうち少なくとも2つのエレメントに対するフューズセットを隣接して配置することを特徴とするリダンダンシーシステムを搭載した半導体記憶装置。
- 前記複数の電気フューズエレメントのうちひとつの救済領域に対応するフューズセットの全てを集中配置する事を特徴とする前記請求項5に記載のリダンダンシーシステムを搭載した半導体記憶装置。
- 前記隣接して配置された電気フューズエレメントに対する複数のフューズセット内の、ある特定アドレスに対する複数の電気フューズまたは対応するフューズラッチ回路のうち少なくとも二つを隣り合わせに配置することを特徴とする前記請求項5もしくは請求項6に記載のリダンダンシーシステムを搭載した半導体記憶装置。
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