JPH11119180A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

液晶表示装置の製造方法

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JPH11119180A
JPH11119180A JP9277330A JP27733097A JPH11119180A JP H11119180 A JPH11119180 A JP H11119180A JP 9277330 A JP9277330 A JP 9277330A JP 27733097 A JP27733097 A JP 27733097A JP H11119180 A JPH11119180 A JP H11119180A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の貼り合わせプロセスと、液晶の注入プ
ロセスとを同時に可能にすることで、液晶表示装置の製
造プロセスを簡単にする。 【解決手段】 ガラス基板９の貼り合わせ面にギッャプ
を形成するためのスペーサ１７を予め配設するととも
に、ガラス基板９及びフイルム基板１９のいずれか一方
の貼り合わせ面に枠状のシール剤２４を転写する。ガラ
ス基板９を加圧ローラ１、３の挟入間隙に進入させると
ともに、ガラス基板９に対して傾斜した角度でフイルム
基板１９を挟入間隙に進入させることで、ガラス基板９
とフイルム基板１９とを加圧搬送する。同時に、挟入間
隙へ向けて徐々に狭められるガラス基板９とフイルム基
板１９との間に、液晶２２を吐出する。ガラス基板９と
フイルム基板１９との間に吐出した液晶２２を基板９、
１９の搬送方向と反対方向にしごきながら基板間に充満
させて注入する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の製
造方法に関し、更に詳しくは、基板貼り合わせから液晶
注入封止までのプロセスを簡略化する液晶表示装置の製
造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般的に液晶表示装置は、初期洗浄した
ガラス又はプラスチックの一対の基板に配向剤を塗布し
て焼成の後、ラビング処理し、シール剤を塗布して貼り
合わせ、液晶を注入した後、液晶注入口を封止するプロ
セスを経て製造される。基板の貼り合わせでは、先ず、
基板間のギャップを一定に保持するためのスペーサを散
布しておく。スペーサ散布方式にはウエット方式とドラ
イ方式とがあり、従来フロンやアルコール液にスペーサ
を混合してスプレーで散布するウエット方式が主流であ
ったが、スペーサ散布密度の均一性、スペーサ塊のない
ことなどで優位なドライ方式による散布方法が近年確立
されつつある。
【０００３】スペーサを散布した後、下側基板の周辺部
にＵＶ接着剤を塗布し、上側基板を表裏反転させて下側
基板へ貼り合わせ、プリアライメント、精密アライメン
トの後、ＵＶ接着剤を硬化させて仮接着する。次いで、
熱プレス方式で加圧約１０００ｋｇ（最大）、温度１５
０〜２００°Ｃで数時間加熱硬化させる本圧着を行い、
セルを形成する。
【０００４】セルへの液晶の注入は、先ず、最初に液晶
注入穴を介してセル内部を真空脱気し、同時に液晶溜め
容器の内部も脱気する。この際、セルは、注入穴が小さ
くて狭いため、脱気が難しい。そのため例えば時間をか
けて排気し、セルを加温することで、脱気効果を向上さ
せる。この際、液晶の蒸発を抑制するために多少冷却し
て粘度を高め、攪拌しながら脱気すると比較的脱気効率
が向上する。
【０００５】次いで、排気ポンプを停止し、セルと液晶
溜めとを相互に連通させて、セルの毛管現象を利用して
液晶材料を注入する。セルの大半に液晶を充填したとこ
ろで、液晶溜めに乾燥した不活性ガスを導入して加圧
し、その圧力で注入を続行してセル内に液晶を充満させ
る。セル内への液晶の注入は、一般に液晶の粘度が高い
ことから困難な作業となる。もしも液晶材料を無理に注
入すれば、注入穴付近の配向層の表面が損傷することも
ある。このような不具合を避けるためには真空脱気終了
後、セルと液晶溜めとを加温して、液晶の粘度を低下さ
せておくと、注入作業が容易となり、配向層の表面が損
傷することもなくなる。
【０００６】次いで、液晶を充填したセルの注入穴を封
止する。この際、注入穴の周辺は液晶で濡れていて、気
泡が混入しないように、注入穴周辺のみの液晶を拭き取
ることは非常に難しい。従来このような濡れた状態の注
入穴を封止する手段としては、例えば予め注入穴にクロ
ーム、ニッケル、銅、金などの金属を蒸着又はメッキし
ておき、液晶で濡れた状態のまま注入穴をハンダ封止す
るもの、或いは注入穴にイリジウム、錫、鉛などのウッ
ドメタルを挿入して仮封止した後で、液晶を拭き取り、
その後に接着剤で封止するものなど種々の方策が採られ
ていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の液晶表示装置の製造方法では、基板の貼り合わ
せプロセスと、液晶の注入プロセスとが別途独立してい
たため、それぞれの製造ラインが必要となり設備規模が
大きくなる欠点があった。また、それぞれの基板貼り合
わせ作業、液晶注入作業において煩雑且つ高度な技術が
必要となった。
【０００８】即ち、スペーサを塊のない均一な密度で配
設しなければならないため、高度な散布技術が必要とな
った。背面基板と表面基板との電極を一致させるため、
貼り合わせ時に、プリアライメント、精密アライメント
と、段階的にアライメントを行わなければならなかっ
た。
【０００９】小さな注入穴に対してセル内部を確実に真
空脱気しなければならないため、時間をかけて排気し、
且つセルを加温することで、脱気効果を向上させる必要
があった。また、脱気効率を高めるためには、液晶を多
少冷却して粘度を高め、攪拌しながら真空脱気する必要
もあった。一方、粘度の高い液晶をセル内に確実に充満
させるためには、真空脱気終了後、セルと液晶溜めとを
加温して、液晶の粘度を低下させる必要もあった。
【００１０】更に、濡れた状態の注入穴を確実に封止す
るには、予め注入穴にクロームなどの金属を蒸着又はメ
ッキしておき、液晶の注入の後にハンダ封止するなどの
方策が必要となった。
【００１１】このため、従来の製造方法では、設備コス
トが増大するとともに、煩雑な製造プロセスを必要とす
るため、製造時間が長くなり且つ製品コストも増大する
欠点があった。また、毛管現象を利用して液晶材料を注
入するため、薄型化、大面積化が困難な欠点もあった。
【００１２】本発明は上記状況に鑑みてなされたもの
で、基板の貼り合わせプロセスと、液晶の注入プロセス
とを同時に可能にすることで、製造ラインを統合し、製
造プロセスを簡単にすることのできる液晶表示装置の製
造方法を提供し、製造設備の簡素化、製造時間の短縮、
製品コストの低減を図ることを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、平面基板
と、可撓性を有するフイルム基板とをギッャプを設けて
貼り合わせ、シール剤により包囲した前記ギッャプの密
閉空間中に液晶を充満させて封止する液晶表示装置の製
造方法であって、前記平面基板の貼り合わせ面に前記ギ
ッャプを形成するためのスペーサを予め配設するととも
に前記平面基板及び前記フイルム基板のいずれか一方の
貼り合わせ面に枠状の前記シール剤を転写しておき、前
記平面基板を一対の加圧ローラの挟入間隙に進入させる
とともに該平面基板に対して傾斜した角度で前記フイル
ム基板を前記挟入間隙に進入させることで該平面基板と
該フイルム基板とを加圧搬送し、同時に、前記挟入間隙
へ向けて徐々に狭められる前記平面基板と前記フイルム
基板との間に搬送速度に応じて所要量の液晶を吐出し、
前記平面基板と前記フイルム基板との間に吐出した前記
液晶を基板の搬送方向と反対方向にしごきながら基板間
に充満させて注入するものである。
【００１４】この製造方法では、基板の貼り合わせと、
液晶の注入とが同一のプロセスで行えるようになり、独
立の製造ラインが不要になるとともに、真空注入プロセ
スも不要となり、設備が簡素なものとなって、且つ製造
時間も短縮可能となる。
【００１５】なお、前記平面基板をガラス基板とするこ
とができる。ガラス基板とフィルム基板とを組み合わせ
ることにより、搬送系に適したものとなる。
【００１６】そして、製造方法は、前記加圧ローラに向
けて搬送途中の前記平面基板及び前記フイルム基板のい
ずれか一方にシール剤転写ローラを用いて枠状の前記シ
ール剤を転写することができる。この製造方法では、シ
ール剤の転写が、基板貼り合わせ、液晶の注入と一連の
プロセスで行えるようになる。
【００１７】また、製造方法は、前記加圧ローラに向け
て搬送途中の前記平面基板のスペーサに接着剤塗布ロー
ラを用いて接着剤を塗布するものであってもよい。この
製造方法では、接着剤の塗布が、基板貼り合わせ、液晶
の注入と一連のプロセスで行えるようになる。
【００１８】更に、製造方法は、前記シール剤に熱硬化
性又は紫外線硬化性の接着剤を用い、前記加圧ローラを
通過した後の前記平面基板と前記フイルム基板とに該熱
又は紫外線を供給することで、前記シール剤を硬化させ
て基板同士を接着してもよい。この製造方法では、基板
同士の本接着が、基板貼り合わせ、液晶の注入と一連の
プロセスで行えるようになる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る液晶表示装置
の製造方法の好適な実施の形態を図面を参照して詳細に
説明する。図１は本発明に使用する製造装置及び液晶ラ
ミプロセスの一例を示す説明図である。
【００２０】小径筒状の加圧ローラ１には、所定の挟入
間隙を隔てて大径筒状の加圧ローラ３を軸心が同一方向
で平行となるように対向配置してある。加圧ローラ１、
３は、所定の挟入間隙を保持して回転することで、挟入
間隙に挿入した被挿入体を加圧するようになっている。
この例で、被挿入体は、例えば加圧ローラ１が半時計方
向、加圧ローラ３が時計方向に回転されることで、加圧
されながら図中左方向へ加圧搬送されるようになってい
る。
【００２１】加圧ローラ１の搬送方向上流側及び下流側
には、加圧ローラ１と共に水平方向の搬送路面を形成す
る複数のガイドローラ５を、加圧ローラ１と同一軸心方
向で平行に配設してある。また、加圧ローラ３の搬送方
向下流側には、加圧ローラ３と共に水平方向の搬送路面
を形成する複数のガイドローラ７を、加圧ローラ３と同
一軸心方向で平行に配設してある。従って、加圧ローラ
１、３の搬送方向下流側では、ガイドローラ５とガイド
ローラ７が対向配置された搬送路を形成している。
【００２２】加圧ローラ１、３に対して搬送方向上流側
のガイドローラ５は、不図示のＰＥＴベースを下敷きに
してガラス基板９を加圧ローラ１、３間へ搬送する。こ
のガラス基板９を挟んでガイドローラ５の上方には、加
圧ローラ１、３と同一軸心方向で平行に配設した接着剤
塗布ローラ１１を配設してある。接着剤塗布ローラ１１
の近傍には、同一軸心方向で平行に配設した接着剤供給
ローラ１３を配設してあり、接着剤供給ローラ１３は外
周面を接触させて接着剤塗布ローラ１１に接着剤１５を
供給する。接着剤１５の供給された接着剤塗布ローラ１
１は、ガラス基板９の上面に形成されたスペーサ１７に
外周を接触させて接着剤１５を塗布する。
【００２３】ガラス基板９の上面には、カラーフィルタ
ー側となるフイルム基板１９が重ねられる。従って、重
ね合わされたガラス基板９とフイルム基板１９とは、加
圧ローラ１、３の挟入間隙に進入することで加圧搬送さ
れる。この際、フイルム基板１９は、ガラス基板９と所
定の傾斜角度を有して挟入間隙へ搬送される。即ち、加
圧ローラ１、３の挟入間隙の直前において、ガラス基板
９とフイルム基板１９との間には、離間空間が形成され
ている。
【００２４】この離間空間には、加圧ローラ１、３の軸
心方向に長い液晶注入ノズル２１を配設してある。液晶
注入ノズル２１は、液晶２２を吐出する開口を加圧ロー
ラ１、３の挟入間隙へ向けて開口している。従って、ガ
ラス基板９とフイルム基板１９とを加圧ローラ１、３へ
搬送している状態において、液晶注入ノズル２１から吐
出された液晶２２は、このガラス基板９とフイルム基板
１９との間に注入されるようになっている。
【００２５】液晶注入ノズル２１から吐出される液晶
は、搬送速度に応じて所要量が吐出されるように制御さ
れており、後述する枠状のシール剤２４により閉鎖され
た領域に充満される。加圧ローラ３へ搬送されるフイル
ム基板１９の近傍には、加圧ローラ３と同一軸心方向で
平行なシール剤転写ローラ２３をフイルム基板１９の貼
り合わせ面に対向して配設してある。シール剤転写ロー
ラ２３の外周には、不図示のシール剤供給手段からシー
ル剤２４が供給されるようになっている。シール剤２４
は、例えば枠形状となるようにシール剤転写ローラ２３
に供給される。外周面にシール剤２４の供給されたシー
ル剤転写ローラ２３は、フイルム基板１９の貼り合わせ
面に接触してフイルム基板１９の搬送速度と同期して回
転し、枠状のシール剤２４をフイルム基板１９の貼り合
わせ面に転写する。
【００２６】ここで、シール剤２４としては、ＵＶ硬化
樹脂を好適に用いることができる。また、この実施形態
では、シール剤転写ローラ２３をフイルム基板１９に対
向配置した場合を図示してあるが、シール剤転写ローラ
２３は、ガラス基板９に対向配置し、シール剤２４をガ
ラス基板９へ転写するものであってもよい。また、ガラ
ス基板に代えてプラスチック基板に代えても良い。
【００２７】加圧ローラ１、３の搬送方向下流側のガイ
ドローラ５、７の末端には、カッター２５を配設してあ
り、カッター２５は加圧ローラ１、３によって貼り合わ
されたガラス基板９とフイルム基板１９とを、ローラ軸
心方向の切断線を境に搬送方向前後に分断するようにな
っている。また、加圧ローラ１、３とカッター２５との
間には不図示の加熱手段、及び紫外線照射ランプを設け
てあり、加熱手段、及び紫外線照射ランプはガイドロー
ラ５、７によって挟持されて搬送されるセルに対して
熱、及び紫外線を供給するようになっている。
【００２８】なお、上述した製造装置は、後述する本実
施形態の製造方法に好適に用いることができるものであ
るが、本発明に係る製造方法は、この製造装置によら
ず、他の構成よりなる製造装置により実施されるもので
あってもよい。
【００２９】次に、本実施形態に係る液晶表示装置の製
造方法を説明する。この製造方法においては、液晶表示
装置の背面基板としてガラス基板９を用い、前面基板
（カラーフィルター側基板）としてフイルム基板１９を
用いる。ガラス基板９、フイルム基板１９には、基板貼
り合わせの後に対向配置されるコモン電極、セグメント
電極を予め形成してある。
【００３０】また、ガラス基板９には配向膜を形成して
おき、ラビング処理を施しておく。ガラス基板９として
は、ＰＥＴベース付きのものが好適となる。ガラス基板
９上の貼り合わせ面には、所定のマスクパターンを用い
てホトエッチングによりスペーサ１７を形成しておく。
フイルム基板１９の貼り合わせ面に対しても、ＰＶＡを
ディップコートした後、ラビング処理を施しておく。
【００３１】上述の製造装置による場合では、先ず、フ
イルム基板１９又はガラス基板９の貼り合わせ面に、シ
ール剤２４を転写する。シール剤２４は、フイルム基板
１９とガラス基板９とを貼り合わせた後に、液晶２２を
包囲して封止するように、閉鎖した枠形状のものを転写
する。シール剤２４の転写は、ラミ工程の前に予め行っ
ても、或いはラミ工程に組み込むことで、フイルム基板
１９とガラス基板９との加圧の直前に行うもののいずれ
であってもよい。なお、図１では、シール剤転写ローラ
２３を用いて加圧の直前にフイルム基板１９へ転写する
場合を示している。
【００３２】ガラス基板９とフイルム基板１９との貼り
合わせと、液晶２２の封止とを同時に行う基板貼り合わ
せ及び液晶封止プロセス（以下、「液晶ラミプロセス」
という）では、ガラス基板９をガイドローラ５により加
圧ローラ１、３方向へ搬送する。その際、予め形成して
おいたスペーサ１７へ、接着剤塗布ローラ１１によって
接着剤１５を塗布する。
【００３３】一方、加圧ローラ１、３の挟入間隙へは、
ガラス基板９と所定の傾斜角度を有してフイルム基板１
９を搬送する。従って、ガラス基板９とフイルム基板１
９とは、加圧ローラ１、３の挟入間隙へ進入することに
より加圧されて、スペーサ１７の接着剤１５、シール剤
２４を介して仮り接着状態となる。この際のガラス基板
９とフイルム基板１９とのアライメントは、従来のラミ
ネータを用いる印刷技術により高精度に行うことができ
る。
【００３４】加圧ローラ１、３の挟入間隙の直前に形成
されている離間空間では、液晶注入ノズル２１から液晶
２２を挟入間隙へ向けて吐出する。従って、吐出された
液晶２２は、ガラス基板９とフイルム基板１９との間に
注入される。ガラス基板９とフイルム基板１９とは、両
者の間隔が挟入間隙へ向かって徐々に狭くなる。このこ
とから、ガラス基板９とフイルム基板１９との間に注入
された液晶２２は、ガラス基板９とフイルム基板１９と
が挟入間隙へ進入するに伴い、挟入間隙の位置でガラス
基板９とフイルム基板１９との間に充満される一方、残
量が基板の搬送方向と反対方向に相対移動して押し出さ
れることになる。
【００３５】従って、ガラス基板９とフイルム基板１９
との間には、挟入間隙を通過することで、液晶２２がし
ごかれた状態で、気泡の混入する余地なく、充満状態で
注入されることになる。この状態で、ガラス基板９とフ
イルム基板１９とを順次加圧搬送すると、シール剤２４
の端末辺２４ａが相対移動してくる。端末辺２４ａは、
離間空間で滞留している余剰液晶２２の中へと進入し、
挟入間隙にて加圧ローラ１、３によってガラス基板９と
フイルム基板１９とによって加圧される。
【００３６】これにより、ガラス基板９とフイルム基板
１９との間には、枠状に転写されたシール剤２４により
包囲されて液晶２２が封止されることになる。加圧ロー
ラ１、３を通過した後のガラス基板９とフイルム基板１
９とには、加熱手段、紫外線ランプにより、加熱と紫外
線照射を行う。これにより、ＵＶ硬化樹脂からなるシー
ル剤２４を硬化させるとともに、スペーサ１７の接着剤
１５を硬化させて、ガラス基板９とフイルム基板１９と
を密着固定する。
【００３７】密着固定の終了したガラス基板９とフイル
ム基板１９とは、シール剤２４の部分でカッター２５に
より分断することで、１枚ずつのセルとして製造され
る。
【００３８】このように、上述した液晶表示装置の製造
方法によれば、液晶ラミプロセスによるため、気泡の混
入のない信頼性の高い液晶表示装置を、容易に、しか
も、短時間で製造することが可能になる。基板の貼り合
わせと、液晶２２の注入とを同一のプロセスで行うこと
ができるので、従来のようにそれぞれ独立の製造ライン
を設ける必要がなくなり、しかも、真空注入プロセスが
不要となるので、設備を簡素にして設備コストを低減す
ることができる。
【００３９】製造プロセスを削減できるので、製造時間
を短縮して、且つ製品コストも低減させることができ
る。従来のように毛管現象を利用して液晶材料を注入す
る必要がなく、液晶ラミプロセスで液晶２２の注入が行
えるので、液晶表示装置の薄型化、大面積化が容易とな
る。
【００４０】フイルム基板１９として従来ラミネートに
使用する感材が利用可能となるので、これによっても、
製品コストを低減させることができる。更に、従来必要
であった標準化の困難な煩雑且つ高度な技術が不要にな
るため、自動化も容易となる。
【００４１】
【実施例】次に、上述の実施形態に係る製造方法により
実際に液晶表示装置を製造して評価した結果を説明す
る。図２は本実施例による液晶ラミプロセスのラミ直前
の状態を示す斜視図、図３は本実施例により製作した液
晶素子のＶ／Ｔ特性を示した説明図である。以下、実施
条件を示す。
【００４２】 ＜基板＞ ・ガラス基板 日本板硝子製 ３０Ω／□ＩＴＯベタ付き ｔ＝１．１ｍｍ １０ｃｍ角 ・フイルム基板 １００Ω／□ＩＴＯベタ付き ｔ＝１２５μｍ ＰＥＴベース付き ３０ｃｍ幅
【００４３】＜ガラス基板処理＞ ・配向膜形成 基板を純水洗浄、乾燥後ＳＥ−１
５０をスピンコート薬液と溶媒（シンナーＢ）とは、
１：１で混合。２５０°Ｃ １時間 加熱硬化。ラビン
グ装置１４００回転でラビングなお、スペーサベーク温
度が２２０°Ｃであるため、硬化温度がそれよりも高い
ＳＥ−１５０を選択した。
【００４４】 ・スペーサ形成 ネガレジストＳＰ−６．５を使用 １．レジストラミ ラミネーターでＰＥＴベースを下敷
きにレジストにテンションをかけながらラミネートし
た。 ラミネータローラ温度は上下ローラ共１２０°Ｃ ラミ圧力は２ｋｇ／ｍ2 ローラ速度は０．２ｍ／ｍｉｎとした。
【００４５】なお、テンションをかけない場合には、レ
ジストとガラス基板との間に気泡が混入した。また、ラ
ミ温度１１０°Ｃ以下の場合では密着性が悪くなり、１
３０°Ｃ以上の場合では膜の厚みが薄くなった。 ２．ホット剥離 ラミ後１時間放置した後、４５°Ｃ
でホット剥離。
【００４６】 ３．ＵＶ露光 ２００ｍＪ／ｃｍ2 で露光 マスクパターンは穴の直径９μｍで穴のピッチ１５０μ
ｍのものを使用。 ４．現像 ＣＡ１を１１倍希釈。４乃至５分室
温現像。水洗の後、エアーがけを行った。
【００４７】なお、ＩＴＯ上に直接形成すると、この現
像工程で２０乃至３０％のスペーサが剥がれ落ちたが、
ＳＥ−１５０上に形成した場合には、全く剥がれ落ちが
なかった。 ５．ベーク ２２０°Ｃ、１時間。
【００４８】＜フイルム基板処理＞ ・配向膜形成 ＰＶＡ−１５０を、水：エタノー
ル＝１：１溶媒に２％加熱溶解。濾過後、光学軸方向に
カットしたフィルム基板をディップコート。風乾後に１
００°Ｃ３０分加熱硬化。ベンコットンでハンドラビン
グして配向処理し、一軸プレナー配向性を得た。
【００４９】なお、基板自体は１００°Ｃ３０分ではな
んの反りも発生しなかったが、１３０°Ｃ３０分では若
干の反りが生じた。
【００５０】 ＜貼り合わせ＞ ・シール剤転写 ＥＨＣ社製 ＵＶ硬化樹脂をガラス板上に薄くのばして 、ＳＬＭ製作時に使用した３．５ｃｍ×３．５ｃｍの凸 版を使用し、スペーサを形成したガラス基板の中央にシ ール隙間が生じないように２乃至３回転写した。
【００５１】 ・液晶ラミ及び 液晶は、ＺＬＩ−１１３２にＳ−８１１を０．０５％混 貼り合わせ 合して使用。 ラミネータでＰＥＴベースを下敷きにして、シール剤を 転写したガラス基板のシール部のラミ先頭部に液晶を２ 乃至３滴垂らし、フイルム基板の先端をセロテープで止 めてテンションをかけながらラミネートした。
【００５２】 ラビング方向はクロス。ローラ温度は常温。 ローラ圧力は２ｋｇ／ｃｍ2 、ローラ速度は０．１ｍｍ ／ｍｉｎ。 ラミ直後に１００Ｗ水銀ランプでＵＶ照射し、転写した シール剤であるＵＶ硬化樹脂を硬化させた。
【００５３】＜評価結果＞上述の条件により３つのセル
を製作して液晶ラミ状況、ギャップ均一性、動作状況に
ついて評価した。 ・液晶ラミ状況 ＵＶ硬化樹脂の盛り過ぎのため表
示エリア内にＵＶ硬化樹脂が進入したが、気泡の混入も
無く、基板同士の接着状態も良好であった。
【００５４】・ギャップ均一性 ゴミ周辺を除き、ス
ペーサの高さの約６．５μｍでほぼ均一となった。 ・動作状況 ショートや導通不良無しで、明瞭
に動作した。また、シール材に近接する領域も明瞭に動
作した。なお、製作した液晶素子のＶ／Ｔ特性を図３に
示す。
【００５５】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の請
求項１に係る液晶表示装置の製造方法によれば、基板の
貼り合わせと、液晶の注入とを同一のプロセスで行うこ
とができるので、独立の製造ラインが不要となり、しか
も、真空注入プロセスが不要となるので、設備を簡素に
して設備コストを低減することができる。また、製造プ
ロセスを削減できるので、製造時間を短縮して、且つ製
品コストも低減させることができる。この結果、製造設
備の簡素化、製造時間の短縮、製品コストの低減を達成
することができる。
【００５６】そして、搬送途中の平面基板又はフイルム
基板にシール剤転写ローラを用いてシール剤を転写する
製造方法によれば、シール剤の転写を、基板貼り合わ
せ、液晶の注入と一連のプロセスで行うことができる。
また、搬送途中の平面基板のスペーサに接着剤塗布ロー
ラを用いて接着剤を塗布する製造方法によれば、接着剤
の塗布を、基板貼り合わせ、液晶の注入と一連のプロセ
スで行うことができる。
【００５７】更に、シール剤に熱硬化性又は紫外線硬化
性の接着剤を用い、加圧ローラを通過した後の平面基板
とフイルム基板とに熱又は紫外線を供給する製造方法に
よれば、基板同士の本接着を、基板貼り合わせ、液晶の
注入と一連のプロセスで行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液晶表示装置の製造方法に使用す
る製造装置及び液晶ラミプロセスの一例を示す説明図で
ある。
【図２】本実施例による液晶ラミプロセスのラミ直前の
状態を示す斜視図である。
【図３】本実施例により製作した液晶素子のＶ／Ｔ特性
を示した説明図である。
【符号の説明】 １、３ 加圧ローラ ９ ガラス基板 １１ 接着剤塗布ローラ １５ 接着剤 １７ スペーサ １９ フイルム基板 ２２ 液晶 ２３ シール剤転写ローラ ２４ シール剤

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 平面基板と、可撓性を有するフイルム基
    板とをギッャプを設けて貼り合わせ、シール剤により包
    囲した前記ギッャプの密閉空間中に液晶を充満させて封
    止する液晶表示装置の製造方法であって、 前記平面基板の貼り合わせ面に前記ギッャプを形成する
    ためのスペーサを予め配設するとともに前記平面基板及
    び前記フイルム基板のいずれか一方の貼り合わせ面に枠
    状の前記シール剤を転写しておき、 前記平面基板を一対の加圧ローラの挟入間隙に進入させ
    るとともに該平面基板に対して傾斜した角度で前記フイ
    ルム基板を前記挟入間隙に進入させることで該平面基板
    と該フイルム基板とを加圧搬送し、 同時に、前記挟入間隙へ向けて徐々に狭められる前記平
    面基板と前記フイルム基板との間に搬送速度に応じて所
    要量の液晶を吐出し、 前記平面基板と前記フイルム基板との間に吐出した前記
    液晶を基板の搬送方向と反対方向にしごきながら基板間
    に充満させて注入することを特徴とする液晶表示装置の
    製造方法。
  2. 【請求項２】 前記平面基板がガラス基板であることを
    特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
  3. 【請求項３】 前記加圧ローラに向けて搬送途中の前記
    平面基板及び前記フイルム基板のいずれか一方にシール
    剤転写ローラを用いて枠状の前記シール剤を転写するこ
    とを特徴とする請求項１又は２記載の液晶表示装置の製
    造方法。
  4. 【請求項４】 前記加圧ローラに向けて搬送途中の前記
    平面基板のスペーサに接着剤塗布ローラを用いて接着剤
    を塗布することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか
    １項記載の液晶表示装置の製造方法。
  5. 【請求項５】 前記シール剤に熱硬化性又は紫外線硬化
    性の接着剤を用い、前記加圧ローラを通過した後の前記
    平面基板と前記フイルム基板とに該熱又は紫外線を供給
    することで、 前記シール剤を硬化させて基板同士を接着することを特
    徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項記載の液
    晶表示装置の製造方法。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1072931A2 (en) * 1999-07-27 2001-01-31 Minolta Co., Ltd. Liquid crystal display and method of producing a liquid crystal display
JP2006293348A (ja) * 2005-04-09 2006-10-26 Hewlett-Packard Development Co Lp 可撓性基板を有する積層製品及び、その製品の製造方法
KR100723268B1 (ko) 2004-11-09 2007-05-30 소프트픽셀(주) 플렉서블 액정 디스플레이의 곡면 형성 장치 및 방법
DE19921133B4 (de) * 1999-05-07 2008-07-03 Universität Stuttgart Verfahren zur Herstellung einer bistabilen, flexiblen Flüssigkristallanzeige
US8541163B2 (en) 2009-06-05 2013-09-24 Nikon Corporation Transporting method, transporting apparatus, exposure method, and exposure apparatus
JP2017534083A (ja) * 2014-11-17 2017-11-16 アルファミクロン・インコーポレイテッドＡｌｐｈａＭｉｃｒｏｎ，Ｉｎｃ． 軟質電気光学セルを生成する方法
US10914991B2 (en) 2014-11-17 2021-02-09 Alphamicron Incorporated Method for producing a flexible electro-optic cell
US11435610B2 (en) 2014-11-17 2022-09-06 Alphamicron Incorporated Method for producing a flexible electro-optic cell

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6459467B1 (en) 1998-05-15 2002-10-01 Minolta Co., Ltd. Liquid crystal light modulating device, and a manufacturing method and a manufacturing apparatus thereof
US6933098B2 (en) * 2000-01-11 2005-08-23 Sipix Imaging Inc. Process for roll-to-roll manufacture of a display by synchronized photolithographic exposure on a substrate web
US6930818B1 (en) 2000-03-03 2005-08-16 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display and novel process for its manufacture
US20070237962A1 (en) 2000-03-03 2007-10-11 Rong-Chang Liang Semi-finished display panels
US7557981B2 (en) * 2000-03-03 2009-07-07 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display and process for its manufacture
US6831770B2 (en) * 2000-03-03 2004-12-14 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display and novel process for its manufacture
US7158282B2 (en) * 2000-03-03 2007-01-02 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display and novel process for its manufacture
US7715088B2 (en) 2000-03-03 2010-05-11 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display
US7233429B2 (en) * 2000-03-03 2007-06-19 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display
US7052571B2 (en) * 2000-03-03 2006-05-30 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic display and process for its manufacture
US6885495B2 (en) * 2000-03-03 2005-04-26 Sipix Imaging Inc. Electrophoretic display with in-plane switching
KR100406830B1 (ko) * 2000-05-10 2003-11-21 가부시끼가이샤 도시바 평면표시장치의 제조방법
TW500949B (en) * 2000-12-26 2002-09-01 Quanta Display Inc Device and flow for in-line operation of liquid crystal display
US6795138B2 (en) * 2001-01-11 2004-09-21 Sipix Imaging, Inc. Transmissive or reflective liquid crystal display and novel process for its manufacture
US8282762B2 (en) * 2001-01-11 2012-10-09 Sipix Imaging, Inc. Transmissive or reflective liquid crystal display and process for its manufacture
TW556044B (en) * 2001-02-15 2003-10-01 Sipix Imaging Inc Process for roll-to-roll manufacture of a display by synchronized photolithographic exposure on a substrate web
DE60212150T2 (de) * 2001-08-28 2007-04-12 Koninklijke Philips Electronics N.V. Anzeigevorrichtung mit wenigstens einem flexiblen substrat und verfahren zur verbindung der substrate
CN100385300C (zh) * 2002-02-20 2008-04-30 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示器的制造方法
US6803984B2 (en) * 2002-02-25 2004-10-12 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Method and apparatus for manufacturing liquid crystal display device using serial production processes
TW575646B (en) * 2002-09-04 2004-02-11 Sipix Imaging Inc Novel adhesive and sealing layers for electrophoretic displays
US7166182B2 (en) * 2002-09-04 2007-01-23 Sipix Imaging, Inc. Adhesive and sealing layers for electrophoretic displays
US7616374B2 (en) * 2002-09-23 2009-11-10 Sipix Imaging, Inc. Electrophoretic displays with improved high temperature performance
US7245417B2 (en) * 2002-10-21 2007-07-17 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing display device
TWI297089B (en) * 2002-11-25 2008-05-21 Sipix Imaging Inc A composition for the preparation of microcups used in a liquid crystal display, a liquid crystal display comprising two or more layers of microcup array and process for its manufacture
US8023071B2 (en) * 2002-11-25 2011-09-20 Sipix Imaging, Inc. Transmissive or reflective liquid crystal display
US9346987B2 (en) * 2003-01-24 2016-05-24 E Ink California, Llc Adhesive and sealing layers for electrophoretic displays
US7572491B2 (en) * 2003-01-24 2009-08-11 Sipix Imaging, Inc. Adhesive and sealing layers for electrophoretic displays
TWI230832B (en) * 2003-01-24 2005-04-11 Sipix Imaging Inc Novel adhesive and sealing layers for electrophoretic displays
JP3669363B2 (ja) * 2003-03-06 2005-07-06 ソニー株式会社 エレクトロデポジション型表示パネルの製造方法、並びにエレクトロデポジション型表示パネルおよびエレクトロデポジション型表示装置
CN1295548C (zh) * 2003-12-31 2007-01-17 台湾微型影像股份有限公司 显示面板的框胶注入装置及其注入方法
ITMI20041250A1 (it) * 2004-06-22 2004-09-22 Bavelloni Z Spa Procedimento di caricamento e taglio di lastre di vetro su tavoli di taglio
KR20060059617A (ko) * 2004-11-29 2006-06-02 삼성에스디아이 주식회사 스페이서를 구비하는 평판 표시장치 및 평판표시장치의스페이서를 고정하는 방법
JP4497383B2 (ja) * 2005-03-25 2010-07-07 Ｊｓｒ株式会社 液晶表示装置の製造方法及びその製造装置
JP5366403B2 (ja) * 2005-08-18 2013-12-11 Ｊｓｒ株式会社 表示装置の製造方法及び表示装置の製造装置
TWI359972B (en) * 2007-01-11 2012-03-11 Ind Tech Res Inst Method and apparatus for aligning and bonding flex
US8502952B2 (en) * 2007-04-14 2013-08-06 Industrial Technology Research Institute Color cholesteric liquid crystal display devices and fabrication methods thereof
US20090021685A1 (en) * 2007-07-19 2009-01-22 Tpo Displays Corp. Display panel and method for the same
TWI368061B (en) * 2007-08-16 2012-07-11 Ind Tech Res Inst Fabrication methods for liquid crystal display devices
TWI355547B (en) * 2007-12-05 2012-01-01 Ind Tech Res Inst Method of fabricating a display panel having diele
DE102008011013B4 (de) 2008-02-25 2014-11-13 Mevitec Gmbh Verfahren und Einrichtung zur komplexen Stoffwechselanalyse
TWI401519B (zh) * 2008-03-10 2013-07-11 Ind Tech Res Inst 顯示器的生產設備
CN101685216B (zh) * 2008-09-26 2012-03-28 财团法人工业技术研究院 液晶显示器的制造方法
US8002936B2 (en) * 2008-10-23 2011-08-23 Xerox Corporation Dual-web method for fixing a radiation-curable gel-ink image on a substrate
CN103269839B (zh) 2010-12-27 2015-09-23 住友化学株式会社 光学膜的制造方法、偏振板及图像显示装置
US9678533B2 (en) * 2012-02-14 2017-06-13 Sony Corporation Personal digital assistant apparatus
US9612430B2 (en) 2014-06-30 2017-04-04 Amazon Technologies, Inc. Method of manufacturing an electrowetting device
KR20160111568A (ko) * 2015-03-16 2016-09-27 한국전자통신연구원 플렉서블 디스플레이 장치 및 그 제조 방법
GB2543483B (en) * 2015-10-09 2022-09-28 Flexenable Ltd Lamination technique for producing electronic devices
GB2543101B (en) * 2015-10-09 2022-09-14 Flexenable Ltd Lamination technique for producing electronic devices
GB2543113B (en) * 2015-10-09 2020-02-12 Flexenable Ltd Sensing device
CN206523720U (zh) * 2017-03-14 2017-09-26 北京京东方显示技术有限公司 一种基板、显示面板、显示装置
CN113631389B (zh) 2019-03-26 2024-03-15 日东电工株式会社 层叠膜的制造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2534311B2 (ja) * 1988-04-04 1996-09-11 出光興産株式会社 液晶光学素子の製造方法
US5069533A (en) * 1988-06-29 1991-12-03 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Method of orienting liquid crystal optical device
JP2808478B2 (ja) * 1990-05-23 1998-10-08 キヤノン株式会社 液晶パネルの製造方法およびその装置
JPH05241165A (ja) * 1992-02-28 1993-09-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
US5507323A (en) * 1993-10-12 1996-04-16 Fujitsu Limited Method and dispenser for filling liquid crystal into LCD cell
US5365356A (en) * 1992-08-11 1994-11-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of fabricating an encapsulated liquid crystal display
US5436744A (en) * 1993-09-03 1995-07-25 Motorola Inc. Flexible liquid crystal display with integrated driver circuit and display electrodes formed on opposite sides of folded substrate
US5684556A (en) * 1994-06-02 1997-11-04 Canon Kabushiki Kaisha Process for producing liquid crystal device
DE69526894T2 (de) * 1994-09-26 2003-01-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Flüssigkristallanzeigetafel, Verfahren und Vorrichtung zu ihrer Herstellung
JPH09146106A (ja) * 1995-09-21 1997-06-06 Denso Corp 液晶セル及びその製造方法
KR0169381B1 (ko) * 1995-09-21 1999-03-20 김광호 액정 표시 장치용 액정 셀 및 그 제조 방법

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19921133B4 (de) * 1999-05-07 2008-07-03 Universität Stuttgart Verfahren zur Herstellung einer bistabilen, flexiblen Flüssigkristallanzeige
EP1072931A2 (en) * 1999-07-27 2001-01-31 Minolta Co., Ltd. Liquid crystal display and method of producing a liquid crystal display
EP1072931A3 (en) * 1999-07-27 2002-02-13 Minolta Co., Ltd. Liquid crystal display and method of producing a liquid crystal display
KR100723268B1 (ko) 2004-11-09 2007-05-30 소프트픽셀(주) 플렉서블 액정 디스플레이의 곡면 형성 장치 및 방법
JP2006293348A (ja) * 2005-04-09 2006-10-26 Hewlett-Packard Development Co Lp 可撓性基板を有する積層製品及び、その製品の製造方法
US8541163B2 (en) 2009-06-05 2013-09-24 Nikon Corporation Transporting method, transporting apparatus, exposure method, and exposure apparatus
JP2017534083A (ja) * 2014-11-17 2017-11-16 アルファミクロン・インコーポレイテッドＡｌｐｈａＭｉｃｒｏｎ，Ｉｎｃ． 軟質電気光学セルを生成する方法
US10914991B2 (en) 2014-11-17 2021-02-09 Alphamicron Incorporated Method for producing a flexible electro-optic cell
US11435610B2 (en) 2014-11-17 2022-09-06 Alphamicron Incorporated Method for producing a flexible electro-optic cell

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