CN206523720U - 一种基板、显示面板、显示装置 - Google Patents

一种基板、显示面板、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN206523720U
CN206523720U CN201720244625.1U CN201720244625U CN206523720U CN 206523720 U CN206523720 U CN 206523720U CN 201720244625 U CN201720244625 U CN 201720244625U CN 206523720 U CN206523720 U CN 206523720U
Authority
CN
China
Prior art keywords
stop block
substrate
exposure
photoresist stop
photoresist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201720244625.1U
Other languages
English (en)
Inventor
薛婕
蒋迁
章旭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Display Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Beijing BOE Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Beijing BOE Display Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201720244625.1U priority Critical patent/CN206523720U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN206523720U publication Critical patent/CN206523720U/zh
Priority to US16/300,163 priority patent/US10824026B2/en
Priority to PCT/CN2018/078106 priority patent/WO2018166375A1/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
    • G03F9/703—Gap setting, e.g. in proximity printer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133351—Manufacturing of individual cells out of a plurality of cells, e.g. by dicing
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13396—Spacers having different sizes

Abstract

本实用新型公开了一种基板、显示面板、显示装置，用以降低显示面板切割位置附近应力积累，改善显示面板周边不良的发生。基板包括衬底基板，以及位于所述衬底基板上的光刻胶阻块；在任一次曝光时对应的曝光区域，所述光刻胶阻块的位置，与对该基板曝光时使用的掩膜板上设置的至少一曝光间隙控制窗口的位置对应；以及所述光刻胶阻块的形状与所述曝光间隙控制窗口的形状相匹配。

Description

一种基板、显示面板、显示装置
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板、显示面板、显示装置。
背景技术
现有产品的掩膜板(mask)上设计有曝光间隙控制窗口(Gap Window)，Gap Window用于测量曝光时mask与基板表面的距离。现有技术针对一些Dummy区较窄的产品，这里的Dummy区指相邻两次曝光之间的区域，一般该区域为没有图案的空白区，在设计时会将相邻两次曝光之间的Gap Window设计为错位式设计，如图1所示，这样就导致mask设计时除了设计非对称的两组Gap Window21外，还需设计未开口区域22，如图2所示。
如图1和图2所示，在第一次曝光11时，mask未开口区域22对应位置在基板上为空白，无图案，这样在相邻的第二次曝光12时，还能在此位置进行第二次曝光的间隙(Gap)测量。
但是这样的设计，会导致图1中基板边缘的区域01到区域08这八个区域对应位置处因曝光被遮挡而无法形成图案，后续在显示面板13切割时，区域01到区域08会因无图案而导致支撑力不足，玻璃形变形成应力积累，造成应力性Gap差异，导致Panel周边不良的发生。
具体如图3所示，在显示面板切割时，切割位置(图中箭头方向所示的位置)附近因为无图案而导致支撑力不足，彩膜基板形变形成应力积累，造成应力性Gap差异。显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层33和隔垫物34，以及密封阵列基板和彩膜基板的封框胶35；图3中阵列基板仅示出了位于衬底基板31上的金属层32，彩膜基板仅示出了位于衬底基板31上的红色(R)彩膜层36、绿色(G)彩膜层37、蓝色(B)彩膜层38和黑矩阵39。
综上所述，现有技术在对显示面板切割时，由于切割区域无图案而导致支撑力不足，造成应力性Gap差异，导致显示面板周边不良的发生。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型实施例提供了一种基板、显示面板、显示装置，用以降低显示面板切割位置附近应力积累，改善显示面板周边不良的发生。
本实用新型实施例提供的一种基板，包括衬底基板，其中，还包括位于所述衬底基板上的光刻胶阻块；
在任一次曝光时对应的曝光区域，所述光刻胶阻块的位置，与对该基板曝光时使用的掩膜板上设置的至少一曝光间隙控制窗口的位置对应；以及
所述光刻胶阻块的形状与所述曝光间隙控制窗口的形状相匹配。
由本实用新型实施例提供的基板，由于基板上设置有光刻胶阻块，光刻胶阻块的位置，与对该基板曝光时使用的掩膜板上设置的至少一曝光间隙控制窗口的位置对应，因此，与现有技术相比，本实用新型实施例的光刻胶阻块的设置能够起到一定的支撑作用，进而能够降低显示面板切割位置附近应力积累，改善显示面板周边不良的发生。
较佳地，所述光刻胶阻块关于所述基板的中心对称轴对称分布。
较佳地，在相邻两次曝光时对应的两曝光区域，行方向上相邻的两曝光区域之间的所述光刻胶阻块呈一列分布。
较佳地，在每一次曝光时对应的曝光区域，每一所述光刻胶阻块的位置，与所述掩膜板上设置的每一曝光间隙控制窗口的位置一一对应。
较佳地，相邻的两曝光区域之间的所述光刻胶阻块的高度与其它位置处的所述光刻胶阻块的高度相等。
较佳地，所述光刻胶阻块的高度为3.6微米到3.8微米。
较佳地，所述光刻胶阻块的材料为透明感光有机材料。
较佳地，还包括位于所述衬底基板上的隔垫物，所述光刻胶阻块的材料与所述隔垫物的材料相同。
本实用新型实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括上述的基板。
本实用新型实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述的显示面板。
附图说明
图1为现有技术曝光后基板与掩膜板Gap Window对应位置处的示意图；
图2为现有技术掩膜板的Gap Window设计示意图；
图3为现有技术对显示面板切割时的结构示意图；
图4为曝光时测量掩膜板与基板表面的间距大小的原理结构示意图；
图5为本实用新型实施例提供的一种基板的结构示意图；
图6为本实用新型实施例提供的掩膜板的Gap Window设计示意图；
图7为本实用新型实施例提供的另一基板的结构示意图；
图8为本实用新型实施例提供的基板包括的光刻胶阻块的分布示意图；
图9为对本实用新型实施例提供的显示面板切割时的结构示意图。
具体实施方式
本实用新型实施例提供了一种基板、显示面板、显示装置，用以降低显示面板切割位置附近应力积累，改善显示面板周边不良的发生。
为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
下面首先介绍测量曝光时mask与基板表面距离的方式。
如图4所示，曝光机以目前常用的接近式曝光机为例，曝光时掩膜板41与基板42表面的间距大小是决定曝光后形成的图案尺寸的关键参数。掩膜板41与基板42表面的间距(Gap)测量时利用光的干涉原理进行测量，通过电荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)捕捉测量掩膜板41下表面和基板42上表面的反射光线，根据光程差换算得到Gap值。图4中示出了接近式曝光机测量Gap时的结构件43，该结构件43包括发出白光的有机发光二极管431、负压mask432和测试部件433，结构件43的具体工作原理与现有技术相同，这里不再赘述。
下面结合附图详细介绍本实用新型具体实施例提供的基板。
附图中各膜层厚度和区域大小、形状不反应各膜层的真实比例，目的只是示意说明本实用新型内容。
如图5所示，本实用新型具体实施例提供了一种基板，包括衬底基板50，位于衬底基板50上的光刻胶阻块51，在任一次曝光时对应的曝光区域，光刻胶阻块51的位置，与对该基板曝光时使用的掩膜板61上设置的至少一曝光间隙控制窗口611的位置对应；以及光刻胶阻块51的形状与曝光间隙控制窗口611的形状相匹配。
如图6所示，本实用新型具体实施例中的曝光间隙控制窗口611关于掩膜板61的中心对称轴612对称，本实用新型具体实施例中采用的掩膜板不需要设计未开口区域。
本实用新型具体实施例中的基板上设置有光刻胶阻块，光刻胶阻块的位置，与对该基板曝光时使用的掩膜板上设置的至少一曝光间隙控制窗口的位置对应，与现有技术相比，光刻胶阻块的设置能够起到一定的支撑作用，进而能够降低显示面板切割位置附近应力积累，改善显示面板周边不良的发生。
具体地，如图5所示，本实用新型具体实施例中的光刻胶阻块51关于基板的中心对称轴52对称分布设置，这样，本实用新型具体实施例中的光刻胶阻块51能够更好的起到支撑作用。
具体地，本实用新型具体实施例中的光刻胶阻块的高度为3.6微米(μm)到3.8μm，目前对基板曝光时，掩膜板与基板表面的间距在百微米数量级，而本实用新型具体实施例中设置的光刻胶阻块的高度为3.6μm到3.8μm，因此本实用新型具体实施例曝光过程中的间距测量时，曝光间隙控制窗口611对应位置处存在光刻胶阻块51不会影响间距测量的准确性。因此，本实用新型具体实施例能够在不影响间距测量的前提下，改善窄Dummy产品与mask未开口区域对应位置处无支撑力，切割应力异常导致的周边发黄不良的产生。
具体地，如图7所示，本实用新型具体实施例中的基板还包括位于衬底基板50上的黑矩阵39、彩膜层(红色彩膜层36、绿色彩膜层37和蓝色彩膜层38)和隔垫物34，即本实用新型具体实施例中的基板为彩膜基板，其中黑矩阵、彩膜层和隔垫物的具体设置方式与现有技术相同，这里不再赘述。当然，实际生产过程中，本实用新型具体实施例中的基板还可以为阵列基板，即将光刻胶阻块51设置在阵列基板一侧，不过阵列基板一侧绑定有各种电路板，以及阵列基板与彩膜基板相比距离切割位置更远，因此为了使得在切割时光刻胶阻块51能够起到更好的支撑作用，优选将光刻胶阻块51设置于彩膜基板一侧。
具体地，本实用新型具体实施例中的光刻胶阻块的材料为透明感光有机材料，优选光刻胶阻块的材料与隔垫物的材料相同，这样在实际生产过程中，能够将光刻胶阻块与隔垫物在同一次构图工艺中制作形成，且能够降低光刻胶阻块的材料选取成本。
具体地，如图8所示，本实用新型具体实施例中在相邻两次曝光时对应的两曝光区域(如曝光区域81和曝光区域82)，本实用新型具体实施例以基板需要进行四次曝光为例；每一曝光区域与掩膜板(参见图6所示)对应，实际曝光过程中，掩膜板需要移动四次，行方向上相邻的两曝光区域81和82之间的光刻胶阻块51呈一列分布。具体实施时，本实用新型具体实施例在每一次曝光时对应的曝光区域，每一光刻胶阻块51的位置，与掩膜板上设置的每一曝光间隙控制窗口的位置一一对应。与现有技术相比，本实用新型具体实施例并不存在因曝光被遮挡而无法形成图案的情况，并且由于光刻胶阻块51的设置，能够很好的降低光刻胶阻块51位置附近切割应力的积累，改善显示面板周边不良的发生。
图8中本实用新型具体实施例中的光刻胶阻块51对称设置，这种对称设计同样可以达到节省占位面积的目的，在满足基板最大化有效利用的同时还可以改善显示面板周边不良的发生。
具体实施时，如图8所示，针对图中虚线区域示出的相邻的两曝光区域81和82，相邻的两曝光区域81和82之间的光刻胶阻块51的高度与其它位置处的光刻胶阻块51的高度相等，即在该相邻的两曝光区域81和82之间的对应位置处，Gap Window区域第一次曝光过程中进行曝光，第二次曝光过程中遮挡不曝光，以保持光刻胶阻块51在基板内的高度均一性，具体实施时，第二次曝光过程中可以通过曝光设备中设置的遮挡部件进行遮挡。
基于同一实用新型构思，本实用新型具体实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括本实用新型具体实施例提供的上述基板。
下面结合附图说明本实用新型具体实施例中的光刻胶阻块的设置能够降低显示面板切割位置附近的应力积累。
如图9所示，本实用新型具体实施例中的显示面板包括本实用新型具体实施例提供的上述基板，与该基板相对设置的对向基板91，以及位于该基板与对向基板91之间的液晶层33和隔垫物34，以及密封对向基板91和该基板的封框胶35，具体地，对向基板91为阵列基板；该基板包括衬底基板50、位于衬底基板50上的黑矩阵39和光刻胶阻块51，图中箭头方向表示显示面板切割的位置。
本实用新型具体实施例中的显示面板在切割时，与现有技术相比，即如图9和图3所示，光刻胶阻块51的设置能够起到一定的支撑作用，进而能够降低显示面板切割位置附近处应力积累，改善显示面板周边不良的发生。
基于同一实用新型构思，本实用新型具体实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本实用新型具体实施例提供的上述显示面板，该显示装置可以为：手机、平板电脑、液晶电视、有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)电视、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不予赘述。
综上所述，本实用新型具体实施例提供一种基板，包括衬底基板，以及位于衬底基板上的光刻胶阻块；在任一次曝光时对应的曝光区域，光刻胶阻块的位置，与对该基板曝光时使用的掩膜板上设置的至少一曝光间隙控制窗口的位置对应；以及光刻胶阻块的形状与曝光间隙控制窗口的形状相匹配。因此，与现有技术相比，本实用新型具体实施例设置的光刻胶阻块能够起到一定的支撑作用，进而能够降低显示面板切割位置处应力积累，改善显示面板周边不良的发生。
显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种基板，包括衬底基板，其特征在于，还包括位于所述衬底基板上的光刻胶阻块；
在任一次曝光时对应的曝光区域，所述光刻胶阻块的位置，与对该基板曝光时使用的掩膜板上设置的至少一曝光间隙控制窗口的位置对应；以及
所述光刻胶阻块的形状与所述曝光间隙控制窗口的形状相匹配。
2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述光刻胶阻块关于所述基板的中心对称轴对称分布。
3.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，在相邻两次曝光时对应的两曝光区域，行方向上相邻的两曝光区域之间的所述光刻胶阻块呈一列分布。
4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，在每一次曝光时对应的曝光区域，每一所述光刻胶阻块的位置，与所述掩膜板上设置的每一曝光间隙控制窗口的位置一一对应。
5.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，相邻的两曝光区域之间的所述光刻胶阻块的高度与其它位置处的所述光刻胶阻块的高度相等。
6.根据权利要求5所述的基板，其特征在于，所述光刻胶阻块的高度为3.6微米到3.8微米。
7.根据权利要求1-6任一项所述的基板，其特征在于，所述光刻胶阻块的材料为透明感光有机材料。
8.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，还包括位于所述衬底基板上的隔垫物，所述光刻胶阻块的材料与所述隔垫物的材料相同。
9.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的基板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的显示面板。
CN201720244625.1U 2017-03-14 2017-03-14 一种基板、显示面板、显示装置 Active CN206523720U (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201720244625.1U CN206523720U (zh) 2017-03-14 2017-03-14 一种基板、显示面板、显示装置
US16/300,163 US10824026B2 (en) 2017-03-14 2018-03-06 Substrate and preparation method therefor, and display panel
PCT/CN2018/078106 WO2018166375A1 (zh) 2017-03-14 2018-03-06 基板及其制备方法、以及显示面板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201720244625.1U CN206523720U (zh) 2017-03-14 2017-03-14 一种基板、显示面板、显示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN206523720U true CN206523720U (zh) 2017-09-26

Family

ID=59902834

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201720244625.1U Active CN206523720U (zh) 2017-03-14 2017-03-14 一种基板、显示面板、显示装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10824026B2 (zh)
CN (1) CN206523720U (zh)
WO (1) WO2018166375A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018166375A1 (zh) * 2017-03-14 2018-09-20 京东方科技集团股份有限公司 基板及其制备方法、以及显示面板
CN111198453A (zh) * 2020-02-28 2020-05-26 Tcl华星光电技术有限公司 一种显示面板及显示装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3654483B2 (ja) * 1997-10-09 2005-06-02 富士写真フイルム株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP2003215600A (ja) * 2002-01-23 2003-07-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルおよびその製造方法
JP2014203026A (ja) * 2013-04-09 2014-10-27 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
TWI557772B (zh) * 2014-04-10 2016-11-11 友達光電股份有限公司 元件基板及其製造方法
CN104111562B (zh) 2014-06-12 2017-02-01 京东方科技集团股份有限公司 液晶面板及其制备方法、显示装置
CN105116628B (zh) 2015-09-01 2018-09-18 昆山龙腾光电有限公司 液晶面板及液晶显示装置
GB2543101B (en) * 2015-10-09 2022-09-14 Flexenable Ltd Lamination technique for producing electronic devices
CN105204238B (zh) * 2015-10-26 2019-02-26 厦门天马微电子有限公司 一种彩膜基板及显示面板、显示装置
KR101755318B1 (ko) * 2015-11-19 2017-07-10 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 컬럼 스페이서의 제조방법
CN105807484B (zh) 2016-06-03 2019-03-12 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN205992105U (zh) * 2016-09-13 2017-03-01 合肥京东方光电科技有限公司 一种掩膜板、显示基板及显示器件
CN206523720U (zh) * 2017-03-14 2017-09-26 北京京东方显示技术有限公司 一种基板、显示面板、显示装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018166375A1 (zh) * 2017-03-14 2018-09-20 京东方科技集团股份有限公司 基板及其制备方法、以及显示面板
US10824026B2 (en) 2017-03-14 2020-11-03 Beijing Boe Display Technology Co., Ltd. Substrate and preparation method therefor, and display panel
CN111198453A (zh) * 2020-02-28 2020-05-26 Tcl华星光电技术有限公司 一种显示面板及显示装置
CN111198453B (zh) * 2020-02-28 2022-02-22 Tcl华星光电技术有限公司 一种显示面板及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20190146259A1 (en) 2019-05-16
WO2018166375A1 (zh) 2018-09-20
US10824026B2 (en) 2020-11-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103268037B (zh) 一种彩膜基板、制备方法以及显示装置
CN105607368B (zh) 阵列基板及其制备方法、显示装置
US10317585B2 (en) Color filter substrate and manufacturing method thereof, and display device
CN103744214B (zh) 一种液晶显示器的玻璃基板的曝光方法
CN104317158B (zh) 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置
CN203502701U (zh) 一种基板及掩膜板
CN106992149B (zh) Tft基板的制作方法
CN105652527A (zh) 彩膜基板及其制造方法和显示装置
CN203337948U (zh) 一种彩膜基板以及显示装置
CN206523720U (zh) 一种基板、显示面板、显示装置
CN103869518B (zh) 液晶显示器的制造方法及其产品
CN105867008A (zh) 彩膜基板及彩膜基板的制备方法、显示面板
CN104865729A (zh) 彩膜基板及其制作方法、隔垫物的制作方法及显示装置
US9030767B2 (en) Color filter and manufacturing method thereof
CN104749674A (zh) 滤光片的制作方法及曝光掩膜板
CN102955288A (zh) 一种彩膜基板、制作方法及液晶触摸显示装置
CN106371243A (zh) 一种显示基板及其制作方法
US20190081109A1 (en) Display substrate and fabrication method thereof, display device
CN104698739A (zh) 掩膜板、彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置
CN103744556B (zh) 触控显示面板及其制作方法
CN100447628C (zh) 彩色滤光层的制造方法
CN101609238B (zh) 具有彩色滤光阵列的像素阵列基板以及显示面板
CN106873252A (zh) 彩色滤光片基板及其制作方法
CN110147002B (zh) 对位测试键、液晶显示面板及对位组立方法
CN105058957A (zh) 网版及其制作方法、封装方法、显示面板、显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant