JPH1083918A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH1083918A JPH1083918A JP23640896A JP23640896A JPH1083918A JP H1083918 A JPH1083918 A JP H1083918A JP 23640896 A JP23640896 A JP 23640896A JP 23640896 A JP23640896 A JP 23640896A JP H1083918 A JPH1083918 A JP H1083918A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 特にイオンアシストにより形成されたFeを
主体とする磁性層を有する磁気記録媒体において、最適
記録電流の低減とオーバーライト特性の向上を図る。 【解決手段】 支持体上に形成された少なくとも1層の
磁性層を有する磁気記録媒体において、全磁性層のう
ち、支持体から最も遠い磁性層を、鉄を主成分として含
有し、且つ窒素、炭素及び酸素から選ばれる少なくとも
2種をそれぞれ5%(原子比)以上含有する磁性層と
し、且つ当該磁性層の磁化容易軸と磁性層面がなす角の
角度を20〜45°の範囲とする。
主体とする磁性層を有する磁気記録媒体において、最適
記録電流の低減とオーバーライト特性の向上を図る。 【解決手段】 支持体上に形成された少なくとも1層の
磁性層を有する磁気記録媒体において、全磁性層のう
ち、支持体から最も遠い磁性層を、鉄を主成分として含
有し、且つ窒素、炭素及び酸素から選ばれる少なくとも
2種をそれぞれ5%(原子比)以上含有する磁性層と
し、且つ当該磁性層の磁化容易軸と磁性層面がなす角の
角度を20〜45°の範囲とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、鉄を主成分として
含有し、且つ窒素、炭素及び酸素のうち少なくとも2種
を含む磁性層を有する金属薄膜型の磁気記録媒体に関す
る。
含有し、且つ窒素、炭素及び酸素のうち少なくとも2種
を含む磁性層を有する金属薄膜型の磁気記録媒体に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年の磁気記録は高密度記録化の方向に
あり、金属薄膜型テープは、磁性層にバインダーを含ま
ないことから磁性材料の密度を高められるため、高密度
記録に有望であるとされている。金属薄膜型の磁気記録
媒体としては、真空蒸着法等によって非磁性支持体上に
金属薄膜を形成するものが知られており、磁性層用の磁
性材料としては、Co系、Co−Ni系、Co−Cr系
の強磁性合金が知られている。また、Feの蒸着中に酸
素、窒素、二酸化炭素等のガスやこれらの混合ガスをイ
オン化して照射する、いわゆるイオンアシストによる蒸
着法により、Fe−N系、Fe−C系、Fe−N−O
系、Fe−C−O系、Fe−N−C−O系の磁性膜を形
成することが試みられている。
あり、金属薄膜型テープは、磁性層にバインダーを含ま
ないことから磁性材料の密度を高められるため、高密度
記録に有望であるとされている。金属薄膜型の磁気記録
媒体としては、真空蒸着法等によって非磁性支持体上に
金属薄膜を形成するものが知られており、磁性層用の磁
性材料としては、Co系、Co−Ni系、Co−Cr系
の強磁性合金が知られている。また、Feの蒸着中に酸
素、窒素、二酸化炭素等のガスやこれらの混合ガスをイ
オン化して照射する、いわゆるイオンアシストによる蒸
着法により、Fe−N系、Fe−C系、Fe−N−O
系、Fe−C−O系、Fe−N−C−O系の磁性膜を形
成することが試みられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】高記録密度化が進めら
れるにつれ、磁気記録媒体への要求特性として短波長記
録化が進められ、高保磁力化、薄膜化が行われる。上記
の金属薄膜型の磁気記録媒体はこの目的にはある程度合
致するものであるが、保磁力の高い磁気記録媒体により
記録を行う場合には、記録ヘッドに流す記録電流を増大
させる必要があり、金属薄膜型の磁気記録媒体でも省電
力化は十分に達成されない。また、磁性層や支持体等の
構造面から高保磁力化、薄膜化を達成しようとしても自
と限界があり、記録電流の問題と併せてこの問題を解決
できる金属薄膜型の磁気記録媒体が要望されている。特
に、前記した金属薄膜型の磁気記録媒体のなかでも、F
e−N系、Fe−C系、Fe−N−O系、Fe−C−O
系、Fe−N−C−O系の磁性層を有する磁気記録媒体
は、価格が安いFeを主体とし、公害問題も少ないため
望ましいが、前記したような最適記録電流の低減を十分
達成されていない。
れるにつれ、磁気記録媒体への要求特性として短波長記
録化が進められ、高保磁力化、薄膜化が行われる。上記
の金属薄膜型の磁気記録媒体はこの目的にはある程度合
致するものであるが、保磁力の高い磁気記録媒体により
記録を行う場合には、記録ヘッドに流す記録電流を増大
させる必要があり、金属薄膜型の磁気記録媒体でも省電
力化は十分に達成されない。また、磁性層や支持体等の
構造面から高保磁力化、薄膜化を達成しようとしても自
と限界があり、記録電流の問題と併せてこの問題を解決
できる金属薄膜型の磁気記録媒体が要望されている。特
に、前記した金属薄膜型の磁気記録媒体のなかでも、F
e−N系、Fe−C系、Fe−N−O系、Fe−C−O
系、Fe−N−C−O系の磁性層を有する磁気記録媒体
は、価格が安いFeを主体とし、公害問題も少ないため
望ましいが、前記したような最適記録電流の低減を十分
達成されていない。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記のよ
うな状況に鑑み、最適記録電流の低減とオーバーライト
特性の向上の両方を達成できる磁気記録媒体を得るため
に鋭意研究した結果、鉄を主成分とし、更に窒素、炭素
及び酸素から選ばれる少なくとも2種を特定量含有する
磁性層において、磁化容易軸と磁性層面がなす角の角度
が20〜45°の範囲にあるものがこの目的を達成でき
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
うな状況に鑑み、最適記録電流の低減とオーバーライト
特性の向上の両方を達成できる磁気記録媒体を得るため
に鋭意研究した結果、鉄を主成分とし、更に窒素、炭素
及び酸素から選ばれる少なくとも2種を特定量含有する
磁性層において、磁化容易軸と磁性層面がなす角の角度
が20〜45°の範囲にあるものがこの目的を達成でき
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0005】即ち、本発明は、支持体と、該支持体上に
形成された少なくとも1層の磁性層を有する磁気記録媒
体であって、前記磁性層のうち、前記支持体から最も遠
い磁性層が、鉄を主成分として含有し、且つ窒素、炭素
及び酸素から選ばれる少なくとも2種をそれぞれ5%
(原子比)以上含有する磁性層であり、且つ全磁性層に
おける磁化容易軸と磁性層面がなす角の角度が20〜4
5°の範囲にあることを特徴とする磁気記録媒体を提供
するものである。
形成された少なくとも1層の磁性層を有する磁気記録媒
体であって、前記磁性層のうち、前記支持体から最も遠
い磁性層が、鉄を主成分として含有し、且つ窒素、炭素
及び酸素から選ばれる少なくとも2種をそれぞれ5%
(原子比)以上含有する磁性層であり、且つ全磁性層に
おける磁化容易軸と磁性層面がなす角の角度が20〜4
5°の範囲にあることを特徴とする磁気記録媒体を提供
するものである。
【0006】本発明において、「鉄を主成分とする」と
は、磁性層中の原子比で50%以上、好ましくは60〜
90%含むことを意味する。本発明において、磁性層を
構成する元素の定量は、オージェ分光分析法もしくは電
子線プローブ微量分析法(EPMA)により行うことが
できる。
は、磁性層中の原子比で50%以上、好ましくは60〜
90%含むことを意味する。本発明において、磁性層を
構成する元素の定量は、オージェ分光分析法もしくは電
子線プローブ微量分析法(EPMA)により行うことが
できる。
【0007】また、本発明の磁気記録媒体は、磁性層の
磁化容易軸と磁性層面がなす角の角度(以下、単に磁化
容易軸の角度という場合もある)が20〜45°の範囲
にあるものである。この角度が90°の場合、垂直磁化
膜となる。一般に、高密度記録に対応するためには垂直
磁化膜が好ましいとされているが、短波長記録化に伴い
記録ヘッドに流す記録電流を増大させた場合には、省電
力化が必ずしも十分に達成されない場合がある。本発明
では、磁気特性の面から良好なオーバーライト特性が発
現し、且つ省電力化を達成できる適正な磁化容易軸の角
度として20〜45°の範囲を選定したものである。こ
のように磁化容易軸の角度を特定範囲とすることによ
り、最適記録電流の低減とオーバーライト特性の向上が
達成できる理由は、磁化容易軸と記録波長の関係が最適
範囲となるため、磁力線の抜けが良くなり、磁気記録の
効率が向上するものと考えられる。
磁化容易軸と磁性層面がなす角の角度(以下、単に磁化
容易軸の角度という場合もある)が20〜45°の範囲
にあるものである。この角度が90°の場合、垂直磁化
膜となる。一般に、高密度記録に対応するためには垂直
磁化膜が好ましいとされているが、短波長記録化に伴い
記録ヘッドに流す記録電流を増大させた場合には、省電
力化が必ずしも十分に達成されない場合がある。本発明
では、磁気特性の面から良好なオーバーライト特性が発
現し、且つ省電力化を達成できる適正な磁化容易軸の角
度として20〜45°の範囲を選定したものである。こ
のように磁化容易軸の角度を特定範囲とすることによ
り、最適記録電流の低減とオーバーライト特性の向上が
達成できる理由は、磁化容易軸と記録波長の関係が最適
範囲となるため、磁力線の抜けが良くなり、磁気記録の
効率が向上するものと考えられる。
【0008】本発明の磁性層は、蒸着等により形成され
る金属薄膜型の磁性層であり、その磁化容易軸の角度を
20〜45°の範囲とする方法としては、蒸着時の防着
板の位置を変えて、入射角を調節する方法が挙げられ
る。
る金属薄膜型の磁性層であり、その磁化容易軸の角度を
20〜45°の範囲とする方法としては、蒸着時の防着
板の位置を変えて、入射角を調節する方法が挙げられ
る。
【0009】また、本発明の磁気記録媒体は磁性層が多
層構造であってもよい。多層構造の磁性層の場合、支持
体に近い磁性層(下層)ほど、磁化容易軸の角度が小さ
い方が望ましい。ただし、多層の磁性層の場合も、磁性
層全体の磁化容易軸の角度は20〜45°の範囲にある
必要がある。なお多層構造の場合、支持体から最も遠い
第一磁性層が、鉄を主成分として含有し、且つ窒素、炭
素及び酸素から選ばれる少なくとも2種をそれぞれ5%
(原子比)以上含有するFe系磁性層であれば、それ以
外の下方の磁性層はFe系の磁性層でなくてもよい。し
かしながら、多層構造の磁性層を形成する場合も、全て
の磁性層が鉄を主成分として含有し、且つ窒素、炭素及
び酸素から選ばれる少なくとも2種をそれぞれ5%(原
子比)以上含有する磁性層であることがより望ましい。
層構造であってもよい。多層構造の磁性層の場合、支持
体に近い磁性層(下層)ほど、磁化容易軸の角度が小さ
い方が望ましい。ただし、多層の磁性層の場合も、磁性
層全体の磁化容易軸の角度は20〜45°の範囲にある
必要がある。なお多層構造の場合、支持体から最も遠い
第一磁性層が、鉄を主成分として含有し、且つ窒素、炭
素及び酸素から選ばれる少なくとも2種をそれぞれ5%
(原子比)以上含有するFe系磁性層であれば、それ以
外の下方の磁性層はFe系の磁性層でなくてもよい。し
かしながら、多層構造の磁性層を形成する場合も、全て
の磁性層が鉄を主成分として含有し、且つ窒素、炭素及
び酸素から選ばれる少なくとも2種をそれぞれ5%(原
子比)以上含有する磁性層であることがより望ましい。
【0010】なお、本発明において、磁化容易軸の角度
は、磁気トルクメーターにより測定することができる。
また、磁化容易軸の角度の調整は、蒸着条件や組成等に
より容易に行うことができる。
は、磁気トルクメーターにより測定することができる。
また、磁化容易軸の角度の調整は、蒸着条件や組成等に
より容易に行うことができる。
【0011】本発明において、磁性層における鉄(F
e)、窒素(N)、炭素(C)及び酸素(O)の割合
は、その比率と磁化容易軸の角度が上記の範囲にある限
り限定されないが、例えば以下のような割合が考えられ
る。 <Fe−N−O系> Fe:60〜90%、好ましくは65〜84%(原子
比、以下同じ) N: 5〜25%、好ましくは 7〜20% O: 5〜25%、好ましくは 7〜20% <Fe−C−O系> Fe:60〜90%、好ましくは65〜84% C: 5〜25%、好ましくは 7〜20% O: 5〜25%、好ましくは 7〜20% <Fe−N−C−O系> Fe:60〜90%、好ましくは65〜84% N: 5〜25%、好ましくは 7〜20% C: 5〜25%、好ましくは 7〜20% O: 5〜25%、好ましくは 7〜20% ここで、磁性層中の窒素、炭素及び酸素の比率が5%以
上で、且つ二種以上を含有しないと、耐食性、特に高温
多湿下で放置後の耐食性が低下する。
e)、窒素(N)、炭素(C)及び酸素(O)の割合
は、その比率と磁化容易軸の角度が上記の範囲にある限
り限定されないが、例えば以下のような割合が考えられ
る。 <Fe−N−O系> Fe:60〜90%、好ましくは65〜84%(原子
比、以下同じ) N: 5〜25%、好ましくは 7〜20% O: 5〜25%、好ましくは 7〜20% <Fe−C−O系> Fe:60〜90%、好ましくは65〜84% C: 5〜25%、好ましくは 7〜20% O: 5〜25%、好ましくは 7〜20% <Fe−N−C−O系> Fe:60〜90%、好ましくは65〜84% N: 5〜25%、好ましくは 7〜20% C: 5〜25%、好ましくは 7〜20% O: 5〜25%、好ましくは 7〜20% ここで、磁性層中の窒素、炭素及び酸素の比率が5%以
上で、且つ二種以上を含有しないと、耐食性、特に高温
多湿下で放置後の耐食性が低下する。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体において、
Fe系の磁性層は、鉄を蒸着させながら窒素イオン、炭
素イオン、酸素イオンを供給する、いわゆるイオンアシ
スト蒸着法により形成される。磁性層を形成するイオン
アシスト蒸着法は従来知られている方法により行なうこ
とができる。ただし前記したように、本発明では磁性層
中に鉄の他に、窒素、炭素及び酸素の少なくとも2種が
原子比で5%以上含まれる必要がある。また、本発明に
おいては、磁性層を多層構造とすることができるが、そ
の場合、上記の通り全磁性層の最表層である第一磁性層
をFe系の磁性層とし、これに隣接する下層の磁性層も
Fe系とすることが好ましい。しかしながら、下層の磁
性層はイオンアシストによらない金属薄膜型の磁性層で
あってもよい。本発明において、磁性層の厚さは限定さ
れないが、通常200〜2000Åである。多層の磁性
層を形成する場合、各磁性層の合計の厚さは500〜4
000Å程度である。
Fe系の磁性層は、鉄を蒸着させながら窒素イオン、炭
素イオン、酸素イオンを供給する、いわゆるイオンアシ
スト蒸着法により形成される。磁性層を形成するイオン
アシスト蒸着法は従来知られている方法により行なうこ
とができる。ただし前記したように、本発明では磁性層
中に鉄の他に、窒素、炭素及び酸素の少なくとも2種が
原子比で5%以上含まれる必要がある。また、本発明に
おいては、磁性層を多層構造とすることができるが、そ
の場合、上記の通り全磁性層の最表層である第一磁性層
をFe系の磁性層とし、これに隣接する下層の磁性層も
Fe系とすることが好ましい。しかしながら、下層の磁
性層はイオンアシストによらない金属薄膜型の磁性層で
あってもよい。本発明において、磁性層の厚さは限定さ
れないが、通常200〜2000Åである。多層の磁性
層を形成する場合、各磁性層の合計の厚さは500〜4
000Å程度である。
【0013】本発明の磁気記録媒体の支持体の材料とし
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレートのようなポリエステル;ポリエチレン、ポリプ
ロピレン等のポリオレフィン; セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート等のセルロース誘導体;ポ
リカーボネート;ポリ塩化ビニル;ポリイミド;芳香族
ポリアミド等のプラスチック等が使用される。これらの
基材の厚さは3〜50μm程度である。
ては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレートのようなポリエステル;ポリエチレン、ポリプ
ロピレン等のポリオレフィン; セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート等のセルロース誘導体;ポ
リカーボネート;ポリ塩化ビニル;ポリイミド;芳香族
ポリアミド等のプラスチック等が使用される。これらの
基材の厚さは3〜50μm程度である。
【0014】また、磁性層上には、厚さ10〜200Å
程度の保護層、特にダイヤモンドライクカーボン、グラ
ファイト等の炭素薄膜、酸化珪素、炭化珪素等の含珪素
薄膜、酸化ジルコニウム薄膜等からなる保護層を設ける
ことが望ましい。また、磁性層上もしくは保護層上に
は、厚さ2〜50Å程度の潤滑層、特にパーフルオロポ
リエーテル等のフッ素系潤滑剤からなる潤滑層を形成す
るのが好ましい。また、磁性層が形成される面と反対の
面には、更にカーボンブラックを主成分とする厚さ0.
1〜1.0μm程度のバックコート層等を設けてもよ
い。これらの層を形成する原料は従来公知のものが適宜
使用できる。また、Cu−Al合金等の金属を蒸着させ
て厚さ500〜10000Å程度のバックコート層を形
成してもよい。
程度の保護層、特にダイヤモンドライクカーボン、グラ
ファイト等の炭素薄膜、酸化珪素、炭化珪素等の含珪素
薄膜、酸化ジルコニウム薄膜等からなる保護層を設ける
ことが望ましい。また、磁性層上もしくは保護層上に
は、厚さ2〜50Å程度の潤滑層、特にパーフルオロポ
リエーテル等のフッ素系潤滑剤からなる潤滑層を形成す
るのが好ましい。また、磁性層が形成される面と反対の
面には、更にカーボンブラックを主成分とする厚さ0.
1〜1.0μm程度のバックコート層等を設けてもよ
い。これらの層を形成する原料は従来公知のものが適宜
使用できる。また、Cu−Al合金等の金属を蒸着させ
て厚さ500〜10000Å程度のバックコート層を形
成してもよい。
【0015】図1により本発明の磁気記録媒体の製造方
法の一例を示す。図1はイオンアシスト蒸着装置の要部
であり、図1中、1はキャンロール、2はベースフィル
ム、3はイオンガン、4は遮蔽板、5は電子銃、6はル
ツボであり、金属鉄を収容している。このうち、イオン
ガン3以外は図示しない真空容器内に収容されている。
ベースフィルム2は、円筒状のキャンロール1を搬送さ
れる。また、キャンロール1の下方には、MgO製のル
ツボ6が置かれ、この中に鉄(例えば純度99.95%
のFe)が収容され、このルツボ6内のFe面に対して
電子銃5から電子ビームが照射される。これにより、F
eが加熱気化して、キャンロール1上を走行するベース
フィルム2に付着する。一方、Feの蒸着時には、フィ
ルム2の蒸着面に対して垂直方向にイオンが照射される
ようにイオンガン3を配置し、このイオンガン3には炭
素源、窒素源、酸素源となるガス、例えばメタンガスや
炭酸ガスを供給し所望のイオンを生成させ、蒸着領域中
に供給する。また、任意に酸素ガス導入管(図示せず)
を設置して酸素ガスを蒸着領域中に通気して酸素源とし
てもよい。これにより、Feを主体として、窒素、炭
素、酸素を含む本発明の磁性層が形成される。なお、多
層構造の磁性層を形成する場合は、図1のような装置を
用いて連続的に形成してもよいし、蒸着を複数回繰り返
して形成することもできるが、いずれの方法の場合も磁
性層は本発明で規定する組成と磁化容易軸の角度を満た
す必要がある。
法の一例を示す。図1はイオンアシスト蒸着装置の要部
であり、図1中、1はキャンロール、2はベースフィル
ム、3はイオンガン、4は遮蔽板、5は電子銃、6はル
ツボであり、金属鉄を収容している。このうち、イオン
ガン3以外は図示しない真空容器内に収容されている。
ベースフィルム2は、円筒状のキャンロール1を搬送さ
れる。また、キャンロール1の下方には、MgO製のル
ツボ6が置かれ、この中に鉄(例えば純度99.95%
のFe)が収容され、このルツボ6内のFe面に対して
電子銃5から電子ビームが照射される。これにより、F
eが加熱気化して、キャンロール1上を走行するベース
フィルム2に付着する。一方、Feの蒸着時には、フィ
ルム2の蒸着面に対して垂直方向にイオンが照射される
ようにイオンガン3を配置し、このイオンガン3には炭
素源、窒素源、酸素源となるガス、例えばメタンガスや
炭酸ガスを供給し所望のイオンを生成させ、蒸着領域中
に供給する。また、任意に酸素ガス導入管(図示せず)
を設置して酸素ガスを蒸着領域中に通気して酸素源とし
てもよい。これにより、Feを主体として、窒素、炭
素、酸素を含む本発明の磁性層が形成される。なお、多
層構造の磁性層を形成する場合は、図1のような装置を
用いて連続的に形成してもよいし、蒸着を複数回繰り返
して形成することもできるが、いずれの方法の場合も磁
性層は本発明で規定する組成と磁化容易軸の角度を満た
す必要がある。
【0016】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0017】実施例1 (1)磁気テープの製造 厚さ6.5μmのPETフィルム上に、図1の装置を用
いたイオンアシスト蒸着により、Fe−N−O系磁性層
を形成した。この磁性層の厚さは1750Åであり、原
子比はFe:N:O=74:15:11(原子%)であ
り、保磁力は1120(Oe)であった。また、磁気ト
ルクメーター〔東英工業(株)製、TRT−2−20A
UTO〕で磁化容易軸の角度を測定したところ、21°
であった。次いで、この磁性層上にベンゼンを炭素源と
するECRプラズマCVD法により、厚さ85Åのダイ
ヤモンドライクカーボン薄膜からなる保護層を形成し
た。更に、この保護層上に極性基である−OH基を持つ
パーフルオロポリエーテル〔デムナムSA:ダイキン工
業製〕を厚さが20Åとなるように付着して潤滑層を形
成した。また、このフィルムの磁性層形成面と反対の面
に、バックコート層を形成した。バックコート層は、2
0〜30nmの直径のカーボンを含有するバインダーを
乾燥後の厚さが0.5μmとなるようにフィルムに塗布
して乾燥して形成した。上記により得られた、Fe−N
−O系磁性層、ダイヤモンドライクカーボン保護層、フ
ッ素系潤滑層及びバックコート層が形成されたフィルム
を巾1cm、長さ1m程度に切り出し、ドラムテスター
を用いて記録波長0.5μmにおける最適記録電流(O
RC)とオーバーライト特性(OW)を評価した。両者
は後述の比較例4を基準とする相対評価で行った。即
ち、ORCは比較例4の電流を100%とし、またOW
は比較例4の結果を0dBとして低下量(dB)を評価
した。その結果を表1に示す。なお、表1中には磁性層
全体の組成、膜厚及び磁化容易軸の角度も併せて示し
た。
いたイオンアシスト蒸着により、Fe−N−O系磁性層
を形成した。この磁性層の厚さは1750Åであり、原
子比はFe:N:O=74:15:11(原子%)であ
り、保磁力は1120(Oe)であった。また、磁気ト
ルクメーター〔東英工業(株)製、TRT−2−20A
UTO〕で磁化容易軸の角度を測定したところ、21°
であった。次いで、この磁性層上にベンゼンを炭素源と
するECRプラズマCVD法により、厚さ85Åのダイ
ヤモンドライクカーボン薄膜からなる保護層を形成し
た。更に、この保護層上に極性基である−OH基を持つ
パーフルオロポリエーテル〔デムナムSA:ダイキン工
業製〕を厚さが20Åとなるように付着して潤滑層を形
成した。また、このフィルムの磁性層形成面と反対の面
に、バックコート層を形成した。バックコート層は、2
0〜30nmの直径のカーボンを含有するバインダーを
乾燥後の厚さが0.5μmとなるようにフィルムに塗布
して乾燥して形成した。上記により得られた、Fe−N
−O系磁性層、ダイヤモンドライクカーボン保護層、フ
ッ素系潤滑層及びバックコート層が形成されたフィルム
を巾1cm、長さ1m程度に切り出し、ドラムテスター
を用いて記録波長0.5μmにおける最適記録電流(O
RC)とオーバーライト特性(OW)を評価した。両者
は後述の比較例4を基準とする相対評価で行った。即
ち、ORCは比較例4の電流を100%とし、またOW
は比較例4の結果を0dBとして低下量(dB)を評価
した。その結果を表1に示す。なお、表1中には磁性層
全体の組成、膜厚及び磁化容易軸の角度も併せて示し
た。
【0018】実施例2 実施例1と同様のイオンアシスト蒸着法(但し遮蔽板の
位置と注入イオン種を変えた)により厚さ1800Åの
Fe−C−O系磁性層を形成した。この磁性層の原子比
はFe:C:O=70:18:12(原子%)であり、
保磁力は1150(Oe)であった。またこの磁性層の
磁化容易軸の角度は25°であった。その後、実施例1
と同様にして保護層、潤滑層及びバックコート層を形成
し、実施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に
示す。
位置と注入イオン種を変えた)により厚さ1800Åの
Fe−C−O系磁性層を形成した。この磁性層の原子比
はFe:C:O=70:18:12(原子%)であり、
保磁力は1150(Oe)であった。またこの磁性層の
磁化容易軸の角度は25°であった。その後、実施例1
と同様にして保護層、潤滑層及びバックコート層を形成
し、実施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に
示す。
【0019】実施例3 実施例1と同様のイオンアシスト蒸着法(但し遮蔽板の
位置と注入イオン種を変えた)により厚さ1790Åの
Fe−N−C−O系磁性層を形成した。この磁性層の原
子比はFe:N:C:O=70:10:7:13(原子
%)であり、保磁力は1130(Oe)であった。また
この磁性層の磁化容易軸の角度は34°であった。その
後、実施例1と同様にして保護層、潤滑層及びバックコ
ート層を形成し、実施例1と同様の評価を行った。その
結果を表1に示す。
位置と注入イオン種を変えた)により厚さ1790Åの
Fe−N−C−O系磁性層を形成した。この磁性層の原
子比はFe:N:C:O=70:10:7:13(原子
%)であり、保磁力は1130(Oe)であった。また
この磁性層の磁化容易軸の角度は34°であった。その
後、実施例1と同様にして保護層、潤滑層及びバックコ
ート層を形成し、実施例1と同様の評価を行った。その
結果を表1に示す。
【0020】実施例4 実施例1と同様のイオンアシスト蒸着法(但し遮蔽板の
位置を変えた)を二回行って、多層構造の磁性層を形成
した。ただし、下層には、実施例2の組成を有する厚さ
900ÅのFe−C−O系磁性層を形成し、その上に実
施例3の組成を有する厚さ850ÅのFe−N−C−O
系磁性層を形成した。この磁性層全体の保磁力は114
0(Oe)であった。またこの磁性層全体の磁化容易軸
の角度は30°(上層磁性層34°、下層磁性層25
°)であった。その後、実施例1と同様にして保護層、
潤滑層及びバックコート層を形成し、実施例1と同様の
評価を行った。その結果を表1に示す。
位置を変えた)を二回行って、多層構造の磁性層を形成
した。ただし、下層には、実施例2の組成を有する厚さ
900ÅのFe−C−O系磁性層を形成し、その上に実
施例3の組成を有する厚さ850ÅのFe−N−C−O
系磁性層を形成した。この磁性層全体の保磁力は114
0(Oe)であった。またこの磁性層全体の磁化容易軸
の角度は30°(上層磁性層34°、下層磁性層25
°)であった。その後、実施例1と同様にして保護層、
潤滑層及びバックコート層を形成し、実施例1と同様の
評価を行った。その結果を表1に示す。
【0021】実施例5 実施例1と同様のイオンアシスト蒸着法(但し遮蔽板の
位置を変えた)を二回行って、多層構造の磁性層を形成
した。ただし、下層には、実施例1の組成を有する厚さ
950ÅのFe−N−O系磁性層を形成し、その上に実
施例3の組成を有する厚さ900ÅのFe−N−C−O
系磁性層を形成した。この磁性層全体の保磁力は113
0(Oe)であった。またこの磁性層全体の磁化容易軸
の角度は28°(上層磁性層34°、下層磁性層21
°)であった。その後、実施例1と同様にして保護層、
潤滑層及びバックコート層を形成し、実施例1と同様の
評価を行った。その結果を表1に示す。
位置を変えた)を二回行って、多層構造の磁性層を形成
した。ただし、下層には、実施例1の組成を有する厚さ
950ÅのFe−N−O系磁性層を形成し、その上に実
施例3の組成を有する厚さ900ÅのFe−N−C−O
系磁性層を形成した。この磁性層全体の保磁力は113
0(Oe)であった。またこの磁性層全体の磁化容易軸
の角度は28°(上層磁性層34°、下層磁性層21
°)であった。その後、実施例1と同様にして保護層、
潤滑層及びバックコート層を形成し、実施例1と同様の
評価を行った。その結果を表1に示す。
【0022】実施例6 実施例1において、イオンアシスト蒸着時の遮蔽板4の
位置を変えて磁化容易軸の角度が18°のFe−N−O
系磁性層を形成した。その他は実施例1と同様にして磁
気フィルムを作製し、実施例1と同様の評価を行った。
その結果を表1に示す。
位置を変えて磁化容易軸の角度が18°のFe−N−O
系磁性層を形成した。その他は実施例1と同様にして磁
気フィルムを作製し、実施例1と同様の評価を行った。
その結果を表1に示す。
【0023】実施例7 実施例1において、イオンアシスト蒸着時の遮蔽板4の
位置と注入イオン種を変えて磁化容易軸の角度が42°
のFe−N−C−O系磁性層を形成した。その他は実施
例1と同様にして磁気フィルムを作製し、実施例1と同
様の評価を行った。その結果を表1に示す。
位置と注入イオン種を変えて磁化容易軸の角度が42°
のFe−N−C−O系磁性層を形成した。その他は実施
例1と同様にして磁気フィルムを作製し、実施例1と同
様の評価を行った。その結果を表1に示す。
【0024】実施例8 実施例1と同様のイオンアシスト蒸着法を二回行って、
多層構造の磁性層を形成した。ただし、下層には、実施
例3の組成を有する厚さ900ÅのFe−N−C−O系
磁性層を形成し、その上に実施例7の組成を有する厚さ
900ÅのFe−N−C−O系磁性層を形成した。また
この磁性層全体の磁化容易軸の角度は39°(上層磁性
層42°、下層磁性層34°)であった。その後、実施
例1と同様にして保護層、潤滑層及びバックコート層を
形成し、実施例1と同様の評価を行った。その結果を表
1に示す。
多層構造の磁性層を形成した。ただし、下層には、実施
例3の組成を有する厚さ900ÅのFe−N−C−O系
磁性層を形成し、その上に実施例7の組成を有する厚さ
900ÅのFe−N−C−O系磁性層を形成した。また
この磁性層全体の磁化容易軸の角度は39°(上層磁性
層42°、下層磁性層34°)であった。その後、実施
例1と同様にして保護層、潤滑層及びバックコート層を
形成し、実施例1と同様の評価を行った。その結果を表
1に示す。
【0025】比較例1 実施例1と同様のイオンアシスト蒸着法(但し遮蔽板の
位置と注入イオン種を変えた)により厚さ1830Åの
Fe−N−C−O系磁性層を形成した。この磁性層の原
子比はFe:N:C:O=70:7:10:13(原子
%)であり、保磁力は1140(Oe)であった。また
この磁性層の磁化容易軸の角度は47°であった。その
後、実施例1と同様にして保護層、潤滑層及びバックコ
ート層を形成し、実施例1と同様の評価を行った。その
結果を表1に示す。
位置と注入イオン種を変えた)により厚さ1830Åの
Fe−N−C−O系磁性層を形成した。この磁性層の原
子比はFe:N:C:O=70:7:10:13(原子
%)であり、保磁力は1140(Oe)であった。また
この磁性層の磁化容易軸の角度は47°であった。その
後、実施例1と同様にして保護層、潤滑層及びバックコ
ート層を形成し、実施例1と同様の評価を行った。その
結果を表1に示す。
【0026】比較例2 実施例1と同様のイオンアシスト蒸着法(但し遮蔽板の
位置と注入イオン種を変えた)により厚さ1790Åの
Fe−N−C−O系磁性層を形成した。この磁性層の原
子比はFe:N:C:O=70:5:13:12(原子
%)であり、保磁力は1130(Oe)であった。また
この磁性層の磁化容易軸の角度は49°であった。その
後、実施例1と同様にして保護層、潤滑層及びバックコ
ート層を形成し、実施例1と同様の評価を行った。その
結果を表1に示す。
位置と注入イオン種を変えた)により厚さ1790Åの
Fe−N−C−O系磁性層を形成した。この磁性層の原
子比はFe:N:C:O=70:5:13:12(原子
%)であり、保磁力は1130(Oe)であった。また
この磁性層の磁化容易軸の角度は49°であった。その
後、実施例1と同様にして保護層、潤滑層及びバックコ
ート層を形成し、実施例1と同様の評価を行った。その
結果を表1に示す。
【0027】比較例3 実施例1と同様のイオンアシスト蒸着法(但し遮蔽板の
位置と注入イオン種を変えた)により厚さ1790Åの
Fe−C−O系磁性層を形成した。この磁性層の原子比
はFe:C:O=72:14:14(原子%)であり、
保磁力は1150(Oe)であった。またこの磁性層の
磁化容易軸の角度は51°であった。その後、実施例1
と同様にして保護層、潤滑層及びバックコート層を形成
し、実施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に
示す。
位置と注入イオン種を変えた)により厚さ1790Åの
Fe−C−O系磁性層を形成した。この磁性層の原子比
はFe:C:O=72:14:14(原子%)であり、
保磁力は1150(Oe)であった。またこの磁性層の
磁化容易軸の角度は51°であった。その後、実施例1
と同様にして保護層、潤滑層及びバックコート層を形成
し、実施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に
示す。
【0028】比較例4 実施例1と同様のイオンアシスト蒸着法(但し遮蔽板の
位置を変えた)を二回行って、Fe−N−O系の多層構
造の磁性層を形成した。その際、上下の磁性層とも原子
比はFe:N:O=73:13:14(原子%)とし、
それぞれの磁性層の厚さは890Åとした。この磁性層
全体の保磁力は1150(Oe)であった。またこの磁
性層全体の磁化容易軸の角度は46°(上層磁性層50
°、下層磁性層42°)であった。その後、実施例1と
同様にして保護層、潤滑層及びバックコート層を形成
し、実施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に
示す。
位置を変えた)を二回行って、Fe−N−O系の多層構
造の磁性層を形成した。その際、上下の磁性層とも原子
比はFe:N:O=73:13:14(原子%)とし、
それぞれの磁性層の厚さは890Åとした。この磁性層
全体の保磁力は1150(Oe)であった。またこの磁
性層全体の磁化容易軸の角度は46°(上層磁性層50
°、下層磁性層42°)であった。その後、実施例1と
同様にして保護層、潤滑層及びバックコート層を形成
し、実施例1と同様の評価を行った。その結果を表1に
示す。
【0029】比較例5 実施例1と同様のイオンアシスト蒸着法(但し遮蔽板の
位置と注入イオン種を変えた)を二回行って、Fe−N
−C−O系の多層構造の磁性層を形成した。その際、上
下の磁性層とも原子比はFe:N:C:O=71:1
1:5:13(原子%)とし、それぞれの磁性層の厚さ
は905Åとした。この磁性層全体の保磁力は1130
(Oe)であった。またこの磁性層全体の磁化容易軸の
角度は48°(上層磁性層52°、下層磁性層44°)
であった。その後、実施例1と同様にして保護層、潤滑
層及びバックコート層を形成し、実施例1と同様の評価
を行った。その結果を表1に示す。
位置と注入イオン種を変えた)を二回行って、Fe−N
−C−O系の多層構造の磁性層を形成した。その際、上
下の磁性層とも原子比はFe:N:C:O=71:1
1:5:13(原子%)とし、それぞれの磁性層の厚さ
は905Åとした。この磁性層全体の保磁力は1130
(Oe)であった。またこの磁性層全体の磁化容易軸の
角度は48°(上層磁性層52°、下層磁性層44°)
であった。その後、実施例1と同様にして保護層、潤滑
層及びバックコート層を形成し、実施例1と同様の評価
を行った。その結果を表1に示す。
【0030】
【表1】
【0031】
【発明の効果】本発明によれば、Fe系磁性層が形成さ
れた磁気記録媒体における最適記録電流の低減とオーバ
ーライト特性の向上の両方が可能となる。従って、本発
明の磁気記録媒体によれば同じ記録ヘッドを用いた場合
でも更なる高記録密度化と省電力化が達成できる。
れた磁気記録媒体における最適記録電流の低減とオーバ
ーライト特性の向上の両方が可能となる。従って、本発
明の磁気記録媒体によれば同じ記録ヘッドを用いた場合
でも更なる高記録密度化と省電力化が達成できる。
【図1】本発明の磁気記録媒体を製造するイオンアシス
ト蒸着装置の要部の一例を示す略図
ト蒸着装置の要部の一例を示す略図
1 キャンロール 2 ベースフィルム 3 イオンガン 4 遮蔽板 5 電子銃 6 ルツボ
フロントページの続き (72)発明者 水野谷 博英 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内 (72)発明者 遠藤 克巳 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式会 社研究所内
Claims (3)
- 【請求項1】 支持体と、該支持体上に形成された少な
くとも1層の磁性層を有する磁気記録媒体であって、前
記磁性層のうち、前記支持体から最も遠い磁性層が、鉄
を主成分として含有し、且つ窒素、炭素及び酸素から選
ばれる少なくとも2種をそれぞれ5%(原子比)以上含
有する磁性層であり、且つ全磁性層における磁化容易軸
と磁性層面がなす角の角度が20〜45°の範囲にある
ことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 磁性層が多層構造であり、支持体に近い
磁性層ほど磁化容易軸と磁性層面がなす角の角度が小さ
い請求項1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】 磁化容易軸と磁性層面がなす角の角度が
20〜35°の範囲にある請求項1又は2記載の磁気記
録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23640896A JPH1083918A (ja) | 1996-09-06 | 1996-09-06 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23640896A JPH1083918A (ja) | 1996-09-06 | 1996-09-06 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1083918A true JPH1083918A (ja) | 1998-03-31 |
Family
ID=17000320
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23640896A Pending JPH1083918A (ja) | 1996-09-06 | 1996-09-06 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1083918A (ja) |
-
1996
- 1996-09-06 JP JP23640896A patent/JPH1083918A/ja active Pending
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