JPH08306028A - 磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH08306028A JPH08306028A JP10719895A JP10719895A JPH08306028A JP H08306028 A JPH08306028 A JP H08306028A JP 10719895 A JP10719895 A JP 10719895A JP 10719895 A JP10719895 A JP 10719895A JP H08306028 A JPH08306028 A JP H08306028A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。 【構成】 複数の金属薄膜型の磁性膜が支持体上に積層
された磁気記録媒体であって、支持体に近い下層側にス
パッタ磁性膜が設けられ、前記スパッタ磁性膜上に蒸着
磁性膜が設けられてなる磁気記録媒体。
ることを目的とする。 【構成】 複数の金属薄膜型の磁性膜が支持体上に積層
された磁気記録媒体であって、支持体に近い下層側にス
パッタ磁性膜が設けられ、前記スパッタ磁性膜上に蒸着
磁性膜が設けられてなる磁気記録媒体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、複数の金属薄膜型の磁
性膜を有する磁気記録媒体に関する。
性膜を有する磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【発明の背景】磁気テープ等の磁気記録媒体において
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されている。すなわち、真空蒸着やスパッタ等のＰ
ＶＤ手段により磁性層を形成した磁気記録媒体が提案さ
れている。この種の磁気記録媒体は、磁性体の充填密度
が高いことから、高密度記録に適したものである。
は、高密度記録化の要請から、非磁性支持体上に設けら
れる磁性層として、バインダ樹脂を用いた塗布型のもの
ではなく、バインダ樹脂を用いない金属薄膜型のものが
提案されている。すなわち、真空蒸着やスパッタ等のＰ
ＶＤ手段により磁性層を形成した磁気記録媒体が提案さ
れている。この種の磁気記録媒体は、磁性体の充填密度
が高いことから、高密度記録に適したものである。
【０００３】このＰＶＤ手段のうち、蒸着法は、スパッ
タ法に比べると磁性膜の形成速度が速く、生産性が高
い。しかし、蒸着磁性膜とスパッタ磁性膜とを比べる
と、蒸着磁性膜は支持体に対する結着強度が低い。か
つ、飽和磁束密度などの磁気特性も低いことから、高密
度記録にはスパッタ法による磁性膜の方がより適してい
る。このように、これまでの金属薄膜型の磁性膜は、成
膜速度（生産性）を犠牲にするか、磁気特性や電磁変換
特性を犠牲にするかの二者択一型であり、双方を満足す
ることが求められた。
タ法に比べると磁性膜の形成速度が速く、生産性が高
い。しかし、蒸着磁性膜とスパッタ磁性膜とを比べる
と、蒸着磁性膜は支持体に対する結着強度が低い。か
つ、飽和磁束密度などの磁気特性も低いことから、高密
度記録にはスパッタ法による磁性膜の方がより適してい
る。このように、これまでの金属薄膜型の磁性膜は、成
膜速度（生産性）を犠牲にするか、磁気特性や電磁変換
特性を犠牲にするかの二者択一型であり、双方を満足す
ることが求められた。
【０００４】
【発明の開示】上記の要望に沿っての検討が鋭意行われ
た結果、磁性膜を複数種の磁性膜で構成し、その中の少
なくとも一層、特に下層にある少なくとも一層をスパッ
タ磁性膜とし、このスパッタ磁性膜の上に蒸着磁性膜を
形成するようにすれば、スパッタ磁性膜が蒸着磁性膜の
下地膜として作用し、蒸着磁性膜の磁気特性や電磁変換
特性が向上するのではないかと考えた。
た結果、磁性膜を複数種の磁性膜で構成し、その中の少
なくとも一層、特に下層にある少なくとも一層をスパッ
タ磁性膜とし、このスパッタ磁性膜の上に蒸着磁性膜を
形成するようにすれば、スパッタ磁性膜が蒸着磁性膜の
下地膜として作用し、蒸着磁性膜の磁気特性や電磁変換
特性が向上するのではないかと考えた。
【０００５】そして、この技術思想を実施してみた処、
これまでの蒸着磁性膜よりも電磁変換特性が向上してい
た。これらの知見を基にして本発明がなされたものであ
り、電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を提供すること
を目的とする。この本発明の目的は、複数の金属薄膜型
の磁性膜が支持体上に積層された磁気記録媒体であっ
て、支持体に近い下層側にスパッタ磁性膜が設けられ、
前記スパッタ磁性膜上に蒸着磁性膜が設けられてなるこ
とを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
これまでの蒸着磁性膜よりも電磁変換特性が向上してい
た。これらの知見を基にして本発明がなされたものであ
り、電磁変換特性に優れた磁気記録媒体を提供すること
を目的とする。この本発明の目的は、複数の金属薄膜型
の磁性膜が支持体上に積層された磁気記録媒体であっ
て、支持体に近い下層側にスパッタ磁性膜が設けられ、
前記スパッタ磁性膜上に蒸着磁性膜が設けられてなるこ
とを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
【０００６】又、複数の金属薄膜型の磁性膜が支持体上
に積層された磁気記録媒体の製造方法であって、支持体
上にスパッタ手段で磁性膜を設けるスパッタ工程と、前
記スパッタ工程の後、蒸着手段で磁性膜を設ける蒸着工
程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法によって達成される。本発明において、スパッタ磁性
膜を設ける目的は、その上に設けられる蒸着磁性膜の下
地膜としての機能を発揮させる為であるから、スパッタ
磁性膜を厚く形成する必要はない。すなわち、３００Å
厚さもあれば充分である。逆に、厚く形成するには、時
間が掛かり、生産性が低下する。尚、２００Å程度でも
良い。又、興味ある点は、スパッタ磁性膜が厚すぎない
方が、電磁変換特性が良いことであった。スパッタ磁性
膜の厚さの下限値は下地膜としての機能を発揮すること
が出来れば良く、一概に決定し難いが、一般的には１０
０Å程度である。好ましくは１５０Å以上である。
に積層された磁気記録媒体の製造方法であって、支持体
上にスパッタ手段で磁性膜を設けるスパッタ工程と、前
記スパッタ工程の後、蒸着手段で磁性膜を設ける蒸着工
程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法によって達成される。本発明において、スパッタ磁性
膜を設ける目的は、その上に設けられる蒸着磁性膜の下
地膜としての機能を発揮させる為であるから、スパッタ
磁性膜を厚く形成する必要はない。すなわち、３００Å
厚さもあれば充分である。逆に、厚く形成するには、時
間が掛かり、生産性が低下する。尚、２００Å程度でも
良い。又、興味ある点は、スパッタ磁性膜が厚すぎない
方が、電磁変換特性が良いことであった。スパッタ磁性
膜の厚さの下限値は下地膜としての機能を発揮すること
が出来れば良く、一概に決定し難いが、一般的には１０
０Å程度である。好ましくは１５０Å以上である。
【０００７】スパッタ磁性膜上に設ける蒸着磁性膜の厚
さは、磁性膜の厚さの総和が８００〜５０００Å程度で
あれば良い。好ましくは１０００〜３０００Å程度であ
る。蒸着磁性膜は一層であっても、二層以上であっても
良い。磁性膜を形成する磁性粒子の材料として、例えば
Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃ
ｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合
金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合
金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの等
が用いられる。又、Ｆｅ−Ｎ合金、Ｆｅ−Ｎ−Ｏ合金、
Ｆｅ−Ｃ合金、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ合金なども用いられる。ス
パッタ磁性膜を形成する材料と蒸着磁性膜を形成する材
料とは同一であっても、異なっていても良い。但し、ス
パッタ磁性膜を下地膜として利用することから、結晶構
造が同一あるいは類似のものであることが好ましい。こ
の意味からすれば、同一材料を用いるのが好ましい。
さは、磁性膜の厚さの総和が８００〜５０００Å程度で
あれば良い。好ましくは１０００〜３０００Å程度であ
る。蒸着磁性膜は一層であっても、二層以上であっても
良い。磁性膜を形成する磁性粒子の材料として、例えば
Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ等の金属の他に、Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｃ
ｏ−Ｐｔ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合
金、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃ
ｏ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合
金、あるいはこれらにＡｌ等の金属を含有させたもの等
が用いられる。又、Ｆｅ−Ｎ合金、Ｆｅ−Ｎ−Ｏ合金、
Ｆｅ−Ｃ合金、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ合金なども用いられる。ス
パッタ磁性膜を形成する材料と蒸着磁性膜を形成する材
料とは同一であっても、異なっていても良い。但し、ス
パッタ磁性膜を下地膜として利用することから、結晶構
造が同一あるいは類似のものであることが好ましい。こ
の意味からすれば、同一材料を用いるのが好ましい。
【０００８】スパッタ磁性膜の形成に際して、磁性膜の
表層部分に酸化膜を形成する必要はない。これに対し
て、蒸着磁性膜の表層部分は酸化されるようにしておく
ことが好ましい。すなわち、蒸着磁性膜の磁気特性の向
上、及び磁性膜の保護などの観点から、蒸着手段で磁性
膜を形成する時、酸化性ガスを供給し、酸化が行われる
ようにする。
表層部分に酸化膜を形成する必要はない。これに対し
て、蒸着磁性膜の表層部分は酸化されるようにしておく
ことが好ましい。すなわち、蒸着磁性膜の磁気特性の向
上、及び磁性膜の保護などの観点から、蒸着手段で磁性
膜を形成する時、酸化性ガスを供給し、酸化が行われる
ようにする。
【０００９】蒸着は斜め蒸着を採用するのが好ましい。
これによって、蒸着磁性膜は傾斜したコラム構造を有す
るものとなる。磁気記録媒体に用いる支持体は、磁性あ
るいは非磁性いずれのものでも良いが、一般的には非磁
性のものである。このような支持体はＰＥＴ等のポリエ
ステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポ
リカーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹
脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった
有機材料、ガラス等のセラミックス、その他にもアルミ
ニウム合金などの金属材料が用いられる。尚、支持体の
表面には、金属磁性膜の密着性を向上させる為のアンダ
ーコート層が適宜設けられる。
これによって、蒸着磁性膜は傾斜したコラム構造を有す
るものとなる。磁気記録媒体に用いる支持体は、磁性あ
るいは非磁性いずれのものでも良いが、一般的には非磁
性のものである。このような支持体はＰＥＴ等のポリエ
ステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポ
リカーボネート、ポリプロピレン等のオレフィン系の樹
脂、セルロース系の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった
有機材料、ガラス等のセラミックス、その他にもアルミ
ニウム合金などの金属材料が用いられる。尚、支持体の
表面には、金属磁性膜の密着性を向上させる為のアンダ
ーコート層が適宜設けられる。
【００１０】そして、支持体の一面側に、先ず、スパッ
タ法により第１の金属磁性膜（下層スパッタ磁性膜）を
設ける。この後、斜め蒸着法により、下層スパッタ磁性
膜上に第２の金属磁性膜（上層斜め蒸着磁性膜）を設け
る。この後、必要に応じて、ダイヤモンドライクカーボ
ン、炭化ホウ素、窒化珪素などからなる５０〜２００Å
厚さの保護膜を設ける。更に、必要に応じて、パーフル
オロポリエーテル等のフッ素系の潤滑剤を２０〜１００
Å厚さ設ける。
タ法により第１の金属磁性膜（下層スパッタ磁性膜）を
設ける。この後、斜め蒸着法により、下層スパッタ磁性
膜上に第２の金属磁性膜（上層斜め蒸着磁性膜）を設け
る。この後、必要に応じて、ダイヤモンドライクカーボ
ン、炭化ホウ素、窒化珪素などからなる５０〜２００Å
厚さの保護膜を設ける。更に、必要に応じて、パーフル
オロポリエーテル等のフッ素系の潤滑剤を２０〜１００
Å厚さ設ける。
【００１１】又、磁性膜が設けられた側とは反対側の支
持体の他面側に、所謂バックコート膜を設ける。以下、
具体的な実施例を挙げて本発明を説明する。
持体の他面側に、所謂バックコート膜を設ける。以下、
具体的な実施例を挙げて本発明を説明する。
【００１２】
〔実施例１〕図１は、本発明になる磁気記録媒体の実施
例の概略図である。本実施例の磁気テープ（８ｍｍＶＴ
Ｒ用磁気テープ）はスパッタ装置と斜め蒸着装置とを用
いることによって得られる。これらの装置は一体型、分
離型いずれのものでも良い。
例の概略図である。本実施例の磁気テープ（８ｍｍＶＴ
Ｒ用磁気テープ）はスパッタ装置と斜め蒸着装置とを用
いることによって得られる。これらの装置は一体型、分
離型いずれのものでも良い。
【００１３】先ず、支持体１をマグネトロンスパッタ装
置の供給側ロールと巻取側ロールとの間に掛け渡し、走
行させる。そして、Ｃｏ磁性金属からなるターゲットを
用い、真空槽内を１０-6〜１０-7Ｔｏｒｒ程度の真空度
に排気した後、マグネトロンスパッタを行わせ、支持体
１上に１５０Å厚さのスパッタＣｏ磁性膜２を設けた。
置の供給側ロールと巻取側ロールとの間に掛け渡し、走
行させる。そして、Ｃｏ磁性金属からなるターゲットを
用い、真空槽内を１０-6〜１０-7Ｔｏｒｒ程度の真空度
に排気した後、マグネトロンスパッタを行わせ、支持体
１上に１５０Å厚さのスパッタＣｏ磁性膜２を設けた。
【００１４】この後、スパッタＣｏ磁性膜２が形成され
た支持体１が巻回されている巻取側ロールを斜め蒸着装
置の供給側にセットし、冷却キャンロールに沿って走行
させる。真空槽内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空
度に排気した後、電子銃からの電子ビーム加熱によりル
ツボ内のＣｏ磁性金属を溶融、蒸発させ、スパッタＣｏ
磁性膜２上に厚さが１８００Å、保磁力が１６００Ｏｅ
の斜め蒸着Ｃｏ磁性膜３を形成した。尚、斜め蒸着Ｃｏ
磁性膜３の成膜時には酸素を供給し、斜め蒸着Ｃｏ磁性
膜３の表層を酸化させ、磁気特性の向上を図った。
た支持体１が巻回されている巻取側ロールを斜め蒸着装
置の供給側にセットし、冷却キャンロールに沿って走行
させる。真空槽内を１０-4〜１０-6Ｔｏｒｒ程度の真空
度に排気した後、電子銃からの電子ビーム加熱によりル
ツボ内のＣｏ磁性金属を溶融、蒸発させ、スパッタＣｏ
磁性膜２上に厚さが１８００Å、保磁力が１６００Ｏｅ
の斜め蒸着Ｃｏ磁性膜３を形成した。尚、斜め蒸着Ｃｏ
磁性膜３の成膜時には酸素を供給し、斜め蒸着Ｃｏ磁性
膜３の表層を酸化させ、磁気特性の向上を図った。
【００１５】そして、斜め蒸着Ｃｏ磁性膜３上にダイヤ
モンドライクカーボン膜４を１００Å厚さ設けた。又、
支持体１の他面側にバックコート膜を設け、そして表面
にパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤の膜を付けた。 〔実施例２〕実施例１において、スパッタＣｏ磁性膜２
の厚さを２５０Åにした他は実施例１に準じて、磁気テ
ープを得た。
モンドライクカーボン膜４を１００Å厚さ設けた。又、
支持体１の他面側にバックコート膜を設け、そして表面
にパーフルオロポリエーテル系の潤滑剤の膜を付けた。 〔実施例２〕実施例１において、スパッタＣｏ磁性膜２
の厚さを２５０Åにした他は実施例１に準じて、磁気テ
ープを得た。
【００１６】〔実施例３〕実施例１において、スパッタ
Ｃｏ磁性膜２の厚さを１００Åにした他は実施例１に準
じて、磁気テープを得た。 〔実施例４〕実施例１において、斜め蒸着Ｃｏ磁性膜３
を二層構成にした他は実施例１に準じて、磁気テープを
得た。
Ｃｏ磁性膜２の厚さを１００Åにした他は実施例１に準
じて、磁気テープを得た。 〔実施例４〕実施例１において、斜め蒸着Ｃｏ磁性膜３
を二層構成にした他は実施例１に準じて、磁気テープを
得た。
【００１７】尚、この二層構成の斜め蒸着Ｃｏ磁性膜
は、厚さが１３００Å、保磁力が１５７０Ｏｅでスパッ
タＣｏ磁性膜に接している下層斜め蒸着Ｃｏ磁性膜と、
厚さが５００Å、保磁力が１６５０Ｏｅの上層斜め蒸着
Ｃｏ磁性膜とで構成したものである。 〔実施例５〕実施例１において、斜め蒸着Ｃｏ磁性膜３
を二層構成にした他は実施例１に準じて、磁気テープを
得た。
は、厚さが１３００Å、保磁力が１５７０Ｏｅでスパッ
タＣｏ磁性膜に接している下層斜め蒸着Ｃｏ磁性膜と、
厚さが５００Å、保磁力が１６５０Ｏｅの上層斜め蒸着
Ｃｏ磁性膜とで構成したものである。 〔実施例５〕実施例１において、斜め蒸着Ｃｏ磁性膜３
を二層構成にした他は実施例１に準じて、磁気テープを
得た。
【００１８】尚、この二層構成の斜め蒸着Ｃｏ磁性膜
は、厚さが１５００Å、保磁力が１５４０Ｏｅでスパッ
タＣｏ磁性膜に接している下層斜め蒸着Ｃｏ磁性膜と、
厚さが５００Å、保磁力が１５９０Ｏｅの上層斜め蒸着
Ｃｏ磁性膜とで構成したものである。 〔比較例１〕実施例１において、マグネトロンスパッタ
装置を用いず、斜め蒸着装置のみを用い、実施例１に準
じて磁気テープを得た。
は、厚さが１５００Å、保磁力が１５４０Ｏｅでスパッ
タＣｏ磁性膜に接している下層斜め蒸着Ｃｏ磁性膜と、
厚さが５００Å、保磁力が１５９０Ｏｅの上層斜め蒸着
Ｃｏ磁性膜とで構成したものである。 〔比較例１〕実施例１において、マグネトロンスパッタ
装置を用いず、斜め蒸着装置のみを用い、実施例１に準
じて磁気テープを得た。
【００１９】すなわち、磁性膜としては、スパッタＣｏ
磁性膜２がなく、斜め蒸着Ｃｏ磁性膜３が形成されてい
るのみである。尚、この斜め蒸着Ｃｏ磁性膜３の厚さ
は、実施例１におけるスパッタＣｏ磁性膜２の厚さと斜
め蒸着Ｃｏ磁性膜３の厚さとの和である１９５０Åにし
た。 〔比較例２〕実施例１において、斜め蒸着装置を用い
ず、マグネトロンスパッタ装置のみを用い、実施例１に
準じて磁気テープを得た。
磁性膜２がなく、斜め蒸着Ｃｏ磁性膜３が形成されてい
るのみである。尚、この斜め蒸着Ｃｏ磁性膜３の厚さ
は、実施例１におけるスパッタＣｏ磁性膜２の厚さと斜
め蒸着Ｃｏ磁性膜３の厚さとの和である１９５０Åにし
た。 〔比較例２〕実施例１において、斜め蒸着装置を用い
ず、マグネトロンスパッタ装置のみを用い、実施例１に
準じて磁気テープを得た。
【００２０】すなわち、磁性膜としては、斜め蒸着Ｃｏ
磁性膜３がなく、スパッタＣｏ磁性膜２が形成されてい
るのみである。尚、このスパッタＣｏ磁性膜２の厚さ
は、実施例１におけるスパッタＣｏ磁性膜２の厚さと斜
め蒸着Ｃｏ磁性膜３の厚さとの和である１９５０Åにし
た。 〔特性〕上記各例で得た磁気テープにおいて、３ＭＨｚ
及び１０ＭＨｚでの再生出力及びＣ／Ｎをドラムテスタ
ー法により調べたので、その結果を表−１に示す。又、
計１９５０Å厚さの磁性膜を形成するに要した時間も併
せて示す。
磁性膜３がなく、スパッタＣｏ磁性膜２が形成されてい
るのみである。尚、このスパッタＣｏ磁性膜２の厚さ
は、実施例１におけるスパッタＣｏ磁性膜２の厚さと斜
め蒸着Ｃｏ磁性膜３の厚さとの和である１９５０Åにし
た。 〔特性〕上記各例で得た磁気テープにおいて、３ＭＨｚ
及び１０ＭＨｚでの再生出力及びＣ／Ｎをドラムテスタ
ー法により調べたので、その結果を表−１に示す。又、
計１９５０Å厚さの磁性膜を形成するに要した時間も併
せて示す。
【００２１】 表−１ 出力（ｄＢ） Ｃ／Ｎ（ｄＢ） 成膜時間 ３ＭＨｚ １０ＭＨｚ ３ＭＨｚ １０ＭＨｚ 実施例１ ＋２．３ ＋２．５ ＋２．７ ＋３．０ １．９ 実施例２ ＋２．６ ＋２．９ ＋３．１ ＋３．４ ３．０ 実施例３ ＋２．１ ＋２．２ ＋２．４ ＋２．６ １．３ 実施例４ ＋３．０ ＋３．４ ＋３．４ ＋３．８ １．９ 実施例５ ＋２．９ ＋３．１ ＋３．２ ＋３．６ ２．０ 比較例１ ０ ０ ０ ０ １ 比較例２ ＋３．１ ＋３．６ ＋３．５ ＋３．９ １２ ＊比較例１を基準にして相対値で表示 これから判る通り、本発明のものは、高密度記録に適し
たものであり、かつ、再生出力も高い。
たものであり、かつ、再生出力も高い。
【００２２】かつ、成膜に要する時間も短くて済み、生
産性よく製造できる。
産性よく製造できる。
【００２３】
【効果】再生出力が高く、高密度記録に適した磁気記録
媒体を生産性よく得られる。
媒体を生産性よく得られる。
【図１】本発明の磁気記録媒体の概略図
１ 支持体 ２ スパッタＣｏ磁性膜 ３ 斜め蒸着Ｃｏ磁性膜 ４ ダイヤモンドライクカーボン膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 複数の金属薄膜型の磁性膜が支持体上に
積層された磁気記録媒体であって、 支持体に近い下層側にスパッタ磁性膜が設けられ、 前記スパッタ磁性膜上に蒸着磁性膜が設けられてなるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 スパッタ磁性膜は１００〜３００Å厚さ
であり、スパッタ磁性膜上に設けられた蒸着磁性膜は１
０００〜３０００Å厚さであることを特徴とする請求項
１の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 蒸着磁性膜は、そのコラム構造が傾斜し
た斜め蒸着磁性膜であることを特徴とする請求項１又は
請求項２の磁気記録媒体。 - 【請求項４】 複数の金属薄膜型の磁性膜が支持体上に
積層された磁気記録媒体の製造方法であって、 支持体上にスパッタ手段で磁性膜を設けるスパッタ工程
と、 前記スパッタ工程の後、蒸着手段で磁性膜を設ける蒸着
工程とを具備することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10719895A JPH08306028A (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10719895A JPH08306028A (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08306028A true JPH08306028A (ja) | 1996-11-22 |
Family
ID=14452976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10719895A Pending JPH08306028A (ja) | 1995-05-01 | 1995-05-01 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08306028A (ja) |
-
1995
- 1995-05-01 JP JP10719895A patent/JPH08306028A/ja active Pending
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