JPH1079568A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents

プリント配線板の製造方法

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JPH1079568A
JPH1079568A JP23518496A JP23518496A JPH1079568A JP H1079568 A JPH1079568 A JP H1079568A JP 23518496 A JP23518496 A JP 23518496A JP 23518496 A JP23518496 A JP 23518496A JP H1079568 A JPH1079568 A JP H1079568A
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JP
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plating layer
gold plating
connection plug
wiring board
printed wiring
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JP23518496A
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Yasumichi Miyazaki
康通 宮崎
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】耐食性、耐摩耗性等に優れた接続栓を有してい
るとともに、化学的および物理的に安定した構造のプリ
ント配線板を経済的に製造可能なプリント配線板の製造
方法を提供することにある。 【解決手段】 絶縁基板上に形成された導体パターン1
2上に、電解メッキによりニッケルメッキ層24を形成
し、ニッケルメッキ層上に、無電解メッキにより金メッ
キ層26を形成する。導体パターンの内、接続栓18の
部分において、金メッキ層26上に、電解メッキにより
金メッキを施すことにより、他の部分の金メッキ層より
も厚い金メッキ層28を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はプリント配線板の
製造方法に関し、特に、側縁部に露出して設けられた接
続栓を有するプリント配線板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、プリント配線板は、エポキシ樹
脂等により形成された絶縁基板と、絶縁基板上に形成さ
れた銅からなる導体パターンと、を備えている。導体パ
ターンは、電子部品が実装される実装部としての複数の
パッドを含んで形成されている。
【0003】また、近年、プリント配線板を他の電子部
品に設けられたコネクタ等に直接接続できるように、プ
リント配線板の縁部に接続栓を備えたものが提供されて
いる。この接続栓は、導体パターンの一部をプリント配
線板の縁部にリード端子として露出させることにより構
成されている。
【0004】一方、近年、実装部や接続栓の耐食性、耐
摩耗性、熱伝導性等を向上させるため、導体パターンを
構成する銅上に、メッキ処理を施したプリント配線板が
多く提供されている。特に、接続栓は、外部に露出して
いるとともに、コネクタに対する脱着操作時に大きな摩
擦力を受けるため、接続栓部のメッキ層は充分に耐食
性、耐摩耗性を有していることが必要となる。
【0005】そこで、従来においては、プリント配線板
の銅箔全面に無電解メッキを施した後、接続栓部分につ
いては更に電解メッキを施している。例えば、銅箔全面
に、無電解メッキによってニッケルメッキ層および金メ
ッキ層を積層形成した後、接続栓部分に、電解メッキに
よってニッケルメッキ層および金メッキ層を積層形成し
ている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなメッキの施されたプリント配線板において、接続
栓部は、銅箔、無電解ニッケルメッキ層、金メッキ層、
電解ニッケルメッキ層、金メッキ層を積層した多層構造
(5層)になってしまうため、化学的および物理的に安
定しない。また、接続栓部において、下地層となる無電
解メッキ部分は本来不要であり、その分、メッキ材料が
無駄となり経済性に劣る。
【0007】この発明は以上の点に鑑みなされたもの
で、その目的は、化学的および物理的に安定したメッキ
層を有するプリント配線板を経済的に製造できるプリン
ト配線板の製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に係るこの発明のプリント配線板の製造方
法は、絶縁基板上に設けられた実装部と、絶縁基板の縁
部に設けられた接続栓と、を有する導体パターンを備え
たプリント配線板の製造方法において、絶縁基板上に形
成された上記導体パターンの少なくとも上記実装部およ
び接続栓上に、電解メッキによりニッケルメッキ層を形
成し、上記ニッケルメッキ層の全面に、無電解メッキに
より金メッキ層を形成し、上記接続栓の部分における上
記金メッキ層上に、電解メッキによって金メッキを施
し、上記金メッキ層の層厚を増加させることを特徴とし
ている。
【0009】請求項2に係るこの発明のプリント配線板
の製造方法は、絶縁基板上に形成された上記導体パター
ンの少なくとも上記実装部および接続栓上に、電解メッ
キによりニッケルメッキ層を形成し、上記接続栓の部分
における上記ニッケルメッキ層上に、電解メッキにより
金メッキ層を形成し、上記金メッキ層および上記ニッケ
ルメッキ層の全面に、無電解メッキにより金メッキを施
し、上記ニッケルメッキ層上に金メッキ層を形成すると
ともに、上記接続栓部分の金メッキ層の層厚を増加させ
ることを特徴としている。
【0010】請求項3に係るこの発明のプリント配線板
の製造方法は、絶縁基板上に形成された上記導体パター
ンの少なくとも上記実装部および接続栓上に、無電解メ
ッキによりニッケルメッキ層を形成し、上記ニッケルメ
ッキ層の全面に、無電解メッキにより金メッキ層を形成
し、上記接続栓の部分における上記金メッキ層上に、電
解メッキによって金メッキを施し、上記金メッキ層の層
厚を増加させることを特徴としている。
【0011】請求項4に係るこの発明のプリント配線板
の製造方法は、絶縁基板上に形成された上記導体パター
ンの少なくとも上記実装部および接続栓上に、無電解メ
ッキによりニッケルメッキ層を形成し、上記接続栓の部
分における上記ニッケルメッキ層上に、電解メッキによ
り金メッキ層を形成し、上記金メッキ層および上記ニッ
ケルメッキ層の全面に、無電解メッキにより金メッキを
施し、上記ニッケルメッキ層上に金メッキ層を形成する
とともに、上記接続栓部分の金メッキ層の層厚を増加さ
せることを特徴としている。
【0012】上記製造方法によれば、導体パターンの接
続栓部および他の部分は、いずれも、銅、ニッケルメッ
キ層、金メッキ層を有する3層構造となり、従来の5層
構造に比較して化学的、物理的な安定性が向上する。ま
た、接続栓部分においては、金メッキ層の膜厚を他の部
分に比較して充分に厚く形成することができ、耐食性、
耐摩耗性等が向上する。
【0013】
【発明の実施の形態】以下図面を参照しながら、この発
明の実施の形態について詳細に説明する。図1および図
2は、この発明に係る製造方法によって製造されるプリ
ント配線板の一例を示している。このプリント配線板1
1は、エポキシ樹脂等によって形成された矩形状の絶縁
基板10を備え、絶縁基板の表面には、導体パターン1
2が形成されている。
【0014】導体パターン12は多数のパッド14を有
し、これらのパッドは電子部品が実装される多数の実装
部16を形成している。また、導体パターン12は、絶
縁基板10の一側縁に露出して平行に配列された多数の
リード端子18を有している。そして、これらのリード
端子18は、プリント配線板11を他のプリント配線板
上に設けられたコネクタ等に直接接続するための接続栓
20を構成している。
【0015】パッド14およびリード端子18を除く導
体パターン12の表面および絶縁基板10の表面は、ソ
ルダレジスト層22によって被覆されている。一方、導
体パターン12のパッド14表面およびリード端子18
表面には、耐食性、耐摩耗性等を向上させるため、それ
ぞれメッキ処理が施されている。すなわち、各パッド1
4の表面上には、ニッケルメッキ層24および金メッキ
層26が積層形成され、各リード端子18表面には、ニ
ッケルメッキ層24および金メッキ層28が積層形成さ
れている。従って、各パッド14およびリード端子18
は、銅、ニッケル、金の3層の金属層を積層して形成さ
れている。
【0016】次に、上記構成を有するプリント配線板1
1の製造方法について説明する。図3(a)に示すよう
に、まず、絶縁基板10の表面全体に銅箔30を貼付し
更に銅メッキを施した後、図3(b)に示すように、銅
メッキされた銅箔30をエッチングによりパターニング
し、パッド14およびリード端子18を有する導体パタ
ーン12を形成する。その後、パッド14およびリード
端子18を除く導体パターン12の表面および絶縁基板
10の表面に、ソルダレジスト層22を印刷する。
【0017】続いて、図3(c)に示すように、各パッ
ド14およびリード端子18の表面上に、電解メッキに
よりニッケルメッキ層24を5μm厚で形成した後、図
3(d)に示すように、ニッケルメッキ層24上に、無
電解メッキにより金メッキ層26を約0.05μm厚で
形成する。金メッキ層26は、0.01〜0.08μm
の範囲で形成される。
【0018】次に、図3(e)に示すように、接続栓2
0を構成するリード端子18部分を除いた他の部分にマ
スクを掛け、電解メッキにより、リード端子18上の金
メッキ層26上に更に金メッキを施す。それにより、各
リード端子18上の金メッキ層26はその層厚が増加
し、最終的に約2.5μm厚の金メッキ層28が形成さ
れる。
【0019】なお、この場合、リード端子18は基板の
端部に設けられているため、マスクを用いる代わりに、
リード端子18部分のみをメッキ液に漬けて部分的にメ
ッキ処理するようにしてもよい。
【0020】以上の工程により、導体パターン12の
内、各パッド14の部分は、3層の金属層、つまり、銅
箔30、ニッケルメッキ層24、および金メッキ層26
を積層した3層構造となる。同様に、各リード端子18
の部分は、銅箔30、ニッケルメッキ層24、および金
メッキ層28を積層した3層構造となる。ここで、金メ
ッキ層28の形成には、電解金メッキ工程が含まれてい
るため、パッド14側の金メッキ層26に比較して充分
厚く形成されている。
【0021】以上のように構成されたプリント配線板の
製造方法によれば、導体パターン12のパッド14部分
および接続栓20部分のいずれも、3層の金属層からな
る積層構造とすることができ、化学的および物理的に安
定した構造を得ることができる。また、従来のような、
不要な下地層を形成する必要がなく、材料を削減しプリ
ント配線板の製造コストを低減することが可能となる。
【0022】更に、接続栓20の部分は、パッド14側
と同様に3層構造であるにも拘らず、金メッキ層28を
パッド14側の金メッキ層26に比較して充分に厚く形
成することができ、耐食性、耐摩耗性等に優れた接続栓
20を構成することができる。
【0023】図4は、この発明の第2の実施の形態に係
るプリント配線板の製造方法を示している。第2の実施
の形態は、製造されるプリント配線板の構造は、上述し
た第1の実施の形態とほぼ同一であるが、メッキ処理の
方法が相違している。
【0024】すなわち、第2の実施の形態によれば、上
記第1の実施の形態と同様に、まず、絶縁基板10上の
銅箔30をパターンニングして導体パターン12を形成
する。続いて、パッド14およびリード端子18を除く
導体パターン12の表面および絶縁基板10の表面に、
ソルダレジスト層22を印刷する。
【0025】続いて、各パッド14およびリード端子1
8の表面上に、電解メッキによりニッケルメッキ層24
を約5μm厚で形成する。次に、接続栓20を構成する
リード端子18部分を除いた他の部分にマスクを掛け、
電解メッキにより、リード端子18上のニッケルメッキ
層24上に金メッキ層26aを2.5μm厚で形成す
る。
【0026】更に、マスクを除去し全面無電解メッキが
可能な状態とした後、パッド14上のニッケルメッキ層
24、およびリード端子18上の金メッキ層26a上
に、無電解メッキにより金メッキを施す。それにより、
各パッド14上には、ニッケルメッキ層32に重ねて約
0.05μm厚の金メッキ層26が形成される。また、
各リード端子18上の金メッキ層26は、最終的に約
2.5μm厚の金メッキ層28となる。
【0027】以上の工程により、導体パターン12の
内、各パッド14およびリード端子18の部分は、いず
れも、銅箔30、ニッケルメッキ層24、および金メッ
キ層26、28を積層した3層構造となる。ここで、各
リード端子18の金メッキ層28の形成には、電解金メ
ッキ工程が含まれているため、金メッキ層28はパッド
14側の金メッキ層26に比較して充分厚く形成され
る。
【0028】図5は、この発明の第3の実施の形態に係
るプリント配線板の製造方法を示している。第3の実施
の形態は、製造されるプリント配線板の構造は、上述し
た第1の実施の形態とほぼ同一であるが、メッキ処理の
方法が相違している。
【0029】すなわち、第3の実施の形態によれば、ま
ず、絶縁基板10上の銅箔30をパターンニングして導
体パターン12を形成し、パッド14およびリード端子
18を除く導体パターン12の表面および絶縁基板10
の表面に、ソルダレジスト層22を印刷する。
【0030】続いて、各パッド14およびリード端子1
8の表面上に、無電解メッキによりニッケルメッキ層2
4を約5μm厚で形成し、更に、ニッケルメッキ層24
上に、無電解メッキにより金メッキ層26を約0.05
μm厚で形成する。
【0031】次に、接続栓20を構成するリード端子1
8部分を除いた他の部分にマスクを掛け、電解メッキに
より、リード端子18上の金メッキ層26上に更に金メ
ッキを施す。それにより、各リード端子18上の金メッ
キ層26はその層厚が増加し、最終的に約2.5μm厚
の金メッキ層28が形成される。
【0032】以上の工程により、導体パターン12の
内、各パッド14の部分は、3層の金属層、つまり、銅
箔30、ニッケルメッキ層24、および金メッキ層26
を積層した3層構造となる。同様に、各リード端子18
の部分は、銅箔30、ニッケルメッキ層24、および金
メッキ層28を積層した3層構造となる。ここで、金メ
ッキ層28の形成には、電解金メッキ工程が含まれてい
るため、金メッキ層28は、パッド14側の金メッキ層
26に比較して充分厚く形成されている。
【0033】図6は、この発明の第4の実施の形態に係
るプリント配線板の製造方法を示している。第4の実施
の形態は、製造されるプリント配線板の構造は、上述し
た第1の実施の形態とほぼ同一であるが、メッキ処理の
方法が相違している。
【0034】すなわち、第4の実施の形態によれば、ま
ず、絶縁基板10上の銅箔30をパターンニングして導
体パターン12を形成し、パッド14およびリード端子
18を除く導体パターン12の表面および絶縁基板10
の表面に、ソルダレジスト層22を印刷する。
【0035】続いて、各パッド14およびリード端子1
8の表面上に、無電解メッキによりニッケルメッキ層2
4を約5μm厚で形成する。次に、接続栓20を構成す
るリード端子18部分を除いた他の部分にマスクを掛
け、電解メッキにより、リード端子18上のニッケルメ
ッキ層24上に金メッキ層26aを約2.5μm厚で形
成する。
【0036】更に、全面無電解メッキが可能な状態とし
た後、パッド14上のニッケルメッキ層24、およびリ
ード端子18上の金メッキ層26a上に、無電解メッキ
により金メッキを施す。それにより、各パッド14上に
は、ニッケルメッキ層24に重ねて約0.05μm厚の
金メッキ層26が形成される。また、各リード端子18
上の金メッキ層26は、最終的に約2.5μm厚の金メ
ッキ層28となる。
【0037】以上の工程により、導体パターン12の
内、各パッド14およびリード端子18の部分は、いず
れも、銅箔30、ニッケルメッキ層24、および金メッ
キ層26、28を積層した3層構造となる。ここで、各
リード端子18の金メッキ層28の形成には、電解金メ
ッキ工程が含まれているため、金メッキ層28は、パッ
ド14側の金メッキ層26に比較して充分厚く形成され
る。
【0038】上述したような、第2ないし第4の実施の
形態に係る製造方法においても、3層構造のパッド部お
よび接続栓部を形成することができるとともに、接続栓
部における金メッキ層を充分に厚く形成することができ
る。従って、第1の実施の形態と同様に、耐食性、耐摩
耗性等に優れた接続栓を有し、かつ、化学的および物理
的に安定した構造のプリント配線板を安価に製造するこ
とができる。
【0039】また、この発明は上述した実施の形態に限
定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能で
ある。例えば、上述した第1ないし第4の実施の形態に
おいては、導体パターン12上にソルダレジスト層22
を印刷した後、パッド部およびリード端子部のみにメッ
キ処理を施す構成としたが、いずれの実施の形態におい
ても、導体パターン12全面にメッキ処理を施した後、
ソルダレジスト層を印刷するようにしてもよい。
【0040】例えば、図7に示すように、導体パターン
12の全面にニッケルメッキ層24を形成した後、ニッ
ケルメッキ層24の全面に金メッキ層26を形成し、更
に、リード端子18部分のみに、金メッキを施して金メ
ッキ層28を形成する。そして、最後に、メッキ処理さ
れた導体パターン12のパッド14およびリード端子1
8を除く他の部分にソルダレジスト層22を印刷するよ
うにしてもよい。このような構成においても、前述した
実施の形態と同様の作用効果を得ることができる。
【0041】
【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれ
ば、耐食性、耐摩耗性等に優れた接続栓を有していると
ともに、化学的および物理的に安定した構造のプリント
配線板を経済的に製造可能なプリント配線板の製造方法
を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】プリント配線板の一例を示す平面図。
【図2】上記プリント配線板の断面図。
【図3】この発明の第1の実施の形態に係るプリント配
線板の製造工程を概略的に示す図。
【図4】この発明の第2の実施の形態に係るプリント配
線板の製造工程を概略的に示す図。
【図5】この発明の第3の実施の形態に係るプリント配
線板の製造工程を概略的に示す図。
【図6】この発明の第4の実施の形態に係るプリント配
線板の製造工程を概略的に示す図。
【図7】この発明の更に他の実施の形態に係るプリント
配線板の製造工程を概略的に示す図。
【符号の説明】
10…絶縁基板 12…導体パターン 14…パッド 16…実装部 18…リード端子 20…接続栓 22…ソルダレジスト層 24…ニッケルメッキ層 26、26a、28…金メッキ層

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁基板上に設けられた実装部と、絶縁基
    板の縁部に設けられた接続栓と、を有する導体パターン
    を備えたプリント配線板の製造方法において、 絶縁基板上に形成された上記導体パターンの少なくとも
    上記実装部および接続栓上に、電解メッキによりニッケ
    ルメッキ層を形成し、 上記ニッケルメッキ層の全面に、無電解メッキにより金
    メッキ層を形成し、 上記接続栓の部分における上記金メッキ層上に、電解メ
    ッキによって金メッキを施し、上記金メッキ層の層厚を
    増加させることを特徴とするプリント配線板の製造方
    法。
  2. 【請求項2】絶縁基板上に設けられた実装部と、絶縁基
    板の縁部に設けられた接続栓と、を有する導体パターン
    を備えたプリント配線板の製造方法において、 絶縁基板上に形成された上記導体パターンの少なくとも
    上記実装部および接続栓上に、電解メッキによりニッケ
    ルメッキ層を形成し、 上記接続栓の部分における上記ニッケルメッキ層上に、
    電解メッキにより金メッキ層を形成し、 上記金メッキ層および上記ニッケルメッキ層の全面に、
    無電解メッキにより金メッキを施し、上記ニッケルメッ
    キ層上に金メッキ層を形成するとともに、上記接続栓部
    分の金メッキ層の層厚を増加させることを特徴とするプ
    リント配線板の製造方法。
  3. 【請求項3】絶縁基板上に設けられた実装部と、絶縁基
    板の縁部に設けられた接続栓と、を有する導体パターン
    を備えたプリント配線板の製造方法において、 絶縁基板上に形成された上記導体パターンの少なくとも
    上記実装部および接続栓上に、無電解メッキによりニッ
    ケルメッキ層を形成し、 上記ニッケルメッキ層の全面に、無電解メッキにより金
    メッキ層を形成し、 上記接続栓の部分における上記金メッキ層上に、電解メ
    ッキによって金メッキを施し、上記金メッキ層の層厚を
    増加させることを特徴とするプリント配線板の製造方
    法。
  4. 【請求項4】絶縁基板上に設けられた実装部と、絶縁基
    板の縁部に設けられた接続栓と、を有する導体パターン
    を備えたプリント配線板の製造方法において、 絶縁基板上に形成された上記導体パターンの少なくとも
    上記実装部および接続栓上に、無電解メッキによりニッ
    ケルメッキ層を形成し、 上記接続栓の部分における上記ニッケルメッキ層上に、
    電解メッキにより金メッキ層を形成し、 上記金メッキ層および上記ニッケルメッキ層の全面に、
    無電解メッキにより金メッキを施し、上記ニッケルメッ
    キ層上に金メッキ層を形成するとともに、上記接続栓部
    分の金メッキ層の層厚を増加させることを特徴とするプ
    リント配線板の製造方法。
  5. 【請求項5】上記実装部および接続栓部を除いて上記導
    体パターン上および上記絶縁基板上にソルダレジスト層
    を形成した後、上記実装部および接続栓部上に上記ニッ
    ケルメッキ層を形成することを特徴とする請求項1ない
    し4のいずれか1項に記載のプリント配線板の製造方
    法。
  6. 【請求項6】上記導体パターンの全面に上記ニッケルメ
    ッキ層を形成し、上記金メッキ層の層厚を増加させた
    後、上記実装部および接続栓部を除いて上記導体パター
    ン上および上記絶縁基板上にソルダレジスト層を形成す
    ることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に
    記載のプリント配線板の製造方法。
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