JPH1079335A - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
- Publication number
- JPH1079335A JPH1079335A JP23391296A JP23391296A JPH1079335A JP H1079335 A JPH1079335 A JP H1079335A JP 23391296 A JP23391296 A JP 23391296A JP 23391296 A JP23391296 A JP 23391296A JP H1079335 A JPH1079335 A JP H1079335A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- electron beam
- pattern
- batch
- aperture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体装置の多種多彩なパターンを一括図形
描画技術で露光する際、より多くの一括図形を搭載する
技術を提供する。 【解決手段】 露光範囲を決める開口部４がマスク３上
に複数種類あり、一括図形の大きさにより最適な開口部
を選択でき、マスク８上に多種サイズの一括図形を無駄
無く配置出来る。
描画技術で露光する際、より多くの一括図形を搭載する
技術を提供する。 【解決手段】 露光範囲を決める開口部４がマスク３上
に複数種類あり、一括図形の大きさにより最適な開口部
を選択でき、マスク８上に多種サイズの一括図形を無駄
無く配置出来る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術】牧発明は、電子線描画装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造は、より高速、高機能
を目指してますます微細化が進められている。この微細
化の方法として従来の投影露光装置や縮小投影露光装置
に代わり電子線描画装置が実用化された。しかし、電子
線描画装置はスループットが低いという課題が有りその
解決手段として所望の図形を矩形に分解して描画する代
わりに図形をマスク上に形成し、一括で描画する一括図
形描画が実用化されている。現在の一括図形描画装置で
は、その第二マスクを選択する機械的、電磁気的な選択
機構の物理的要因で第二マスク上には一括図形を限られ
た数しか搭載出来ない。ところが半導体装置は多種多様
な図形を有してる。このような半導体装置を一括図形描
画装置で露光する際には、出来るだけ多くの一括図形を
第二マスクに搭載する必要がある。ところが第一マスク
の開口部が一種類のサイズしか無い場合の開口部サイズ
は、次の第二マスクで用いられる一括図形の中で最大の
大きさを持つ図形のサイズとなり、必然的に第二マスク
上に形成される一括図形の配列ピッチは第二マスク上の
多様な一括図形の大きさに関係無く第一マスクの開口部
のサイズ以上が必要となり第二マスク上に無駄な部分が
生じる。
を目指してますます微細化が進められている。この微細
化の方法として従来の投影露光装置や縮小投影露光装置
に代わり電子線描画装置が実用化された。しかし、電子
線描画装置はスループットが低いという課題が有りその
解決手段として所望の図形を矩形に分解して描画する代
わりに図形をマスク上に形成し、一括で描画する一括図
形描画が実用化されている。現在の一括図形描画装置で
は、その第二マスクを選択する機械的、電磁気的な選択
機構の物理的要因で第二マスク上には一括図形を限られ
た数しか搭載出来ない。ところが半導体装置は多種多様
な図形を有してる。このような半導体装置を一括図形描
画装置で露光する際には、出来るだけ多くの一括図形を
第二マスクに搭載する必要がある。ところが第一マスク
の開口部が一種類のサイズしか無い場合の開口部サイズ
は、次の第二マスクで用いられる一括図形の中で最大の
大きさを持つ図形のサイズとなり、必然的に第二マスク
上に形成される一括図形の配列ピッチは第二マスク上の
多様な一括図形の大きさに関係無く第一マスクの開口部
のサイズ以上が必要となり第二マスク上に無駄な部分が
生じる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】半導体装置の多種多様
な図形に対応するため、一括図形を第二マスクに出来る
だけ多く無駄なく搭載する。
な図形に対応するため、一括図形を第二マスクに出来る
だけ多く無駄なく搭載する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、複数種類のサ
イズの開口部を持つ第一マスクの中から第二マスクで成
形する一括図形のサイズに合わせて開口部を選択するこ
とにより、第二マスク上にいろいろな大きさの一括図形
を無駄なく配置出来る。
イズの開口部を持つ第一マスクの中から第二マスクで成
形する一括図形のサイズに合わせて開口部を選択するこ
とにより、第二マスク上にいろいろな大きさの一括図形
を無駄なく配置出来る。
【０００５】上記手段によれば、より多くの一括図形を
第二マスク上に搭載出来る。
第二マスク上に搭載出来る。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施例を図１、
図２、図３を参照しながら説明する。図１で、電子銃１
を出た電子線２は、開口部選択機構５で選択された第一
マスク３上の開口部周辺に照射され所望のサイズの矩形
等に成形される。次に一括図形選択機構７で一括図形を
選択し、被加工物１２上に描画図形１１が照射される。
図２には、従来、第一マスク１３に１種類の開口部１４
しか無い場合を示す。第２マスク１５上の一括図形１６
は、その大きさに関わらず開口部１４のサイズをピッチ
として配列されており無駄が多い。これに対し、図３で
示す本発明である複数種類の開口部１８,１９,２０を持
つ第一マスク１７を用いると、第二マスク２１上にそれ
ぞれの大きさに最適なピッチの開口部２２,２３,２４を
無駄無く配列出来る。
図２、図３を参照しながら説明する。図１で、電子銃１
を出た電子線２は、開口部選択機構５で選択された第一
マスク３上の開口部周辺に照射され所望のサイズの矩形
等に成形される。次に一括図形選択機構７で一括図形を
選択し、被加工物１２上に描画図形１１が照射される。
図２には、従来、第一マスク１３に１種類の開口部１４
しか無い場合を示す。第２マスク１５上の一括図形１６
は、その大きさに関わらず開口部１４のサイズをピッチ
として配列されており無駄が多い。これに対し、図３で
示す本発明である複数種類の開口部１８,１９,２０を持
つ第一マスク１７を用いると、第二マスク２１上にそれ
ぞれの大きさに最適なピッチの開口部２２,２３,２４を
無駄無く配列出来る。
【０００７】尚、本実施例では、開口部選択機構に機械
的な選択機構をまた、一括図形選択に電磁気的な選択機
構の例を示したが、いづれも組み合わせは自由である。
また、第一マスク１７の開口部が３種類の場合を示した
が、いづれの数でも良い。更に、第二マスク２１上の一
括図形２２,２３,２４はそれぞれ等ピッチで示したが、
ランダムでも良い。
的な選択機構をまた、一括図形選択に電磁気的な選択機
構の例を示したが、いづれも組み合わせは自由である。
また、第一マスク１７の開口部が３種類の場合を示した
が、いづれの数でも良い。更に、第二マスク２１上の一
括図形２２,２３,２４はそれぞれ等ピッチで示したが、
ランダムでも良い。
【０００８】
【発明の効果】本発明により、複数種類のサイズの開口
部を持つ第一マスクの中から第二マスクで成形する一括
図形のサイズに合わせて開口部を選択し、第二マスク上
にいろいろな大きさの一括図形を無駄なる配置出来る。
部を持つ第一マスクの中から第二マスクで成形する一括
図形のサイズに合わせて開口部を選択し、第二マスク上
にいろいろな大きさの一括図形を無駄なる配置出来る。
【図１】本発明の描画装置の説明図。
【図２】従来装置のマスクの平面図。
【図３】本発明の描画装置のマスクの平面図。
１…電子銃、２…電子線、３…マスク、４…開口部、５
…開口部選択機構、６…電子線、７…一括図形選択機
構、８…マスク、９…一括図形、１０…電子線、１１…
描画図形、１２…被加工物。
…開口部選択機構、６…電子線、７…一括図形選択機
構、８…マスク、９…一括図形、１０…電子線、１１…
描画図形、１２…被加工物。
Claims (3)
- 【請求項１】電子線を所望の図形に形成して被加工層に
照射しパターン形成を行う電子線描画装置において、上
記電子線の通過経路に１ショット分の露光範囲を決める
開口部を持つ第一マスクを有し、また所望の図形または
その一部のマスクパターンを複数持つ第二マスクを有し
て所望の図形を一括で描画する一括図形描画で、露光範
囲を決める開口部が上記第一マスク上に複数種類ある事
を特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項２】請求項１において、上記第一マスク、上記
第二マスクは、上記電子線を遮蔽あるいは散乱させる電
子線描画装置。 - 【請求項３】請求項１において、複数有る上記第１マス
ク、上記第二マスクの選択を機械的または電磁気的に行
う電子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23391296A JPH1079335A (ja) | 1996-09-04 | 1996-09-04 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23391296A JPH1079335A (ja) | 1996-09-04 | 1996-09-04 | 電子線描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1079335A true JPH1079335A (ja) | 1998-03-24 |
Family
ID=16962545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23391296A Pending JPH1079335A (ja) | 1996-09-04 | 1996-09-04 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1079335A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006128564A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Toshiba Corp | 荷電ビーム露光装置および荷電ビーム制御方法 |
| JP2006294794A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Toshiba Corp | 電子ビーム露光装置および電子ビーム露光方法 |
| JP2006339469A (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-14 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法、荷電粒子ビーム露光データ作成方法、荷電粒子ビーム露光データ作成プログラム、及び、ブロックマスク |
| JP2010177253A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Shinko Electric Ind Co Ltd | はんだボール搭載方法 |
-
1996
- 1996-09-04 JP JP23391296A patent/JPH1079335A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006128564A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Toshiba Corp | 荷電ビーム露光装置および荷電ビーム制御方法 |
| JP2006294794A (ja) * | 2005-04-08 | 2006-10-26 | Toshiba Corp | 電子ビーム露光装置および電子ビーム露光方法 |
| JP2006339469A (ja) * | 2005-06-03 | 2006-12-14 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法、荷電粒子ビーム露光データ作成方法、荷電粒子ビーム露光データ作成プログラム、及び、ブロックマスク |
| JP2010177253A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Shinko Electric Ind Co Ltd | はんだボール搭載方法 |
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