JPH1062989A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】ポリマレイミド化合物をナフトール類また
はナフトール類を有するフェノール樹脂により変性した
変性イミド樹脂とエポキシアクリレートに多塩基酸無水
物を反応させて得られる反応生成とから少なくとも成る
感光性樹脂組成物。 【効果】微細な金属加工を必要とするプリント配線板や
精密金属加工製品の金属部分を熱、薬品、溶剤あるいは
空気中の水分や酸分から導体回路や金属の表面を錆から
防ぐと共に、成膜時にフォト法を用いて制度の良い任意
の形の保護皮膜を形成でき、現像がアルカリ水溶液で容
易にできる感光性樹脂沿い物が提供される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光硬化性、熱硬化
性および耐熱性、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性等に
優れた、特にプリント配線基板などの製造に適したアル
カリ水溶液で現像可能な液状レジストインキ組成物に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来、プリント配線板は、スクリーン印
刷法でエッチングレジストあるいは、メッキレジストパ
ターンを形成したレジストパターン形成後、金属箔のエ
ッチング、あるいはめっきを施し、所望の導体回路パタ
ーンを形成していた。この導体回路パターンの酸化防止
や絶縁性を維持する目的から熱硬化性の樹脂組成物、あ
るいは光硬化性の樹脂組成物を導体回路形成時と同様
に、スクリーン印刷法を用いて目的とする形状の皮膜を
形成していた。最近では、パターン密度を高めるために
導体回路の微細化が進んでいる。このことから導体回路
形成時のエッチング、あるいはめっきレジストもフォト
法を用いて形成することが広く用いられている。フォト
法で形成したエッチングあるいは、メッキレジストパタ
ーンは、スクリーン印刷法に比べて位置精度や寸法精度
が一段と高まっている。導体回路パターンの微細化と位
置精度の向上と、更に実装部品の小型化、ＩＣパッケー
ジのリードのファインピッチ化に依って、ソルダーレジ
スト皮膜等の絶縁皮膜形成も画像精度や位置精度の向上
を必要とされていた。従って、近年では、精度良く皮膜
形成ができる方法として前述のフォト法を用いて、ソル
ダーレジスト皮膜や絶縁皮膜を形成する方法が広く使用
されるようになった。

【０００３】フォト法の特徴を説明すると、所望の大き
さに一面感光性樹脂組成物を塗布した後、必要に応じて
乾燥して、感光性皮膜を形成する。この感光性皮膜にネ
ガのフォトマスクを乗せて、紫外線等の活性光線で露光
焼き付けを行う。フォトマスクの透明部分を透過した活
性光線が感光性皮膜を硬化させる。未硬化部分は、現像
で剥離して、感光性皮膜を除去する。フォト法で形成し
た感光性皮膜は更に、熱硬化や活性光線で硬化して、ソ
ルダーレジスト皮膜や絶縁皮膜に成るが、形成された画
像は、フォトマスクに極めて近い精度で形成できるた
め、微細な画像や位置精度を容易に得ることができる。

【０００４】しかしながら、この方法は、後に現像とい
った工程を必要とする。現像では、未露光部の未硬化部
分を有機溶剤で溶解剥離することで除去していた。溶剤
は、１，１，１−トリクロロエタン等の毒性の強い溶剤
あるいは可燃性の溶剤が一般的に使用されていて、作業
安全性等の面からアルカリ水溶液を現像液としたフォト
ソルダーレジストが望まれていた。そこで、アルカリ水
溶液現像型のフォトソルダーレジストの研究が近年盛ん
となり、幾つかの組成物については開示されている。例
えば、特公昭５６−４０３２９号公報には、エポキシ樹
脂に不飽和モノカルボン酸を付加させ更に多塩基酸無水
物を付加させて成る反応生成物をベースポリマーとする
感光性樹脂組成物が開示されている。あるいは、特開昭
６１ー２４３８６９号公報には、それぞれノボラック型
エポキシアクリレート等に多塩基酸無水物を付加させた
反応生成物をベースポリマーとし、アルカリ水溶液を現
像液とするフォトソルダーレジスト組成物が開示されて
いる。しかしながら、上記の組成物で得られるソルダー
レジスト皮膜は耐熱性、耐溶剤性や耐薬品性において不
十分であり、絶縁性に関する特性も十分とはいえない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記課
題を解決するため、鋭意研究を重ねた結果、ポリマレイ
ミド化合物を、ナフトール、ジヒドロキシナフタレン及
びナフトール骨格またはジヒドロキシナフタレン骨格を
有するフェノール樹脂より選ばれた少なくとも１種のフ
ェノール系化合物により変性した変性イミド樹脂を使用
することにより、水酸化ナトリウム水溶液、炭酸ナトリ
ウム水溶液等のアルカリ水溶液で現像することができる
とともに、露光による画像の焼き付け時に十分に硬化し
た皮膜を得ることができ、現像後の熱硬化後の皮膜特性
として、優れた耐熱性、耐薬品性、耐溶剤性、電気絶縁
性を発現する感光性樹脂組成物やフォトソルダーレジス
トに適した感光液組成物を提供することである。更に、
ラミネートすることで、容易にアルカリ水溶液現像型の
ソルダーレジスト皮膜や絶縁皮膜を形成することが可能
な感光性フィルムを提供し、これらの感光性皮膜により
耐熱、耐酸化性に優れた金属加工製品を提供するもので
ある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、
（１）（ａ）成分が一般式（１）（化４）

【０００７】

【化４】 （式中、Ｒ１ はｍ価の有機基、Ｘａ，Ｘｂは水素原
子、ハロゲン原子および有機基から選ばれた同一または
異なる一価の原子または基、ｍは２以上１０以下の整
数）で示されるポリマレイミド化合物であり、（ｂ）成
分が式（２）（化５）、式（３）（化６）

【０００８】

【化５】

【０００９】

【化６】 で示されるナフトール、ジヒドロキシナフタレン及び該
ナフトール骨格またはジヒドロキシナフタレン骨格を有
するフェノール樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも
１種のフェノール系化合物であって、上記（ａ）成分の
ポリマレイミド化合物を（ｂ）成分のフェノール系化合
物により変性してなる変性イミド樹脂（Ａ）１００重量
部、およびエポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との
反応物と、飽和または不飽和多塩基酸無水物とを反応せ
しめて得られるエネルギー線硬化樹脂（Ｂ）１０〜５０
０重量部を主体としてなる感光性樹脂組成物、（２）
（Ｃ）エポキシ樹脂、（Ｄ）光重合開始剤、（Ｅ）熱硬
化促進剤、（Ｆ）エチレン性不飽和化合物をさらに含有
して成る（１）記載の感光性樹脂組成物、（３）上記の
（１）または（２）記載の感光性樹脂組成物を有機溶剤
で希釈して成る感光液組成物、（４）上記の（３）記載
の感光液組成物に有機あるいは無機フィラーを配合して
なる感光液組成物、（５）上記の（３）または（４）記
載の感光液組成物をプラスチックフィルムに塗布乾燥し
てなる感光性フィルム、（６）上記の（３）または
（４）に記載の感光液組成物を金属、プラスチック、セ
ラミックに塗布乾燥して形成した感光性皮膜を有する加
工品および、（７）上記の（５）に記載の感光性フィル
ムを金属、プラスチック、セラミックに熱圧着して形成
した感光性皮膜を有する加工品である。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明で使用される変性イミド樹
脂（Ａ）成分中の（ａ）成分としてのポリマレイミド化
合物としては、１分子中に２個以上のマレイミド基を有
する化合物ならば全て使用可能である。このようなポリ
マレイミド化合物としては、例えば、N,N'- エチレンビ
スマレイミド、N,N'- ヘキサメチレンビスマレイミド、
N,N'-(1,3-フェニレン) ビスマレイミド、N,N'-[1,3-(2
- メチルフェニレン)]ビスマレイミド、N,N'-(1,4-フェ
ニレン) ビスマレイミド、ビス(4- マレイミドフェニ
ル) メタン、ビス(3- メチル-4- マレイミドフェニル)
メタン、ビス(4- マレイミドフェニル) エーテル、ビス
(4- マレイミドフェニル) スルホン、ビス(4- マレイミ
ドフェニル) スルフィド、ビス(4- マレイミドフェニ
ル) ケトン、ビス(4- マレイミドシクロヘキシル) メタ
ン、1,4-ビス(4- マレイミドフェニル) シクロヘキサ
ン、1,4-ビス( マレイミドメチル) シクロヘキサン、1,
4-ビス( マレイミドメチル) ベンゼン、1,3-ビス(4- マ
レイミドフェノキシ) ベンゼン、1,3-ビス(3- マレイミ
ドフェノキシ) ベンゼン、ビス[4-(3-マレイミドフェノ
キシ) フェニル] メタン、ビス[4-(4-マレイミドフェノ
キシ) フェニル] メタン、1,1-ビス[4-(3-マレイミドフ
ェノキシ) フェニル] エタン、1,1-ビス[4-(4-マレイミ
ドフェノキシ) フェニル] エタン、1,2-ビス[4-(3-マレ
イミドフェノキシ) フェニル] エタン、1,2-ビス[4-(4-
マレイミドフェノキシ) フェニル] エタン、2,2-ビス[4
-(3-マレイミドフェノキシ) フェニル] プロパン、2,2-
ビス[4 -(4- マレイミドフェノキシ) フェニル] プロパ
ン、2,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フェニル]
ブタン、2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ) フェニ
ル] ブタン、2,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フ
ェニ ル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-
ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ) フェニル]-1,1,1,3,
3,3 - ヘキサフルオロプロパン、4,4'- ビス(3- マレイ
ミドフェノキシ) ビフェニル、4, 4'-ビス(4- マレイミ
ドフェノキシ) ビフェニル、ビス[4-(3-マレイミドフェ
ノキシ) フェニル] ケトン、ビス[4-(4-マレイミドフェ
ノキシ) フェニル] ケトン、ビス[4-(3-マレイミドフェ
ノキシ) フェニル] スルフィド、ビス[4-(4-マレイミド
フェノキシ) フェニル] スルフィド、ビス[4-(3-マレイ
ミドフェノキシ) フェニル] スルホキシド、ビス[4-(4-
マレイミドフェノキシ) フェニル] スルホキシド、ビス
[ 4-(3- マレイミドフェノキシ) フェニル] スルホン、
ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ) フェニル] スルホ
ン、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フェニル] エー
テル、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ) フェニル] エ
ーテル、1,4-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-α, α
- ジメチルベンジル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-マレイ
ミドフェノキシ)-α, α- ジメチルベンジル] ベンゼ
ン、1,4-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-α, α- ジ
メチルベンジル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-マレイミド
フェノキシ)-α, α- ジメチルベンジル] ベンゼン、1,
4-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル-
α, α- ジメチルベンジル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-
マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル- α, α- ジメチ
ルベンジル] ベンゼン、1,4-ビス[4-(3-マレイミドフェ
ノキシ)-3,5-ジメチル- α, α- ジメチルベンジル] ベ
ンゼン、1,3-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジ
メチル- α, α- ジメチルベンジル] ベンゼン、一般式
（４）（化７）

【００１１】

【化７】 （式中、ｎは平均値で 0〜10である）で表されるポリマ
レイミド化合物、及び一般式（５）（化８）；

【００１２】

【化８】 （式中、ｍは平均値で 0〜10である）で表されるポリマ
レイミド化合物等が挙げられる。また、これらのポリマ
レイミド化合物は、単独で用いても２種類以上を混合し
て用いてもよい。

【００１３】（ｂ）成分のフェノール系化合物として
は、式（２）、（３）で表されるナフトール、ジヒドロ
キシナフタレンおよび該ナフトール骨格またはジヒドロ
キシナフタレン骨格を少なくとも一つ有するフェノール
樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも１種のフェノー
ル系化合物であれば全て使用することができる。ナフト
ールとしては、１−ナフトール、２−ナフトールがあ
り、ジヒドロキシナフタレンとしては、１，３−、１，
４−、１，５−、１，６−、２，３−、２，７−ジヒド
ロキシナフタレン等があり、ナフトール骨格またはジヒ
ドロキシナフタレン骨格を有するフェノール樹脂につい
て、以下に例示する。ナフトールまたはジヒドロキシナ
フタレンとフェノール、クレゾール、レゾルシノール、
フェニルフェノール、ジヒドロキシビフェニル等のフェ
ノール類またはナフトール類とホルムアルデヒド、アセ
トアルデヒド、ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズア
ルデヒド、グルオキザール、アルカンジアール等のアル
デヒド類との反応生成物であるノボラック樹脂；および
上記ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、フェノール
類とアラルキルアルコール誘導体またはアラルキルハラ
イド誘導体との反応生成物であるアラルキル樹脂が挙げ
られ、これらフェノール樹脂の１種類または２種類以上
の混合物が使用される。

【００１４】変性イミド樹脂（Ａ）を製造する方法とし
ては、（ａ）成分であるポリマレイミド樹脂、（ｂ）成
分のフェノール系化合物を同時に８０〜２００℃で、
０．１〜１０時間加熱混合するのが一般的であるが、さ
らに、有機溶媒中で加熱混合してもよい。有機溶媒中で
加熱混合する場合は、使用する有機溶媒の沸点にもよる
が、一般的には、５０〜２００℃で、０．１〜２０時間
である。

【００１５】変性イミド樹脂（Ａ）を製造する場合、反
応をより容易にするために、分子中に少なくとも一つの
活性水素を有する化合物を併用することが好ましい。分
子中に少なくとも一つの活性水素を有する化合物として
は、フェノール、ビスフェノールＡ、ビスフェノール
Ｆ、クレゾール、レゾルシノール、ナフトール、ジヒド
ロキシナフトール等のフェノール類、アニリン、アミノ
フェノール、フェニレンジアミン、エチレンジアミン、
ビス（４−アミノフェニル）メタン等のアミン類、グリ
シドール、グリセリンジグリシジルエーテル、エチレン
グリコールモノグリシジルエーテル、レゾルシノールモ
ノグリシジルエーテル、ナフトレゾルシノールモノグリ
シジルエーテル等、一分子中に一つのアルコール性もし
くはフェノール性ＯＨ基と、一つ以上のエポキシ基とを
含む化合物、プロパギルアルコール等のＯＨ基とアセチ
レン基を有する化合物等が挙げられる。

【００１６】変性イミド樹脂（Ａ）を製造する際の配合
量は、（ａ）成分であるポリマレイミド化合物、１００
重量部に対して、５〜２００重量部、好ましくは、１０
〜１００重量部である。５重量部以下であると、変性イ
ミド樹脂の製造が困難となり、２００重量部以上である
と、耐薬品性が劣る。変性イミド樹脂製造時に併用する
ことが好ましい分子中に少なくとも一つの活性水素を有
する化合物の配合量は、ポリマレイミド樹脂１００重量
部に対し、５〜１００重量部用いるのが好ましいが、特
に、耐熱性の保持等の目的では、１０〜３０重量部用い
るのが好ましい。

【００１７】このような変性イミド（Ａ）は、感光性樹
脂組成物中に１０〜７０重量％となるように添加する。
好ましくは、２０〜６０重量％である。１０重量％に満
たない場合は、耐熱性が発揮されない。アルカリ水溶液
による現像が困難となり、一方６０重量％を越えるとア
ルカリ水溶液による現像が困難となる。かくして得られ
た変性イミド樹脂（Ａ）は主にポリマレイミド樹脂のオ
リゴマー化したものと考えられる。（Ｂ）成分である活
性エネルギー線硬化性樹脂は、エポキシ化合物と不飽和
モノカルボン酸との反応物に、更に多塩基酸無水物を開
環付加したハーフエステル化化合物である。

【００１８】本発明で用いることのできるエポキシ樹脂
は、少なくともエポキシ基を１個有する化合物であり、
１分子当たり平均１個以上のエポキシ基を含有する。こ
のエポキシ基は、分子末端に存在しても、分子内に存在
しても構わない。エポキシ基を有する化合物は、脂肪
族、芳香族、環状脂肪族、複素環式の化合物でもよく、
また水酸基やアルキル基、アルコキシ基、エーテル基、
アセタール基、エステル基のような置換基を含有するも
のでもよい。

【００１９】かかるエポキシ樹脂の例としては、 、フ
ェノール、クレゾール、レゾルシノール、ナフトール等
のフェノール類、あるいはこれらをハロゲン化したフェ
ノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベ
ンズアルデヒド、トルアルデヒド、グリオキザール、ア
ルカンジアール等のアルデヒド類との縮合反応により得
られる反応生成物とエピクロルヒドリンとの反応により
得られるエポキシ樹脂；上記フェノール類とアラルキル
アルコール誘導体またはアラルキルハライド誘導体との
反応物との反応により得られるエポキシ樹脂；さらに、
次に示した活性水素を有する化合物から誘導されるエポ
キシ樹脂；例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノール
Ｆ、レゾルシン、ビスヒドロキシジフェニルエーテル、
ビスヒドロキシビフェニル、ビスヒドロキシナフタレ
ン、トリヒドロキシフェニルメタン等の多価フェノール
類、エチレングリコール、ネオペンチルグリコール、グ
リセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリト
ール、ジエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル等の多価アルコール類；エチレンジアミン、アニリ
ン、ビス（４ーアミノフェニル）メタン等のアミン類；
アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸等の多価カルボン
酸類とエピクロルヒドリンを反応させて得られるエポキ
シ樹脂が挙げられる。また、臭素化フェノールノボラッ
ク樹脂、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂等の各
種のハロゲン化エポキシ樹脂を使用することもできる。

【００２０】不飽和モノカルボン酸の代表的なものとし
ては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸
などがあるが、特にアクリル酸が好ましい。また、飽和
または不飽和多塩基酸無水物の例としては、無水マレイ
ン酸、無水フタル酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、
無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル
酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水エンドメチ
レンテトラヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレン
テトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテト
ラヒドロ無水フタル酸などの二塩基性酸無水物；無水ト
リメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無
水物；その他これに付随する例えば５−（２，５−ジオ
キソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロセ
ン−１，２−ジカルボン酸無水物のような多価カルボン
酸無水物誘導体などが使用できる。

【００２１】エポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸の
反応物は、攪はん混合が容易な粘度となるように、カル
ボキシル基、水酸基、アミノ基を含まないエポキシ基に
対して不活性な溶剤に、上記エポキシ化合物を溶解し
て、エポキシ基１モルに対して、０．５〜２．０モル、
好ましくは１〜１．５モルの不飽和モノカルボン酸を加
え５０〜１５０℃で加熱攪はんしながら１〜２４時間反
応させる。このとき、二重結合の熱重合を避けるために
重合禁止剤として公知のｔ−ブチルハイドロキノン、カ
テコール、フェノール、ピロカテコール、ｐ−ハイドロ
キノン等を添加することが好ましい。

【００２２】このようにして得られたエポキシ化合物と
不飽和モノカルボン酸の反応物の溶液に更に前述の多塩
基酸無水物をエポキシ基１モルに対して０．５〜１．０
モル添加して、更に５０〜１５０℃、好ましくは７０〜
１２０℃で１〜２４時間反応させることで、本発明で使
用するハーフエステル化化合物を得ることができる。こ
のようなエネルギー線硬化性樹脂（Ｂ）は、感光性樹脂
組成物中に５〜７０重量％となるように添加する。好ま
しくは、１０〜６０重量％である。５重量％に満たない
場合は、アルカリ水溶液による現像が困難となり、一方
６０重量％を越えると耐アルカリ性の無い感光性皮膜や
絶縁皮膜となり好ましくない。また、上記変性イミド樹
脂（Ａ）１００重量部に対して１０〜５００重量部、好
ましくは２０〜３００重量部のエネルギー線硬化樹脂
（Ｂ）を配合する。１０重量部以下のときは感光性が不
足したり、アルカリ水溶液による現像性が不足する。５
００重量部以上では、耐熱性及び耐アルカリ性が劣る。

【００２３】本発明に、さらに用いることのできる
（Ｃ）成分のエポキシ樹脂は上記エネルギー線硬化樹脂
（Ｂ）で用いたエポキシ化合物を用いることができる。
エポキシ樹脂（Ｃ）は、感光性樹脂組成物中、５〜６０
重量％添加することができるが、好ましくは、１０〜５
０重量％である。６０重量％を越えると、露光時の感度
低下が発生する。一方、５重量％未満では、熱硬化後の
強度が十分発生しないので好ましくない。

【００２４】本発明の（Ｄ）成分である光重合開始剤
は、紫外線等の活性光線の照射によって不飽和化合物の
重合を開始させるラジカル重合開始剤であれば如何なる
ものも使用可能である。例えば、ベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトン等のベンゾキノン、ベンゾインブチルエーテ
ル、ベンゾインブチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾ
インアルキルエーテル類、２，２−ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−フェニル
アセトフェノン等のアセトフェノン類、２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオフェノン、４ーイソピル−２−ヒ
ドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４−イソプロ
ピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン等
のプロピオフェノン類、２−エチルアントラキノン、２
−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノ
ン等のアントラキノン類、ジエチルチオキサントン、ジ
イソプロピルチオキサントン、クロルチオキサントン等
のチオキサントン類、その他ベンジル、１−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、２−[ ４−（メチルチ
オ）フェニル] ー２ーモルホリノ−１−プロパン、ｐ−
ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が、好ましいもの
として挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独ある
いは、混合して用いることができる。本発明の感光性樹
脂組成物にたいする添加量は、０．１〜２０重量％であ
り、より好ましくは、０．５から１５重量％である。

【００２５】本発明の（Ｅ）成分である熱硬化促進剤
は、従来公知の硬化促進剤を用いることができる。かか
る硬化促進剤としては、２−メチルイミダゾール、２−
エチル−４−メチルイミダゾール、２−ヘプタデシルイ
ミダゾール等のイミダゾール類；トリエタノールアミ
ン、トリエチレンジアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の
アミン類；トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフ
ィン、トリトリルホスフィン等の有機ホスフィン類；テ
トラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、ト
リエチルアンモニウムテトラフェニルボレート等のテト
ラフェニルボロン塩類；１，８−ジアザ−ビシクロ
（５，４，０）ウンデセン−７およびその誘導体、三フ
ツ化ホウ素アミンコンプレックス、ジシアンジアミド、
メラミン、有機酸ヒドラジドなどが挙げられる。これら
の硬化促進剤は、単独で用いても２種類以上を併用して
もよく、また、必要に応じて、有機過酸化物やアゾ化合
物を併用することもできる。これら硬化促進剤の含有量
は、感光性樹脂組成物100 重量部に対して、硬化促進剤
の種類によって決められるが、一般的には0.005 〜10重
量部の範囲で用いられる。

【００２６】本発明で用いることのできる（Ｆ）成分で
あるエチレン性不飽和化合物として、多価アルコールの
（メタ）アクリル酸エステルが適当であり、例えば、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン
ジ（メタ）アクリレート又、メチレンービスー（メタ）
アクリルアミド、（メタ）アクリルアミド等のアミド
類、ジオール（メタ）アクリレートとイソシアネートの
化合物、トリアルキルホルマール、トリアリルシアヌレ
ート、トリス（２−（メタ）アクリロキシルエチル）イ
ソシアヌレートが挙げられる。これらの光重合性不飽和
化合物は、必要に応じて加えることができるが、本発明
の感光性樹脂組成物に対する使用量は、５０重量％未満
であり、好ましくは４０重量％以下である。５０重量％
を越えるとフォトマスクの粘着が発生して不適当であ
る。

【００２７】本発明で使用できる溶剤として、感光性樹
脂組成物を溶解し、感光液とする場合、あるいはフィラ
ーを混合分散して、塗布しやすい感光液とするために、
乾燥が容易で毒性の少ない溶剤が選ばれる。例えば、メ
タノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、ブタノール、イソブタノール、酢酸エ
チル、酢酸アミル、酢酸シクロヘキシル、アセト酢酸メ
チル、アジピン酸ジメチル、グルタミン酸ジメチル、琥
珀酸ジメチル、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサ
ノン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、メチル
エチルケトン、アセトン、α−テルピオネール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレン
グリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレング
リコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノジエチルエーテル、ジエチレング
リコールジブチルエーテル、 Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジオキサン、
Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、
トルエン、ミネラルスピリット等が選ばれる。これらの
溶剤を単独あるいは混合して感光性樹脂組成物を溶解し
て感光液として調整することができる。

【００２８】溶剤量は、感光液組成物の塗布性や取り扱
いの便利な粘度に設定する目的上、正確に表すことが困
難であるが、概ね感光液組成中の９０％以下となる。本
発明で使用できるフィラーは有機フィラー、無機フィラ
ーがあるが、いずれでもよく、有機フィラーとして、エ
ポキシ樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アクリル樹脂、
フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、テフロン樹脂、ポリ
エチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、等
の樹脂を使用する溶剤に不溶となるまで高分子化したも
のあるいは、架橋したものを微粒子化したフィラーがあ
る。無機フィラーとしては、アルミナ、シリカ、マグネ
シア、フェライトなどの金属酸化物の微細粉、あるいは
タルク、マイカ、カオリン、ゼオライトなどの桂酸塩
類、硫酸バリウム、炭酸カルシウムなどの微粒子を用い
ることができる。

【００２９】これらのフィラーは、好ましくは、平均粒
径が１０μｍ以下の微粒子であり、より好ましくは５μ
ｍ以下の粒子が良い。平均粒径が１０μｍを越えると形
成された画像形成の輪郭に凹凸ができて微細なレジスト
画像や鮮明なレジスト画像ができない。なお、粒子の比
表面積は、１００ｍ２／ｇ以下であり、好ましくは６０
ｍ２／ｇ以下である。比表面積が１００ｍ２／ｇを越え
ると均一な混合分散ができないばかりでなく、得られた
感光性皮膜や絶縁皮膜が脆く接着性に乏しいものとな
る。フィラーの添加量は、多くとも感光性皮膜中に８０
重量％以下であり、好ましくは５０重量％以下である。
８０重量％を越えると感光性皮膜や絶縁性皮膜の形成が
困難となる。

【００３０】これらのフィラーと感光性樹脂組成物と溶
剤を混合する場合、フィラーが樹脂組成物中に均一に分
散することが好ましい。分散は公知の方法で行うことが
できるが、例えば、ボールミル、ロールミル、ミジアミ
ル等の剪断力の強い分散装置を用いて分散混合すること
で良好な感光液組成物を得ることができる。更に、
（Ａ）、（Ｂ），（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）、（Ｆ）成分
の他に、分散混合を良好に行うために、顔料や色素、湿
潤剤、分散剤、シランカップリング剤、チタンカップリ
ング剤、消泡剤の各種添加剤を添加することもできる。

【００３１】このようにして、感光性樹脂と感光液組成
物を製造することができるが、これらの感光性樹脂組成
物や感光液組成物を用いて、金属や金属積層板の表面に
ソルダーレジスト皮膜や絶縁皮膜を形成する方法は、既
に公知のロールコーターやスクリーン塗布、バーコータ
ー等を用いて容易に塗布することができる。塗布した感
光性樹脂組成物や感光液組成物は、溶剤を揮発させるこ
とで感光性皮膜となるが、乾燥方法も既に公知の方法を
用いれば良いが、例えば、熱風乾燥機や遠赤外線、近赤
外線等の乾燥機を用いて５０〜１５０℃で１０〜６０分
乾燥することで感光性皮膜を形成することができる。

【００３２】感光性皮膜の厚みは、５〜２００μｍが適
当であるが好ましくは、１５〜１００μｍである。５μ
ｍに満たない場合は、絶縁信頼性の乏しい物となり、２
００μｍを越えると現像に時間がかかるばかりでなく、
露光感度の低下を招き適当ではない。この感光液組成物
や感光性樹脂組成物は、ソルダーレジスト皮膜や絶縁皮
膜の形成材料となるばかりでなく、塩化ビニル、ポリエ
チレン、ポリエステル等の無色透明なフィルムに塗布乾
燥することで感光性フィルムを作製することもできるの
である。

【００３３】かかる感光性フィルムは、上記無色透明な
厚み１０〜１００μｍのフィルムにリバースロールコー
ターやグラビアロールコーター、コンマコーター、カー
テンコーター等の公知の方法で塗布することができる。
乾燥は、熱風乾燥や遠赤外線、近赤外線を用いた乾燥機
で温度５０〜１２０℃で乾燥できるが、好ましくは６０
〜１００℃で１０〜６０分乾燥することで感光性フィル
ムを作成することができる。フィルム上に形成される感
光性樹脂組成物の厚みは、５〜２００μｍであり、好ま
しくは１５〜１００μｍである。５μｍに満たない場
合、絶縁信頼性に欠け、２００μｍを越えると露光時の
感度や現像の時間が長くなり不適当である。

【００３４】なお、この感光性フィルムを用いてソルダ
ーレジスト皮膜や絶縁皮膜を形成するには、平板プレス
やロールプレス等の公知の方法を用いて、４０〜１５０
℃に加熱しながら、１〜５ｋｇｆ／ｃｍ２で熱圧着する
ことで感光性皮膜を金属板や金属積層板の表面に形成す
ることができるのである。

【００３５】

【実施例】

合成例１（フェノール樹脂１） 温度計、攪はん機および冷却器を取り付けた反応容器中
に、ジヒドロキシナフタレン101 2 ｇと４−メチルフェ
ノールジメチロール168 ｇおよびp-トルエンスルホン酸
ソーダ0.3 ｇを仕込み、１５０℃で攪はんしながら６時
間反応させた。その後、トルエン1500ｍｌに溶解し洗浄
した後、トルエン及び未反応モノマーを減圧蒸留（１５
０℃、５mmＨｇ）により除去し、水酸基当量９０のジヒ
ドロキシビフェニル、クレゾールノボラック樹脂を得
た。

【００３６】合成例２（フェノール樹脂２） 攪はん機、温度計、ディーンスターク共沸トラップおよ
び冷却器を装着した反応容器中に、α, α’- ジヒドロ
キシ-p- キシレン207 ｇと１−ナフトール４６０ｇ、メ
タンスルホン酸0.35ｇを仕込み、攪はんを行いながら、
150 〜160 ℃で４時間反応を行った。生成する水は、順
次トラップし、系外へ除去し、水酸基当量２１０のナフ
トールアラルキル樹脂を得た。

【００３７】変性イミド樹脂（１）の製造例 撹拌機、温度計および冷却器を装着した反応容器に、ビ
ス（４−マレイミドフェニル）メタン１００重量部、ジ
ヒドロキシナフタレン３０重量部、１６０℃、１５分間
反応させ、変性イミド樹脂（１）を得た。

【００３８】変性イミド樹脂（２）の製造例 撹拌機、温度計および冷却器を装着した反応容器に、ビ
ス（４−マレイミドフェニル）メタン１００重量部、フ
ェノール樹脂（１）３０重量部、グリシドール２０重量
部を挿入して、１３０℃、３０分反応させ、変性イミド
樹脂（２）を得た。

【００３９】変性イミド樹脂（３）の製造例 撹拌機、温度計および冷却器を装着した反応容器に、ビ
ス（４−マレイミドフェニル）メタン１００重量部、フ
ェノール樹脂（２）３０重量部、グリシドール２０重量
部、メチルエチルケトン１００重量部挿入して、８０
℃、１０時間反応させたのち、５００重量部の水を加
え、沈殿物をろ過、乾燥して、変性イミド樹脂（３）を
得た。

【００４０】合成例３（感光性樹脂１） エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４）を３２
８ｇとトリフェニルホスフィン１．５ｇとアクリル酸１
４４ｇをキシレン８０ｇに溶解した。９０℃に加熱しな
がら５時間攪はんした。更にテトラヒドロ無水フタル酸
３００ｇを添加して９０℃に保ちながら５時間攪はんし
た。反応終了後、減圧化でキシレンを除去して、感光性
樹脂（１）を得た。

【００４１】合成例４（感光性樹脂２） エポキシ樹脂（旭化成ＥＣＮ２９９）を３５６ｇとジメ
チルベンジルアミン３ｇとアクリル酸１４４ｇをトルエ
ン１５０ｇに溶解した。９０℃に加熱して５時間攪はん
した。更に、テトラヒドロ無水フタル酸３００ｇを添加
して９０℃に保ちながら、５時間攪はんした。反応終了
後、減圧下でトルエンを除去して感光性樹脂（２）を得
た。以下に、上記合成例および製造例で示した変性イミ
ド樹脂と感光液組成物の実施の態様を示すとともに、感
光液組成物を用いて成る感光性フィルムの実施の態様も
示す。

【００４２】[ 実施例１] 配合量（重量部） 変性イミド樹脂（１） ４０ 感光性樹脂（１） ４０ エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４） ２０ 光重合開始剤（CIBA-GEIGY社製IRGACURE907 ） ６ 光重合開始剤（日本化薬社製KAYACURE DETX ） ２ フタロシアニンク゛リーン （東洋インク社製CYANINE GREEN PBN-1) １ ２−エチル−４−メチルイミダゾール（四国化成製） ０.２ タルク（日本ミストロン社製MISTRONVAPOR） ４０ シ゛エチレンク゛リコールシ゛メチルエーテル １００

【００４３】[ 実施例２] 配合量（重量部） 変性イミド樹脂（２） ４０ 感光性樹脂（１） ４０ エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４） ２０ 光重合開始剤（CIBA-GEIGY社製IRGACURE907 ） ６ 光重合開始剤（日本化薬社製KAYACURE DETX ） ２ フタロシアニンク゛リーン （東洋インク社製CYANINE GREEN PBN-1) １ ２−エチル−４−メチルイミダゾール（四国化成製） ０.２ タルク（日本ミストロン社製MISTRONVAPOR） ４０ シ゛エチレンク゛リコールシ゛メチルエーテル １００

【００４４】[ 実施例３] 配合量（重量部） 変性イミド樹脂（３） ４０ 感光性樹脂（１） ４０ エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４） ２０ 光重合開始剤（CIBA-GEIGY社製IRGACURE907 ） ６ 光重合開始剤（日本化薬社製KAYACURE DETX ） ２ フタロシアニンク゛リーン （東洋インク社製CYANINE GREEN PBN-1) １ ２−エチル−４−メチルイミダゾール（四国化成製） ０.２ タルク（日本ミストロン社製MISTRONVAPOR） ４０ シ゛ エチレンク゛ リコールシ゛ メチルエーテル １００

【００４５】[ 実施例４] 配合量（重量部） 変性イミド樹脂（１） ４０ 感光性樹脂（２） ４０ エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４） ２０ 光重合開始剤（CIBA-GEIGY社製IRGACURE907 ） ６ 光重合開始剤（日本化薬社製KAYACURE DETX ） ２ フタロシアニンク゛リーン（東洋インク社製CYANINE GREEN PBN-1) １ ２−エチル−４−メチルイミダゾール（四国化成製） ０.２ タルク（日本ミストロン社製MISTRONVAPOR） ４０ シ゛ エチレンク゛ リコールシ゛ メチルエーテル １００

【００４６】[ 実施例５] 配合量（重量部） 変性イミド樹脂（３） ４０ 感光性樹脂（２） ４０ エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４） ２０ 光重合開始剤（CIBA-GEIGY社製IRGACURE907 ） ６ 光重合開始剤（日本化薬社製KAYACURE DETX ） ２ フタロシアニンク゛リーン（東洋インク社製CYANINE GREEN PBN-1) １ ２−エチル−４−メチルイミダゾール（四国化成製） ０.２ タルク（日本ミストロン社製MISTRONVAPOR） ４０ シ゛ エチレンク゛ リコールシ゛ メチルエーテル １００

【００４７】[ 実施例６] 配合量（重量部） 変性イミド樹脂（１） ３０ 感光性樹脂（１） ４０ エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４） ２０ エチレン性不飽和化合物 トリメチロールフ゜ ロハ゜ ントリアクリレート １０ 光重合開始剤（CIBA-GEIGY社製IRGACURE907 ） ６ 光重合開始剤（日本化薬社製KAYACURE DETX ） ２ フタロシアニンク゛ リーン （東洋インク社製CYANINE GREEN PBN-1) １ ２−エチル−４−メチルイミダゾール（四国化成製） ０.２ タルク（日本ミストロン社製MISTRONVAPOR） ４０ シ゛ エチレンク゛ リコールシ゛ メチルエーテル １００

【００４８】[実施例７] 配合量（重量部） 変性イミド樹脂（３） ４０ 感光性樹脂（２） ３０ エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４） ２０ エチレン性不飽和化合物 トリメチロールフ゜ ロハ゜ ントリアクリレート １０ 光重合開始剤（CIBA-GEIGY社製IRGACURE907 ） ６ 光重合開始剤（日本化薬社製KAYACURE DETX ） ２ フタロシアニンク゛ リーン （東洋インク社製CYANINE GREEN PBN-1) １ ２−エチル−４−メチルイミダゾール（四国化成製） ０.２ タルク（日本ミストロン社製MISTRONVAPOR） ４０ シ゛ エチレンク゛ リコールシ゛ メチルエーテル １００

【００４９】[ 実施例８]実施例１の感光液組成物を用
いて、厚み２０μｍの無色透明なポリエステルフィルム
に感光性皮膜が５０μｍとなるように塗布乾燥して感光
性フィルムを作成した。塗布は、リバースコーターを用
いた。乾燥は８０℃の熱風乾燥機で４０分乾燥した。

【００５０】[ 実施例９]実施例５の感光液組成物を用
いて、厚み２０μｍの無色透明なポリエステルフィルム
に感光性皮膜が５０μｍとなるように塗布乾燥して感光
性フィルムを作成した。塗布は、リバースコーターを用
いた。乾燥は８０℃の熱風乾燥機で４０分乾燥した。

【００５１】以下に、実施例の合成例で示した感光性樹
脂を用いた感光液組成物の比較例の態様を示すと共に、
感光液組成物を用いて成る感光性フィルムの感光性フィ
ルムの比較例の態様も示す。

【００５２】[ 比較例１] 配合量（重量部） 感光性樹脂（１） ５０ エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４） ２０ エチレン性不飽和化合物 トリメチロールフ゜ ロハ゜ ントリアクリレート ３０ 光重合開始剤（CIBA-GEIGY社製IRGACURE907 ） ６ 光重合開始剤（日本化薬社製KAYACURE DETX ） ２ フタロシアニンク゛ リーン （東洋インク社製CYANINE GREEN PBN-1) １ タルク（日本ミストロン社製MISTRONVAPOR） ４０ シ゛ エチレンク゛ リコールシ゛ メチルエーテル １００

【００５３】[ 比較例２] 配合量（重量部） 感光性樹脂（２） ５０ エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４） ２０ エチレン性不飽和化合物 トリメチロールフ゜ ロハ゜ ントリアクリレート ３０ 光重合開始剤（CIBA-GEIGY社製IRGACURE907 ） ６ 光重合開始剤（日本化薬社製KAYACURE DETX ） ２ フタロシアニンク゛ リーン （東洋インク社製CYANINE GREEN PBN-1) １ タルク（日本ミストロン社製MISTRONVAPOR） ４０ シ゛ エチレンク゛ リコールシ゛ メチルエーテル １００

【００５４】[ 比較例３] 配合量（重量部） 変性イミド樹脂（１） ５ 感光性樹脂（１） ５０ エポキシ樹脂（油化シェル製エピコート１５４） ２０ エチレン性不飽和化合物 トリメチロールフ゜ ロハ゜ ントリアクリレート ２５ 光重合開始剤（CIBA-GEIGY社製IRGACURE907 ） ６ 光重合開始剤（日本化薬社製KAYACURE DETX ） ２ フタロシアニンク゛ リーン （東洋インク社製CYANINE GREEN PBN-1) １ タルク（日本ミストロン社製MISTRONVAPOR） ４０ シ゛ エチレンク゛ リコールシ゛ メチルエーテル １００

【００５５】[ 比較例４]比較例１の感光液組成物を用
いて、厚み２０μｍの無色透明なポリエステルフィルム
に感光性皮膜が５０μｍとなるように塗布乾燥して感光
性フィルムを作成した。塗布は、リバースコーターを用
いた。乾燥は８０℃の熱風乾燥機で４０分乾燥した。

【００５６】以上の実施例、比較例の感光液組成物を調
整して導体回路パターンを描いたプリント配線板に、ド
クターブレードを用いて均一に塗布した。その後、８０
℃で４０分間乾燥して試験ル用のサンプルを作製した。
また、同時に厚み１ｍｍの金属板に塗布乾燥してテスト
サンプルとした。乾燥した塗布膜の厚みは、導体回路上
および金属板上で２０〜２５μｍの感光性皮膜が得られ
るように調整した。

【００５７】感光性フィルムを用いた皮膜の形成は、導
体回路を形成した金属張り積層板と１ｍｍの金属板に１
００℃に加熱した金属ロールを用いて３ｋｇｆ／ｃｍ２
の圧力で速度２ｍ／分で張り合わせた、プリント配線板
と金属板に感光性樹脂の皮膜を形成し、これをテストサ
ンプルとして評価した。

【００５８】次に、所望のフォトマスクを用いて３ｋｗ
の超高圧水銀灯を用いて感光性皮膜に２００ｍｊ／ｃｍ
２の光量が照射できるように露光した。露光した感光性
皮膜を１．０ｗｔ％の水酸化ナトリウム水溶液を３０℃
に温度調節した現像液に５０秒間浸漬して現像を行っ
た。未露光部は容易に現像液で剥離され所望の画像が得
られた。更に、１８０℃にて４５分間加熱処理を行っ
た。各感光性液で作製した感光性皮膜の評価を、以下の
ように行った。 （評価−１）の硬化表面の鉛筆硬度試験は、（ＪＩＳ
Ｋー５４０５）に記載の方法で行った。 （評価−２）のクロスカット後の密着性は、（ＪＩＳ
Ｋー５４０５）に記載の方法で行った。 （評価ー３）の耐溶剤性試験は、ＪＩＳ Ｋー５４０５
に記載のクロスカットを入れた後、室温のアセトンに１
２時間浸漬し、碁盤目の残量を測定した。 （評価−４）の耐薬品性試験は、ＪＩＳ Ｋー５４０５
に記載のクロスカットを入れた後、６０℃の１０ｗｔ％
の塩酸水溶液に１２時間浸漬し、碁盤目の残量を測定し
た。

【００５９】（評価−５）の耐薬品性試験は、ＪＩＳ
Ｋー５４０５に記載のクロスカットを入れた後、６０℃
の１０ｗｔ％の水酸化ナトリウム水溶液に１２時間浸漬
し、碁盤目の残量を測定した。 （評価−６）感光性皮膜でソルダーレジストパターンを
形成した銅箔積層板を６０℃−９５％ＲＨの環境下で１
００時間放置した。このサンプルを２８０℃で溶融した
はんだに２０秒間浸漬して銅箔とソルダーレジスト皮膜
の剥離や膨れの有無を確認した。 （評価−７）１５０μｍの間隔を隔てて電極を形成した
導体回路パターンに感光液組成物を塗布乾燥して、露光
した後、熱で硬化した。塗布方法、乾燥条件、露光条
件、熱硬化条件は上述した方法で行った。この配線基板
の電極に５０Ｖの直流電圧をかけて８５℃−８５％ＲＨ
の環境下に１００時間放置した。この配線板を、２５℃
−６０％ＲＨに放置した後、電極間の絶縁抵抗を測定し
た。

【００６０】実施例１〜９及び比較例１〜４を表１に示
す。実施例と比較例の比較においては、実施例において
は、耐薬品性に優れ、特に、はんだ耐熱性試験で、剥離
や膨れの発生しにくい点が特徴である。

【００６１】

【表１】

【００６２】

【発明の効果】実施例および比較例にて説明したごと
く、本発明による感光性樹脂組成物からなる絶縁皮膜お
よびソルダーレジスト皮膜は、表１に示した特性値が示
すように、表面の硬度が高く摺動による傷や破損に対し
て高い耐性を示す。特に、他のエチレン性不飽和化合物
（アクリルモノマー）に比較して耐熱性を高くすること
ができ、はんだ付け時の熱ショックに対して高い耐性を
示す、配線板の絶縁皮膜形成材料として、有効なもので
ある。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 79/08 ＬＲＢ Ｃ０８Ｌ 79/08 ＬＲＢ ＬＲＣ ＬＲＣ Ｃ０９Ｄ 163/00 ＰＪＳ Ｃ０９Ｄ 163/00 ＰＪＳ 179/08 ＰＬＷ 179/08 ＰＬＷ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ Ｇ０３Ｆ 7/027 ５０２ Ｈ０５Ｋ 3/28 Ｈ０５Ｋ 3/28 (72)発明者 志摩 健二 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 桜庭 仁 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内 (72)発明者 朝比奈 浩太郎 東京都千代田区霞が関三丁目２番５号 三 井東圧化学株式会社内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（ａ）成分が一般式（１）（化１） 【化１】 （式中、Ｒ1 はｍ価の有機基、Ｘａ，Ｘｂは水素原子、
   ハロゲン原子および有機基から選ばれた同一または異な
   る一価の原子または基、ｍは２以上１０以下の整数）で
   示されるポリマレイミド化合物であり、（ｂ）成分が式
   （２）（化２）、式（３）（化３） 【化２】 【化３】 で示されるナフトール、ジヒドロキシナフタレン及び該
   ナフトール骨格またはジヒドロキシナフタレン骨格を有
   するフェノール樹脂よりなる群から選ばれた少なくとも
   １種のフェノール系化合物であって、上記（ａ）成分の
   ポリマレイミド化合物を（ｂ）成分のフェノール系化合
   物により変性してなる変性イミド樹脂（Ａ）１００重量
   部、およびエポキシ化合物と不飽和モノカルボン酸との
   反応物と、飽和または不飽和多塩基酸無水物とを反応せ
   しめて得られるエネルギー線硬化樹脂（Ｂ）１０〜５０
   ０重量部を主体としてなる感光性樹脂組成物。
2. 【請求項２】（Ｃ）エポキシ樹脂、（Ｄ）光重合開始
   剤、（Ｅ）熱硬化促進剤、（Ｆ）エチレン性不飽和化合
   物をさらに含有して成る請求項１記載の感光性樹脂組成
   物。
3. 【請求項３】請求項１または２記載の感光性樹脂組成物
   を有機溶剤で希釈して成る感光液組成物。
4. 【請求項４】請求項３記載の感光液組成物に有機あるい
   は無機フィラーを配合してなる感光液組成物。
5. 【請求項５】請求項３または４記載の感光液組成物をプ
   ラスチックフィルムに塗布乾燥してなる感光性フィル
   ム。
6. 【請求項６】請求項３または４に記載の感光液組成物を
   金属、プラスチック、セラミックに塗布乾燥して形成し
   た感光性皮膜を有する加工品。
7. 【請求項７】請求項５に記載の感光性フィルムを金属、
   プラスチック、セラミックに熱圧着して形成した感光性
   皮膜を有する加工品。