JPH1057810A - 水素の酸化触媒、水素の選択的酸化方法、及び炭化水素の脱水素方法 - Google Patents

水素の酸化触媒、水素の選択的酸化方法、及び炭化水素の脱水素方法

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JPH1057810A JP8217338A JP21733896A JPH1057810A JP H1057810 A JPH1057810 A JP H1057810A JP 8217338 A JP8217338 A JP 8217338A JP 21733896 A JP21733896 A JP 21733896A JP H1057810 A JPH1057810 A JP H1057810A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 炭化水素を脱水素して、脱水素された炭化水
素を製造する際に、生成した混合ガスに存在する水素を
選択的に酸化することができる高性能な選択的酸化触媒
を提供する。 【解決手段】 水素及び炭化水素を含有する混合ガス中
の水素を選択的に酸化するための触媒であって、(1)
アルミナ上に白金を担持させた成分を含有し、(2)該
アルミナの表面積が0.5〜6m2/gであり、(3)
該アルミナのアンモニア吸着量が5μmol/g以下であ
る水素の酸化触媒、及びこれを用いた水素の選択的酸化
方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、炭化水素を脱水素
して、脱水素された炭化水素を製造する際に、生成した
混合ガスに存在する水素を選択的に酸化する方法、及び
それに用いる触媒に関する。
【0002】
【従来の技術】炭化水素を脱水素して、脱水素された炭
化水素を製造するプロセスは、従来多数の文献に記載さ
れ、また工業化されている。例えば、エチルベンゼンを
脱水素してスチレンを合成するプロセスは、鉄系の脱水
素触媒を用いて工業化されている。しかしながら、一般
に脱水素反応では、平衡の制約を強く受け、高い収率を
得ることができない。また、断熱反応器での反応におい
ては、脱水素反応が吸熱反応であるため、反応温度が反
応の進行と共に低下していまい高い収率で目的物を得る
ことが困難である。
【0003】このような課題を解決する手段として、既
に幾つかの方法が提案されている。例えば、英国特許第
1,404,641号明細書には、エチルベンゼンを脱
水素した後に、未反応エチルベンゼン、スチレン及び水
素を含む混合ガス中の水素を選択的に酸化するプロセス
及び触媒が開示されている。この方法はスチレン合成に
有効な方法であるが、水素の選択的酸化触媒として白金
を担持したA型ゼオライト又はアルミナを用いており、
その性能は必ずしも満足しうるものではない。
【0004】特公平4−33769号公報、米国特許
4,717,779号明細書においても、同様なプロセ
スで、水素の選択的酸化触媒としてアルミナ上に白金、
スズ及びリチウム等を担持した触媒を用いる方法が開示
されている。しかしながら、この触媒も性能は十分なも
のとは言えない。また、特開昭58−89945号公報
及び特開平6−298678号公報には、同様なプロセ
スで、水素の選択的酸化触媒として、酸化スズ又は酸化
スズとアルカリ金属を含有する触媒が開示されている。
これらは白金を用いない触媒として注目されるものであ
るが、その性能は必ずしも充分なものとは言えない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】炭化水素の脱水素反応
により生成される、未反応の炭化水素、脱水素された炭
化水素及び水素を含有する混合ガス中の、水素を選択的
に酸化するための触媒としては、上記のように、従来知
られているものは性能的にも満足なものではない。従っ
て、本発明の目的は、該混合ガス中に存在する水素をよ
り選択的に酸化するための新規な触媒を提供することに
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、白金を担持させる担体と
して特定のアルミナを用いることにより、水素の選択的
酸化を高性能に行うことができることを見出して本発明
を完成するに至った。即ち、本発明の要旨は、水素及び
炭化水素を含有する混合ガス中の水素を選択的に酸化す
るための触媒であって、(1)アルミナ上に白金を担持
させた成分を含有し、(2)該アルミナの表面積が0.
5〜6m2/gであり、(3)該アルミナのアンモニア
吸着量が5μmol/g以下であることを特徴とする水素
の酸化触媒、及び、この酸化触媒を用いた水素及び炭化
水素を含有する混合ガス中の水素を選択的に酸化する方
法、並びに、原料炭化水素を脱水素反応させ、得られた
脱水素された炭化水素、未反応の原料炭化水素、及び水
素を含有する混合ガスを、酸化触媒の存在下で酸素含有
ガスと接触させて、該混合ガス中の水素を選択的に酸化
させ、その後、さらに未反応原料炭化水素を脱水素反応
させる炭化水素の脱水素反応において、該酸化触媒とし
て前記の酸化触媒を用いる炭化水素の脱水素方法、に存
する。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の方法で用いられる水素の選択的触媒は、
(1)アルミナ上に白金を担持させた成分を含有し、
(2)該アルミナの表面積が0.5〜6m2/gであ
り、(3)該アルミナのアンモニア吸着量が5μmol/
g以下である水素の選択的酸化触媒である。
【0008】本発明で担体として用いられるアルミナ
は、表面積が0.5〜6m2/gであり、かつアンモニ
ア吸着量が5μmol/g以下であることが必要である。
後述の比較例のように表面積、アンモニア吸着量のいず
れかが上記範囲外であると、充分な触媒性能が得られな
い。このようなアルミナは、水に可溶なアルミニウム
塩、例えば硝酸アルミニウムの水溶液にアンモニア水、
炭酸アルカリ等の塩基性水溶液を加え、水酸化アルミニ
ウムを合成し、これを洗浄、乾燥、焼成することにより
アルミナ粉末を得、このアルミナ粉末を、更に押し出し
成型、打錠成型等により適当な形態として焼成すること
により得ることができる。このときの焼成温度及び焼成
時間は、アルミナの表面積及びアンモニア吸着量が前記
範囲となるような条件に設定する。また、市販のアルミ
ナを再焼成することにより、表面積及びアンモニア吸着
量を前記規定値を満足するようにしてもよい。
【0009】なお、本発明におけるアルミナの表面積
は、8〜16メッシュに破砕したアルミナ0.5〜1g
をU字型の石英製試料セルに充填して、30%N2/H
eガス流通下、250℃で15分間保持して試料の前処
理を実施した後、液体窒素温度下で同ガスを用いてBE
T法にて測定することができる。
【0010】また、アルミナのアンモニア吸着量は、粗
粉砕したアルミナ100〜500mgを試料セルにセッ
トして、ヘリウムガスを80ml/分で流通下、400
℃に昇温し、30分保持後、100℃、10-2Torr
で減圧脱気し、次に同温度でアンモニアガスを約10m
l注入して約70Torrとした条件で15分保持す
る。更に同温度で10-2Torrで30分間減圧して物
理吸着と思われるアンモニアを脱気後、ヘリウムガスを
80ml/分で流通下大気圧として室温まで降温する。
その後、ヘリウムガスを80ml/分で流通下、10℃
/分の速度で700℃まで昇温しつつアルミナを通過し
て来たガスを四重極質量分析計に連続的に導入して脱離
アンモニアを測定することによって測定することができ
る。
【0011】アルミナに白金を担持させる方法として
は、焼成後のアルミナに白金塩の水溶液を含浸し、これ
を50〜1000℃の温度で乾燥及び/又は焼成する方
法が挙げられる。白金の原料塩としては特に限定はな
く、白金のハロゲン化物、水酸化物、硫酸塩、有機塩等
を用いることができる。白金の担持量は、アルミナに対
し、0.01〜10重量%、好ましくは0.05〜5重
量%である。担持量が少なすぎると、酸化反応の活性が
低下する可能性があり、また、これ以上担持量が多くし
ても反応特性に殆ど影響を与えないのでコストの面で不
利となる。
【0012】本発明の酸化触媒は、反応開始前に水素、
または窒素、ヘリウム等の不活性ガス、あるいはこれら
の混合ガスにより前処理することができる。本発明の酸
化触媒は、水素と炭化水素とを含有する混合ガスを、酸
素含有ガスと接触させて、該混合ガス中の水素を選択的
に酸化する反応に用いられる。前記の反応は300〜8
00℃で行われることが好ましく、更に好ましくは40
0〜700℃の温度範囲である。温度が高すぎると水素
の選択率が減少し、炭化水素の燃焼が多くなるので好ま
しくない。温度が低すぎる場合には、選択率にはあまり
影響を与えないが、活性が低下することがあるので好ま
しくない。
【0013】水素と炭化水素とを含有する混合ガスの具
体例としては、原料炭化水素を脱水素触媒により脱水素
反応させて得られる、脱水素された炭化水素、未反応原
料炭化水素及び水素からなる混合ガスが挙げられる。酸
素含有ガスとしては、分子状酸素を1〜100%含有す
るガスが用いられ、具体的には空気、酸素富化空気、不
活性ガスで希釈した空気などが好適に用いられる。ま
た、酸素含有ガスに水蒸気を含有させることもできる。
【0014】本発明の選択的酸化触媒及び選択的酸化方
法が適用される代表的なプロセスは次のようなものがあ
る。第1段反応層において、脱水素触媒により原料炭化
水素の脱水素反応を行った後に、この第1段の反応層か
ら出た脱水素された炭化水素、未反応原料炭化水素及び
水素を含む混合ガスを第2段反応層の供給する。この第
2段反応層において、本発明の酸化触媒の存在下で、新
たに供給された酸素含有ガスを用いて、水素の選択的酸
化を行う。これにより、第1段の吸熱反応である脱水素
反応により低下した温度を上昇させ、且つ、水素を消費
することにより脱水素反応の平衡的制約を除去する。更
に、この第2段反応層から出たガスを第1段反応層と同
様の第3段の脱水素反応層に供給し、未反応の原料炭化
水素の脱水素反応を実施する。このときには、第2段反
応層において、脱水素反応に必要な温度に回復してお
り、且つ、平衡的制約の解除されているので、第3段の
脱水素反応において高い収率を得ることが可能となる。
【0015】必要に応じて、更に上記の選択的酸化反応
層と脱水素反応層との組み合わせを追加して反応を実施
することができる。一般に、脱水素反応では水蒸気を共
存させることが多いが、上記反応プロセスにおいても水
蒸気を共存させることができる。上記脱水素プロセスの
代表的具体例として、エチルベンゼンの脱水素プロセス
を挙げることができる。
【0016】例えば、鉄とアルカリ金属を主要活性成分
とする鉄系脱水素触媒が存在する第1段反応層に、エチ
ルベンゼンと水蒸気との混合ガスを供給し、400〜8
00℃、好ましくは500〜700℃の温度範囲、0.
05〜10気圧の圧力範囲で脱水素反応を行う。この
後、未反応エチルベンゼン、生成したスチレン、水素、
水蒸気の混合ガスを第2段反応層に供給する。第2段反
応層で本発明の酸化触媒の存在下、新たに供給された酸
素含有ガスを用いて、300〜800℃、好ましくは4
00〜700℃の温度範囲、0.05〜10気圧の圧力
範囲で水素の選択的酸化反応を行う。次に、この反応ガ
スを第3段反応層に供給し、ここで再び鉄系脱水素触媒
により未反応のエチルベンゼンの脱水素を行い、より高
い収率でスチレンを得る。
【0017】このように、本発明の方法によれば、平衡
的制約が除かれ、かつ反応温度の低下を補償することが
できるため、通常の脱水素反応に比較して遙かに高い収
率で脱水素反応を行うことができる。
【0018】
【実施例】以下に示す実施例により、本発明を更に具体
的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定さ
れるものではない。 実施例1 (触媒調製)硝酸アルミニウムAl(NO33・9H2
Oの水溶液に3Nのアンモニア水を攪拌しながら30℃
以下の温度で徐々に加え、水酸化物の沈殿を発生させ
る。沈殿物の生成が終了した時点でアンモニア水の添加
を止め、次いで生成した水酸化アルミニウムの沈殿物を
濾別し、水で洗浄した。得られた沈殿物を乾燥器に入れ
120℃で1晩乾燥した。乾燥後の沈殿物をマッフル炉
に入れ、700℃で5時間焼成した。この焼成品に少量
の水を加え、ニーダーで2時間湿式擂潰後、押し出し成
型機にて平均粒径2φ×2mmのペレットとした。この
ペレットを乾燥器で120℃で1晩乾燥後、マッフル炉
で1300℃又は1400℃で3時間焼成した。得られ
たアルミナのBET比表面積とアンモニア吸着量は、1
300℃焼成品がそれぞれ3.2m2/g及び4.5μ
mol/gであり、1400℃焼成品が、それぞれ1.
4m2/g及び2.8μmol/gであった。このアル
ミナにPtとして0.2wt%相当量の塩化白金酸六水
和物水溶液を均一に添加して、ロータリーエバポレータ
ーにて60℃で減圧乾燥した。これを、乾燥器にて12
0℃で1晩乾燥後、マッフル炉中で650℃で3時間焼
成して担体焼成温度の異なる2種の0.2wt%Pt/
Al23触媒を得た。
【0019】(反応)上記のようにして調製した触媒1
mlを、内径7mmの石英反応管に充填し、触媒の上下
に触媒と略同粒径の石英チップを充填した。その後、水
素と窒素の混合ガス流通下、500℃で1時間還元処理
を施した。還元処理後、窒素ガスで反応器系内を置換し
てから、触媒層温度を所望の温度にした。次いで、スチ
レン、エチルベンゼン、水、水素及び空気からなる混合
ガスを反応管に導入して反応を開始した。混合ガスの組
成は、
【0020】
【数1】スチレン/エチルベンゼン/水/水素/酸素/
窒素=1/1/12/1/0.52/1.95(モル
比) である。また、反応器における空間速度は
【0021】
【数2】 GHSV=23900hr-1(0℃、1気圧) LHSV(スチレン+エチルベンゼン)=15hr-1
【0022】である。反応開始0.5時間後から反応管
出口のガス及び液受器にトラップされた液をガスクロマ
トグラフィーで分析を行い触媒を評価した。結果を表−
1、表−2に示す。なお表中の「SM+EB燃焼率
(%)」は以下の手法で算出した。
【0023】
【数3】 (但し、EBはエチルベンゼン、SMはスチレンを示
す。)
【0024】
【表1】
【0025】
【表2】
【0026】比較例1(米国特許4,717,779号
明細書の実施例1の触媒Aの追試) (触媒調製)濃硝酸6.6wt%を含む水溶液66.8
gに7.6gの塩化スズを加え溶解した液をベーマイト
アルミナ(Kaiser)を1139.6gに加え、この溶液
を15秒間徐々混合し、続いて5分間激しく混合した。
得られた物質を直径3mmに押し出し成型した。次に押
し出し成型物を95℃の乾燥器中で2時間乾燥した。乾
燥した押し出し品は石英管中で空気流通下、350℃で
1時間焼成した。
【0027】更に、空気流通下、600℃まで昇温して
3時間焼成した。これを更にマッフル炉で8時間で12
30℃まで昇温して3時間保持し、次いで8時間かけて
徐々に室温まで冷却した。得られた押し出し成型品のB
ET比表面積及びアンモニア吸着量はそれぞれ10.8
2/g、3.7μmol/gであった。次に、水14
2.5gに、Pt2.54wt%を含む塩化白金酸溶液
12.91g、Li0.88wt%を含む硝酸リチウム
溶液37.27g及び微量の濃硝酸を加えた混合溶液の
所定量をガラス製のスチームジャケットの蒸発器に加え
た。その後、1230℃で焼成された押し出し成型品を
0.85〜1.0mmに破砕した物50gを蒸発器に加
え、蒸発器を室温で15分間回転し、スチームを蒸発器
のジャケットに導入した。1リットル/分で窒素を蒸発
器の口にパージしながら蒸発器を2時間回転させ、その
後、水蒸気を止めて含浸物を取り出し、乾燥器中で15
0℃の温度で2時間乾燥し、その後、石英管中で焼成し
た。得られた含浸物は、65℃の温度に加熱した水バブ
ラーを通してバブルした空気の流通下、室温から650
℃に2時間で昇温し、その後、空気流通下、650℃で
1時間焼成してから室温まで冷却して、0.2wt%P
t−0.5wt%Sn−0.2wt%Li−Al23
媒を得た。
【0028】(反応)実施例1と同様にして反応を行っ
た。結果を表−3に示す。
【0029】
【表3】
【0030】比較例2 担体アルミナを溶融アルミナに変えた他は実施例1と同
様にした。結果を表−4に示す。
【0031】
【表4】
【0032】比較例3 (触媒調製)硝酸アルミニウムAl(NO33・9H2
Oの水溶液に3Nのアンモニア水を攪拌しながら30℃
以下の温度で徐々に加え、水酸化物の沈殿を発生させ
た。沈殿物の生成が終了した時点でアンモニア水の添加
を止め、次いで生成した水酸化アルミニウムの沈殿物を
濾別し、水で洗浄した。得られた沈殿物を乾燥器に入
れ、120℃で1晩乾燥した。これをマッフル炉に入
れ、700℃で5時間焼成した。この焼成物に少量の水
を加え、ニーダーで2時間湿式擂潰後、押し出し成型機
にて平均粒径2φ×2mmのペレットとした。このペレ
ットを乾燥器で120℃で1晩乾燥後、マッフル炉で1
200℃で3時間焼成した。得られたアルミナのBET
比表面積及びアンモニア吸着量はそれぞれ5.0m2
g、6.7μmol/gであった。アルミナにPtとし
て0.2wt%相当量の塩化白金酸六水和物水溶液を均
一に添加して、ロータリーエバポレーターにて60℃で
減圧乾燥した。その後、乾燥器にて120℃で1晩乾燥
後、マッフル炉中で650℃で3時間焼成して、0.2
wt%Pt/Al23触媒を得た。
【0033】(反応)触媒を上記のものに変えた他は実
施例1と同様にした。結果を表−5に示す。
【0034】
【表5】
【0035】実施例2 担体アルミナの焼成を1200℃、8時間とした以外は
実施例1と同様にした。結果を表−6に示す。なお、こ
の担体アルミナのBET比表面積とアンモニア吸着量は
それぞれ4.7m2/g、5.0μmol/gであっ
た。
【0036】
【表6】
【0037】
【発明の効果】本発明により、原料炭化水素を脱水素し
て得られた、未反応原料炭化水素、脱水素された炭化水
素及び水素を含有する混合ガス中の水素を高い選択率で
選択的に酸化することができる。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水素及び炭化水素を含有する混合ガス中
    の水素を選択的に酸化するための触媒であって、(1)
    アルミナ上に白金を担持させた成分を含有し、(2)該
    アルミナの表面積が0.5〜6m2/gであり、(3)
    該アルミナのアンモニア吸着量が5μmol/g以下であ
    ることを特徴とする水素の酸化触媒。
  2. 【請求項2】 白金担持量が、アルミナに対して0.0
    1〜10重量%である請求項1に記載の酸化触媒。
  3. 【請求項3】 炭化水素及び水素を含有する混合ガス
    を、酸化触媒の存在下で酸素含有ガスと接触させて、該
    混合ガス中の水素を選択的に酸化させる方法において、
    該酸化触媒として請求項1又は2に記載の酸化触媒を用
    いることを特徴とする水素の選択的酸化方法。
  4. 【請求項4】 300〜800℃の温度範囲で炭化水素
    と水素との混合ガスと酸素含有ガスとを接触させる請求
    項3に記載の方法。
  5. 【請求項5】 原料炭化水素を脱水素反応させ、得られ
    た脱水素された炭化水素、未反応の原料炭化水素、及び
    水素を含有する混合ガスを、酸化触媒の存在下で酸素含
    有ガスと接触させて、該混合ガス中の水素を選択的に酸
    化させ、その後、さらに未反応原料炭化水素を脱水素反
    応させる炭化水素の脱水素反応において、該酸化触媒と
    して請求項1又は2に記載された酸化触媒を用いること
    を特徴とする炭化水素の脱水素方法。
  6. 【請求項6】 原料炭化水素がエチルベンゼンであり、
    脱水素された炭化水素がスチレンである請求項5に記載
    の炭化水素の脱水素方法。
  7. 【請求項7】 脱水素反応の温度範囲が400〜800
    ℃であり、酸化反応の温度が300〜800℃である請
    求項5又は6に記載の炭化水素の脱水素方法。
JP21733896A 1996-08-19 1996-08-19 水素の酸化触媒、水素の選択的酸化方法、及び炭化水素の脱水素方法 Expired - Fee Related JP3860625B2 (ja)

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