JPH105702A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 搬送基準面の調整が容易で板状部材両面の洗
浄度をより高くすると共に、発塵をも抑制する。 【解決手段】 基板押えロール１８の存在で基板２の上
方向の搬送基準面の調整が容易になり、また、基板２の
表面を洗浄する上側ロールブラシ１９に対して全面支持
ロールの基板支持ロール２０を設けているので、基板２
の下方向の搬送基準面の調整も容易で、基板２の両面の
洗浄度がより高くなる。また、このような基板２の下方
向の搬送基準面規定用の基板支持ロール２０が配置され
たとしても、搬送最上流側に裏面洗浄用の下側ロールブ
ラシ１７が設けられているので、板状部材裏面の汚れが
下側ロールブラシ１７を介して基板２の裏面に再付着す
ることなく、基板２の裏面の洗浄度もより高くなる。さ
らに、上下のブラシが対向配設していないので、互いの
ブラシ毛の摩耗による発塵の問題も抑制される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶表示器
用ガラス基板やプリント基板などの基板類および半導体
ウエハなどの板状部材の表面および裏面をそれぞれブラ
シなどで洗浄する洗浄装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来のブラシ洗浄装置は、図１０に示す
ようにディスクブラシ５１を上下に対向配設し、板状部
材としてのガラス基板やプリント基板などの基板５２
が、上下のディスクブラシ５１の間を水平姿勢で搬送さ
れることにより、基板５２の表裏両面を同時に洗浄して
いた。また、これらのディスクブラシ５１の代わりに、
図１１に示すような上下のロールブラシ５３を回転させ
ると共に、上下のロールブラシ５３で基板５２の表裏両
面を挾み込んで同時に洗浄していた。

【０００３】また、例えば液晶表示器の製造工程におい
て、基板にフォトリソグラフィ工程などの各種処理を施
そうとする場合、かかる処理を施す面（以下、表面と称
す）の方がその裏面よりもより高い洗浄度を要求される
場合が多いのが現状である。このため、基板の表面側の
方がその裏面側よりもブラシを多く配設していた。例え
ば、図１２に示すようなブラシ洗浄装置では、上側ディ
スクブラシ６１，６２を搬送方向Ａに対して所定距離置
いて配設すると共に、これらの上側ディスクブラシ６
１，６２の間に下側ディスクブラシ６３を配設し、か
つ、上側ディスクブラシ６１，６２の下側にはそれぞれ
対向するように全面支持ロール６４，６５がそれぞれ配
設されている。これらの上側ディスクブラシ６１，６２
と下側ディスクブラシ６３および全面支持ロール６４，
６５との間を基板６６が表面側を上にして水平姿勢で搬
送されることにより、基板６６の表面側の洗浄度が裏面
側のそれよりもより高くなるように洗浄していた。

【０００４】また、例えば、上記ディスクブラシの代わ
りにロールブラシを用いたブラシ洗浄装置としては、図
１３に示すように、上側ロールブラシ７１，７２，７３
を搬送方向Ａに対して所定距離置いてそれぞれ配設する
と共に、これらの上側ロールブラシ７１，７２の間に下
側ロールブラシ７４を、上側ロールブラシ７２，７３の
間に下側ロールブラシ７５を配設し、かつ、上側ロール
ブラシ７１，７２，７３の下側にそれぞれ対向するよう
に全面支持ロール７６，７７，７８がそれぞれ配設され
ている。これらの上側ロールブラシ７１，７２，７３と
下側ロールブラシ７４，７５および全面支持ロール７
６，７７，７８との間を基板６６が表面側を上にして水
平姿勢で搬送されることにより、基板６６の表面側の洗
浄度が裏面側のそれよりもより高くなるように洗浄して
いた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の構成で、図
１０および図１１のようにディスクブラシ５１またはロ
ールブラシ５３などのブラシを対向配設した場合には、
この部分での基板５１両面の支持は上下のブラシの押し
込みバランスに頼っているため、鉛直方向での基板位置
（以下、基板搬送基準面と称す）の調整が難しく、基板
位置が上下することにより基板両面とブラシとの接触が
不均一になりやすく基板両面の洗浄度が低下するという
問題があった。また、例えば、基板５１の裏面を支持し
ている下側のブラシにガタツキが発生したような場合に
は、基板５１の裏面に対しても下側のブラシが不均一な
接触になると共に、基板５１の表面に対して上側のブラ
シも不均一な接触になって影響し、基板両面の洗浄度が
低下するという問題があった。

【０００６】また、このようなブラシで基板５１の表面
の洗浄を行うような場合には、基板５１の表面に対して
ある程度、ブラシを基板５１側に押し込む必要があるた
め、基板５１が通過していない状態では上下のブラシが
互いに接触することになり、このとき、ブラシ毛先端同
志が擦れて摩耗し、これが発塵の原因になるという問題
を有していた。このようなブラシ毛による発塵は、基板
５１の表面に対するブラシの押し込み量が多いほど、ま
た、基板５１が薄くなるほど、ブラシがロールブラシ５
３の場合にブラシ回転数が高いほど顕著になる。特に、
液晶表示器用ガラス基板ではその表面に高いクリーン度
が要求されているため、発塵防止対策が重要な課題とな
っている。

【０００７】次に、上記従来の構成で、図１２および図
１３のように上側ディスクブラシ６１，６２または上側
ロールブラシ７１，７２，７３などの上側ブラシの真下
に全面支持ロール６４，６５または全面支持ロール７６
〜７８がそれぞれ配設されている位置では、これらの全
面支持ロール６４，６５または全面支持ロール７６〜７
８上を基板６６がそれぞれ搬送されるので、基板６６や
洗浄液の重量の他に上側ブラシの基板６６上面への加圧
によっても基板６６が撓まず、基板６６が下方向に移動
することがなく、基板搬送基準面が確定するので、上側
ブラシの基板６６上面への接触も均一となっている。し
かし、上記下側ディスクブラシ６３または下側ロールブ
ラシ７４，７５などの位置では、それらの下側ブラシの
基板６６の裏面への押し込み量によっては基板６６が上
方向に移動し得るため、下側ブラシ部分での基板搬送基
準面が確定せず、基板位置が上方向に移動して、基板裏
面とブラシとの接触が不均一になりやすいという問題が
あった。

【０００８】また、これらの全面支持ロール６４，６５
または全面支持ロール７６〜７８の存在が逆に、基板６
６の裏面を汚染してしまうという問題を有していた。つ
まり、最近では、基板の裏面の洗浄度も要求されるよう
になってきており、上記全面支持ロール６４，６５また
は全面支持ロール７６〜７８が基板６６の全裏面に亘っ
て接触することで基板６６の裏面を汚染してしていた。

【０００９】本発明は、上記問題を解決するもので、搬
送基準面の調整が容易で板状部材両面の洗浄度をより高
くすることができると共に、発塵をも抑制することがで
きる洗浄装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の洗浄装置は、搬
送中の板状部材の上面および下面をそれぞれ洗浄する洗
浄装置において、搬送最上流側に、板状部材の下面を洗
浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位置に配設
され前記洗浄部材とで前記板状部材の少なくとも両端部
を挾持する押え部材とを備えたことを特徴とするもので
ある。この場合、前記搬送最上流側の後に、板状部材の
上面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位
置に配設され前記洗浄部材とで前記板状部材の幅方向に
亘って挾持して支持する支持部材とを少なくとも１組備
えることができる。

【００１１】この構成により、押え部材の存在で板状部
材が上方向に移動することがなく、基板搬送基準面の調
整が容易で板状部材下面への洗浄部材の接触が不均一と
ならず、また、板状部材の上面を洗浄する洗浄部材に対
して支持部材を設ければ、板状部材が下方向に移動する
ことがなく、基板搬送基準面の調整が容易で板状部材上
面への洗浄部材の接触が不均一とならないことから、板
状部材両面の洗浄度がより高くなる。また、このよう
に、搬送最上流側に下面洗浄用の洗浄部材が設けられて
いるので、その後の搬送経路に板状部材の下方向搬送基
準面規定用の支持部材が配置されたとしても、支持部材
へ来る基板の下面はすでに清浄であり、支持部材が汚染
されることはなく、板状部材下面の汚れが支持部材を介
して板状部材下面に再付着するようなことはなく板状部
材下面の洗浄度もより高くなる。さらに、洗浄部材が対
向して配設されていないので、特に洗浄部材がブラシ洗
浄部材の場合のように互いのブラシ毛の摩耗による発塵
の問題は抑制されることになる。

【００１２】また、本発明の洗浄装置は、搬送中の板状
部材の上面および下面をそれぞれ洗浄する洗浄装置にお
いて、搬送最下流側に、板状部材の下面を洗浄する洗浄
部材と、この洗浄部材に対向する位置に配設され前記洗
浄部材とで前記板状部材の少なくとも両端部を挾持する
押え部材とを備えたことを特徴とするものである。この
場合、前記搬送最下流側の前に、板状部材の上面を洗浄
する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位置に配設さ
れ前記洗浄部材とで前記板状部材の幅方向に亘って挾持
して支持する支持部材とを少なくとも１組み備えること
ができる。

【００１３】この構成により、押え部材の存在で板状部
材が上方向に移動することがなく、基板搬送基準面の調
整が容易で板状部材下面への洗浄部材の接触が不均一と
ならず、また、板状部材の上面を洗浄する洗浄部材に対
して支持部材を設ければ、板状部材が下方向に移動する
ことがなく、基板搬送基準面の調整が容易で板状部材上
面への洗浄部材の接触が不均一とならないことから、板
状部材両面の洗浄度がより高くなる。また、このような
板状部材の下方向搬送基準面規定用の支持部材が配置さ
れたとしても、その後の搬送最下流側に板状部材下面洗
浄用の洗浄部材が配設されているので、板状部材の搬送
を支持する支持部材で板状部材の下面が汚染されたとし
ても最終的にその汚染を洗浄除去することが可能とな
る。さらに、洗浄部材が対向して配設されていないの
で、特に洗浄部材がブラシ洗浄部材の場合のように互い
のブラシ毛の摩耗による発塵の問題は抑制されることに
なる。

【００１４】さらに、本発明の洗浄装置は、搬送中の板
状部材の上面および下面をそれぞれ洗浄する洗浄装置に
おいて、搬送最上流側に、板状部材の下面を洗浄する洗
浄部材と、この洗浄部材に対向する位置に配設され前記
洗浄部材とで前記板状部材の少なくとも両端部を挾持す
る押え部材とが備えられ、搬送最下流側に、板状部材の
下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対向する位
置に配設され前記洗浄部材とで前記板状部材の少なくと
も両端部を挾持する押え部材とが備えられたことを特徴
とするものである。この場合、前記搬送最上流側と搬送
最下流側の間に、板状部材の上面を洗浄する洗浄部材
と、この洗浄部材に対向する位置に配設され前記洗浄部
材とで前記板状部材の幅方向に亘って挾持して支持する
支持部材とを少なくとも１組備えることができる。

【００１５】この構成により、押え部材で搬送基準面の
調整が容易になり、また同様に、板状部材の上面を洗浄
する洗浄部材に対して支持部材を設ければ、板状部材が
下方向に移動することがなく、基板搬送基準面の調整が
容易で、板状部材両面の洗浄度がより高くなる。また、
このような板状部材の下方向の搬送基準面規定用の支持
部材が配置されたとしても、搬送最上流側に下面洗浄用
の洗浄部材が設けられているので、支持部材へ来る基板
の下面はすでに清浄であり、支持部材が汚染されること
はなく、板状部材下面の汚れが支持部材を介して板状部
材下面に再付着することなく、また、万一、板状部材下
面の汚れが残ったり、また、支持部材に汚染があったと
しても、搬送最下流側に板状部材下面洗浄用の洗浄部材
が配設されているので、最終的にその汚染を洗浄するこ
とが可能となる。さらに、従来のように洗浄部材が対向
して配設されていないので、特に洗浄部材がブラシ洗浄
部材の場合のように互いのブラシ毛の摩耗による発塵の
問題は抑制されることになる。

【００１６】さらに、好ましくは、本発明の洗浄装置に
おける洗浄部材はブラシ洗浄部材で構成され、押え部材
はローラ部材で構成されている。この構成により、本発
明を容易に適応することが可能となる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る洗浄装置の実
施形態について図面を参照して説明する。 （実施形態１）図１は本発明の実施形態１における基板
洗浄装置を含む基板洗浄システムの構成を示す平面図で
ある。

【００１８】図１において、この基板洗浄システムは、
主に、基板供給部または基板排出部として機能するイン
デクサ装置１と、板状部材としてのガラス基板などの基
板２の表面および裏面をそれぞれブラシ洗浄部材で洗浄
する基板洗浄装置３と、インデクサ装置１と基板洗浄装
置３の間で基板２を搬出入を行うロボット装置４とで構
成されている。

【００１９】このインデクサ装置１には、角形の基板２
を複数枚収納可能なカセット５，６を載置する載置台７
が設けられている。これらのカセット５，６は、例えば
自動搬送ロボット（図示せず）により載置台７上の所定
の位置に搬送されてくる。カセット５，６が載置台７上
に設置された状態で、ロボット装置４によるカセット５
からの基板２の取り出し、およびカセット６への洗浄処
理後の基板２の収納が可能となる。

【００２０】このように、ロボット装置４は、カセット
５と基板洗浄装置３の搬入側との間および、カセット６
と基板洗浄装置３の搬出側との間に移動自在であり、図
示しない旋回、進退および上下移動可能なハンドによっ
て基板２の周辺部を吸着支持した状態で、制御部からの
指令に応じてハンドを基板２と共に移動させて、カセッ
ト５から基板洗浄装置３の搬入側に基板２の搬入を行う
ことができ、また、基板洗浄装置３の搬出側からカセッ
ト６に基板２の搬出を行うことができる。

【００２１】図２は図１の基板洗浄装置の要部を示す部
分側面図であり、図３は図１の基板洗浄装置の搬送ロー
ラ、上乗せローラ、基板支持ロールおよびロールブラシ
の構成を詳しく示す断面図である。

【００２２】図２および図３において、この基板洗浄装
置３は、基板２の搬入側に前側コンベア部１１が配設さ
れ、ブラシ洗浄処理後の基板２の搬出側に後側コンベア
部１２が配設され、これらの前側コンベア部１１と後側
コンベア部１２との間にブラシ洗浄部１３が配設されて
いる。

【００２３】これらの前側コンベア部１１および後側コ
ンベア部１２では、複数の搬送ローラ１４が互いに平行
に搬送方向に配設されている。これらの各搬送ローラ１
４の構成については後述するが、これらの各搬送ローラ
１４は図示しない駆動部と連結されており、駆動部から
の駆動力によって一定方向に回転して基板２を表面側を
上にして水平に保持した状態で搬送方向Ａに搬送する構
成となっている。

【００２４】また、ブラシ洗浄部１３は、前側コンベア
部１１と後側コンベア部１２との間の基板洗浄搬送経路
に配設されており、基板２の表面および裏面にノズルＮ
から純水、洗剤などの洗浄液を供給しつつブラシによっ
て洗浄するように構成されている。その経路上流側に、
基板２の裏面を洗浄する下側ロールブラシ１７と、この
下側ロールブラシ１７の上方に配設され下側ロールブラ
シ１７とで基板２の幅の両端部をそれぞれ挾持する基板
押えロール１８とを、それらの軸心が上下平行になるよ
うにそれぞれ配設しており、これらの下側ロールブラシ
１７と各基板押えロール１８との間を基板２が搬送され
るように構成されている。この場合、押え部材としての
各基板押えロール１８は、基板２の裏面により均一にブ
ラシが当接するように平面性を維持するため、下側ロー
ルブラシ１７に対向するように前後に２個配設されてい
るが、基板２に剛性があれば撓みにくく平面性を維持で
きるため、１個の基板押えロール１８でもよい。また、
これらの各基板押えロール１８は、基板２の汚染や損傷
などを防止するために、各基板押えロール１８が基板２
の中央部に当接しないように基板２の両端縁部をそれぞ
れ押えるように構成されている。このように、下側ロー
ルブラシ１７により基板２の下側からブラシで押圧する
部位では、各基板押えロール１８で基板２の両端縁部を
それぞれ押えていれば、下側ロールブラシ１７の基板２
の裏面への押し込み量が多くても、基板２自体が持つ剛
性に加え、基板２の自重や基板２上に乗っている洗浄液
の重量などがかかるため、基板２が上方向に移動したり
撓んだりするようなこともない。さらに、下側ロールブ
ラシ１７はその上方を通過する基板２の幅に亘って配設
されており、各基板押えロール１８の存在により下側ロ
ールブラシ１７の基板２の裏面への押し込み量が適度に
調整可能であり、下側ロールブラシ１７の基板２の裏面
への均一な接触を容易に得ることが可能である。

【００２５】また、基板洗浄搬送経路の下流側には、基
板２の表面を洗浄する上側ロールブラシ１９と、この上
側ロールブラシ１９の真下に配設され基板２の幅全体に
亘って基板２を支持する支持部材としての基板支持ロー
ル２０とを、それらの軸心が上下平行になるようにそれ
ぞれ配設しており、これらの上側ロールブラシ１９と基
板支持ロール２０との間を基板２が搬送されるように構
成されている。この場合、基板支持ロール２０は、その
上方を通過する基板２の幅全体に亘って支持するいわゆ
る全面支持ロールであり、基板支持ロール２０の存在に
より、基板２や洗浄液の自重に加えて上側ロールブラシ
１９の加圧によっても基板２が下方向に撓むようなこと
はなくより均一に上側ロールブラシ１９を基板２の表面
に当接させることが可能となる。また、上側ロールブラ
シ１９はその下方を通過する基板幅全体に亘って配設さ
れており、各基板支持ロール２０の存在により上側ロー
ルブラシ１９の基板２の表面への押し込み量が適度に調
整されて上側ロールブラシ１９の基板２の表面への均一
な接触を得ることが可能となる。

【００２６】さらに、これらの下側ロールブラシ１７お
よび上側ロールブラシ１９の前後位置にはそれぞれ、搬
送ローラ２１〜２３が互いに平行に搬送方向Ａに沿って
配設されている。ブラシ洗浄部１３におけるこれらの各
搬送ローラ２１〜２３は、図３（ａ）に示すように、軸
部１５と、この軸部１５の両端部に配設され基板２の両
端縁をそれぞれ支持する支持軸部１６ａおよび、この支
持軸部１６ａに連なるつば部１６ｂとを有している。こ
の両端のつば部１６ｂと支持軸部１６ａとの間はテーパ
部で構成されている。このテーパ部で基板２を案内しつ
つ両支持軸部１６ａ上に設置可能な構成になっている。
また、これらの各搬送ローラ２１〜２３は駆動部と連結
されており、駆動部からの駆動力によって一定方向に回
転して基板２を水平に保持した状態で搬送方向Ａに搬送
する構成となっている。

【００２７】また、これらの各搬送ローラ２１〜２３上
にはそれぞれ、基板２の両端縁２ａを挾持すべく上乗せ
ローラ２４〜２６がそれぞれ配設されている。これらの
上乗せローラ２４〜２６はそれぞれ、軸部２７と、この
軸部２７の両端部に配設され基板２の両端縁２ａをそれ
ぞれ転がりながら押える円形つば部２８とを有してい
る。このように、図３（ａ）に示す上乗せローラ２６
と、他の上乗せローラ２４，２５とは同様の構成であ
り、搬送ローラ２３は他の搬送ローラ２１，２２と同様
の構成である。また、前側コンベア部１１、後側コンベ
ア部１２における搬送ローラ１４は、上乗せローラと組
み合わせられてはいないが、その構成は搬送ローラ２３
と同様である。なお、搬送ローラ１４にも同様の上乗せ
ローラを組み合わせてもよい。

【００２８】上記構成により、インデクサ装置１の載置
台７上に載置されたカセット５からロボット装置４のハ
ンドにより基板２を吸着して取り出して基板洗浄装置３
の搬入側の各搬送ローラ１４上に搬入する。このよう
に、カセット５から各搬送ローラ１４上に搬送された基
板２は、ブラシ洗浄部１３で基板２の表面および裏面が
それぞれ洗浄されることになる。

【００２９】このとき、まず、基板洗浄搬送経路の上流
側では、下側ロールブラシ１７と各基板押えロール１８
との間隔が調整されており、各基板押えロール１８の存
在で基板搬送基準面が確定するため、適度なブラシの押
し込み量に容易に設定することができると共に、下側ロ
ールブラシ１７の基板２の裏全面に対する均一接触を得
ることができる。

【００３０】次に、基板洗浄搬送経路の下流側では、上
側ロールブラシ１９と基板支持ロール２０との間隔が調
整されており、基板支持ロール２０の存在で、容易に基
板搬送基準面が確定し、適度な上側ロールブラシ１９の
押し込み量に設定することができると共に、上側ロール
ブラシ１９の基板２の表全面に対する均一接触を得るこ
とができる。このようにして、ブラシ洗浄部１３で基板
２の表面および裏面をそれぞれ洗浄することができる。

【００３１】その後、ブラシ洗浄処理が終了した基板２
は、基板洗浄装置３の搬出側における後側コンベア部１
２の各搬送ローラ１４上からロボット装置４のハンドに
より基板２を吸着して取り出してカセット６内に収納す
る。

【００３２】このように、下側ロールブラシ１７の真上
には各基板押えロール１８が存在し、また、上側ロール
ブラシ１９の真下には基板支持ロール２０が存在するた
め、基板搬送基準面が確定し、基板２の両面に対するブ
ラシの均一接触のためのブラシ押し込み量調整を容易に
行うことができて、基板２の安定搬送と共に安定洗浄を
行うことができる。

【００３３】また、基板２の裏面が汚れていると、その
汚れが全面支持ロールである基板支持ロール２０に付着
すると共に基板支持ロール２０から基板２の裏面に再付
着して基板２の裏面が汚染されることが考えられるが、
この実施形態１では、下側ロールブラシ１７を基板洗浄
の搬送経路最上流側に配置して先に基板２の裏面を洗浄
してしまっているので、次にくる基板支持ロール２０も
汚染されずに済み、基板２の裏面の汚染も軽減されるこ
とになる。その後、搬送経路下流側で基板２の表面側を
基板支持ロール２０に対して上側ロールブラシ１９で加
圧しながら洗浄すれば、基板２の両面の洗浄度をより高
くすることができる。

【００３４】さらに、基板２が通過していない状態であ
っても、従来のように、下側ロールブラシ１７と上側ロ
ールブラシ１９とが互いに接触するようなことがなく、
ブラシ毛先端同志が擦れることによる発塵はなくなって
発塵をより抑制させることができる。

【００３５】（実施形態２）上記実施形態１では基板搬
送経路上流側で下側ロールブラシ１７を用い、基板搬送
経路下流側で上側ロールブラシ１９を用いたが、本実施
形態２では、更なる基板両面の洗浄度を向上させるべ
く、その後の少なくとも最終洗浄工程に上記実施形態１
と同様の下側ロールブラシ１７を用いると共に、この下
側ロールブラシ１７の真上に基板押えロール１８を用い
る場合である。

【００３６】図４は本発明の実施形態２における基板洗
浄装置の要部を示す部分側面図であり、図２と同様の作
用、効果を奏する部材には同様の符号を付してその説明
を省略する。

【００３７】図４において、図２のブラシ洗浄部１３の
搬送経路後流側に、上側ロールブラシ１９および基板押
えロール１８、さらに下側ロールブラシ１７および基板
支持ロール２０と同様の部材を配設している。

【００３８】この構成により、基板押えロール１８で基
板２の上方向の搬送基準面の調整が容易になり、また、
基板２の表面を洗浄する上側ロールブラシ１９に対して
基板支持ロール２０を設けているので、基板２の下方向
の搬送基準面の調整が容易で、基板２の両面の洗浄度を
より高くすることができる。また、このような基板２の
下方向の搬送基準面規定用の基板支持ロール２０が配置
されたとしても、搬送最上流側に裏面洗浄用の下側ロー
ルブラシ１７が設けられているので、基板２の裏面の汚
れが下側ロールブラシ１７を介して基板２の裏面に再付
着することなく、また、基板２の裏面の汚れが残ったと
しても、搬送最下流側に基板２の裏面洗浄用の下側ロー
ルブラシ１７が配設されているので、最終的にその汚染
を洗浄することができる。さらに、従来のように上側ロ
ールブラシ１９および下側ロールブラシ１７が対向して
配設されていないので、互いのブラシ毛の摩耗による発
塵の問題も抑制される。

【００３９】（変形例）上記実施形態１では、ブラシに
下側ロールブラシ１７および上側ロールブラシ１９を用
いたが、これらの下側ロールブラシ１７および上側ロー
ルブラシ１９の代わりに、図５のように、下側ディスク
ブラシ４１および上側ディスクブラシ４２を用いてもよ
い。また、ロールブラシとディスクブラシが混在してい
てもよく、例えば図６のように、搬送経路上流側で下側
ロールブラシ１７を用い、搬送経路下流側で上側ディス
クブラシ４２を用いてもよく、または、搬送経路上流側
で下側ディスクブラシ４１を用い、搬送経路下流側で上
側ロールブラシ１９を用いてもよい。これらの場合に
も、上記実施形態１と同様に、基板押えロール１８およ
び基板支持ロール２０を用いることができる。また、基
板支持ロール２０は上側ブラシの下方向に対向するよう
に前後に２個以上配設してもよく、この場合には、より
均一な平面度が得られる。

【００４０】また、上記実施形態２では、ブラシに下側
ロールブラシ１７、上側ロールブラシ１９、上側ロール
ブラシ１９さらに下側ロールブラシ１７を用いたが、こ
れらの下側ロールブラシ１７および上側ロールブラシ１
９の代わりに、図７のように、下側ディスクブラシ４
１、上側ディスクブラシ４２、上側ディスクブラシ４２
さらに下側ディスクブラシ４１を用いてもよい。また、
ロールブラシとディスクブラシが混在していてもよく、
例えば図８のように、搬送経路上流側で下側ロールブラ
シ１７さらに上側ディスクブラシ４２を用い、搬送経路
下流側で上側ディスクブラシ４２さらに下側ロールブラ
シ１７を用いてもよく、または、搬送経路上流側で下側
ディスクブラシ４１さらに上側ロールブラシ１９を用
い、搬送経路下流側で上側ロールブラシ１９さらに下側
ディスクブラシ４１を用いてもよい。これらの場合に
も、上記実施形態１と同様に、基板押えロール１８およ
び基板支持ロール２０を用いることができる。

【００４１】さらに、上記実施形態２では、下側ロール
ブラシ１７、上側ロールブラシ１９、上側ロールブラシ
１９さらに下側ロールブラシ１７の順に配設したが、搬
送最上流側および搬送最下流側に下側ロールブラシ１７
および基板押えロール１８をそれぞれ配設すればよく、
搬送最上流側と搬送最下流側との間には上側ロールブラ
シ１９および基板支持ロール２０の組みが少なくとも１
組みあればよく、この間に下側ロールブラシ１７および
基板押えロール１８の組みが含まれていてもよい。

【００４２】さらに、ブラシ洗浄部がディスクブラシで
構成され、特に、図９に示すように、円形のディスクブ
ラシ４３が基板２の幅方向に沿って複数個配設される場
合には、各ディスクブラシ４３間に隙間ができないよう
に千鳥形状に配設して洗浄する。このように、ディスク
ブラシ４３を千鳥形状に配設すると、配設スペースの面
積が増える。

【００４３】さらに、上記実施形態１，２では、下側ロ
ールブラシ１７および上側ロールブラシ１９による基板
２の洗浄時に、洗浄液は、下側ロールブラシ１７および
上側ロールブラシ１９の若干上流側の両側方より供給す
るようにしているが、これらの下側ロールブラシ１７お
よび上側ロールブラシ１９自体の中央部からそれぞれ供
給するような構成であってもよい。なお、以上の変形例
の説明では、ノズルＮの図示は省略している。

【００４４】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、下側の洗
浄部材の上方に対向して押え部材を設けたため、板状部
材下面への洗浄部材の接触が不均一とならず、また、板
状部材の上面を洗浄する洗浄部材に対して支持部材を設
ければ、板状部材上面への洗浄部材の接触も不均一とな
らず、板状部材両面の洗浄度をより高くすることができ
る、また、このような支持部材が板状部材下面側に配置
されたとしても、搬送最上流側に下面洗浄用の洗浄部材
が設けられているため、板状部材下面の汚れが支持部材
を介して板状部材下面に再付着するようなことなく板状
部材下面の洗浄度もより高くなる。さらに、洗浄部材が
対向配設ではないため、従来のような発塵をも抑制する
ことができる。

【００４５】また、上側の洗浄部材の下方に対向して支
持部材を設けたとしても、搬送最下流側に板状部材下面
洗浄用の洗浄部材が配設されているため、その支持部材
で板状部材の下面が汚染されたとしても最終的にその汚
染を洗浄することで板状部材下面の洗浄度をより高くす
ることができる。

【００４６】さらに、上側の洗浄部材の下方に対向して
支持部材を設けたとしても、搬送最上流側に下面洗浄用
の洗浄部材が設けられているため、板状部材下面の汚れ
が支持部材を介して板状部材下面に再付着することな
く、また、板状部材下面の汚れが残ったとしても、搬送
最下流側に板状部材下面洗浄用の洗浄部材が配設されて
いるため、最終的にその汚染を洗浄することができて、
板状部材下面の洗浄度をより高くすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１における基板洗浄装置を含
む基板洗浄システムの構成を示す平面図である。

【図２】図１の基板洗浄装置の要部を示す部分側面図で
ある。

【図３】図１の基板洗浄装置の搬送ローラ、上乗せロー
ラ、基板支持ロールおよびロールブラシの構成を詳しく
示す断面図である。

【図４】本発明の実施形態２における基板洗浄装置の要
部を示す部分側面図である。

【図５】図２の基板洗浄装置の要部の変形例を模式的に
示す部分側面図である。

【図６】図２の基板洗浄装置の要部の他の変形例を模式
的に示す部分側面図である。

【図７】図４の基板洗浄装置の要部の変形例を模式的に
示す部分側面図である。

【図８】図４の基板洗浄装置の要部の他の変形例を模式
的に示す部分側面図である。

【図９】基板の幅方向に沿って複数の円形ディスクブラ
シを配設した場合の従来の洗浄ブラシのレイアウトを模
式的に示す平面図である。

【図１０】ディスクブラシを対向配設した場合の従来の
ブラシ洗浄装置の要部を模式的に示す部分側面図であ
る。

【図１１】ロールブラシを対向配設した場合の従来のブ
ラシ洗浄装置の要部を模式的に示す部分側面図である。

【図１２】基板表面側により多くのディスクブラシを配
設した場合の従来のブラシ洗浄装置の要部を模式的に示
す部分側面図である。

【図１３】基板表面側により多くのロールブラシを配設
した場合の従来のブラシ洗浄装置の要部を模式的に示す
部分側面図である。

【符号の説明】

２ 基板 ３ 基板洗浄装置 １３ ブラシ洗浄部 １７ 下側ロールブラシ（洗浄部材） １８ 基板押えロール（押え部材） １９ 上側ロールブラシ ２０ 基板支持ロール ４１ 下側ディスクブラシ ４２ 上側ディスクブラシ ４３ 円形ディスクブラシ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送中の板状部材の上面および下面をそ
   れぞれ洗浄する洗浄装置において、搬送最上流側に、板
   状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対
   向する位置に配設され前記洗浄部材とで前記板状部材の
   少なくとも両端部を挾持する押え部材とを備えたことを
   特徴とする洗浄装置。
2. 【請求項２】 搬送中の板状部材の上面および下面をそ
   れぞれ洗浄する洗浄装置において、搬送最下流側に、板
   状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対
   向する位置に配設され前記洗浄部材とで前記板状部材の
   少なくとも両端部を挾持する押え部材とを備えたことを
   特徴とする洗浄装置。
3. 【請求項３】 搬送中の板状部材の上面および下面をそ
   れぞれ洗浄する洗浄装置において、搬送最上流側に、板
   状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、この洗浄部材に対
   向する位置に配設され前記洗浄部材とで前記板状部材の
   少なくとも両端部を挾持する押え部材とが備えられ、搬
   送最下流側に、板状部材の下面を洗浄する洗浄部材と、
   この洗浄部材に対向する位置に配設され前記洗浄部材と
   で前記板状部材の少なくとも両端部を挾持する押え部材
   とが備えられたことを特徴とする洗浄装置。
4. 【請求項４】 前記洗浄部材はブラシ洗浄部材で構成さ
   れ、前記押え部材はローラ部材で構成されたことを特徴
   とする請求項１〜３の何れかに記載の洗浄装置。