JPH1055756A - プラズマディスプレーパネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明ガラス基板自体に隔壁を形成したプラズ
マディスプレーパネル及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 多数のストライプ形状の溝と、該溝の間
に提供される部分が各セルを定義する隔壁を含む透明絶
縁基板；溝内に形成された透明縦電極；透明縦電極上に
形成された蛍光体；及び前記透明縦電極と直交するよう
に所定間隔を置いてストライプ形状で配列され、前記透
明絶縁基板の隔壁の中で、縁部分に位置した隔壁の所定
部分に形成された支持体によって支持される横電極とを
含むプラズマディスプレーパネルである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レーパネル及びその製造方法に関するもので、特に基板
自体に隔壁（Ｂａｒｒｉｅｒ ｒｉｂ）を備えたプラズ
マディスプレーパネル及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１は、従来の技術によるプラズマディ
スプレーパネルの断面図である。図１を参照すると、気
体放電を利用して画像を表示するようになったプラズマ
ディスプレーパネルは、外部の縁部分が密封され、多量
の気体が内部に含まれた一組の平板パネルの前面基板１
と後面基板２とを備える。相互に所定間隔を保持する前
面基板１と後面基板２の各内面には、ストライプ（Ｓｔ
ｒｉｐｅ）構造の陽極３と陰極４とが相互に直交される
ように配列、形成されており、陽極３等の間には、画素
を定義し、併せて画素間のクロストーク（Ｃｒｏｓｓｔ
ａｌｋ）を防止する隔壁（Ｂａｒｒｉｅｒ Ｒｉｂ）５
が提供される。

【０００３】このような構造のプラズマディスプレーパ
ネルの解像度は、前面基板１と後面基板２との間の内部
構造や、これに充填されるガスの種類、陰極の形状及び
材質、前面基板１に接触される隔壁面の偏平度等によっ
て、その特性が決定される。特に、画像を表示すると
き、放電セル間の光拡散によるカラーの滲みを防止する
隔壁を形成することにおいて、隔壁面の偏平さが要求さ
れる。

【０００４】このような隔壁を形成させるための方法と
しては、スクリーン印刷法（転写方法）と、現在開発中
のサンドブラスティング（Ｓａｎｄ Ｂｌａｓｔｉｎ
ｇ）方法とがある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来のプラズマディス
プレーパネル及びその製造方法は以上のように構成さ
れ、従来のプラズマディスプレーパネルの製造方法に用
いられるスクリーン印刷法は、基板上にマスクを載せて
おいて、粘液状態の隔壁物質を塗布した後焼成して隔壁
を形成する。このとき前記隔壁の高さを調節するために
は、数回印刷する場合もある。しかし、このスクリーン
印刷法では、マスクを構成する網（メッシュ）のしなう
性質によって、広い面積に亘り高精密度の隔壁の形成が
難しい問題点を有する。

【０００６】またこの転写方法は、隔壁を形成するため
のマスクパターンを形成した状態で、そのパターン部分
に隔壁用の物質を続けて転写することによって、隔壁を
形成する方法であり、この方法は解像度の限界によっ
て、エスブイ ジーエイ（ＳＶＧＡ）級の高鮮明テレビ
（ＨＤＴＶ：Ｈｉｇｈ Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ Ｔｅｌ
ｅｖｉｓｉｏｎ）に適用するには困難である問題点があ
る。

【０００７】一方、サンド ブラスター（Ｓａｎｄ Ｂ
ｌａｓｔｅｒ）方法は、基板上に均一に隔壁物質を塗布
した後、サンド ブラスターで隔壁となる部分を除外し
た部分を削り出す方法である。この方法は、隔壁でない
部分の除去時に、隔壁部分が共に削り出されないよう
に、露光法でパターンを形成した保護層を前以って形成
させなければならない。しかし、この方法においては、
砂のような固くて小さい粒等を強く衝突させて要らない
部分を除去する際、保護層を通じて隔壁面が機械的な損
傷を受けるようになって均一な隔壁を形成するのが困難
である。従って、この方法は、電極や保護層の損傷がな
く隔壁が容易に削り出されるように、電極物質と感光膜
物質とを開発しなければならないという問題点を有す
る。

【０００８】本発明は上記のような問題点を解決するた
めになされたものであり、本発明の目的は、稠密で均一
な隔壁を形成することができるプラズマディスプレーパ
ネル及びその製造方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明によるプラズマデ
ィスプレーパネルの製造方法は、多数のストライプ形状
の溝を有する透明絶縁基板を提供する。各溝の表面上
に、所定パターンの透明電極と蛍光体を順次的に形成す
る。犠牲層を全面に所定の厚さで塗布し、透明電極パタ
ーンの配列方向と直交する塗布された犠牲層の両側縁の
所定間隔を有する位置等に、透明絶縁基板の表面が露出
される貫通ホール等を形成する。この貫通ホール等と犠
牲層の全面に、貫通ホール等が充分に埋め立てられる程
度の所定の厚さで電極物質を蒸着する。以降、蒸着され
た電極物質を選択的に蝕刻して、透明電極パターンと垂
直で、貫通ホールに埋め立てられた電極物質と一体化さ
れた電極パターンを形成する。最後に、犠牲層を除去す
ることによって、各セルにおける放電空間を確保する。

【００１０】また、本発明によるプラズマディスプレー
パネルは、多数のストライプ形状の溝と、当該各溝の間
に提供される部分が、各セルを定義する隔壁を含む透明
絶縁基板；溝内に形成された透明縦電極；透明縦電極上
に形成された蛍光体；及び透明縦電極と直交するように
所定間隔を置いてストライプ形状で配列され、前記透明
絶縁基板の隔壁の中で、縁部分に位置した隔壁の所定部
分に形成された支持手段によって支持される横電極とを
含む。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明の好ましい実施の形態例を説明する。図２は、本発明
の一実施の形態による、プラズマディスプレーパネルの
隔壁の形成方法を説明するための工程流れ図である。

【００１２】図２（Ａ）を参照すると、プラズマディス
プレーパネルを形成するために備えられた、上下の透明
基板中のいずれか１つの透明基板１０に、感光膜１１を
所定厚さで塗布する。

【００１３】図２（Ｂ）を参照すると、通常の写真蝕刻
工程（露光及び現像）を通じて、感光膜パターン１１′
を形成する。

【００１４】図２（Ｃ）を参照すると、露出された透明
基板１０を所定の深さで蝕刻する。このとき、蝕刻のた
めの方法はプラズマを利用した乾式蝕刻法を利用する。

【００１５】次に、図２（Ｄ）を参照すると、感光膜マ
スク１１′を除去することによって、透明基板自体に隔
壁が形成される。その後、カラープラズマディスプレー
の画素を形成するための工程へ進行する。すなわち、隔
壁が形成された透明基板１０′の全面に、インジウム錫
酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）のような
透明電極用の物質を蒸着し、所定の感光膜マスクを形成
して、予定されていない部分の透明電極を蝕刻すること
によって陽極１２を形成する。その後、全面に赤色の蛍
光体を塗布した後、前記写真蝕刻工程を通じ陽極１２上
の予定領域に赤色の蛍光体１３ａを形成する。同様な方
法で、予定された領域に緑色と、青色の蛍光体１３ｂ、
１３ｃを順次的に形成する。

【００１６】図２（Ｅ）を参照すると、その後、隔壁に
よって定義される画素に放電空間を確保するために、ポ
リイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）の犠牲層１４を全面に
所定の厚さで塗布し、“ａ”部分を蝕刻する。ここにお
いて、“ａ”部分は後続の工程で形成される横電極（陰
極；陽極と直交する）と、透明基板１０′との接触が行
われる位置において、縁部分の隔壁の表面が露出される
深さまで犠牲層１４を除去して形成する。

【００１７】図２（Ｆ）を参照すると、アルミニウムの
ような電極物質を、犠牲層に形成された溝ａと犠牲層１
４の上部に蒸着する。その後、通常の写真蝕刻法を利用
して、蒸着された電極物質をパターン化することによっ
て、下部に形成された透明縦電極（陽極）１２と直交す
るストライプ形状の横電極１５を形成する。その後、犠
牲層１４を湿式蝕刻して除去することによって、縦電極
と横電極の間にガス放電のための空間が形成される。

【００１８】図３は、前記過程によって横電極が形成さ
れた状態の構造を拡大した平面図である。

【００１９】図３を参照すると、本実施の形態のプラズ
マディスプレーパネルは、前面基板自体の蝕刻を通じて
形成された隔壁の間に、縦透明電極と蛍光体１３ａ、１
３ｂ、１３ｃとが位置し、縦透明電極と直交方向に所定
間隔を置いて形成された横電極を含んでおり、横電極１
５と蛍光体１３ａ、１３ｂ、１３ｃとの間に、気体放電
のための所定の空間が確保される構造を有する。

【００２０】前記過程によって形成された下部パネルの
上に、他の透明基板（図示していない）を載せておき、
隔壁面上を覆い、前面板と後面板のガラス基板を結合す
る。

【００２１】透明基板１０′と対向する後面ガラス基板
（図示していない）は、本実施の形態の方法によって製
造された偏平な隔壁面上に載せられて結合されるので、
ディスプレー時に隔壁面の不均一から発生する、周りの
セル間のカラー汚染が防止される。

【００２２】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、上述の
ように構成したので、隔壁面の不均一による放電セル間
のクロストークを除去することができ、併せてセルピッ
チサイズを減らすことができるようになり、表示画面の
解像度を向上させ、品質を向上できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】一般的なプラズマディスプレーパネルの概略的
な断面図である。

【図２】（Ａ）〜（Ｆ）は、本発明の一実施の形態のプ
ラズマディスプレーパネルの製造方法を説明するための
各工程での断面図である。

【図３】本発明の一実施の形態のプラズマディスプレー
パネルの製造方法により形成されたプラズマディスプレ
ーパネルの平面図である。

【符号の説明】

１０、１０′： 透明基板 １１、１１′： 感光膜 １２： 透明縦電極（陽極） １３： 蛍光体 １３ａ： 赤色蛍光体 １３ｂ： 緑色蛍光体 １３ｃ： 青色蛍光体 １４： 犠牲層 １５： 横電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金 鎭 滿 大韓民国 京畿道 利川 大月面 巳東里 441−１ 現代アパート 102棟 702号 (72)発明者 卞 得 壽 大韓民国 ソウル 江東区 明逸洞 55番 地 現代アパート 14棟 903号

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 多数のストライプ形状の溝を有する透明
   絶縁基板を提供する段階；前記各溝の表面上に所定パタ
   ーンの透明電極と蛍光体を順次的に形成する段階；犠牲
   層を全面に所定の厚さで塗布する段階；透明電極パター
   ンの配列方向と直交する前記塗布された犠牲層の両側縁
   の所定間隔を有する位置に前記透明絶縁基板の表面が露
   出される貫通ホールを形成する段階；前記貫通ホールと
   前記犠牲層の全面に電極物質を前記貫通ホールが充分に
   埋め立てられる程度の所定の厚さで蒸着する段階；蒸着
   された電極物質を選択的に蝕刻して前記透明電極パター
   ンと垂直で、前記貫通ホールに埋め立てられた電極物質
   と一体化された電極パターンを形成する段階；犠牲層を
   除去する段階とを含むことを特徴とするプラズマディス
   プレーパネルの製造方法。
2. 【請求項２】 前記透明絶縁基板は、ガラス基板である
   ことを特徴とする、請求項１記載のプラズマディスプレ
   ーパネルの製造方法。
3. 【請求項３】 前記溝の形成段階は、透明絶縁基板上に
   感光膜を塗布し、写真蝕刻工程を通じて、感光膜パター
   ンを形成する段階；露出された透明基板を所定の深さで
   異方性蝕刻する段階；感光膜パターンを除去する段階と
   を含むことを特徴とする請求項１記載のプラズマディス
   プレーパネルの製造方法。
4. 【請求項４】 前記透明絶縁基板の蝕刻は、プラズマを
   利用した乾式蝕刻であることを特徴とする請求項３記載
   のプラズマディスプレーパネルの製造方法。
5. 【請求項５】 前記犠牲層は、ポリイミドであることを
   特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレーパネル
   の製造方法。
6. 【請求項６】 前記透明電極は、インジウム錫酸化物で
   あることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプ
   レーパネルの製造方法。
7. 【請求項７】 多数のストライプ形状の溝を有し、前記
   溝の間に提供される部分が隔壁として作用する透明絶縁
   基板；前記それぞれの溝内にそれぞれ形成された透明縦
   電極；前記透明縦電極上に形成された蛍光体；及び前記
   透明縦電極と直交するように所定間隔を置いてストライ
   プ形状で配列され、前記透明絶縁基板の隔壁の中で、縁
   部分に位置した隔壁の所定部分に形成された支持手段に
   よって支持される横電極を含むことを特徴とするプラズ
   マディスプレーパネル。
8. 【請求項８】 前記横電極と前記支持手段は、同一材料
   を含むことを特徴とする請求項７記載のプラズマディス
   プレーパネル。
9. 【請求項９】 前記材料は、アルミニウムであることを
   特徴とする請求項８記載のプラズマディスプレーパネ
   ル。