JPH1053868A - 薄膜形成装置 - Google Patents
薄膜形成装置Info
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- JPH1053868A JPH1053868A JP20803296A JP20803296A JPH1053868A JP H1053868 A JPH1053868 A JP H1053868A JP 20803296 A JP20803296 A JP 20803296A JP 20803296 A JP20803296 A JP 20803296A JP H1053868 A JPH1053868 A JP H1053868A
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- Japan
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- thin film
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- gas
- evaporating
- container
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 支持体の幅方向に沿って均一な特性の薄
膜が得られる薄膜形成装置を提供することである。 【解決手段】 真空槽内で材料Ｍを蒸発させ、蒸発した
粒子を走行する支持体に蒸着させることにより、前記支
持体の表面に薄膜を形成する装置であって、材料Ｍが収
納される容器と、この容器内の材料Ｍを蒸発させる蒸発
手段と、前記支持体と前記容器との間に設けられ、蒸着
薄膜向けて酸化性ガスを供給するガス供給手段とを具備
し、前記支持体の幅方向に沿って成膜された薄膜の酸化
度が均一なものとなるよう前記ガス供給手段が構成され
てなる薄膜形成装置。
膜が得られる薄膜形成装置を提供することである。 【解決手段】 真空槽内で材料Ｍを蒸発させ、蒸発した
粒子を走行する支持体に蒸着させることにより、前記支
持体の表面に薄膜を形成する装置であって、材料Ｍが収
納される容器と、この容器内の材料Ｍを蒸発させる蒸発
手段と、前記支持体と前記容器との間に設けられ、蒸着
薄膜向けて酸化性ガスを供給するガス供給手段とを具備
し、前記支持体の幅方向に沿って成膜された薄膜の酸化
度が均一なものとなるよう前記ガス供給手段が構成され
てなる薄膜形成装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば磁気記録媒
体の製造装置に関する。
体の製造装置に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】磁気テープなどの磁気
記録媒体にあっては、高密度記録化の要請から、非磁性
支持体上に設けられる磁性層として、バインダ樹脂を用
いた塗布型のものではなく、バインダ樹脂を用いない金
属薄膜型のものが提案されている。その例としては、無
電解メッキなどの湿式メッキ手段、真空蒸着、スパッタ
リング、あるいはイオンプレーティングなどの乾式メッ
キ手段により磁性層を構成した磁気記録媒体が挙げられ
る。
記録媒体にあっては、高密度記録化の要請から、非磁性
支持体上に設けられる磁性層として、バインダ樹脂を用
いた塗布型のものではなく、バインダ樹脂を用いない金
属薄膜型のものが提案されている。その例としては、無
電解メッキなどの湿式メッキ手段、真空蒸着、スパッタ
リング、あるいはイオンプレーティングなどの乾式メッ
キ手段により磁性層を構成した磁気記録媒体が挙げられ
る。
【０００３】ここに挙げた磁性層を構成する手段のなか
でも真空蒸着によるものは、スパッタリングによる場合
に比べて成膜速度が速く、最も一般的に用いられてい
る。図６に真空蒸着手段を利用した磁気記録媒体製造装
置の概略構造を示す。図６中、２１は真空槽、２２は冷
却キャンロール、２３はＰＥＴフィルムなどの非磁性の
支持体、２４ａはＰＥＴフィルム２３の供給側ロール、
２４ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側ロール、２５はル
ツボ、２６はＣｏやＦｅなどの磁性材料、２７は電子
銃、２８は遮蔽板、２９は酸素ガス供給ノズルである。
でも真空蒸着によるものは、スパッタリングによる場合
に比べて成膜速度が速く、最も一般的に用いられてい
る。図６に真空蒸着手段を利用した磁気記録媒体製造装
置の概略構造を示す。図６中、２１は真空槽、２２は冷
却キャンロール、２３はＰＥＴフィルムなどの非磁性の
支持体、２４ａはＰＥＴフィルム２３の供給側ロール、
２４ｂはＰＥＴフィルム２３の巻取側ロール、２５はル
ツボ、２６はＣｏやＦｅなどの磁性材料、２７は電子
銃、２８は遮蔽板、２９は酸素ガス供給ノズルである。
【０００４】この装置を使用した磁気記録媒体の製造
は、次のようにして行われる。まず、真空槽２１内を所
定の真空度に排気した後、電子銃２７を作動させて、ル
ツボ２５内の磁性材料２６を蒸発させる。そして、冷却
キャンロール２２上でＰＥＴフィルム２３に対して磁性
材料２６の粒子を斜め蒸着させる。これと同時に、酸素
ガス供給ノズル２９から成膜部位に酸素ガスを吹き付
け、金属薄膜を酸化させる。こうして、ＰＥＴフィルム
２３の表面に磁性膜が形成されてなる磁気記録媒体が得
られる。
は、次のようにして行われる。まず、真空槽２１内を所
定の真空度に排気した後、電子銃２７を作動させて、ル
ツボ２５内の磁性材料２６を蒸発させる。そして、冷却
キャンロール２２上でＰＥＴフィルム２３に対して磁性
材料２６の粒子を斜め蒸着させる。これと同時に、酸素
ガス供給ノズル２９から成膜部位に酸素ガスを吹き付
け、金属薄膜を酸化させる。こうして、ＰＥＴフィルム
２３の表面に磁性膜が形成されてなる磁気記録媒体が得
られる。
【０００５】ところで、生産性を向上させるため、通
常、支持体であるＰＥＴフィルム２３は幅広なものが用
いられる。したがって、酸素ガス供給ノズル２９のヘッ
ド２９ａもそれに対応して幅広に構成されている。ここ
で、図７を用いて、酸素ガス供給ノズル２９の幅広なヘ
ッド２９ａ部分の構造を説明する。なお、ヘッド２９ａ
は中心線Ｚ−Ｚを挟んで左右対象なものであるから、便
宜上、図７にはその片側半分のみを示す。
常、支持体であるＰＥＴフィルム２３は幅広なものが用
いられる。したがって、酸素ガス供給ノズル２９のヘッ
ド２９ａもそれに対応して幅広に構成されている。ここ
で、図７を用いて、酸素ガス供給ノズル２９の幅広なヘ
ッド２９ａ部分の構造を説明する。なお、ヘッド２９ａ
は中心線Ｚ−Ｚを挟んで左右対象なものであるから、便
宜上、図７にはその片側半分のみを示す。
【０００６】図７中、３０はガス吐出口であり、このガ
ス吐出口３０は、ヘッド２９ａにおいて成膜部位と向か
い合う面に等間隔で形成されている。ヘッド２９ａの内
部には、ガス吐出口３０から続く分配室が構成されてお
り、酸素ガスはこの分配室から各ガス吐出口３０に振り
分けられて成膜部位に供給される。幅広なＰＥＴフィル
ムと共に、この幅広な酸素ガス供給ノズル２９を用いる
ことで、上述したごとく生産性の向上が図れる。
ス吐出口３０は、ヘッド２９ａにおいて成膜部位と向か
い合う面に等間隔で形成されている。ヘッド２９ａの内
部には、ガス吐出口３０から続く分配室が構成されてお
り、酸素ガスはこの分配室から各ガス吐出口３０に振り
分けられて成膜部位に供給される。幅広なＰＥＴフィル
ムと共に、この幅広な酸素ガス供給ノズル２９を用いる
ことで、上述したごとく生産性の向上が図れる。
【０００７】ところが、こうした幅広な酸素ガス供給ノ
ズルを用いた場合には、金属薄膜に酸化ムラが生じやす
く、幅方向の特性が均一にならないといった問題があ
る。これは、従来の酸素ガス供給ノズルでは、酸素ガス
をＰＥＴフィルム２３の幅方向に沿って均等に供給でき
ないからである。この欠点を解消するため、ガス吐出口
を複数連設する代わりに、ガス吐出口の径と等しい開口
幅の細長いスリットを形成してなる酸素ノズルも提案さ
れた。しかし、これによっても金属薄膜の均一な酸化処
理は困難であった。
ズルを用いた場合には、金属薄膜に酸化ムラが生じやす
く、幅方向の特性が均一にならないといった問題があ
る。これは、従来の酸素ガス供給ノズルでは、酸素ガス
をＰＥＴフィルム２３の幅方向に沿って均等に供給でき
ないからである。この欠点を解消するため、ガス吐出口
を複数連設する代わりに、ガス吐出口の径と等しい開口
幅の細長いスリットを形成してなる酸素ノズルも提案さ
れた。しかし、これによっても金属薄膜の均一な酸化処
理は困難であった。
【０００８】したがって、本発明が解決しようとする課
題は、支持体の幅方向に沿って均一な特性の薄膜が得ら
れる薄膜形成装置を提供することである。
題は、支持体の幅方向に沿って均一な特性の薄膜が得ら
れる薄膜形成装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、真空槽内
で材料Ｍを蒸発させ、蒸発した粒子を走行する支持体に
蒸着させることにより、前記支持体の表面に薄膜を形成
する装置であって、材料Ｍが収納される容器と、この容
器内の材料Ｍを蒸発させる蒸発手段と、前記支持体と前
記容器との間に設けられ、蒸着薄膜向けて酸化性ガスを
供給するガス供給手段とを具備し、前記支持体の幅方向
に沿って成膜された薄膜の酸化度が均一なものとなるよ
う前記ガス供給手段が構成されてなることを特徴とする
薄膜形成装置によって解決される。
で材料Ｍを蒸発させ、蒸発した粒子を走行する支持体に
蒸着させることにより、前記支持体の表面に薄膜を形成
する装置であって、材料Ｍが収納される容器と、この容
器内の材料Ｍを蒸発させる蒸発手段と、前記支持体と前
記容器との間に設けられ、蒸着薄膜向けて酸化性ガスを
供給するガス供給手段とを具備し、前記支持体の幅方向
に沿って成膜された薄膜の酸化度が均一なものとなるよ
う前記ガス供給手段が構成されてなることを特徴とする
薄膜形成装置によって解決される。
【００１０】特に、真空槽内で材料Ｍを蒸発させ、蒸発
した粒子を走行する支持体に蒸着させることにより、前
記支持体の表面に薄膜を形成する装置であって、材料Ｍ
が収納される容器と、この容器内の材料Ｍを蒸発させる
蒸発手段と、前記支持体と前記容器との間に設けられ、
蒸着薄膜向けて酸化性ガスを供給するガス供給手段とを
具備し、前記ガス供給手段は、前記支持体の幅方向に沿
って連設された複数のガス吐出口を有すると共に、酸化
性ガスが蒸着薄膜向けて前記支持体の幅方向に沿って均
一に供給されるよう前記ガス吐出口は不等間隔で形成さ
れてなることを特徴とする薄膜形成装置によって解決さ
れる。
した粒子を走行する支持体に蒸着させることにより、前
記支持体の表面に薄膜を形成する装置であって、材料Ｍ
が収納される容器と、この容器内の材料Ｍを蒸発させる
蒸発手段と、前記支持体と前記容器との間に設けられ、
蒸着薄膜向けて酸化性ガスを供給するガス供給手段とを
具備し、前記ガス供給手段は、前記支持体の幅方向に沿
って連設された複数のガス吐出口を有すると共に、酸化
性ガスが蒸着薄膜向けて前記支持体の幅方向に沿って均
一に供給されるよう前記ガス吐出口は不等間隔で形成さ
れてなることを特徴とする薄膜形成装置によって解決さ
れる。
【００１１】更には、真空槽内で材料Ｍを蒸発させ、蒸
発した粒子を走行する支持体に蒸着させることにより、
前記支持体の表面に薄膜を形成する装置であって、前記
支持体の供給手段及び巻取手段と、この供給手段から巻
取手段に至る経路の途中で前記支持体が接するよう設け
られた冷却キャンロールと、材料Ｍが収納される容器
と、この容器内の材料Ｍを蒸発させる蒸発手段と、前記
冷却キャンロールと前記容器との間であって、前記冷却
キャンロール側に設けられた遮蔽板と、この遮蔽板と前
記支持体との間に設けられ、前記支持体の走行方向とは
逆の方向から酸化性ガスを蒸着薄膜向けて供給するガス
供給手段とを具備し、前記ガス供給手段は、前記支持体
の幅方向に沿って連設された複数のガス吐出口を有する
と共に、酸化性ガスが蒸着薄膜向けて前記支持体の幅方
向に沿って均一に供給されるよう前記ガス吐出口は不等
間隔で形成されてなることを特徴とする薄膜形成装置に
よって解決される。
発した粒子を走行する支持体に蒸着させることにより、
前記支持体の表面に薄膜を形成する装置であって、前記
支持体の供給手段及び巻取手段と、この供給手段から巻
取手段に至る経路の途中で前記支持体が接するよう設け
られた冷却キャンロールと、材料Ｍが収納される容器
と、この容器内の材料Ｍを蒸発させる蒸発手段と、前記
冷却キャンロールと前記容器との間であって、前記冷却
キャンロール側に設けられた遮蔽板と、この遮蔽板と前
記支持体との間に設けられ、前記支持体の走行方向とは
逆の方向から酸化性ガスを蒸着薄膜向けて供給するガス
供給手段とを具備し、前記ガス供給手段は、前記支持体
の幅方向に沿って連設された複数のガス吐出口を有する
と共に、酸化性ガスが蒸着薄膜向けて前記支持体の幅方
向に沿って均一に供給されるよう前記ガス吐出口は不等
間隔で形成されてなることを特徴とする薄膜形成装置に
よって解決される。
【００１２】なお、上記薄膜形成装置にあっては、ガス
供給手段における、その中央側のガス吐出口同士の間隔
を、端部側のガス吐出口同士の間隔よりも大きくしてい
る。更に詳しく言えば、ガス供給手段におけるガス吐出
口同士の間隔は、少なくとも大小二種類存在し、中央側
ほど大間隔な部分の割合が大きくなるよう構成してい
る。
供給手段における、その中央側のガス吐出口同士の間隔
を、端部側のガス吐出口同士の間隔よりも大きくしてい
る。更に詳しく言えば、ガス供給手段におけるガス吐出
口同士の間隔は、少なくとも大小二種類存在し、中央側
ほど大間隔な部分の割合が大きくなるよう構成してい
る。
【００１３】また、ガス供給手段におけるガス吐出口の
口径は、中央側ほど小さく、端部側ほど大きいよう構成
することもできる。そして、ガス供給手段における各々
のガス吐出口に対応してガス流量制御手段が設けられ、
前記ガス流量制御手段を調節することで、酸化性ガスが
蒸着薄膜向けて前記支持体の幅方向に沿って均一に供給
されるよう構成することもできる。
口径は、中央側ほど小さく、端部側ほど大きいよう構成
することもできる。そして、ガス供給手段における各々
のガス吐出口に対応してガス流量制御手段が設けられ、
前記ガス流量制御手段を調節することで、酸化性ガスが
蒸着薄膜向けて前記支持体の幅方向に沿って均一に供給
されるよう構成することもできる。
【００１４】上述したように、本発明の薄膜形成装置で
は、ガス供給手段のガス吐出口を、均等な間隔にではな
く、例えば端部側ほどガス吐出口が密に存在するよう不
等間隔で形成している。このため、従来、供給量が過多
であった中央側では酸化性ガスの供給が抑えられ、逆に
供給量が過少であった端部側では酸化性ガスの供給が十
分なものとなる。よって、酸化性ガスは支持体の幅方向
に沿って均等に供給され、薄膜に酸化ムラが生じなくな
る。つまり、幅方向に沿った酸化度が均一な薄膜が得ら
れる。これは、ガス流量制御手段を備えた装置について
も言えることである。すなわち、この装置でも、ガス流
量制御手段を適宜調節し、例えば端部側のガス流量が中
央側のガス流量よりもいくらか多めになるようにして成
膜を行うことで、高品質な薄膜が効率よく得られる。
は、ガス供給手段のガス吐出口を、均等な間隔にではな
く、例えば端部側ほどガス吐出口が密に存在するよう不
等間隔で形成している。このため、従来、供給量が過多
であった中央側では酸化性ガスの供給が抑えられ、逆に
供給量が過少であった端部側では酸化性ガスの供給が十
分なものとなる。よって、酸化性ガスは支持体の幅方向
に沿って均等に供給され、薄膜に酸化ムラが生じなくな
る。つまり、幅方向に沿った酸化度が均一な薄膜が得ら
れる。これは、ガス流量制御手段を備えた装置について
も言えることである。すなわち、この装置でも、ガス流
量制御手段を適宜調節し、例えば端部側のガス流量が中
央側のガス流量よりもいくらか多めになるようにして成
膜を行うことで、高品質な薄膜が効率よく得られる。
【００１５】なお、本発明において、ガス吐出口同士の
間隔とは、隣接する二つのガス吐出口における中心間距
離を意味する。
間隔とは、隣接する二つのガス吐出口における中心間距
離を意味する。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の薄膜形成装置は、真空槽
内で材料Ｍを蒸発させ、蒸発した粒子を走行する支持体
に蒸着させることにより、前記支持体の表面に薄膜を形
成するものであって、材料Ｍが収納される容器と、この
容器内の材料Ｍを蒸発させる蒸発手段と、前記支持体と
前記容器との間に設けられ、蒸着薄膜向けて酸化性ガス
を供給するガス供給手段とを具備し、前記支持体の幅方
向に沿って成膜された薄膜の酸化度が均一なものとなる
よう前記ガス供給手段が構成されてなる。特に、真空槽
内で材料Ｍを蒸発させ、蒸発した粒子を走行する支持体
に蒸着させることで、前記支持体の表面に薄膜を形成す
る装置であって、材料Ｍが収納される容器と、この容器
内の材料Ｍを蒸発させる蒸発手段と、前記支持体と前記
容器との間に設けられ、蒸着薄膜向けて酸化性ガスを供
給するガス供給手段とを具備し、前記ガス供給手段は、
前記支持体の幅方向に沿って連設された複数のガス吐出
口を有すると共に、酸化性ガスが蒸着薄膜向けて前記支
持体の幅方向に沿って均一に供給されるよう前記ガス吐
出口は不等間隔で形成されている。更には、真空槽内で
材料Ｍを蒸発させ、蒸発した粒子を走行する支持体に蒸
着させることにより、前記支持体の表面に薄膜を形成す
る装置であって、前記支持体の供給手段及び巻取手段
と、この供給手段から巻取手段に至る経路の途中で前記
支持体が接するよう設けられた冷却キャンロールと、材
料Ｍが収納される容器と、この容器内の材料Ｍを蒸発さ
せる蒸発手段と、前記冷却キャンロールと前記容器との
間であって、前記冷却キャンロール側に設けられた遮蔽
板と、この遮蔽板と前記支持体との間に設けられ、前記
支持体の走行方向とは逆の方向から酸化性ガスを蒸着薄
膜向けて供給するガス供給手段とを具備し、前記ガス供
給手段は、前記支持体の幅方向に沿って連設された複数
のガス吐出口を有すると共に、酸化性ガスが蒸着薄膜向
けて前記支持体の幅方向に沿って均一に供給されるよう
前記ガス吐出口は不等間隔で形成されている。なお、上
記ガス供給手段においては、その中央側のガス吐出口同
士の間隔を、端部側のガス吐出口同士の間隔よりも大き
くしている。更に詳しく言えば、ガス供給手段における
ガス吐出口同士の間隔は、少なくとも大小二種類存在
し、中央側ほど大間隔な部分の割合が大きくなるよう構
成している。あるいは、ガス供給手段におけるガス吐出
口の口径は、中央側ほど小さく、端部側ほど大きいよう
構成することもできる。そして、ガス供給手段における
各々のガス吐出口に対応してガス流量制御手段が設けら
れ、前記ガス流量制御手段を調節することで、酸化性ガ
スが蒸着薄膜向けて前記支持体の幅方向に沿って均一に
供給されるよう構成することもできる。
内で材料Ｍを蒸発させ、蒸発した粒子を走行する支持体
に蒸着させることにより、前記支持体の表面に薄膜を形
成するものであって、材料Ｍが収納される容器と、この
容器内の材料Ｍを蒸発させる蒸発手段と、前記支持体と
前記容器との間に設けられ、蒸着薄膜向けて酸化性ガス
を供給するガス供給手段とを具備し、前記支持体の幅方
向に沿って成膜された薄膜の酸化度が均一なものとなる
よう前記ガス供給手段が構成されてなる。特に、真空槽
内で材料Ｍを蒸発させ、蒸発した粒子を走行する支持体
に蒸着させることで、前記支持体の表面に薄膜を形成す
る装置であって、材料Ｍが収納される容器と、この容器
内の材料Ｍを蒸発させる蒸発手段と、前記支持体と前記
容器との間に設けられ、蒸着薄膜向けて酸化性ガスを供
給するガス供給手段とを具備し、前記ガス供給手段は、
前記支持体の幅方向に沿って連設された複数のガス吐出
口を有すると共に、酸化性ガスが蒸着薄膜向けて前記支
持体の幅方向に沿って均一に供給されるよう前記ガス吐
出口は不等間隔で形成されている。更には、真空槽内で
材料Ｍを蒸発させ、蒸発した粒子を走行する支持体に蒸
着させることにより、前記支持体の表面に薄膜を形成す
る装置であって、前記支持体の供給手段及び巻取手段
と、この供給手段から巻取手段に至る経路の途中で前記
支持体が接するよう設けられた冷却キャンロールと、材
料Ｍが収納される容器と、この容器内の材料Ｍを蒸発さ
せる蒸発手段と、前記冷却キャンロールと前記容器との
間であって、前記冷却キャンロール側に設けられた遮蔽
板と、この遮蔽板と前記支持体との間に設けられ、前記
支持体の走行方向とは逆の方向から酸化性ガスを蒸着薄
膜向けて供給するガス供給手段とを具備し、前記ガス供
給手段は、前記支持体の幅方向に沿って連設された複数
のガス吐出口を有すると共に、酸化性ガスが蒸着薄膜向
けて前記支持体の幅方向に沿って均一に供給されるよう
前記ガス吐出口は不等間隔で形成されている。なお、上
記ガス供給手段においては、その中央側のガス吐出口同
士の間隔を、端部側のガス吐出口同士の間隔よりも大き
くしている。更に詳しく言えば、ガス供給手段における
ガス吐出口同士の間隔は、少なくとも大小二種類存在
し、中央側ほど大間隔な部分の割合が大きくなるよう構
成している。あるいは、ガス供給手段におけるガス吐出
口の口径は、中央側ほど小さく、端部側ほど大きいよう
構成することもできる。そして、ガス供給手段における
各々のガス吐出口に対応してガス流量制御手段が設けら
れ、前記ガス流量制御手段を調節することで、酸化性ガ
スが蒸着薄膜向けて前記支持体の幅方向に沿って均一に
供給されるよう構成することもできる。
【００１７】以下、図１及び図２を用いて本発明の薄膜
形成装置（磁気記録媒体製造装置）を具体的に説明す
る。なお、図１は磁気記録媒体製造装置の全体図、図２
は酸素ガス供給ノズルにおけるヘッド部分の正面図であ
る。各図中、１は真空槽、２は冷却キャンロール、３は
ＰＥＴフィルムなどの非磁性の支持体、４ａはＰＥＴフ
ィルム３の供給側ロール（供給手段）、４ｂはＰＥＴフ
ィルム３の巻取側ロール（巻取手段）、５はルツボ（容
器）、６はＣｏやＦｅなどの磁性材料、７は電子銃（蒸
発手段）、８は蒸発粒子の最小入射角を規定する遮蔽板
である。これらの構成要素は既に公知であるから、詳し
い説明は省略する。
形成装置（磁気記録媒体製造装置）を具体的に説明す
る。なお、図１は磁気記録媒体製造装置の全体図、図２
は酸素ガス供給ノズルにおけるヘッド部分の正面図であ
る。各図中、１は真空槽、２は冷却キャンロール、３は
ＰＥＴフィルムなどの非磁性の支持体、４ａはＰＥＴフ
ィルム３の供給側ロール（供給手段）、４ｂはＰＥＴフ
ィルム３の巻取側ロール（巻取手段）、５はルツボ（容
器）、６はＣｏやＦｅなどの磁性材料、７は電子銃（蒸
発手段）、８は蒸発粒子の最小入射角を規定する遮蔽板
である。これらの構成要素は既に公知であるから、詳し
い説明は省略する。
【００１８】９は酸素ガス供給ノズルである。この酸素
ガス供給ノズル９は、ＰＥＴフィルム３の走行方向とは
逆の方向から、酸化性ガスである酸素ガスを蒸着薄膜向
けて供給する。酸素ガス供給ノズル９の先端部に存在す
るヘッド９ａは幅広なものであって、その成膜部位と向
かい合う面には、図２に示すごとく、ＰＥＴフィルム３
の幅方向に沿って複数のガス吐出口１０が連設されてい
る。
ガス供給ノズル９は、ＰＥＴフィルム３の走行方向とは
逆の方向から、酸化性ガスである酸素ガスを蒸着薄膜向
けて供給する。酸素ガス供給ノズル９の先端部に存在す
るヘッド９ａは幅広なものであって、その成膜部位と向
かい合う面には、図２に示すごとく、ＰＥＴフィルム３
の幅方向に沿って複数のガス吐出口１０が連設されてい
る。
【００１９】なお、ヘッド９ａは中心線Ｘ−Ｘを挟んで
左右対象であるから、便宜上、図２にはその片側半分の
みを示す。ヘッド９ａの内部には、ガス吐出口１０から
続く分配室が構成されており、酸素ガスはこの分配室か
ら各ガス吐出口１０に振り分けられて成膜部位に供給さ
れる。
左右対象であるから、便宜上、図２にはその片側半分の
みを示す。ヘッド９ａの内部には、ガス吐出口１０から
続く分配室が構成されており、酸素ガスはこの分配室か
ら各ガス吐出口１０に振り分けられて成膜部位に供給さ
れる。
【００２０】ガス吐出口１０同士の間隔は不均等であ
り、すなわち間隔は大小二種類存在する（図２において
Ｄで示すのが大間隔部分、ｄで示すのが小間隔部分であ
る）。そして、ヘッド９ａの中央側は大間隔部分の割合
が大きく、一方、端部側はほとんどが小間隔部分からな
っている。つまり、端部側は中央側に比べてガス吐出口
１０が密に形成されている。なお、大間隔部分と小間隔
部分との配列は、本実施形態に限定されることはなく、
さまざまに変更することが可能である。また、ガス吐出
口１０同士の間隔が全ての位置で異なるよう、例えば中
央側から端部側に向かってガス吐出口１０同士の間隔が
段階的に小さくなるよう構成してもよい。
り、すなわち間隔は大小二種類存在する（図２において
Ｄで示すのが大間隔部分、ｄで示すのが小間隔部分であ
る）。そして、ヘッド９ａの中央側は大間隔部分の割合
が大きく、一方、端部側はほとんどが小間隔部分からな
っている。つまり、端部側は中央側に比べてガス吐出口
１０が密に形成されている。なお、大間隔部分と小間隔
部分との配列は、本実施形態に限定されることはなく、
さまざまに変更することが可能である。また、ガス吐出
口１０同士の間隔が全ての位置で異なるよう、例えば中
央側から端部側に向かってガス吐出口１０同士の間隔が
段階的に小さくなるよう構成してもよい。
【００２１】上記の装置を使用した磁気記録媒体の製造
は、次のようにして行われる。まず、真空槽１内を所定
の真空度に排気した後、電子銃７を作動させて、ルツボ
５内の磁性材料６を蒸発させる。そして、冷却キャンロ
ール２上でＰＥＴフィルム３に対して、蒸発した磁性材
料６の粒子を斜め蒸着させる。これと同時に、酸素ガス
供給ノズル９から成膜部位に酸素ガスを吹き付け、金属
薄膜を酸化させる。この際、上記のごとく構成した酸素
ガス供給ノズル９の作用で、中央側では酸素ガスの余分
な供給が抑えられ、逆に端部側では酸素ガスが必要十分
な量だけ供給される。したがって、酸素ガスの供給量分
布はヘッド９ａの幅方向に沿って均等なものとなり、金
属薄膜もＰＥＴフィルム３の幅方向に沿って均一に酸化
される。こうして、ＰＥＴフィルム３の表面に酸化ムラ
のない高品質な磁性膜が形成されてなる磁気記録媒体が
得られる。
は、次のようにして行われる。まず、真空槽１内を所定
の真空度に排気した後、電子銃７を作動させて、ルツボ
５内の磁性材料６を蒸発させる。そして、冷却キャンロ
ール２上でＰＥＴフィルム３に対して、蒸発した磁性材
料６の粒子を斜め蒸着させる。これと同時に、酸素ガス
供給ノズル９から成膜部位に酸素ガスを吹き付け、金属
薄膜を酸化させる。この際、上記のごとく構成した酸素
ガス供給ノズル９の作用で、中央側では酸素ガスの余分
な供給が抑えられ、逆に端部側では酸素ガスが必要十分
な量だけ供給される。したがって、酸素ガスの供給量分
布はヘッド９ａの幅方向に沿って均等なものとなり、金
属薄膜もＰＥＴフィルム３の幅方向に沿って均一に酸化
される。こうして、ＰＥＴフィルム３の表面に酸化ムラ
のない高品質な磁性膜が形成されてなる磁気記録媒体が
得られる。
【００２２】なお、ガス吐出口の間隔を変える代わり
に、その口径が中央側ほど小さく、端部側ほど大きくな
るよう構成してもよい。その一例を図３に示す。但し、
符号は第１実施形態のものをそのまま使用している。こ
うした構造とすることによっても、酸素ガスをＰＥＴフ
ィルムの幅方向に沿って均等に供給できるようになり、
酸化ムラのない高品質な磁性膜が得られる。
に、その口径が中央側ほど小さく、端部側ほど大きくな
るよう構成してもよい。その一例を図３に示す。但し、
符号は第１実施形態のものをそのまま使用している。こ
うした構造とすることによっても、酸素ガスをＰＥＴフ
ィルムの幅方向に沿って均等に供給できるようになり、
酸化ムラのない高品質な磁性膜が得られる。
【００２３】次に、図４を用いて本発明の第２実施形態
を説明する。図４に要部（酸素ガス供給ノズルの一部）
を示す第２実施形態の磁気記録媒体製造装置は、酸素ガ
ス供給手段が、ＰＥＴフィルムの幅方向に沿って連設し
た複数のガス吐出管１１と、このガス吐出管１１のそれ
ぞれに対応して設けたマスフローコントローラ（ガス流
量制御手段）１２とからなることを特徴とする。その他
の構造については、上記第１実施形態と同じである。
を説明する。図４に要部（酸素ガス供給ノズルの一部）
を示す第２実施形態の磁気記録媒体製造装置は、酸素ガ
ス供給手段が、ＰＥＴフィルムの幅方向に沿って連設し
た複数のガス吐出管１１と、このガス吐出管１１のそれ
ぞれに対応して設けたマスフローコントローラ（ガス流
量制御手段）１２とからなることを特徴とする。その他
の構造については、上記第１実施形態と同じである。
【００２４】この第２実施形態の装置では、マスフロー
コントローラ１２によって、各ガス吐出管１１における
ガス吐出口からの酸素ガス流量を制御しながら成膜処理
を行う。例えば、酸素ガスが供給過剰となりやすい中央
側では酸素ガスの供給量を減らし、逆に酸素ガスが拡散
しやすい端部側では中央側よりも酸素ガスの供給量を増
やすなどして、ＰＥＴフィルムの幅方向に沿って酸素ガ
スを均等に供給しながら薄膜の形成を行う。
コントローラ１２によって、各ガス吐出管１１における
ガス吐出口からの酸素ガス流量を制御しながら成膜処理
を行う。例えば、酸素ガスが供給過剰となりやすい中央
側では酸素ガスの供給量を減らし、逆に酸素ガスが拡散
しやすい端部側では中央側よりも酸素ガスの供給量を増
やすなどして、ＰＥＴフィルムの幅方向に沿って酸素ガ
スを均等に供給しながら薄膜の形成を行う。
【００２５】こうした方法によっても、第１実施形態と
同様、薄膜に酸化ムラのない高品質な磁気記録媒体が得
られる。
同様、薄膜に酸化ムラのない高品質な磁気記録媒体が得
られる。
【００２６】
【実施例１】第１実施形態の装置（図１の装置）を用
い、以下の条件にて薄膜の形成を行った。 磁性材料：Ｃｏ（１００％） ルツボ幅：３００ｍｍ 支持体の走行速度：３０ｍ／ｍｉｎ 酸素ガス流量：８００ＳＣＣＭ 酸素ガス供給ノズルの実効幅（Ｌ×２）：２６０ｍｍ 大間隔部分寸法Ｄ：６．６７ｍｍ 小間隔部分寸法ｄ：３．３４ｍｍ
い、以下の条件にて薄膜の形成を行った。 磁性材料：Ｃｏ（１００％） ルツボ幅：３００ｍｍ 支持体の走行速度：３０ｍ／ｍｉｎ 酸素ガス流量：８００ＳＣＣＭ 酸素ガス供給ノズルの実効幅（Ｌ×２）：２６０ｍｍ 大間隔部分寸法Ｄ：６．６７ｍｍ 小間隔部分寸法ｄ：３．３４ｍｍ
【００２７】
【実施例２】第２実施形態の装置（図４に一部を示す装
置）を用い、薄膜の形成を行った。但し、ガス吐出管の
本数は実施例１におけるガス吐出口個数の半分とし、等
間隔で連設した。酸素ガス流量は、中央で８００ＳＣＣ
Ｍ、端部で１０８０ＳＣＣＭとなるよう中央から端部側
に向かって段階的に増加させた。その他の条件は実施例
１と同じである。
置）を用い、薄膜の形成を行った。但し、ガス吐出管の
本数は実施例１におけるガス吐出口個数の半分とし、等
間隔で連設した。酸素ガス流量は、中央で８００ＳＣＣ
Ｍ、端部で１０８０ＳＣＣＭとなるよう中央から端部側
に向かって段階的に増加させた。その他の条件は実施例
１と同じである。
【００２８】
【比較例１】ガス吐出口が等間隔で形成されてなる酸素
ガス供給ノズルを備えた従来装置を用い、他は実施例１
と同様の条件にて薄膜の形成を行った。但し、ガス吐出
口同士の間隔は３．３４ｍｍとした。
ガス供給ノズルを備えた従来装置を用い、他は実施例１
と同様の条件にて薄膜の形成を行った。但し、ガス吐出
口同士の間隔は３．３４ｍｍとした。
【００２９】
【比較例２】スリット式の酸素ガス供給ノズルを備えた
従来装置を用い、他は実施例１と同様の条件にて薄膜の
形成を行った。
従来装置を用い、他は実施例１と同様の条件にて薄膜の
形成を行った。
【００３０】
【特性】上記実施例１，２及び比較例１，２で得られた
磁気テープについて、その幅方向に沿った保磁力Ｈｃを
測定した。その結果を図５のグラフに示す。但し、横軸
において目盛りが１０ｍｍの位置から２５０ｍｍの位置
までがＰＥＴフィルムの幅に対応する部分である。ま
た、同じく横軸において原点から２６０ｍｍの位置まで
が酸素ガス供給ノズルの実効幅に対応する部分である。
グラフの記号（■，□，▲，△）は、それぞれ次のもの
の結果を表す。
磁気テープについて、その幅方向に沿った保磁力Ｈｃを
測定した。その結果を図５のグラフに示す。但し、横軸
において目盛りが１０ｍｍの位置から２５０ｍｍの位置
までがＰＥＴフィルムの幅に対応する部分である。ま
た、同じく横軸において原点から２６０ｍｍの位置まで
が酸素ガス供給ノズルの実効幅に対応する部分である。
グラフの記号（■，□，▲，△）は、それぞれ次のもの
の結果を表す。
【００３１】■：実施例１ □：実施例２ ▲：比較例
１ △：比較例２ このグラフから、本発明の装置で得られた磁性膜は、従
来装置で得られた磁性膜に比べて、保磁力ＨｃがＰＥＴ
フィルムの幅方向に沿ってほぼ均一であり、酸化ムラの
ない高品質なものであることが判る。
１ △：比較例２ このグラフから、本発明の装置で得られた磁性膜は、従
来装置で得られた磁性膜に比べて、保磁力ＨｃがＰＥＴ
フィルムの幅方向に沿ってほぼ均一であり、酸化ムラの
ない高品質なものであることが判る。
【００３２】
【発明の効果】本発明によれば、支持体の幅方向に沿っ
て均一な特性の薄膜が得られる。
て均一な特性の薄膜が得られる。
【図１】第１実施形態の薄膜形成装置（磁気記録媒体製
造装置）の全体図
造装置）の全体図
【図２】酸素ガス供給ノズルにおけるヘッド部分の正面
図
図
【図３】酸素ガス供給ノズルにおけるヘッド部分の他の
形態を示す正面図
形態を示す正面図
【図４】第２実施形態の薄膜形成装置（磁気記録媒体製
造装置）の要部平面図
造装置）の要部平面図
【図５】ＰＥＴフィルムの幅方向に沿った保磁力の特性
を示すグラフ
を示すグラフ
【図６】従来の薄膜形成装置（磁気記録媒体製造装置）
の全体図
の全体図
【図７】従来装置の酸素ガス供給ノズルにおけるヘッド
部分の正面図
部分の正面図
１ 真空槽 ２ 冷却キャンロール ３ ＰＥＴフィルム（支持体） ４ａ 供給側ロール（供給手段） ４ｂ 巻取側ロール（巻取手段） ５ ルツボ（容器） ６ 磁性材料 ７ 電子銃（蒸発手段） ８ 遮蔽板 ９ 酸素ガス供給ノズル ９ａ ヘッド １０ ガス吐出口 １１ ガス吐出管 １２ マスフローコントローラ（ガス流量制御手
段）
段）
Claims (7)
- 【請求項１】 真空槽内で材料Ｍを蒸発させ、蒸発した
粒子を走行する支持体に蒸着させることにより、前記支
持体の表面に薄膜を形成する装置であって、 材料Ｍが収納される容器と、 この容器内の材料Ｍを蒸発させる蒸発手段と、 前記支持体と前記容器との間に設けられ、蒸着薄膜向け
て酸化性ガスを供給するガス供給手段とを具備し、 前記支持体の幅方向に沿って成膜された薄膜の酸化度が
均一なものとなるよう前記ガス供給手段が構成されてな
ることを特徴とする薄膜形成装置。 - 【請求項２】 真空槽内で材料Ｍを蒸発させ、蒸発した
粒子を走行する支持体に蒸着させることにより、前記支
持体の表面に薄膜を形成する装置であって、 材料Ｍが収納される容器と、 この容器内の材料Ｍを蒸発させる蒸発手段と、 前記支持体と前記容器との間に設けられ、蒸着薄膜向け
て酸化性ガスを供給するガス供給手段とを具備し、 前記ガス供給手段は、前記支持体の幅方向に沿って連設
された複数のガス吐出口を有すると共に、 酸化性ガスが蒸着薄膜向けて前記支持体の幅方向に沿っ
て均一に供給されるよう前記ガス吐出口は不等間隔で形
成されてなることを特徴とする薄膜形成装置。 - 【請求項３】 真空槽内で材料Ｍを蒸発させ、蒸発した
粒子を走行する支持体に蒸着させることにより、前記支
持体の表面に薄膜を形成する装置であって、 前記支持体の供給手段及び巻取手段と、 この供給手段から巻取手段に至る経路の途中で前記支持
体が接するよう設けられた冷却キャンロールと、 材料Ｍが収納される容器と、 この容器内の材料Ｍを蒸発させる蒸発手段と、 前記冷却キャンロールと前記容器との間であって、前記
冷却キャンロール側に設けられた遮蔽板と、 この遮蔽板と前記支持体との間に設けられ、前記支持体
の走行方向とは逆の方向から酸化性ガスを蒸着薄膜向け
て供給するガス供給手段とを具備し、 前記ガス供給手段は、前記支持体の幅方向に沿って連設
された複数のガス吐出口を有すると共に、 酸化性ガスが蒸着薄膜向けて前記支持体の幅方向に沿っ
て均一に供給されるよう前記ガス吐出口は不等間隔で形
成されてなることを特徴とする薄膜形成装置。 - 【請求項４】 ガス供給手段における、その中央側のガ
ス吐出口同士の間隔を、端部側のガス吐出口同士の間隔
よりも大きくしたことを特徴とする請求項１〜請求項３
いずれかに記載の薄膜形成装置。 - 【請求項５】 ガス供給手段におけるガス吐出口同士の
間隔は、少なくとも大小二種類存在し、中央側ほど大間
隔な部分の割合が大きくなるよう構成したことを特徴と
する請求項１〜請求項３いずれかに記載の薄膜形成装
置。 - 【請求項６】 ガス供給手段におけるガス吐出口の口径
は、中央側ほど小さく、端部側ほど大きいよう構成した
ことを特徴とする請求項１〜請求項３いずれかに記載の
薄膜形成装置。 - 【請求項７】 ガス供給手段における各々のガス吐出口
に対応してガス流量制御手段が設けられ、前記ガス流量
制御手段を調節することで、酸化性ガスが蒸着薄膜向け
て前記支持体の幅方向に沿って均一に供給されるように
したことを特徴とする請求項１〜請求項３いずれかに記
載の薄膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20803296A JPH1053868A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 薄膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20803296A JPH1053868A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 薄膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1053868A true JPH1053868A (ja) | 1998-02-24 |
Family
ID=16549546
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20803296A Pending JPH1053868A (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | 薄膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1053868A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10212575A (ja) * | 1997-01-29 | 1998-08-11 | Sony Corp | スパッタリング装置 |
| JP2009263740A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-12 | Toray Ind Inc | 金属酸化物薄膜付きシートの製造方法および製造装置 |
| JP2013529258A (ja) * | 2010-06-10 | 2013-07-18 | コリア・インスティテュート・オブ・サイエンス・アンド・テクノロジー | 側面放出型線状蒸発源、その製造方法及び線状蒸発器 |
| JP2016524047A (ja) * | 2013-06-28 | 2016-08-12 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | ガス供給を備えた蒸発装置 |
| EP3067437A1 (en) * | 2015-03-10 | 2016-09-14 | Bobst Manchester Limited | Improved vacuum coater |
-
1996
- 1996-08-07 JP JP20803296A patent/JPH1053868A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10212575A (ja) * | 1997-01-29 | 1998-08-11 | Sony Corp | スパッタリング装置 |
| JP2009263740A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-11-12 | Toray Ind Inc | 金属酸化物薄膜付きシートの製造方法および製造装置 |
| JP2013529258A (ja) * | 2010-06-10 | 2013-07-18 | コリア・インスティテュート・オブ・サイエンス・アンド・テクノロジー | 側面放出型線状蒸発源、その製造方法及び線状蒸発器 |
| JP2016524047A (ja) * | 2013-06-28 | 2016-08-12 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | ガス供給を備えた蒸発装置 |
| EP3067437A1 (en) * | 2015-03-10 | 2016-09-14 | Bobst Manchester Limited | Improved vacuum coater |
| EP3879000A1 (en) * | 2015-03-10 | 2021-09-15 | Bobst Manchester Limited | Coated web, vacuum coater and methods |
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