JPS5850629A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5850629A JPS5850629A JP14865881A JP14865881A JPS5850629A JP S5850629 A JPS5850629 A JP S5850629A JP 14865881 A JP14865881 A JP 14865881A JP 14865881 A JP14865881 A JP 14865881A JP S5850629 A JPS5850629 A JP S5850629A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- gas
- magnetic layer
- substrate
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蒸着による磁気記録媒体の製造方法に関し、特
に走行する基板上に磁性層を形成すること金目的とする
ものである。
に走行する基板上に磁性層を形成すること金目的とする
ものである。
一般的ＶＣ現在提示されてい、る磁気記録媒体としては
、塗布型、磁性薄膜型が知られている中でも塗布型は、
磁性体であるγ−Ｆｅ２Ｏ３やＦｅを、適当なバインダ
ーと混合して基板上に塗布した後、磁場配向や乾燥、カ
レンダ一工程を経て磁気記録媒体としての特性を得てい
るもので、この塗布型が現在では主流を占めている。こ
の塗布型の未来指向として、高抗磁力化、磁性粉の高密
度化、磁性層の薄型等が示されている。しかし上述のよ
うに磁性粉をバインダーを介して基板上に塗布する方法
では、基本的に磁性粉の充填率におのずから限界があり
ξ石密度化、薄型の防げとなっているのが現状である。
、塗布型、磁性薄膜型が知られている中でも塗布型は、
磁性体であるγ−Ｆｅ２Ｏ３やＦｅを、適当なバインダ
ーと混合して基板上に塗布した後、磁場配向や乾燥、カ
レンダ一工程を経て磁気記録媒体としての特性を得てい
るもので、この塗布型が現在では主流を占めている。こ
の塗布型の未来指向として、高抗磁力化、磁性粉の高密
度化、磁性層の薄型等が示されている。しかし上述のよ
うに磁性粉をバインダーを介して基板上に塗布する方法
では、基本的に磁性粉の充填率におのずから限界があり
ξ石密度化、薄型の防げとなっているのが現状である。
そこで高密度、薄膜化を目的として、電気メッキによる
方法や真空中による、スパッタ法、イオンプレイティン
グ法、蒸着法等が提案されてきた。
方法や真空中による、スパッタ法、イオンプレイティン
グ法、蒸着法等が提案されてきた。
これらの方法によると、磁性材料を基板上に直接薄膜と
して形成できるので前記の塗布型にない特長のある磁気
記録媒体が提供できる。しかしながらこれらの方法は一
枚の磁気シートを作る場合には条件管理も十分であり、
優れた磁気的、Ｓ理的特性が得られるものであるが、歌
帝という点からは未だ解決されていない間頭点も多く、
また特に磁気テープ様の長尺物において優れた物理的特
性を得る方法は知られていなかった。
して形成できるので前記の塗布型にない特長のある磁気
記録媒体が提供できる。しかしながらこれらの方法は一
枚の磁気シートを作る場合には条件管理も十分であり、
優れた磁気的、Ｓ理的特性が得られるものであるが、歌
帝という点からは未だ解決されていない間頭点も多く、
また特に磁気テープ様の長尺物において優れた物理的特
性を得る方法は知られていなかった。
本発明は基板を走行させ、その表面に連続的に蒸着を行
なう製造方法であり、特に蒸着をがス雰囲気中で行なう
にあたって同一ガスにより磁性層と非磁性−の２＠構造
を極めて簡屯に行なうものである。以下本発明の一実施
例を図面にもとづいて説明する。
なう製造方法であり、特に蒸着をがス雰囲気中で行なう
にあたって同一ガスにより磁性層と非磁性−の２＠構造
を極めて簡屯に行なうものである。以下本発明の一実施
例を図面にもとづいて説明する。
第１図は本実施例における製造装置の一例を示す正面図
である。本装置は基板上行系の少なくとも一部を６空太
青雰囲気におくこと、および力スの供給ノズルを２本有
することが特徴である。ｔず１は、排気管２を経て真空
排気装＃３に配管され１０Ｔｏｒｒ以下となった真空槽
である。この真空槽中には長尺状の基板（ここではテー
プ基体）４の走行系が内蔵されており、基板走行系は、
基板巻出軸５（逆走性においては巻取軸）と７リーロー
ラ６．７蒸着円筒８及び巻取軸９（逆走性においては巻
出軸）から成っている。なお上記蒸着円筒８は第１図中
には示していない熱媒系により一定温度に保たれている
。基板走行系に対しＡｔ系は、蒸発熱源９、ルツボ１ｏ
およびルツボ中の磁性材料蒸着源１１から収る。本実施
例においては磁性材料としてコバル） （Ｃｏ ）を使
用した。
である。本装置は基板上行系の少なくとも一部を６空太
青雰囲気におくこと、および力スの供給ノズルを２本有
することが特徴である。ｔず１は、排気管２を経て真空
排気装＃３に配管され１０Ｔｏｒｒ以下となった真空槽
である。この真空槽中には長尺状の基板（ここではテー
プ基体）４の走行系が内蔵されており、基板走行系は、
基板巻出軸５（逆走性においては巻取軸）と７リーロー
ラ６．７蒸着円筒８及び巻取軸９（逆走性においては巻
出軸）から成っている。なお上記蒸着円筒８は第１図中
には示していない熱媒系により一定温度に保たれている
。基板走行系に対しＡｔ系は、蒸発熱源９、ルツボ１ｏ
およびルツボ中の磁性材料蒸着源１１から収る。本実施
例においては磁性材料としてコバル） （Ｃｏ ）を使
用した。
熱源９により加熱されたコバルトは溶解した後原子状と
なって蒸発を開始するが、この蒸発原子は固定マスク１
２に制限されて第１図に示す斜線部分１３の箱ｕＨでの
み、蒸着円筒８上の基板４に到達する。ここで固定マス
ク１２の位置は図示の場合のみに１奴定されるものでは
なく固定マスクの位置により蒸着された磁性薄膜の磁気
特性を変化させることができるものであり、必要に応じ
て適当な位置に設けられるものである。固定マスク１２
の上部に２本のガス供給ノズル１４，１６を設ける。本
実施例で非磁性層を得るにあたり、酸化雰囲気を得るた
めガスは酸１やオゾンが有効であった。ガス供給ノズル
１４からは、ガスが蒸発皇子１３内で拡散する状態とな
るような矢印人の方向に吹き出され、磁性層の所望の磁
気特性を得るだめのガス雰囲気用が形成される。他方の
ガス供給ノズル１５は蒸着円筒８０回転方向（矢印Ｃ）
に対する蒸発原子の到達範囲の終り、すなわち入射角の
低い部分で局部的な方向（矢印Ｂ方向）に向けてガスを
供給する。すなわち該部分では磁性体に酸累を与えて酸
化物として非磁性を得るものである。なお１６は基板走
行系のうちの基板の送り出し１巻取り部分と、蒸着室と
を分ける分ｉｆである。
なって蒸発を開始するが、この蒸発原子は固定マスク１
２に制限されて第１図に示す斜線部分１３の箱ｕＨでの
み、蒸着円筒８上の基板４に到達する。ここで固定マス
ク１２の位置は図示の場合のみに１奴定されるものでは
なく固定マスクの位置により蒸着された磁性薄膜の磁気
特性を変化させることができるものであり、必要に応じ
て適当な位置に設けられるものである。固定マスク１２
の上部に２本のガス供給ノズル１４，１６を設ける。本
実施例で非磁性層を得るにあたり、酸化雰囲気を得るた
めガスは酸１やオゾンが有効であった。ガス供給ノズル
１４からは、ガスが蒸発皇子１３内で拡散する状態とな
るような矢印人の方向に吹き出され、磁性層の所望の磁
気特性を得るだめのガス雰囲気用が形成される。他方の
ガス供給ノズル１５は蒸着円筒８０回転方向（矢印Ｃ）
に対する蒸発原子の到達範囲の終り、すなわち入射角の
低い部分で局部的な方向（矢印Ｂ方向）に向けてガスを
供給する。すなわち該部分では磁性体に酸累を与えて酸
化物として非磁性を得るものである。なお１６は基板走
行系のうちの基板の送り出し１巻取り部分と、蒸着室と
を分ける分ｉｆである。
上記の構成の製造装置を用いれば、基鈑４が巻出軸６、
蒸着円筒８、巻取軸９の１ｌｌｉに導びかれて走行して
いる時、蒸着円筒８上で一定温度に保たれた状態で、対
向する蒸着源１１からこの基板４の表面にコバルト東予
が到達し、未着薄膜が形成される。ここでガス供給ノズ
ル１４により矢印入方向に吹き出された酸素により第２
図に示すように基板上にはコバルトの磁性層１７が形＋
＋ｙされる〇さらに同一工程において、次なるガス供給
ノズル１６により矢印Ｂ方向に吹き出された酸累によっ
つ、＋ｉｆＪ記磁性層１７の上部に非磁性層１８が得ら
れる。すなわち基板上に磁性層１７と昇磁−外層１８を
順次設けた磁気記録媒体が得られるものである。
蒸着円筒８、巻取軸９の１ｌｌｉに導びかれて走行して
いる時、蒸着円筒８上で一定温度に保たれた状態で、対
向する蒸着源１１からこの基板４の表面にコバルト東予
が到達し、未着薄膜が形成される。ここでガス供給ノズ
ル１４により矢印入方向に吹き出された酸素により第２
図に示すように基板上にはコバルトの磁性層１７が形＋
＋ｙされる〇さらに同一工程において、次なるガス供給
ノズル１６により矢印Ｂ方向に吹き出された酸累によっ
つ、＋ｉｆＪ記磁性層１７の上部に非磁性層１８が得ら
れる。すなわち基板上に磁性層１７と昇磁−外層１８を
順次設けた磁気記録媒体が得られるものである。
第３図は磁化特性等の、緒特性を向上させるために多層
構造とした磁気記録媒体を示す。この場合は上記で形成
した第２図の磁気記録媒体を再びこの製造装置中で走行
させ蒸着させることによって第３鴨としての磁性−１７
′、第４にとじての非磁性層１８′を得ることができ、
さらにもう一度この製造装置中でガス供給ノズル１６か
らの酸尻供給を停めて、１行および蒸着を行なえば′ｆ
Ｒ５層の磁性■１７“を得ることができる。また上記の
多へ゛４構１１−の磁気記録媒体を連続的に得るには、
上記の製造装置を３基百列に並べ、第１基で磁性■１７
と非磁性−１８を形成し、これをそのまま第２基に導入
して磁性層１７′と非磁性層１８′を形ＩＣＹ、 Ｌ、
さらに・第３基ではへ外層１７″のみを形１．７すれば
よい。
構造とした磁気記録媒体を示す。この場合は上記で形成
した第２図の磁気記録媒体を再びこの製造装置中で走行
させ蒸着させることによって第３鴨としての磁性−１７
′、第４にとじての非磁性層１８′を得ることができ、
さらにもう一度この製造装置中でガス供給ノズル１６か
らの酸尻供給を停めて、１行および蒸着を行なえば′ｆ
Ｒ５層の磁性■１７“を得ることができる。また上記の
多へ゛４構１１−の磁気記録媒体を連続的に得るには、
上記の製造装置を３基百列に並べ、第１基で磁性■１７
と非磁性−１８を形成し、これをそのまま第２基に導入
して磁性層１７′と非磁性層１８′を形ＩＣＹ、 Ｌ、
さらに・第３基ではへ外層１７″のみを形１．７すれば
よい。
なおさらに多層構造の場合も上記同様の繰り返りで実上
り、可能である。また上記実施例では蒸着源にコバル）
Ｃｏを用いたが（＋ｔ４の金尾、２種以上の金匡の組み
合わせでもよいことは明らかである。
り、可能である。また上記実施例では蒸着源にコバル）
Ｃｏを用いたが（＋ｔ４の金尾、２種以上の金匡の組み
合わせでもよいことは明らかである。
上記の実施例からも明らかなように本発明は、ホ行する
基板に対してガス中蒸着とし、第１のノズルからのガス
によって磁性層を蒸着形１ｙシ、第２のノズルからの前
記と同一のガスによって非磁性層を蒸着形成することを
特徴とするものであるから、同一蒸着系内でさらに同一
のガスを用いて磁性層と非磁性層を得ることができ、製
造工程が極めて単純（Ｂされ、また蒸着条件等も管理し
ｂｓ ＜なり、均竹な契品を多電に製造することが可能
である。また磁性層、非磁性層の金州財料が同一である
ことは蒸着効率を向上させ、コストの低下も実現できる
。さらに多層構造の磁気記録媒体も全く同様の工程の繰
り返しにより実現可能であり、磁気特性の向上に大きな
灼果があるものである。
基板に対してガス中蒸着とし、第１のノズルからのガス
によって磁性層を蒸着形１ｙシ、第２のノズルからの前
記と同一のガスによって非磁性層を蒸着形成することを
特徴とするものであるから、同一蒸着系内でさらに同一
のガスを用いて磁性層と非磁性層を得ることができ、製
造工程が極めて単純（Ｂされ、また蒸着条件等も管理し
ｂｓ ＜なり、均竹な契品を多電に製造することが可能
である。また磁性層、非磁性層の金州財料が同一である
ことは蒸着効率を向上させ、コストの低下も実現できる
。さらに多層構造の磁気記録媒体も全く同様の工程の繰
り返しにより実現可能であり、磁気特性の向上に大きな
灼果があるものである。
以上のように本発明によれば高密度記録の０Ｔ能な蒸着
薄膜による磁気記録媒体を多量にかつ安価に。
薄膜による磁気記録媒体を多量にかつ安価に。
非常に均質性を保って製造できる、優れた磁気記録媒体
の製造方法を提供できるものである。
の製造方法を提供できるものである。
第１図は本発明の一実施例を実現し得る製造装置の例を
示す正面図、第２図は本発明による磁気記録媒体の断面
図、第３図は多層構造の磁気記録媒体のＣ＠面図である
。 １・・・・・・真空槽、４・・・・・・基鈑、５・旧・
・巻出軸、８・・・・・・蒸着円筒、９・・・・・・巻
取軸、１１・・・・・・蒸着源、１４．１５・・・・・
・ガス供給ノズル、１７・・・・・磁性層、１８・・・
・・非磁性層。
示す正面図、第２図は本発明による磁気記録媒体の断面
図、第３図は多層構造の磁気記録媒体のＣ＠面図である
。 １・・・・・・真空槽、４・・・・・・基鈑、５・旧・
・巻出軸、８・・・・・・蒸着円筒、９・・・・・・巻
取軸、１１・・・・・・蒸着源、１４．１５・・・・・
・ガス供給ノズル、１７・・・・・磁性層、１８・・・
・・非磁性層。
Claims (2)
- （１）テープ状の基板を走行させる機構の一部を１ｏ
Ｔｏｒｒ以下の真空中に置いてこの真空中に前記基板
を走行状態で導入し、この真空中で基板表面を蒸着雰囲
気にするとともに、第１の管により供給されたガスによ
り上記仮着雰囲気をガス中蒸着条件下になして基板上に
磁性層を形［反し、第２の管により供給された上記と同
一のガスにより蒸着雰囲気の端部で非磁性１脅を形成す
ることを特徴とする磁気記録ｗ体の製造方法０ - （２）第１および第２の管から供給されるガスが酸素ま
たはオゾンであることを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14865881A JPS5850629A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14865881A JPS5850629A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5850629A true JPS5850629A (ja) | 1983-03-25 |
| JPH0121534B2 JPH0121534B2 (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=15457724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14865881A Granted JPS5850629A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5850629A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5039657A (en) * | 1988-08-19 | 1991-08-13 | Regents Of The University Of Minnesota | Preparation of superconducting oxide films by reactive evaporation using ozone |
| EP2982775A1 (en) * | 2014-08-06 | 2016-02-10 | United Technologies Corporation | Pressure modulated coating |
-
1981
- 1981-09-18 JP JP14865881A patent/JPS5850629A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5039657A (en) * | 1988-08-19 | 1991-08-13 | Regents Of The University Of Minnesota | Preparation of superconducting oxide films by reactive evaporation using ozone |
| EP2982775A1 (en) * | 2014-08-06 | 2016-02-10 | United Technologies Corporation | Pressure modulated coating |
| US9885110B2 (en) | 2014-08-06 | 2018-02-06 | United Technologies Corporation | Pressure modulated coating |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0121534B2 (ja) | 1989-04-21 |
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