JPS5837843A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5837843A JPS5837843A JP13649381A JP13649381A JPS5837843A JP S5837843 A JPS5837843 A JP S5837843A JP 13649381 A JP13649381 A JP 13649381A JP 13649381 A JP13649381 A JP 13649381A JP S5837843 A JPS5837843 A JP S5837843A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- region
- incident angle
- recording medium
- magnetic recording
- vapor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は磁気記録媒体の製造方法に関するものであり
、更に詳細には、酸素雰囲気中において、適轟な磁性金
１４蒙たは合金などの蒸着物質を非磁性基材に蒸着させ
て得られる薄膜型の磁気配録媒体の製造方法に関するも
のである。この方法は、特に磁気配録媒体の保磁力を向
上するのに有用である。
、更に詳細には、酸素雰囲気中において、適轟な磁性金
１４蒙たは合金などの蒸着物質を非磁性基材に蒸着させ
て得られる薄膜型の磁気配録媒体の製造方法に関するも
のである。この方法は、特に磁気配録媒体の保磁力を向
上するのに有用である。
従来、蒸着鋏置内の酸素分圧を他の気体の分圧よりも高
くした酸素雰囲気中で磁性金属または合金を非磁性基材
に蒸着させることによって得られる磁気テープの保磁力
を向上させることが可能であるとの報告がある。しかし
、この方法では、酸素の分圧を大会くすると、蒸着物質
の自由行程が短くなり十分な蒸着効率が得られないかｔ
たは全く蒸着されないという欠点がある。ｔた蒸着物質
が酸素によって散乱される方向もランダムになり不都合
である。更に、この方法では、斜方蒸着において、蒸着
率の大会い入射角の小さい領域に優先的に酸素を導入す
ることができず実用的ではないＯ そこで、この発明は、従来の方法における欠点を大巾に
改善することができる方法であって、特に、従来のもの
に比べて格段に保磁力が向上した磁気記録媒体を得るこ
とができる方法を提供するものである。
くした酸素雰囲気中で磁性金属または合金を非磁性基材
に蒸着させることによって得られる磁気テープの保磁力
を向上させることが可能であるとの報告がある。しかし
、この方法では、酸素の分圧を大会くすると、蒸着物質
の自由行程が短くなり十分な蒸着効率が得られないかｔ
たは全く蒸着されないという欠点がある。ｔた蒸着物質
が酸素によって散乱される方向もランダムになり不都合
である。更に、この方法では、斜方蒸着において、蒸着
率の大会い入射角の小さい領域に優先的に酸素を導入す
ることができず実用的ではないＯ そこで、この発明は、従来の方法における欠点を大巾に
改善することができる方法であって、特に、従来のもの
に比べて格段に保磁力が向上した磁気記録媒体を得るこ
とができる方法を提供するものである。
この発＠によれば、磁気記録媒体の製造方法は、蒸着物
質を一定範囲の入射角をもって非磁性基材上に吹き付け
て蒸着させることによって強磁性体薄膜を形成させるこ
とからなる方法であって、酸素ガス量が、蒸着物質を非
磁性基材に吹き付けて蒸着させる領域において、他の領
域より多くなり、かつ、入射角の大きい領域よりも入射
角の小さな領域の方が多くなるよう化して蒸着を行なう
ことからなっている。
質を一定範囲の入射角をもって非磁性基材上に吹き付け
て蒸着させることによって強磁性体薄膜を形成させるこ
とからなる方法であって、酸素ガス量が、蒸着物質を非
磁性基材に吹き付けて蒸着させる領域において、他の領
域より多くなり、かつ、入射角の大きい領域よりも入射
角の小さな領域の方が多くなるよう化して蒸着を行なう
ことからなっている。
この発明において使用される蒸着物質とは、磁気記録媒
体の強磁性薄膜を形成しろるものであれば何れでもよく
、例えｔｆ、Ｆｅ％Ｃｏ、Ｎｉなどの金属あるいはＦｅ
−０ｏ合金、Ｆｅ−Ｎ１合金、０ｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合
金などの合金からなる強磁性体などが列挙で唸る。蒸着
物質は、電熱線、電子線などを用いて加熱し蒸発させて
非磁性基材上に蒸着される０この蒸着物質を非磁性基材
上へ蒸着させるための入射角（＃）は、斜方蒸着できる
入射角であればよく、好ましくは約３０°ないし９０°
になるようにするのがよい。また蒸着物質はまず入射角
の大きい領域で非磁性基材上に蒸着され、その基材の移
動に従つて入射角が小さくなる領域で蒸着されるように
するのが経書しい。なお、使用できる非磁性基材として
は、磁気記録媒体を製造するのに従来より使用されてい
るものであれば何れも使用できる。かかる非磁性基材の
素材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートな
どのポリエステル、ポリプロピレンなどのポリオレフィ
ン、セルローストリアセテート、セルロースジアセテー
トなどのセルロース鋳導体、ポリカーボネート、ポリ塩
化ビニル、ポリイミドなどの高分子物質などが挙げられ
る。
体の強磁性薄膜を形成しろるものであれば何れでもよく
、例えｔｆ、Ｆｅ％Ｃｏ、Ｎｉなどの金属あるいはＦｅ
−０ｏ合金、Ｆｅ−Ｎ１合金、０ｏ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂ合
金などの合金からなる強磁性体などが列挙で唸る。蒸着
物質は、電熱線、電子線などを用いて加熱し蒸発させて
非磁性基材上に蒸着される０この蒸着物質を非磁性基材
上へ蒸着させるための入射角（＃）は、斜方蒸着できる
入射角であればよく、好ましくは約３０°ないし９０°
になるようにするのがよい。また蒸着物質はまず入射角
の大きい領域で非磁性基材上に蒸着され、その基材の移
動に従つて入射角が小さくなる領域で蒸着されるように
するのが経書しい。なお、使用できる非磁性基材として
は、磁気記録媒体を製造するのに従来より使用されてい
るものであれば何れも使用できる。かかる非磁性基材の
素材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートな
どのポリエステル、ポリプロピレンなどのポリオレフィ
ン、セルローストリアセテート、セルロースジアセテー
トなどのセルロース鋳導体、ポリカーボネート、ポリ塩
化ビニル、ポリイミドなどの高分子物質などが挙げられ
る。
この発明によれば、前述したように蒸着物質を非磁性基
材上に蒸着させる領域（以下、「蒸着領域」という）と
は、前述したように、斜方蒸着ができる一定範囲の入射
角（＃）によってその蒸着物質が非磁性基材上に蒸着さ
れて強磁性薄膜が形成されうる領域を意味する。この領
域における酸素量が他の領域（おけるよりも多くなるよ
うに酸素ガスを吹き出すように構成する０酸素ガス吹き
出しのための方法としては、その蒸着領域の近傍に酸素
ガス吹出機構を設ければよい。その酸素ガス吹出機構は
、蒸着物質の蒸着率が大きい入射角の小さい蒸着領域て
は酸素ガスの量が多くなるようにし、蒸着率の小さい入
射角の大きい蒸着領域では酸素ガスの量は小さくなるよ
うにするのがよい。
材上に蒸着させる領域（以下、「蒸着領域」という）と
は、前述したように、斜方蒸着ができる一定範囲の入射
角（＃）によってその蒸着物質が非磁性基材上に蒸着さ
れて強磁性薄膜が形成されうる領域を意味する。この領
域における酸素量が他の領域（おけるよりも多くなるよ
うに酸素ガスを吹き出すように構成する０酸素ガス吹き
出しのための方法としては、その蒸着領域の近傍に酸素
ガス吹出機構を設ければよい。その酸素ガス吹出機構は
、蒸着物質の蒸着率が大きい入射角の小さい蒸着領域て
は酸素ガスの量が多くなるようにし、蒸着率の小さい入
射角の大きい蒸着領域では酸素ガスの量は小さくなるよ
うにするのがよい。
酸素ガス吹出機構をそのように構成するには、例えば、
ノズルを蒸着領域のうちで入射角の小さい領域付近に配
置して、そのガス吹出し口を蒸着領域全体化亘って酸素
ガスを吹き付けることができるようにするか、會たは、
酸素ガス吹き出し用のパイプに複数個のノズルを設け、
そのノズルを蒸着領域全体化酸素ガスを吹き出せるよう
にし、かつ、その吹出し口の方向を調節して入射角の小
さい領域により多量の酸素ガスが吹き出すように構成す
ることもできる。
ノズルを蒸着領域のうちで入射角の小さい領域付近に配
置して、そのガス吹出し口を蒸着領域全体化亘って酸素
ガスを吹き付けることができるようにするか、會たは、
酸素ガス吹き出し用のパイプに複数個のノズルを設け、
そのノズルを蒸着領域全体化酸素ガスを吹き出せるよう
にし、かつ、その吹出し口の方向を調節して入射角の小
さい領域により多量の酸素ガスが吹き出すように構成す
ることもできる。
この発明に係る方法によれば、非磁性基材上の蒸着領域
において、優先的に酸素分圧を高くしながら、蒸着物質
の蒸発粒子の自由行程を短かくすることなく、蒸着効率
を上けることができる。また、斜方蒸着において、蒸着
物質の蒸発粒子の少ない部分から多い部分に移るに従っ
て酸素の量を多くして行くことがで音、蒸着物質と酸素
との反応率が上昇し、この反応により蒸着物質の結晶の
大きさが小さくなるため番こ結晶異方性により保磁力が
著しく向上するものと思われる。更にｔた、実際の入射
角が見掛けの入射角よりも大きな蒸発粒子が現われるこ
とにより保磁力の向上に寄与しているζ七も考えられる
・ 以下、この発明を図面を参照して説明する。
において、優先的に酸素分圧を高くしながら、蒸着物質
の蒸発粒子の自由行程を短かくすることなく、蒸着効率
を上けることができる。また、斜方蒸着において、蒸着
物質の蒸発粒子の少ない部分から多い部分に移るに従っ
て酸素の量を多くして行くことがで音、蒸着物質と酸素
との反応率が上昇し、この反応により蒸着物質の結晶の
大きさが小さくなるため番こ結晶異方性により保磁力が
著しく向上するものと思われる。更にｔた、実際の入射
角が見掛けの入射角よりも大きな蒸発粒子が現われるこ
とにより保磁力の向上に寄与しているζ七も考えられる
・ 以下、この発明を図面を参照して説明する。
第１図は、この発明を実施するための装置の一例を示す
ものである。所定の真空度、例えば約１Ｘ １０”’Ｔ
ｏｒｒ以下にした真空槽（目こ、蒸着物質を蒸着させる
非磁性、基材（２）が、ローラ（３１から案内ローラー
（４）を介して巻取りローラー（５）に巻取られるよう
に配置されている。この真空槽の下部には、００などの
蒸着物質（８）を電熱線、電子線などの加熱手段（７）
を設けて、その蒸着物質を列島して蒸発させ、非磁性基
材の表面に所定の入射角（＃）で蒸着させて強磁性薄膜
を形成できるようになっている。
ものである。所定の真空度、例えば約１Ｘ １０”’Ｔ
ｏｒｒ以下にした真空槽（目こ、蒸着物質を蒸着させる
非磁性、基材（２）が、ローラ（３１から案内ローラー
（４）を介して巻取りローラー（５）に巻取られるよう
に配置されている。この真空槽の下部には、００などの
蒸着物質（８）を電熱線、電子線などの加熱手段（７）
を設けて、その蒸着物質を列島して蒸発させ、非磁性基
材の表面に所定の入射角（＃）で蒸着させて強磁性薄膜
を形成できるようになっている。
なお、所定の入射角を確保する゛ために、遮蔽部（８）
表面付近の蒸着領域に酸素ガスを吹き出すためにノズル
（９）を設けたパイプａ１を内設して、そのノズルから
酸＃ｌ：流が、蒸着粒子の入射角の小さい部分から大き
な部分に流れるよろに配置すると共に、その酸素流によ
ってその蒸発粒子が入射角の小さい領域から大きな領域
に散乱されるように構成されている。
表面付近の蒸着領域に酸素ガスを吹き出すためにノズル
（９）を設けたパイプａ１を内設して、そのノズルから
酸＃ｌ：流が、蒸着粒子の入射角の小さい部分から大き
な部分に流れるよろに配置すると共に、その酸素流によ
ってその蒸発粒子が入射角の小さい領域から大きな領域
に散乱されるように構成されている。
第２図には、この発明に係る方法において使用すること
ができる酸素ガス吹出機−の別の例を示すものであって
、パイプｆｉｌの先端部にノズル（９）を複数個設け、
そのノズル口の方向を調節して入射角（のの小さい領域
に、大きい領域よりも多くの酸素ガスが斜めもしくは横
方向から吹き付けられるように配置することもできる。
ができる酸素ガス吹出機−の別の例を示すものであって
、パイプｆｉｌの先端部にノズル（９）を複数個設け、
そのノズル口の方向を調節して入射角（のの小さい領域
に、大きい領域よりも多くの酸素ガスが斜めもしくは横
方向から吹き付けられるように配置することもできる。
以下、この発明を実施例により説明する０実施例
真空度７ｘｌ Ｏ−’Ｔｏｒｒにした第１−に示すよう
な真空槽を用いて、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に、入射角−を５０°ないし９０＠にして蒸着層厚
が８００ないし９００＾になるようにＣｏを蒸着した。
な真空槽を用いて、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム上に、入射角−を５０°ないし９０＠にして蒸着層厚
が８００ないし９００＾になるようにＣｏを蒸着した。
この場合、菖１図に示すように、ノズルから酸素ガス流
量を１００ないし２００ｍ／分の割合で蒸着領域の入射
角が小さい部分から大きい部分に酸素ガスを吹き付けた
。このようにして得られた磁気テープの保持力は約１，
６０００ｅであった。
量を１００ないし２００ｍ／分の割合で蒸着領域の入射
角が小さい部分から大きい部分に酸素ガスを吹き付けた
。このようにして得られた磁気テープの保持力は約１，
６０００ｅであった。
比較例１
真空槽内の真空度をＩ Ｘ １０−’ Ｔｏｒｒにしか
つその槽内金体をｏｆ雰囲気化した以外は実施例と同様
にして磁気テープを作成した。この磁気テープの保磁力
は約６００〜８０００ｅであった。
つその槽内金体をｏｆ雰囲気化した以外は実施例と同様
にして磁気テープを作成した。この磁気テープの保磁力
は約６００〜８０００ｅであった。
比較例２
０會雰囲気中でな〈従来の蒸着法によって得た磁気テー
プの保磁力は約４００〜４５００ｅであった。
プの保磁力は約４００〜４５００ｅであった。
蕗１１ｉ１は、この発明に適用できる装置の一例を示す
概略断面図、第２図は、この発明に適用できる酸素ガス
吹出し機構の別の例を示す概略図である。 なお、図面に用いた符号ｉこおいて、 （１１・・・・・・・・・・・・・・・真空槽（２）・
・・・・・・・・・・・・・・基材（６）・・・・・・
・・・・・・・・・蒸着物質（９）・・・・・−・・・
・・・・・ノズルである。 代理人 上屋 勝 ｌ 松材 修
概略断面図、第２図は、この発明に適用できる酸素ガス
吹出し機構の別の例を示す概略図である。 なお、図面に用いた符号ｉこおいて、 （１１・・・・・・・・・・・・・・・真空槽（２）・
・・・・・・・・・・・・・・基材（６）・・・・・・
・・・・・・・・・蒸着物質（９）・・・・・−・・・
・・・・・ノズルである。 代理人 上屋 勝 ｌ 松材 修
Claims (1)
- 蒸着物質を一定範囲の入射角をもって非磁性基材上に吹
會付けて蒸着させることによって強磁性体薄膜を形成さ
せることからなる磁気配録媒体の製造方法であって、蒸
着物質を非磁性基材＜ｖＫ＊付けて蒸着させる領域にお
いて、酸素ガス量が他の領域よりも多くなり、かつ、入
射角の大きい領域よりも入射角が小さい領域の方により
多くなるようにして蒸着を行なうことを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13649381A JPS5837843A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13649381A JPS5837843A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5837843A true JPS5837843A (ja) | 1983-03-05 |
Family
ID=15176441
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13649381A Pending JPS5837843A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5837843A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5841443A (ja) * | 1981-09-04 | 1983-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製法 |
| JPS59124035A (ja) * | 1982-12-30 | 1984-07-18 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS59144048A (ja) * | 1983-02-07 | 1984-08-17 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| EP0151445A2 (en) * | 1984-01-26 | 1985-08-14 | Hitachi Maxell Ltd. | Production of magnetic recording medium |
| JPS6126925A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1981
- 1981-08-31 JP JP13649381A patent/JPS5837843A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5841443A (ja) * | 1981-09-04 | 1983-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製法 |
| JPS59124035A (ja) * | 1982-12-30 | 1984-07-18 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH053052B2 (ja) * | 1982-12-30 | 1993-01-13 | Hitachi Maxell | |
| JPS59144048A (ja) * | 1983-02-07 | 1984-08-17 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH057766B2 (ja) * | 1983-02-07 | 1993-01-29 | Sony Corp | |
| EP0151445A2 (en) * | 1984-01-26 | 1985-08-14 | Hitachi Maxell Ltd. | Production of magnetic recording medium |
| JPS6126925A (ja) * | 1984-07-17 | 1986-02-06 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
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