JPH10324981A - プラズマドライクリーナー - Google Patents
プラズマドライクリーナーInfo
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- JPH10324981A JPH10324981A JP9150471A JP15047197A JPH10324981A JP H10324981 A JPH10324981 A JP H10324981A JP 9150471 A JP9150471 A JP 9150471A JP 15047197 A JP15047197 A JP 15047197A JP H10324981 A JPH10324981 A JP H10324981A
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- Japan
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- tray
- reaction chamber
- dry cleaner
- trays
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スペース効率が良く、大量の被洗浄物を一度
に洗浄することができるとともに、被洗浄物のセットを
容易に且つ短時間で行なうことのできるプラズマドライ
クリーナーを提供する。 【解決手段】 直方体形状を有し、気密に閉塞可能な反
応室１１の内壁面に、複数のトレイ２０を反応室１１内
に装入するためのスライドレール１３を設ける。そし
て、トレイ２０を反応室１１に装入したとき、トレイ２
０の種類に応じて、接地側の端子と高周波側の端子が自
動的に反応室１１側の対応するブスバー１４、１５に装
入されるように、両者の端子及び端子装入口を別異の箇
所に設ける。
に洗浄することができるとともに、被洗浄物のセットを
容易に且つ短時間で行なうことのできるプラズマドライ
クリーナーを提供する。 【解決手段】 直方体形状を有し、気密に閉塞可能な反
応室１１の内壁面に、複数のトレイ２０を反応室１１内
に装入するためのスライドレール１３を設ける。そし
て、トレイ２０を反応室１１に装入したとき、トレイ２
０の種類に応じて、接地側の端子と高周波側の端子が自
動的に反応室１１側の対応するブスバー１４、１５に装
入されるように、両者の端子及び端子装入口を別異の箇
所に設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマにより半
導体等を実装する基板上の各部表面を清浄化するプラズ
マドライクリーナーに関する。
導体等を実装する基板上の各部表面を清浄化するプラズ
マドライクリーナーに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体やレンズ等の表面はフロン
等の液体で洗浄されていた。しかし、フロンは環境破壊
の原因となることからその製造及び使用が中止されるよ
うになり、代わりに用いられるようになった各種有機溶
剤も、可燃性であることや蒸発ガスの毒性の点で取り扱
いが難しいという問題がある。そこで、プラズマにより
表面を清浄化するドライクリーニング装置が近年注目さ
れている。
等の液体で洗浄されていた。しかし、フロンは環境破壊
の原因となることからその製造及び使用が中止されるよ
うになり、代わりに用いられるようになった各種有機溶
剤も、可燃性であることや蒸発ガスの毒性の点で取り扱
いが難しいという問題がある。そこで、プラズマにより
表面を清浄化するドライクリーニング装置が近年注目さ
れている。
【０００３】従来のプラズマドライエッチング装置は反
応室が円筒状となっており、その外部に一対の半円筒状
の電極を反応室の外壁に沿って配置し、反応室の内部に
被洗浄物を載置したトレイを装入するようになってい
た。反応室内に反応ガス（洗浄ガス）を導入し、両外部
電極の間に高周波電力を投入することによりプラズマを
生成して、被洗浄物の表面の汚れを主にプラズマ中のラ
ジカル等の中性粒子の衝突及び反応によって化学的に除
去するようになっていた。
応室が円筒状となっており、その外部に一対の半円筒状
の電極を反応室の外壁に沿って配置し、反応室の内部に
被洗浄物を載置したトレイを装入するようになってい
た。反応室内に反応ガス（洗浄ガス）を導入し、両外部
電極の間に高周波電力を投入することによりプラズマを
生成して、被洗浄物の表面の汚れを主にプラズマ中のラ
ジカル等の中性粒子の衝突及び反応によって化学的に除
去するようになっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の装置
では、まず反応室内のスペース効率が悪く、装置全体が
大きい割には少ない量の被洗浄物しか洗浄することがで
きないという欠点があった。また、両電極が外部にある
ため、プラズマ中のイオンを積極的に利用することがで
きず、無機質系の汚れに対する洗浄効果が期待できなか
った。
では、まず反応室内のスペース効率が悪く、装置全体が
大きい割には少ない量の被洗浄物しか洗浄することがで
きないという欠点があった。また、両電極が外部にある
ため、プラズマ中のイオンを積極的に利用することがで
きず、無機質系の汚れに対する洗浄効果が期待できなか
った。
【０００５】本発明はこのような課題を解決するために
成されたものであり、その目的とするところは、スペー
ス効率が良く、大量の被洗浄物を一度に洗浄することが
できるとともに、有機・無機を問わず、あらゆる種類の
汚れを効率よく洗浄でき、しかも、被洗浄物のセットを
容易に且つ短時間で行なうことのできるプラズマドライ
クリーナーを提供することにある。
成されたものであり、その目的とするところは、スペー
ス効率が良く、大量の被洗浄物を一度に洗浄することが
できるとともに、有機・無機を問わず、あらゆる種類の
汚れを効率よく洗浄でき、しかも、被洗浄物のセットを
容易に且つ短時間で行なうことのできるプラズマドライ
クリーナーを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明に係るプラズマドライクリーナーは、 a)直方体形状を有し、気密に閉塞可能な反応室と、 b)反応室の内壁面に設けられた、複数のトレイを反応室
内に装入するためのスライドレールと、 c)トレイに設けられたトレイ側端子と反応室に設けられ
た反応室側端子とから成り、トレイが反応室内に装入さ
れると両者が接触して反応室とトレイとを電気的に接続
する電気接続手段と、を備えることを特徴とするもので
ある。
に成された本発明に係るプラズマドライクリーナーは、 a)直方体形状を有し、気密に閉塞可能な反応室と、 b)反応室の内壁面に設けられた、複数のトレイを反応室
内に装入するためのスライドレールと、 c)トレイに設けられたトレイ側端子と反応室に設けられ
た反応室側端子とから成り、トレイが反応室内に装入さ
れると両者が接触して反応室とトレイとを電気的に接続
する電気接続手段と、を備えることを特徴とするもので
ある。
【０００７】
【発明の実施の形態】本プラズマドライクリーナーで
は、反応室内に装入されるトレイに電極が埋設されてい
る、或いはトレイ自身が電極となる。トレイは、反応室
の内壁面に設けられたスライドレールに沿って押し込む
ことにより反応室内に装入され、装入された状態でトレ
イ側端子と反応室側端子とが接触して反応室とトレイと
が電気的に接続される。この接触は、後述の実施例で示
すようにトレイを装入することにより自動的に接触する
ようにしておいてもよいし、トレイを装入した後、例え
ばそのトレイの手前側に設けたフックを回転させてトレ
イを固定するという操作により接触が形成されるという
ように、簡単な操作を伴うものであってもよい。
は、反応室内に装入されるトレイに電極が埋設されてい
る、或いはトレイ自身が電極となる。トレイは、反応室
の内壁面に設けられたスライドレールに沿って押し込む
ことにより反応室内に装入され、装入された状態でトレ
イ側端子と反応室側端子とが接触して反応室とトレイと
が電気的に接続される。この接触は、後述の実施例で示
すようにトレイを装入することにより自動的に接触する
ようにしておいてもよいし、トレイを装入した後、例え
ばそのトレイの手前側に設けたフックを回転させてトレ
イを固定するという操作により接触が形成されるという
ように、簡単な操作を伴うものであってもよい。
【０００８】上記の通り、トレイには電極が埋め込ま
れ、又はトレイ自身が電極となる。従って、反応室内に
反応ガスを導入した後、（１）トレイと反応室の内壁と
の間、又は、（２）トレイと隣接するトレイとの間、に
高周波電圧を印加することにより、両者間にプラズマが
生成され、トレイ上に載置した被洗浄物が洗浄される。
そして、後述のような各種構造のトレイを用いることに
より、多様な方法で洗浄を行なうことができるようにな
る。
れ、又はトレイ自身が電極となる。従って、反応室内に
反応ガスを導入した後、（１）トレイと反応室の内壁と
の間、又は、（２）トレイと隣接するトレイとの間、に
高周波電圧を印加することにより、両者間にプラズマが
生成され、トレイ上に載置した被洗浄物が洗浄される。
そして、後述のような各種構造のトレイを用いることに
より、多様な方法で洗浄を行なうことができるようにな
る。
【０００９】（２）の態様で使用する場合、接地側トレ
イと高周波側トレイの２種類のトレイを用意する必要が
ある。このとき、接地側トレイの電気接続手段と高周波
側トレイの電気接続手段を別異の箇所に設け、違った種
類の電気接続手段とは接触しないようにしておくことが
望ましい。これにより、装入前又は装入時にトレイの種
類を確認して正しい電気接続を行なうようにするという
面倒な操作が不要となり、使用者の負担が軽減されると
ともに、電気事故が防止できる。
イと高周波側トレイの２種類のトレイを用意する必要が
ある。このとき、接地側トレイの電気接続手段と高周波
側トレイの電気接続手段を別異の箇所に設け、違った種
類の電気接続手段とは接触しないようにしておくことが
望ましい。これにより、装入前又は装入時にトレイの種
類を確認して正しい電気接続を行なうようにするという
面倒な操作が不要となり、使用者の負担が軽減されると
ともに、電気事故が防止できる。
【００１０】
【実施例】本発明の一実施例であるプラズマドライクリ
ーナーを図１〜図５により説明する。図１に示すよう
に、本実施例のプラズマドライクリーナー１０は直方体
形状を有する反応室１１と、それと同一の筐体内に設け
られた制御部１２とから成る。反応室１１の内壁の両側
面には後述のトレイ２０を挿入するためのレール１３が
複数段設けられており、内壁の後面には４列のブスバー
１４、１５が設けられている。４列のブスバー１４、１
５は中央側の２列が高周波側１４、外側の２列が接地側
１５となっており、各ブスバー１４、１５にはレール１
３の高さに合わせた位置にトレイ側端子を挿入するため
の挿入口１４１、１５１（図２）が設けられている。各
挿入口１４１、１５１の中には、後述のトレイ側端子が
挿入されたときに接触を確実にするため、弾性保持手段
が設けられている。
ーナーを図１〜図５により説明する。図１に示すよう
に、本実施例のプラズマドライクリーナー１０は直方体
形状を有する反応室１１と、それと同一の筐体内に設け
られた制御部１２とから成る。反応室１１の内壁の両側
面には後述のトレイ２０を挿入するためのレール１３が
複数段設けられており、内壁の後面には４列のブスバー
１４、１５が設けられている。４列のブスバー１４、１
５は中央側の２列が高周波側１４、外側の２列が接地側
１５となっており、各ブスバー１４、１５にはレール１
３の高さに合わせた位置にトレイ側端子を挿入するため
の挿入口１４１、１５１（図２）が設けられている。各
挿入口１４１、１５１の中には、後述のトレイ側端子が
挿入されたときに接触を確実にするため、弾性保持手段
が設けられている。
【００１１】制御部１２には、高周波側端子にプラズマ
発生用高周波電力（通常、１３．５６ＭＨｚ）を供給す
るための高周波ユニットや、本クリーナー全体の動作を
制御するための制御回路が納められている。
発生用高周波電力（通常、１３．５６ＭＨｚ）を供給す
るための高周波ユニットや、本クリーナー全体の動作を
制御するための制御回路が納められている。
【００１２】反応室１１内に納めるトレイ２０には、構
造及び機能の異なる複数の種類が備えられている。ま
ず、使用される電極の極性により、高周波側トレイ２１
と接地側トレイ２２の２種類に分けられる。図２（ａ）
（ｂ）に示すように、両者は全体の大きさが同じであ
り、双方とも反応室１１のいずれの段のレール１３にも
区別なく差し込むことができるが、後方の辺に設けられ
た端子２４、２５の突出位置が異なる。すなわち、高周
波側トレイ２１の端子２４は高周波側ブスバー１４の挿
入口１４１に適合するように中央寄りに設けられてお
り、接地側トレイ２２の端子２５は接地側ブスバー１５
の挿入口１５１に適合するように外側寄りに設けられて
いる。従って、高周波側トレイ２１を反応室１１のレー
ル１３に沿って押し込んだとき、トレイ２１の端子２４
は必ず高周波側ブスバー１４の挿入口１４１に入り、決
して接地側ブスバー１５の挿入口１５１に入ることはな
い。逆に、接地側トレイ２２を装入したときは、その端
子２５は必ず接地側ブスバー１５の挿入口１５１に入
り、決して高周波側ブスバー１４の挿入口１４１に入る
ことはない。
造及び機能の異なる複数の種類が備えられている。ま
ず、使用される電極の極性により、高周波側トレイ２１
と接地側トレイ２２の２種類に分けられる。図２（ａ）
（ｂ）に示すように、両者は全体の大きさが同じであ
り、双方とも反応室１１のいずれの段のレール１３にも
区別なく差し込むことができるが、後方の辺に設けられ
た端子２４、２５の突出位置が異なる。すなわち、高周
波側トレイ２１の端子２４は高周波側ブスバー１４の挿
入口１４１に適合するように中央寄りに設けられてお
り、接地側トレイ２２の端子２５は接地側ブスバー１５
の挿入口１５１に適合するように外側寄りに設けられて
いる。従って、高周波側トレイ２１を反応室１１のレー
ル１３に沿って押し込んだとき、トレイ２１の端子２４
は必ず高周波側ブスバー１４の挿入口１４１に入り、決
して接地側ブスバー１５の挿入口１５１に入ることはな
い。逆に、接地側トレイ２２を装入したときは、その端
子２５は必ず接地側ブスバー１５の挿入口１５１に入
り、決して高周波側ブスバー１４の挿入口１４１に入る
ことはない。
【００１３】反応室１１の筐体は接地されているため、
高周波側トレイ２１は、レール１３に接触するフレーム
２１１と、絶縁部材２１２を介してフレーム２１１の内
部に固定された被洗浄物載置板２１３から成る（図２
（ａ））。この被洗浄物載置板２１３がプラズマ生成の
ための高周波側電極となるものであり、高周波側ブスバ
ー１４に挿入されるトレイ端子２４はこの被洗浄物載置
板２１３から後方に突出している。なお、接地側トレイ
２２は電気的に浮遊させる必要はなく、電気的に一体の
金属体で構成することができる（図２（ｂ））。
高周波側トレイ２１は、レール１３に接触するフレーム
２１１と、絶縁部材２１２を介してフレーム２１１の内
部に固定された被洗浄物載置板２１３から成る（図２
（ａ））。この被洗浄物載置板２１３がプラズマ生成の
ための高周波側電極となるものであり、高周波側ブスバ
ー１４に挿入されるトレイ端子２４はこの被洗浄物載置
板２１３から後方に突出している。なお、接地側トレイ
２２は電気的に浮遊させる必要はなく、電気的に一体の
金属体で構成することができる（図２（ｂ））。
【００１４】トレイは、形状面からは、単純な平板状の
トレイ、グリッド状のトレイ、そして中央に開口を有す
る開口トレイに分けられる。
トレイ、グリッド状のトレイ、そして中央に開口を有す
る開口トレイに分けられる。
【００１５】これら各種トレイを適宜組み合わせること
により、多様な種類の物品を次のように各種モードで洗
浄することができる。
により、多様な種類の物品を次のように各種モードで洗
浄することができる。
【００１６】（ＰＥモード）図３の上２段に示すよう
に、高周波側トレイ３１を上に、接地側トレイ３２を下
に装入し、下側の接地側トレイ３２の上に被洗浄物３３
を載置する。この状態で反応室１１を密閉し、空気を十
分排出した後に反応ガスを反応室１１に入れて高周波側
トレイ３１に高周波電力（ＲＦ）を投入すると、高周波
側トレイ３１と接地側トレイ３２の間に放電が生じ、反
応ガスのプラズマ（正イオン及び電子）とラジカルが生
成する。ここで、イオンと電子の易動度の違いにより、
高周波側電極（高周波側トレイ３１）の方が相対的に負
に帯電する（自己バイアス）。このため、正電荷を有す
るイオンの多くが高周波側トレイ３１の方に引き寄せら
れ、接地側トレイ３２上に載置された被洗浄物３３には
主にラジカルが照射されるようになる。このプラズマエ
ッチング（ＰＥ）モードは、イオンによる強力なエッチ
ング作用が有害となる洗浄、例えば蒸着薄膜が未だ表面
に存在する半導体基板等の洗浄に適している。
に、高周波側トレイ３１を上に、接地側トレイ３２を下
に装入し、下側の接地側トレイ３２の上に被洗浄物３３
を載置する。この状態で反応室１１を密閉し、空気を十
分排出した後に反応ガスを反応室１１に入れて高周波側
トレイ３１に高周波電力（ＲＦ）を投入すると、高周波
側トレイ３１と接地側トレイ３２の間に放電が生じ、反
応ガスのプラズマ（正イオン及び電子）とラジカルが生
成する。ここで、イオンと電子の易動度の違いにより、
高周波側電極（高周波側トレイ３１）の方が相対的に負
に帯電する（自己バイアス）。このため、正電荷を有す
るイオンの多くが高周波側トレイ３１の方に引き寄せら
れ、接地側トレイ３２上に載置された被洗浄物３３には
主にラジカルが照射されるようになる。このプラズマエ
ッチング（ＰＥ）モードは、イオンによる強力なエッチ
ング作用が有害となる洗浄、例えば蒸着薄膜が未だ表面
に存在する半導体基板等の洗浄に適している。
【００１７】なお、反応室における反応ガスの圧力は洗
浄の目的や被洗浄物に依存するが、およそ数Torr〜１０
-2Torr程度とする。
浄の目的や被洗浄物に依存するが、およそ数Torr〜１０
-2Torr程度とする。
【００１８】（リモートモード）被洗浄物が更にイオン
照射を嫌う場合には、図３の下３段に示すように、上側
の高周波側トレイ３４と下側の被洗浄物３３を載置した
接地側トレイ３６との間に接地側のグリッド状トレイ３
５を挿入する。これにより、下側の接地側トレイ３６に
向かうイオンは接地側グリッド状トレイ３５に捕捉さ
れ、被洗浄物３３にはラジカルのみが照射される。この
モードは、例えばＭＯＳ半導体の絶縁層を洗浄する場合
等、電荷の蓄積が有害となる場合の洗浄に適している。
照射を嫌う場合には、図３の下３段に示すように、上側
の高周波側トレイ３４と下側の被洗浄物３３を載置した
接地側トレイ３６との間に接地側のグリッド状トレイ３
５を挿入する。これにより、下側の接地側トレイ３６に
向かうイオンは接地側グリッド状トレイ３５に捕捉さ
れ、被洗浄物３３にはラジカルのみが照射される。この
モードは、例えばＭＯＳ半導体の絶縁層を洗浄する場合
等、電荷の蓄積が有害となる場合の洗浄に適している。
【００１９】（ＲＩＥモード）図３中央に示すように、
接地側トレイ３２を上に、高周波側トレイ３４を下に装
入し、下側の高周波側トレイ３４の上に被洗浄物３３を
載置すると、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）モード
となる。この配置では上記の通り、自己バイアスにより
高周波側トレイ３４が負に帯電することにより、反応ガ
スのイオンが高周波側トレイ３４上の被洗浄物３３に強
力に照射される。このとき、プラズマ中のラジカルも化
学的反応の進行を負う。従ってこのＲＩＥモードは、ゴ
ミや錆の付着をイオン照射の物理的衝撃により除去する
という洗浄目的に適している。
接地側トレイ３２を上に、高周波側トレイ３４を下に装
入し、下側の高周波側トレイ３４の上に被洗浄物３３を
載置すると、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）モード
となる。この配置では上記の通り、自己バイアスにより
高周波側トレイ３４が負に帯電することにより、反応ガ
スのイオンが高周波側トレイ３４上の被洗浄物３３に強
力に照射される。このとき、プラズマ中のラジカルも化
学的反応の進行を負う。従ってこのＲＩＥモードは、ゴ
ミや錆の付着をイオン照射の物理的衝撃により除去する
という洗浄目的に適している。
【００２０】（両面洗浄モード）図４（ｂ）に示すよう
に、上下に接地側トレイ４１、４３を配置し、その間に
高周波側とした開口トレイ４２を挿入して、その開口部
４２１に金属ベースの被洗浄物４２２を載置する。する
と、被洗浄物４２２は両面からプラズマイオンの照射を
受け、一度に両面の洗浄が行なわれる。例えばハードデ
ィスクドライブ用シークヘッドは、ステンレスの薄いシ
ートをベースとし、その両面にポリイミドフィルムを介
して電極層が形成される構造を有している。このような
物品については、本発明に係るプラズマドライクリーナ
ーを用いることにより一挙に両面の洗浄を行なうことが
できる。
に、上下に接地側トレイ４１、４３を配置し、その間に
高周波側とした開口トレイ４２を挿入して、その開口部
４２１に金属ベースの被洗浄物４２２を載置する。する
と、被洗浄物４２２は両面からプラズマイオンの照射を
受け、一度に両面の洗浄が行なわれる。例えばハードデ
ィスクドライブ用シークヘッドは、ステンレスの薄いシ
ートをベースとし、その両面にポリイミドフィルムを介
して電極層が形成される構造を有している。このような
物品については、本発明に係るプラズマドライクリーナ
ーを用いることにより一挙に両面の洗浄を行なうことが
できる。
【００２１】なお、上下のトレイを高周波側（ＲＦ）と
し、間に介挿する開口トレイを接地側（ＧＤ）としても
よい。また、上下のトレイと開口トレイの間にグリッド
状トレイを挿入して、上記リモートモードと両面洗浄モ
ードとを組み合わせて行なってもよい。
し、間に介挿する開口トレイを接地側（ＧＤ）としても
よい。また、上下のトレイと開口トレイの間にグリッド
状トレイを挿入して、上記リモートモードと両面洗浄モ
ードとを組み合わせて行なってもよい。
【００２２】（マガジン使用モード）リードフレーム等
の小物部品について蒸着、洗浄等の一連の処理を行なう
場合、１個１個行なっていたのでは非常に効率が悪い。
そこで、多数の小物部品５１を棚状に収容するマガジン
５２と呼ばれる容器を用い、このマガジン５２に収容し
たままの状態で多数の小物部品５１を一括して各種の処
理を行なうようになっている。本発明に係るプラズマド
ライクリーナーは、このようなマガジン５２をトレイ５
４に載置し、その上部に逆極性のトレイ５３を配置して
（或いは、反応室の天井自体を接地極として用いてもよ
い）、上記ＰＥモード又はＲＩＥモードで洗浄を行なう
ことができる。
の小物部品について蒸着、洗浄等の一連の処理を行なう
場合、１個１個行なっていたのでは非常に効率が悪い。
そこで、多数の小物部品５１を棚状に収容するマガジン
５２と呼ばれる容器を用い、このマガジン５２に収容し
たままの状態で多数の小物部品５１を一括して各種の処
理を行なうようになっている。本発明に係るプラズマド
ライクリーナーは、このようなマガジン５２をトレイ５
４に載置し、その上部に逆極性のトレイ５３を配置して
（或いは、反応室の天井自体を接地極として用いてもよ
い）、上記ＰＥモード又はＲＩＥモードで洗浄を行なう
ことができる。
【００２３】以上説明した各種モードは従来それぞれ単
独で行なわれていたが、本発明に係るプラズマドライク
リーナーではトレイを適宜配置することによりこれらを
同時に行なうことができる。すなわち、多種類の被洗浄
物の洗浄を短時間で行なうことができる。
独で行なわれていたが、本発明に係るプラズマドライク
リーナーではトレイを適宜配置することによりこれらを
同時に行なうことができる。すなわち、多種類の被洗浄
物の洗浄を短時間で行なうことができる。
【００２４】
【発明の効果】本発明に係るプラズマドライクリーナー
では、被洗浄物を載置するためのトレイを兼ねた電極を
反応室内に複数枚装入することができるため、多数の被
洗浄物を同時に洗浄することができ、従来の洗浄装置と
比較して単位時間当たりの処理数が大幅に増加する。ま
た、反応室が直方体であるため、平板状のトレイを用い
ることにより比較的広い範囲で均一なプラズマ分布が得
られ、多くの被洗浄物に対して均等な洗浄を行なうこと
ができる。
では、被洗浄物を載置するためのトレイを兼ねた電極を
反応室内に複数枚装入することができるため、多数の被
洗浄物を同時に洗浄することができ、従来の洗浄装置と
比較して単位時間当たりの処理数が大幅に増加する。ま
た、反応室が直方体であるため、平板状のトレイを用い
ることにより比較的広い範囲で均一なプラズマ分布が得
られ、多くの被洗浄物に対して均等な洗浄を行なうこと
ができる。
【００２５】次に、接地側トレイの電気接続手段と高周
波側トレイの電気接続手段を別異の箇所に設け、違った
種類の電気接続手段とは接触しないようにしておくこと
により、トレイ装入時の面倒な電極確認、接続操作が不
要となり、使用者の負担が軽減されるとともに、電気事
故が防止できる。
波側トレイの電気接続手段を別異の箇所に設け、違った
種類の電気接続手段とは接触しないようにしておくこと
により、トレイ装入時の面倒な電極確認、接続操作が不
要となり、使用者の負担が軽減されるとともに、電気事
故が防止できる。
【００２６】更に、反応室内におけるトレイの極性接続
を各種変更することにより、主としてイオンにより洗浄
する方法、主としてラジカルにより洗浄する方法等、目
的に応じて様々な方法で洗浄することができるようにな
る。また、それに加えて各種構造のトレイを用意するこ
とにより、平面状導電性被洗浄物の両面からの洗浄や小
物部品の大量一括洗浄等、更に多様な方法で洗浄を行な
うことができるようになる。
を各種変更することにより、主としてイオンにより洗浄
する方法、主としてラジカルにより洗浄する方法等、目
的に応じて様々な方法で洗浄することができるようにな
る。また、それに加えて各種構造のトレイを用意するこ
とにより、平面状導電性被洗浄物の両面からの洗浄や小
物部品の大量一括洗浄等、更に多様な方法で洗浄を行な
うことができるようになる。
【図１】 本発明の一実施例であるプラズマドライクリ
ーナーの一部断面斜視図。
ーナーの一部断面斜視図。
【図２】 高周波側トレイ（ａ）及び接地側トレイ
（ｂ）とブスバーの関係を示す斜視図。
（ｂ）とブスバーの関係を示す斜視図。
【図３】 各種トレイの配置と洗浄モードの関係を示す
説明図。
説明図。
【図４】 開口トレイの斜視図（ａ）と使用時の反応室
の断面図（ｂ）。
の断面図（ｂ）。
【図５】 マガジン使用モードにおける反応室の断面
図。
図。
１０…プラズマドライクリーナー １１…反応室 １２…制御部 １３…スライドレール １４…高周波側ブスバー １４１…端子挿入口 １５…接地側ブスバー １５１…端子挿入口 ２０、３１、３２、３４、３６、４１、５３、５４…ト
レイ ２１…高周波側トレイ ２１１…フレーム ２１２…絶縁部材 ２１３…被洗浄物載置板 ２２…接地側トレイ ２４、２５…端子 ３５…グリッド状トレイ ４２…開口トレイ ４２１…開口部 ４２２…被洗浄物 ５１…小物部品 ５２…マガジン
レイ ２１…高周波側トレイ ２１１…フレーム ２１２…絶縁部材 ２１３…被洗浄物載置板 ２２…接地側トレイ ２４、２５…端子 ３５…グリッド状トレイ ４２…開口トレイ ４２１…開口部 ４２２…被洗浄物 ５１…小物部品 ５２…マガジン
Claims (4)
- 【請求項１】 a)直方体形状を有し、気密に閉塞可能な
反応室と、 b)反応室の内壁面に設けられた、複数のトレイを反応室
内に装入するためのスライドレールと、 c)トレイに設けられたトレイ側端子と反応室に設けられ
た反応室側端子とから成り、トレイが反応室内に装入さ
れると両者が接触して反応室とトレイとを電気的に接続
する電気接続手段と、 を備えることを特徴とするプラズマドライクリーナー。 - 【請求項２】 接地側トレイと高周波側トレイの２種類
のトレイが用意され、接地側トレイの電気接続手段と高
周波側トレイの電気接続手段が別異の箇所に設けられて
他方の種類の電気接続手段とは係合しないようになって
いることを特徴とする請求項１記載のプラズマドライク
リーナー。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載のプラズマドライク
リーナーで用いる、グリッド状のトレイ。 - 【請求項４】 請求項１又は２記載のプラズマドライク
リーナーで用いる、開口を有するトレイ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15047197A JP3595433B2 (ja) | 1997-05-23 | 1997-05-23 | プラズマドライクリーナー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15047197A JP3595433B2 (ja) | 1997-05-23 | 1997-05-23 | プラズマドライクリーナー |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10324981A true JPH10324981A (ja) | 1998-12-08 |
| JP3595433B2 JP3595433B2 (ja) | 2004-12-02 |
Family
ID=15497640
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15047197A Expired - Lifetime JP3595433B2 (ja) | 1997-05-23 | 1997-05-23 | プラズマドライクリーナー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3595433B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
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- 1997-05-23 JP JP15047197A patent/JP3595433B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US9355925B2 (en) | 2014-03-14 | 2016-05-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Photocoupler |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3595433B2 (ja) | 2004-12-02 |
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