JPH10314975A - レ−ザ加工ヘッド - Google Patents

レ−ザ加工ヘッド

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JPH10314975A
JPH10314975A JP9147138A JP14713897A JPH10314975A JP H10314975 A JPH10314975 A JP H10314975A JP 9147138 A JP9147138 A JP 9147138A JP 14713897 A JP14713897 A JP 14713897A JP H10314975 A JPH10314975 A JP H10314975A
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gas
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cooling
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Hiroshi Fujimura
浩史 藤村
Yoshimi Kamito
好美 上戸
Kobo Inoue
弘法 井上
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 金属蒸気やスパッタが、保護ガラスに付着す
るのを効率よく防止し得且つレーザ反射ミラーを短尺化
及び小型化を図るレーザ加工ヘッドの提供する事にあ
る。 【解決手段】 レーザ溶接、レーザ切断、レーザマーキ
ング等のレーザ加工を行なうレーザ加工ヘッドにおい
て、前記集光レンズあるいは反射ミラーを冷却した後の
ガスを、レーザ光照射孔又は/及びその外周に設けた噴
出孔から被加工部側に向かって噴出させ、前更に記ミラ
ーの背面側を徐々に先細状に形成するとともに、この背
面側に冷却フィンを設けたことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザ溶接、レーザ
切断、レーザマーキング等に用いるレーザ加工ヘッドに
係り、特にレーザ伝搬手段により導かれたレーザを、集
光レンズにより集光させながら反射ミラーにより変向さ
せてレーザ光照射孔より被加工部上に結像させて所定の
レーザ加工を行なうレーザ加工ヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ溶接ヘッドを用いたレーザ溶接の
一例として、管の突き合わせ円周溶接の状況を図4に、
また、そのレーザ溶接ヘッドを図5に示す。図4におい
て、1、1’は溶接の対象である管で、不図示の構造体
で突き合せ状態で支持されている。2は管の突き合せ溶
接部、3は溶接機本体、4は溶接機本体3と一体化した
固定チャック、5は固定チャック4のハンドル、6は駆
動モータ、7は溶接機本体3に回動自在に固定された馬
蹄形回転体で、溶接機本体3内に組み込まれている動力
伝達機構を介して駆動用モータ6により管周面に沿って
回動する。8は溶接制御装置、9は馬蹄形回転体7に固
定されたレーザ溶接ヘッド、10はレーザ溶接ヘッド端
部に取り付けられたコネクタでオプティカルファイバ1
1を介してレーザ発振器12に接続されている。これら
の作用を説明すると、溶接機本体3は固定チャック4で
ハンドル5を操作することにより管1’に固設され、こ
の状態で、制御装置8で駆動モータ6を駆動すれば、馬
蹄形回転体7が回転するので、レーザ溶接ヘッド9も被
溶接管1、1’の周りを回転する。
【0003】次にレーザ溶接ヘッド9の詳細を図5
(A)、(B)で説明する。図5(A)は上から見た平
面断面図、図5(B)は側面から見た側面断面図であ
る。図5(A)、(B)において、1、1’は溶接対象
管、2は管の突き合せ溶接部、10はコネクタ、11は
オプティカルファイバで図4と同様な構成を有す。13
は、ミラー15’及び複数のレンズ群27、27’、2
7”が収納されている外筒で、コネクタ接続部側に外筒
13と一体化している端筒17が形成されているととも
に、その反対側に位置している外筒13開口を、排出孔
33を有する端板14で封止している。ミラー15’は
レンズ群27、27’、27”と対面する側に下向きに
斜めにカットした反射面15aを有し、該反射面15a
が外筒13に設けた開口窓部と対面するようにミラー位
置調整ネジ26により所定位置に位置保持されている。
又外筒13に設けた開口窓部13aも保持板24に保持
された保護ガラス25が取り付けられており、該開口窓
部13aがレーザ照射孔として機能する。そして前記ミ
ラー反射面15aの前方には、レンズ保持筒16に保持
されたレンズ群27、27’、27”が位置している。
【0004】18は端筒17内に設けられたミラー冷却
ガス導入孔で、上流側をミラー冷却ガス供給管21と連
設させ、下流側をレンズ保持筒16外周と外筒13内周
間に形成された空隙28より開口28aを介してミラー
収納空間31を通り端板14のガイド穴33より外部に
排出される。19は前記端筒17内のミラー冷却ガス導
入孔18に反対側に、穿孔されたレンズ冷却ガス導入孔
で、レンズ保持筒16外周と外筒13内周間に形成され
た空隙29よりレンズ保持筒16に設けた穴16aより
レンズ保持筒16内のレンズ周囲空間を通り、更に他側
の穴16bよりレンズ保持筒16外に通気させ、開口2
8aを介してミラー収納空間31を通り端板14のガイ
ド穴33より外部に排出されるように構成している。前
記開口窓部13a側に位置する端筒17下部は下方に拡
幅化し前記保護ガラス25表面と平行な方向に沿ってス
パッタ除去ガス導入孔20が穿孔され、該導入孔20は
スパッタ除去ガス供給管23と連設している。尚36の
点線はレーザ光の経路を示す模式線、37は突き合せ溶
接部上に位置する溶接金属、38はスパッタである。
【0005】つぎにかかる従来技術の作用を説明する
と、オプティカルファイバ11で導かれたレーザ光はコ
ネクタ10を介してレンズ群27、27’、27”で集
光され、ミラー15’の反射面15aで変向した後、レ
ーザ照射孔より保護ガラス25を通して被溶接管1、
1’の溶接部2上で焦点を結び、これを溶融する。この
状態で、図4で説明したように溶接ヘッドが被溶接管
1、1’のまわりを周回すれば、全周にわたって溶接金
属37が形成され、溶融が完遂する。
【0006】しかし、この場合、熱とスパッタが問題に
なる。つまり、レンズの透過率、ミラーの反射率はいづ
れも100%ではないので、レーザ強度が大きくなるに
つれて、レンズやミラーに吸収される熱量は増大し、溶
接に必要な強度レベルでは、数分もしない内に損傷を受
けてしまう。また、溶融した金属からは金属蒸気が発生
し、ガス成分が多い場合には、溶融金属を吹き上げいわ
ゆるスパッタを発生するが、これらが保護ガラス25表
面に付着すると透過率が急激に低下し、保護ガラス25
は瞬時に損傷を受けることになる。このため、前記従来
技術におけるレーザ溶接ヘッドでも種々の対策が採られ
ており、レンズ冷却ガス供給管22よりレンズ冷却ガス
をレンズ冷却ガス導入管19に供給する事により、レン
ズ保持筒16外周と外筒13内周間に形成された空隙2
9よりレンズ保持筒16に設けた穴16aよりレンズ保
持筒16内のレンズ周囲空間を通過するときにそれぞれ
のレンズを冷却する。更にレンズ冷却ガスは他側穴16
bよりレンズ保持筒16外に通気させ、開口28aを介
してミラー収納空間31を通過しながらミラー15’の
冷却を行なった後、端板14のガイド穴33より外部に
排出される。
【0007】また、ミラー冷却ガス供給管21よりミラ
ー冷却ガス導入孔18に供給された冷却ガスは空隙28
でレンズを冷却した後のレンズ冷却ガスと合流した後
に、開口28aを介してミラー収納空間31を通過しな
がらミラーの冷却を行なった後、端板14のガイド穴3
3より外部に排出される。更にスパッタ除去は、スパッ
タ除去ガス供給管23よりスパッタ除去ガス導入孔20
に導入されたシールドガスが、保護ガラス25の表面を
横切る方向に噴出させることによってスパッタ除去を達
成しようとしている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従って前記従来のスパ
ッタ除去方法は、ガスを保護ガラスの表面に沿って平行
に噴出させることによってスパッタを吹き飛ばそうとし
ていた。しかし、この噴出ガス34は、溶接金属37か
ら保護ガラス25の方向に噴出してくるスパッタ38に
対して、それを阻止するベクトル成分はないために、ス
パッタの噴出速度が大きい場合には完全に除去すること
ができず、保護ガラス25の損傷を引き起こし、度々溶
接を中断して修理する不具合があった。また前記シール
ドガスに中性ガスまたは不活性ガスを使用したとして
も、矢印34のような高速流があると、これに吸引され
る形で矢印35で示される空気流が形成されるために、
該空気流中の酸素により溶接金属が酸化されて、強度
的、外観的、溶接継手としてはなはだ不適格なものにな
っていた。
【0009】一方前記従来技術に示す反射ミラー15’
は円筒形の金属棒(多くの場合銅製)の端部を45度に
鏡面仕上げして変向反射面15aを形成していたが、こ
の形状は冷却ガスに対する熱伝達の効率が悪く、レーザ
透過による吸熱による温度上昇を避けるために、寸法的
に大きな熱容量の大きなものが必要であった。このた
め、レーザ溶接ヘッドは長くならざるを得ず、溶接機の
チャッキング部と溶接部との間が長くなり、適用箇所が
制約されることがあった。
【0010】本発明はかかる技術的課題に鑑み、溶接金
属から発生する金属蒸気やスパッタが、保護ガラスに付
着するのを効率よく防止し得るレーザ加工ヘッドを提供
する事にある。本発明の他の目的は、保護ガラスにスパ
ッタ等が付着するのを防止するために、スパッタ排除ガ
スおよびシールドガスにアルゴン、ヘリューム、窒素な
どの不活性または中性ガスを用いて、これにより溶接金
属その他の加工部の酸化劣化を防止でき、健全なレーザ
加工材を得ることができるレーザ加工ヘッドを提供する
事にある。さらに、本発明は、前記反射ミラーを短尺化
及び小型化を図った場合でも、高熱伝達効率と十分なる
冷却効率を達成出来、これによりミラー焼損に基づくト
ラブルが無くなるのに加え、レーザ溶接ヘッドを小型化
でき、チャッキング位置と、加工線(溶接線)との距離
が短くても良いため、レーザ溶接の適用範囲が広がった
レーザ加工ヘッドを提供する事にある。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
レーザ伝搬手段により導かれたレーザを、集光レンズに
より集光させながら反射ミラーにより変向させてレーザ
光照射孔より被加工部上に結像させてレーザ溶接、レー
ザ切断、レーザマーキング等の所定のレーザ加工を行な
うレーザ加工ヘッドにおいて、前記集光レンズあるいは
反射ミラーを冷却した後のガスを、レーザ光照射孔又は
/及びその外周に設けた噴出孔から被加工部側に向かっ
て噴出させることを特徴とする。即ち、より具体的に
は、前記レーザ照射孔に保護ガラスを最終変向面とする
屈曲ガス流路を設け、保護ガラスから溶接金属に向かう
ガス流を形成するとともに、更に前記構成に加えて若し
くは前記構成に代えてレーザ照射孔を中心として、同心
円状に、噴出孔を設けてシールドガスを噴出させること
を特徴とする。
【0012】かかる発明によれば、保護ガラスから溶接
金属に向かうガス流を形成することによって、スパッタ
が保護ガラスに飛来するのを阻止し得るとともに、更に
レーザ照射孔を中心として同心円状にシールドガスを噴
出させる事により、二重のガスシールドによって空気の
巻き込み阻止が図られ、加工金属(溶接金属)の酸化の
極小化を図れる。
【0013】請求項2記載の発明は、前記レーザ加工ヘ
ッドにおいて、前記ミラーの背面側を徐々に先細状に形
成するとともに、この背面側に冷却フィンを設けたこと
を特徴とする。より具体的には前記ミラーの背面側を多
角錐または円錐に成形し、この面に多数の針状若しくは
風の流れに沿う板状フィンを取り付けることを特徴とす
る。
【0014】例えば前記冷却フィンは、図2(B)に示
すように内筒内周面に対し僅かなクリアランスを持って
半径方向に放射状に植設されている。従ってミラー側は
先細状に形成されているために、図1(A)(B)に示
すように、結果的に冷却フィンは先に進むに連れ長くな
り、その分冷却フィンの熱交換面積が大幅に広がる事に
なる。
【0015】かかる発明によれば、前記ミラーの背面側
を多角錐、または円錐状に成形して冷却フィンの配設空
間を広げてより多くの冷却フィンを植え付けることが出
来、これにより冷却ガスとの熱伝達効率を高め、結果的
にはレーザ溶接ヘッドを短尺化し、より適用範囲の広い
レーザ溶接機を得ることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
適な実施形態を例示的に詳しく説明する。但しこの実施
形態に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、そ
の相対的配置等は特に特定的な記載がないかぎりは、こ
の発明の範囲をそれに限定する趣旨ではなく、単なる説
明例にすぎない。
【0017】本発明の第1実施形態に係るレーザ溶接ヘ
ッドを図1及び図2に示す。図1(A)は上から見た平
面図で、上面を取り払って内部を示す。図1(B)は正
面から見た正面図で、前面を取り払って内部を示す。図
1(C)は右側から見た側面図である。図2(A)は底
面から見た平面図、図2(B)は(A)のa−a位置で
の断面図、図2(C)はb−b位置での断面図、図2
(D)はc−c位置での断面図を示す。図1、図2にお
いて、溶接の対象である管1、1’、溶接部2、コネク
タ10、オプティカルファイバ11、保護ガラス25、
複数のレンズ群27、27’、27”、溶接金属37、
スパッタ38はいずれも図4、5の従来技術の項で説明
したものと同一であるので説明を省略する。本実施形態
は前記従来技術のように外筒13のみで構成されるので
はなく、断面円形状の内筒40と蒲鉾状の外筒42から
構成し、内筒40内にはミラー15及び複数のレンズ群
27、27’、27”が収納されているとともにレンズ
入射側端面にコネクタ10が接続されており、その反対
側に位置している内筒開口を、外筒42とともに端板1
4で封止している。
【0018】ミラー15はレンズと対面する側に下向き
に斜めにカットした反射面15aを有し、その背面側1
50を略円錐形に先細状に加工するとともに、その円錐
外周面上にガス流れ方向(軸方向)と直交する方向に沿
って植設された多数本の針状フィン151を有す。前記
針状フィン151は、図2(B)に示すように内筒内周
面に対し僅かなクリアランスを持って半径方向に放射状
に植設されている。従って針状フィン151を植設する
ミラー背面側150は先細状に形成されているために、
図1(A)(B)に示すように、結果的に針状フィン1
51は先に進むに連れ長くなり、その分針状フィン15
1の熱交換面積が大幅に広がる事になる。
【0019】内筒40底面には底板41が線状に接触し
て配設され、そして内筒40と底板41の間を外筒42
により機密的に包被する。又外筒42は上面側を内筒4
0頂部に連設させるとともに、その左右両側にガス溜ま
り空間53、54を形成する。そして前記ミラー反射面
15aの出射面側に位置する内筒40の下半分側の18
0°円弧は削成され、該削成部にミラー15で反射した
レーザ光の経路を中心とした円筒状に内筒40と底板4
1との間を気密的に連設した隔壁43が設けられる。又
底板41は開口されており、該開口部に保護ガラス25
が取り付けられており、その下面側に位置する円形のシ
ールドノズル45により保持されている。
【0020】シールドノズル45は、図2(A)に示す
ように、底板41短幅より僅かに小径の円形状をなし、
図2(C)に示すように、外筒42側のガス溜まり空間
54の隔壁外側部に設けた通気孔41aと対面する位置
に、環状溝形状に加工されたシールドガス溜まり46を
設けるとともに、該シールドガス溜まり46の底部から
ノズル45下面側に向かって環状に多数穿設された環状
孔列であるシールドガス噴出孔47を設ける。又隔壁4
3内周側に位置する底板41は保護ガラス25取り付け
部側部をU字状に開口51するとともに、該開口部51
の底板41底面側に位置するシールドノズル45部に円
形のスパッタ排除ガス溜まり48を凹設するとともに、
該スパッタ排除ガス溜まり48を部分的に埋める形で1
20°角度変位した位置に放射方向に保護ガラス支持片
49を設け、更にスパッタ排除ガス溜まり48の中心部
に、レーザ光照射孔を兼ねたスパッタ排除ガス噴出孔5
0を開口する。
【0021】一方、前記外筒42と内筒40との間の左
右両側に形成されたガス溜まり空間53、54の内、一
のガス溜まり空間54内には、ミラー冷却ガス供給管2
1のミラー冷却ガスを内筒40端部近くに導くミラー冷
却ガス導入管44が配設されており、該導入管44より
ミラー冷却ガス供給管21から供給されたミラー冷却ガ
スが図2(B)に示すようにミラー背面側150後端の
先細位置に開口された導入管開口44aより内筒40内
に供給し、前記針状フィン151を介してミラー背面側
150を奪熱しながらミラー15の前面の空間に至り、
そして更にミラー冷却ガスは保護ガラス25の周囲のU
字状開口部51を通ってスパッタ排除ガス溜まり48に
入り、排除ガスとして保護ガラス25表面を通りなが
ら、レーザ照射孔として機能するスパッタ排除ガス噴出
孔50から噴出するように構成する。
【0022】一方ガス溜まり空間54の反対側に位置す
るガス溜まり空間53には、レンズ冷却ガス供給管22
が接続され、複数のレンズ群27、27’、27”を保
持している内筒40周面に設けた通気孔40aよりレン
ズ内筒40内のレンズ周囲空間を通り、更に通気孔40
bより他側ガス溜まり空間54に導出されるように構成
している。
【0023】次にかかる実施形態の作用を説明するが、
レーザ光伝搬、集光は図5で説明した従来法と同じであ
るので説明を省略し、本発明の要部である冷却ガス、ス
パッタ排除ガス、シールドガスの流れ状態について説明
する。ミラー冷却ガス供給管21、ミラー冷却ガス導入
管44及び開口44aによって内筒40のミラー背面側
150の先細端部近くに導かれたミラー冷却ガスは、円
錐面150に植設された針状冷却フィン151の間を熱
を奪いながら通過し、ミラー15の前面の空間に至る。
この空間は内筒40、隔壁43、レンズ27”で密閉さ
れているので、ミラー冷却ガスは保護ガラス25の周囲
のU字状間隙51を通ってスパッタ排除ガス溜まり48
に入り、スパッタ排除ガスとして保護ガラス25表面に
沿って流れながらスパッタの付着阻止を図りつつその中
心部のスパッタ排除ガス噴出孔50から噴出する。
【0024】一方、レンズ冷却ガス供給管22より、外
筒42と内筒40の間のガス溜め空間53に供給された
レンズ冷却ガスは、このガス溜め空間53は密閉されて
いるため、図2(D)に示すように内筒40に開けられ
ている通気孔40aを通じてレンズを冷却した後、内筒
40の他方の壁に開けられている通気孔40bを通じて
他側のガス溜め空間54に排出される。ガス溜め空間5
4は隔壁43外側の底板41に通気孔41aが設けられ
ているので、レンズ冷却ガスは図2(C)に示すよう
に、この通気孔41aを通じてシールドガス溜まり46
に流入し、さらにレーザ照射孔50の外周側に同心リン
グ状に配列した多数のシールドガス噴出孔47から噴出
する。
【0025】以上記載のごとく、本実施形態によると、
ミラーを冷却した後のガスを、スパッタ排除ガスとして
保護ガラス表面に沿って流しながらスパッタ排除ガス噴
出孔50から高速で噴出させることができるため、溶接
金属37から発生する金属蒸気やスパッタ38が、保護
ガラス25に付着するのを効率よく防止することがで
き、レーザ光吸収による損傷を防ぐことができる。ま
た、レンズを冷却したガスを最終的にはレーザ光射出孔
47を中心に同心円上に配列したシールドガス噴出孔4
7から噴出させて、空気が溶接雰囲気に進入するのを防
ぐことができる。このため、スパッタ排除ガスおよびシ
ールドガスにアルゴン、ヘリューム、窒素などの不活性
または中性ガスを用いることにより、溶接金属の酸化劣
化を防止でき、健全な溶接継手を得ることができる。さ
らに、本装置に使用されているミラーは、その背面に多
数の針状フィン151を植え付けて熱伝達の効率を高め
た構造になっているため、短尺でも十分冷却され、ミラ
ー焼損に基づくトラブルが無くなるのに加え、レーザ溶
接ヘッドを小型化でき、チャッキング位置と、溶接線と
の距離が短くても良いため、レーザ溶接の適用範囲が広
がる。
【0026】尚、図3に示すようにレーザ光照射孔50
0とスパッタ排除ガス噴出孔501は夫々独立して設け
てもよい。即ちシールドノズル45の隔壁内周側の底板
41は保護ガラス取り付け部側部にU字状に開口51し
た点は前記実施例と同様であるが、該開口部51の底面
側に位置するシールドノズル45に、前記実施形態のよ
うに円形ではなく、リング円状にスパッタ排除ガス溜ま
り48を凹設し、該スパッタ排除ガス溜まり48のリン
グ円に沿って多数の小径のスパッタ排除ガス噴出孔50
1を穿設する。そして保護ガラス25中心部にレーザ光
照射孔500を開口する。
【0027】かかる実施形態によればミラー冷却ガスは
保護ガラス25の周囲のU字状間隙51を通ってスパッ
タ排除ガス溜まり48に入り、レーザ光照射孔500外
周側にリング状に穿設したスパッタ排除ガス噴出孔50
1よりスパッタ排除ガスとして噴出して、リング状のエ
アカーテンによりレーザ光照射孔500に設けた保護ガ
ラス25表面のスパッタ付着を防止する。又ミラー冷却
ガスはミラーの正面側から供給してミラーの背面側15
0周面を循環させて針状フィン151を介してミラーを
冷却した後、保護ガラス25の外周に設けたスパッタ排
除ガス(ミラー冷却ガス)噴出孔501より噴出するよ
うに構成してもよい。
【0028】
【発明の効果】以上記載のごとく請求項1記載の本発明
によれば、溶接金属から発生する金属蒸気やスパッタ
が、保護ガラスに付着するのを効率よく防止し得る。又
本発明によれば、保護ガラスにスパッタ等が付着するの
を防止するために、スパッタ排除ガスおよびシールドガ
スにアルゴン、ヘリューム、窒素などの不活性または中
性ガスを用いた場合においても、空気等を巻き込む事な
くこれにより溶接金属その他の加工部の酸化劣化を防止
でき、健全なレーザ加工材を得ることができる。さら
に、請求項2記載の本発明によれば、前記反射ミラーを
短尺化及び小型化を図った場合でも、高熱伝達効率と十
分なる冷却効率を達成出来、これによりミラー焼損に基
づくトラブルが無くなるのに加え、レーザ溶接ヘッドを
小型化でき、チャッキング位置と、加工線(溶接線)と
の距離が短くても良いため、レーザ溶接の適用範囲が広
がった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係るレーザ溶接ヘッド
を示し、図1(A)は上から見た平面図で、上面を取り
払って内部を示し、図1(B)は正面から見た正面図
で、前面を取り払って内部を示し、図1(C)は右側か
ら見た側面図である。
【図2】本発明の第1実施形態に係るレーザ溶接ヘッド
を示し、図2(A)は底面から見た平面図、図2(B)
は(A)のa−a位置での断面図、図2(C)はb−b
位置での断面図、図2(D)はc−c位置での断面図を
示す。
【図3】本発明の他の実施形態を示し、図2(C)の対
応図である。
【図4】本発明及び従来技術に適用される、管の突き合
わせ円周レーザ溶接の説明図である。
【図5】従来技術に係るレーザ溶接ヘッドの詳細を示
し、図5(A)は上から見た平面断面図、図5(B)は
側面から見た側面断面図である。
【符号の説明】
1、1’ 溶接の対象である管 2 溶接部 3 溶接機本体 4 固定チャック 5 ハンドル 6 駆動モータ 7 馬蹄形回転体 8 溶接制御装置 9 レーザ溶接ヘッド 10 コネクタ 11 オプティカルファイバ 12 レーザ発振器 14 端板 15 ミラー 150 ミラー15の背面 151 針状フィン 16 レンズ保持筒 21 ミラー冷却ガス供給管 22 レンズ冷却ガス供給管 25 保護ガラス 27、27’、27” 複数のレンズ群 36 レーザ光の経路を示す模式線 37 溶接金属 38 スパッタ 40 内筒 41 底板 42 外筒 43 隔壁 44 ミラー冷却ガス導入管 45 シールドノズル 46 シールドガス溜まり 47 シールドガス噴出孔 48 スパッタ排除ガス溜まり 49 保護ガラス支持片 50 スパッタ排除ガス噴出孔 53、54 ガス溜まり空間

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ伝搬手段により導かれたレーザ
    を、集光レンズにより集光させながら反射ミラーにより
    変向させてレーザ光照射孔より被加工部上に結像させて
    レーザ溶接、レーザ切断、レーザマーキング等の所定の
    レーザ加工を行なうレーザ加工ヘッドにおいて、 前記集光レンズあるいは反射ミラーを冷却した後のガス
    を、レーザ光照射孔又は/及びその外周に設けた噴出孔
    から被加工部側に向かって噴出させることを特徴とする
    レーザ加工ヘッド。
  2. 【請求項2】 レーザ伝搬手段により導かれたレーザ
    を、集光レンズにより集光させながら反射ミラーにより
    変向させてレーザ光照射孔より被加工部上に結像させて
    レーザ溶接、レーザ切断、レーザマーキング等の所定の
    レーザ加工を行なうレーザ加工ヘッドにおいて、 前記ミラーの背面側を徐々に先細状に形成するととも
    に、この背面側に冷却フィンを設けたことを特徴とする
    レーザ溶接ヘッド用ミラー。
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