JP2005254328A - ハイブリッドレーザ加工方法とそれに用いるハイブリッドレーザトーチ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 2種のレーザ系A、Bからの異なった第1、第2レーザ光を重畳したハイブリッドレーザ光6における第2レーザ光5の被加工物7上での有効スポットサイズD2が、第1レーザ光3の有効スポットサイズD1未満となるように集光させて被加工物7に照射し加工を行うことにより、上記の目的を達成する。
【選択図】 図3
Description
ない、溶接欠陥やクラック発生の原因ともなる。また、特許文献4に記載のものではトーチの照射口のまわりにある先細りのコーン形状をした環状通路から吹き付けたシールドガスは、やはりまわりの空気を巻き込んで溶接部に吹き付ける問題を免れ得ないし、溶接部に向け収束して吹き付けられるシールドガスにはトーチ内への逆流成分が生じやすく、溶接部で発生するスパッタ粒子をトーチ内に積極的に送り込む働きをしてしまう。特許文献4に記載のものはこれが集光レンズなどに及ぶのをエアナイフにて遮断するようにしてはいるが、これが満足になされたとしても、スパッタ粒子をトーチまわりの雰囲気中に吹き出し飛散させてしまう問題があるし、トーチ内がスパッタ粒子によって汚染されやすい。これはトーチ内から不活性ガスを噴出させることで解決できても、まわりの空気を巻き込んで溶接部に吹き付けてしまう問題は解決しない。本発明者等はこれらの問題についても、解決策を見出した。
まわりへの影響が高まるといった弊害を回避することができる。
第2レーザ光のCW制御によって、前記必要な加工幅の内の限られた幅内への出力エネルギの集中を継続させて、第2レーザ光の低出力に見合った予備的な加工の促進を間断なく図りながら、第1レーザ光のパルス制御によって瞬間的な高出力を必要な加工幅全体に無理無く繰り返して十分な加工幅を速い加工速度にて満足しながら、前記第2レーザ光による特定幅内の予備的な加工の促進による加工の早期浸透、溶け込みを確実に達成させられる。つまり、パルスレーザ光の断続照射だけではキーホールが発生したり、発生しなかったりするところ、CWレーザ光の連続照射を併用することによってキーホールを確実に発生させられて加工が安定する。
第2レーザ光は第1レーザ光との波長の違いによって、集光レンズを共用しながらも第1レーザ光よりも小さい集光径にて集光させられる上、第2レーザ光をGI(グレーテッドインデックス形)ファイバによって導いてくることで、第1レーザ光よりも小さな集光径に集光させられるので、照射エネルギを特定幅内により集中させやすく、特定幅内でのハイブリッド光効果が向上する。第1レーザ光もGIファイバによって導いて集光させやすくすることはできるが、必要に応じてすればよく、SI(ステップインデックス形)ファイバによって導いても特に問題はない。
被加工物を照明すると、その反射光は集光レンズを逆向きに透過して第1、第2ミラー側にも向くのを、第1、第2ミラーを透過させることで、レーザ光照射光学系の外に導いて結像させモニタに供し、加工条件の調整が行えるようにしながら、前記集光レンズよりも径が小さく色無し処理などしたアクロマチックレンズまたはピンホールなどの小孔によって前記結像を行うことにより、集光レンズ、第1、第2ミラーの第1、第2レーザ光に対する照射のための十分な反射特性や透過特性を満足した上で、深い焦点深度にて明瞭な結像を得て前記モニタが容易かつ適確になされるようにすることができる。ピンホールによる場合は、上記に併せ構成の簡略化が達成される。
白色LEDからの白色光を光ファイバによって照射対象物のハイブリッドレーザ光照射部に他の邪魔になるようなことなく的確に導き、照射対象物のハイブリッドレーザ光照射部が、輝き面を保って加工されるような場合でもその輝度を抑えながら表面状態、加工状態を光のちらつきやハレーションなどなく、モニタカメラ側に明瞭に結像させることができ、表面状態、加工状態を容易かつ適正に視認できるようにする。
第1、第2レーザ光を光軸上で重畳させハイブリッドレーザ光として照射し照射対象物上に集光させるのに、その照射光学系を構成する第1、第2ミラーおよび集光レンズのそれぞれは互いに標準的な位置合わせはなされるが、個々の照射光学系の実使用段階ではその他の条件も加わり、第1、第2レーザ光の重畳位置にそれぞれで異なったずれを生じることがあるのを、実使用段階にて第1、第2レーザ光を相前後して照射することにより、先の照射痕に対する後の照射位置の関係としてモニタ画象上で視認することができ、しかも、この視認状態において先の照射痕に対する後の照射位置の重なりが所定位置となるように後の照射位置を第1、第2ミラーの対応する側にて調節することにより前記のような重畳位置のずれを解消することができ、その後加工に供することにより加工が設定通りに達成されることを保証できる。特に、重畳位置の調節を第1、第2ミラーの内の、光軸上の後に位置する側、従って照射位置から遠い側で行うことによって、ミラーの向き変化に対する照射位置の変化度合が高く、位置調節しやすいし、そのときの向きの変化が光軸上の前に位置するミラーに対応するレーザ光の照射に影響せずに位置調節することができる。
ハイブリッドレーザ光を照射する中央通路を通じ不活性ガスを先端に向け絞った中央噴流束を形成して連続噴射させるので、ハイブリッドレーザ光を照射した照射対象物上の加工位置で万一スパッタ粒子が発生して照射光学系側に及ぼうとしても、それを中央噴流束
の流れによって阻止するので光学系側に影響することはない。しかも、中央噴流束はコーン形状をした環状通路から噴出する囲い膜流によってまわりを囲われるので外まわりの空気を巻き込むことなく照射対象物上の照射位置表面に達して照射対象物との間の空気をまわりに排除しながら広がり、しかも、この広がりに伴って生じる前記囲い膜流のまわりへの広がり流によって、中央噴流の広がり域表面をも連続して覆われながら照射対象物側に押し付けられて照射対象物側との間に空気が入り込む余地を無くすので、照射対象物のハイブリッドレーザ光照射による加工部分に酸化や、それによる溶接不良、クラックなどが生じるようなことを確実に防止し、輝き表面も得られる。
導入する第1、第2レーザ光の、それに対応する第1、第2ミラーに対する少しの透過を図るだけの簡単な構成で、従って、問題になるほどの出力損失を招くようなことなく、導入する第1、第2レーザ光のレベルをモニタして、その出力状態や光ファイバなどによる伝送状態を判定することができる。
第1、第2ミラーが照射光軸上で、前後いずれになって、照射対象やモニタカメラ部を経た第1、第2レーザ光および外乱光が第1、第2ミラーを通じ第1、第2検出部に及ぶようなことがあっても、前記コートおよびフィルタの組合せによってそれらの影響を防止し、適正な検出が行える。
ハイブリッドレーザトーチの外まわりからの外乱光や埃などの影響も防止することができる。
らかになる。本発明の各特徴は、それ単独で、あるいは可能な限りにおいて、種々な組合せで複合して採用することができる。
ハイブリッドレーザ光を照射した被加工物上の加工位置で万一スパッタ粒子が発生して照射光学系側に及ぼうとしても、それを中央噴流束の流れによって阻止するので光学系側に影響することはない。また、中央噴流束とこれを囲う囲い膜流との協働とによって被加工物のハイブリッドレーザ光照射による加工部分に酸化や、それによる溶接不良、クラックなどが生じるようなことを確実に防止し、輝き表面も得られる。
性ガス31を充満させながら先端に向け絞った中央噴流束31aとして連続噴出させている先細り形状の中央通路32を通じ、被加工物7に照射するのに併せ、中央通路32まわりでコーン形状をなした環状通路33にて供給される不活性ガス31を、前記照射され、噴出しているハイブリッドレーザ光6および中央噴流束31aのまわりを囲う囲い膜流31bを連続噴出させて、加工を行う。このように、ハイブリッドレーザ光6を照射する中央通路32を通じ不活性ガス31を先端に向け絞った中央噴流束31aを形成して連続噴射させるので、ハイブリッドレーザ光6を照射した被加工物7上の加工位置で万一スパッタ粒子が発生して照射光学系側に及ぼうとしても、それを中央噴流束31aの流れによっ
て阻止するので光学系側に影響することはない。しかも、中央噴流束31aはコーン形状をした環状通路33から噴出する囲い膜流31bによってまわりを囲われるので外まわりの空気を巻き込むことなく被加工物7上の照射位置表面に達して被加工物7との間の空気をまわりに排除しながら広がり、しかも、この広がりに伴って生じる前記囲い膜流31bのまわりへの広がり流によって、中央噴流束31aの広がり域表面をも連続して覆われながら被加工物7側に押し付けられ、被加工物7側との間に空気が入り込む余地を無くすので、被加工物7のハイブリッドレーザ光6の照射による加工部分に酸化や、それによる溶接不良、クラックなどが生じるようなことを確実に防止し、輝き表面が得られる。
0に対しミラー枠14a、15aを軸82により回動できるように支持して、ばね85によって軸82まわりの一方側に付勢し、この付勢されるミラー枠14a、15aをトーチ本体1aの外部からねじ込まれた図1、図4に示すねじ86によって受止め、ねじ86のトーチ本体1a内への突出度を調節することにより第1、第2ミラー14、15を軸82のまわりに回動させて向き調節できるようにしている。
1 ハイブリッドレーザトーチ
1a トーチ本体
2 固体レーザ媒質(YAG)
3 第1レーザ光
4 半導体レーザ(LD)
5 第2レーザ光
6 ハイブリッドレーザ光
7 被加工物
11、12 第1、第2導入部
13 照射光軸
14、15 第1、第2ミラー
16 集光レンズ
17 照射口
21、22、27 光ファイバ
24 アクロマチックレンズ
25 照明器
26 モニタカメラ
31 不活性ガス
31a 中央噴流束
31b 囲い膜流
32 中央通路
33 環状通路
40 モニタ
41 コントローラ
51 ノズル
52、53 環状通路
52a、53a 小径孔
61、62 第1、第2検出部
63、64、65 フィルタ
66 フード
71 試射物
72 照射痕
73 後の照射位置
81 向き調節部
81a 回動調節部
81b 煽り調節部
201 キーホール
Claims (29)
- 2種のレーザ系からの異なった第1、第2のレーザ光を重畳させたハイブリッド光として被加工物上に照射し加工を行うハイブリッドレーザ加工方法において、
第1、第2のレーザ光は被加工物上の同じ位置に同時に照射し、第2のレーザ光の被加工物上での有効スポットサイズD2が、第1のレーザ光の有効スポットサイズD1未満となるようにして被加工物を加工するようにしたことを特徴とするハイブリッドレーザ加工方法。 - 有効スポットサイズの比率は0.2≦D2/D1≦であり、第2のレーザ光の有効スポットが、第1のレーザ光の有効スポットの内側に位置するように第1、第2のレーザ光を照射する請求項1に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- 第2のレーザ光の有効スポットサイズD2は、加工中に発生するキーホールサイズD3に対して同等以下とする請求項1、2のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- 第2のレーザ光は加工中のキーホールの位置に照射する請求項3に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- 第1レーザ光と第2レーザ光とは1つのレーザトーチに個別に導き、そのトーチの内部で重畳させてハイブリッドレーザ光とし被加工物に照射する請求項1〜4のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- 第1レーザ光はパルス制御により出力制御したパルスレーザ光であり、第2レーザ光はCW制御により出力制御したCW変調を含めたCWレーザ光である請求項1〜5のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- 第1、第2レーザ光は、一方がパルス制御により出力制御したパルスレーザ光であり、他方がCW制御ないしCW変調制御により出力制御したCWレーザ光をいう請求項1〜5のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- パルスレーザ光の照射手段としては、パルスランプ励起YAG、パルス励起レーザ、パルスファイバレーザを含み、パルスレーザ光とは断続して出力されるレーザ光をいい、CWレーザ光の照射手段としては、LDダイレクトレーザ、LD励起CWレーザ、CWファイバレーザを含み、CWレーザ光とはレーザ照射が連続するレーザ光をいう請求項6、7のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- 第1レーザ光はYAGなどのレーザ発振を起こす固体レーザ媒質によるレーザ光であって、ハイブリッドレーザ光への重畳は、グレーテッドインデックスGI形またはステップインデックスSI形ファイバにて導いた第1レーザ光と、GIファイバにて導いた第2レーザ光とにつき行い、それらの被加工物への集光は第1レーザ光を所定の有効スポットサイズにて集光させるように設計した集光レンズを共用して行う請求項1〜3のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- ハイブリッドレーザ光への重畳は、第1、第2レーザ光の双方を、それぞれに対応して照射光軸上の前後に位置する第1、第2ミラーにて、前記照射光軸上に導くことにより行う請求項1〜9のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- 被加工物上の加工位置を照明し、そのときの反射光が、第1、第2ミラーを透過し、前記ハイブリッドレーザ光照射用の集光レンズよりも径の小さなアクロマチックレンズ、または小孔により結像したモニタ画像にて加工状態をモニタし、モニタ結果に応じて加工条件を調整する請求項10に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- 第1、第2レーザ光のうちの、対応する第1、第2ミラーの光軸上の位置が前になっている一方の側を先に出力して、試射物に対し照射することにより試射物上に照射痕を得、次いで、対応する第1、第2ミラーの光軸上の位置が後になっている他方の側を出力して試射物に対し照射しながら、その照射位置が前記照射痕内の所定域に位置するように、対応するミラーの向きを前記モニタ画像を見ながら調整した後、加工に供する請求項11に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- ハイブリッドレーザ光を、供給される不活性ガスを充満させながら先端に向け絞った中央噴流束として連続噴出させている先細り形状の中央通路を通じ、加工物に照射するのに併せ、前記中央通路まわりでコーン形状をなした環状通路にて供給される不活性ガスを、前記照射され、噴出しているハイブリッドレーザ光および中央噴流束のまわりを囲う囲い膜流を連続噴出させて、加工を行う請求項1〜12のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザ加工方法。
- 2種のレーザ系からの異なった2つのレーザ光を導入する第1、第2導入部と、照射光軸上の前後に位置して第1、第2導入部から導入した第1、第2レーザ光を反射させ前記照射光軸上で重畳したハイブリッドレーザ光として照射側に向ける第1、第2ミラーと、ハイブリッドレーザ光における第2レーザ光の被加工物上での有効スポットサイズD2が、第1レーザ光の有効スポットサイズD1未満となるように照射対象物に向け集光させる集光光学系とを、ハイブリッドレーザ光の照射口を持ったトーチ本体に備えたことを特徴とするハイブリッドレーザトーチ。
- 第1レーザ光はYAGなどのレーザ発振を起こす固体レーザ媒質によるレーザ光であって、第1導入部は第1レーザ光源側にGIまたはSIファイバにて接続され、第2導入部は第2レーザ光源側にGIファイバにて接続されている請求項14に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 第1レーザ光源はパルス制御にて出力制御し、第2レーザ光源はCW制御にて出力制御する請求項15に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 第1、第2ミラーのうちの、少なくとも光軸上で後になっている一方の側が、ミラー面の向き調節部を有して支持している請求項14〜16のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 第1、第2ミラーの双方が向き調節部を有して支持している請求項14〜16のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 向き調節部は、照射光軸に直交する軸を中心とした回動によりミラー面の向きを調節する回動調節部を含む請求項17、18のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 第1ミラーが第2ミラーの前に位置し、第1ミラーはYAGなどのレーザ発振を起こす固体レーザ媒質からのレーザ光に対するHRコートとLDレーザ光に対するARコートとが施され、第2ミラーはLDレーザ光に対するHRコートが施されている請求項14〜19のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 第1ミラーが第2ミラーの後に位置し、第1ミラーはYAGなどのレーザ発振を起こす固体レーザ媒質からのレーザ光に対するHRコートが施され、第2ミラーはLDレーザ光に対するHRコートとYAGレーザ光に対するARコートとが施されている請求項14〜19のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 被加工物上の加工位置を照明する照明器と、照射対象物から反射し第1、第2ミラーを透過してくる反射光を、前記集光光学系の集光レンズよりも径の小さなアクロマチックレンズ、または小孔により結像させてモニタに供するモニタカメラとを備えた請求項14、15のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 照明器は、白色LEDからの白色光を光ファイバによって導き照明する請求項22に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 第1ミラーにて照射側に向けられる第1レーザ光の一部透過光を検出する第1検出部と、第2ミラーにて照射側に向けられる第2レーザ光の一部透過光を検出する第2検出部とを備えている請求項14〜23のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 第1検出部は、第1ミラーが第2ミラーの前に位置することに対応して、LDレーザ光およびYAGなどのレーザ発振を起こす固体レーザ媒質からのレーザ光双方に対するHRコートを施したフィルタと、可視光カットフィルタとを介して受光し、第2検出部は、第2ミラーが第1ミラーの後に位置することに対応して、固体レーザ媒質からのレーザ光に対するHRコートを施したフィルタと、可視光カットフィルタとを介して受光する請求項24に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 第1検出部は、第1ミラーが第2ミラーの後に位置することに対応して、LDレーザ光に対するHRコートを施したフィルタと、可視光カットフィルタとを介して受光し、第2検
出部は、第2ミラーが第1ミラーの前に位置することに対応して、LDレーザ光およびYAGなどのレーザ発振を起こす固体レーザ媒質からのレーザ光双方に対するHRコートを施したフィルタと、可視光カットフィルタとを介して受光する請求項24に記載のハイブリッドレーザトーチ。 - 第1、第2検出部は、フードによって外部まわりが覆われている請求項24〜26のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- トーチ本体の照射口に設けられ、照射光軸上に位置して照射されるハイブリッドレーザ光を通過させるとともに、供給される不活性ガスを充満させながら先端に向け絞った中央噴流束として連続噴出させる先細り形状の中央通路と、この中央通路まわりでのコーン形状をなして供給される不活性ガスを、前記照射され、噴出されるハイブリッドレーザ光および中央噴流束のまわりに不活性ガスの膜流を連続噴出させるコーン形状をなした環状通路とを有した同軸の二重ノズルを備えた請求項14〜27のいずれか1項に記載のハイブリッドレーザトーチ。
- 中央通路および環状通路は不活性ガスの供給を受けるために、それらの外回りに設けられて供給される不活性ガスを導入し周方向に充満させる環状通路と、この環状通路から中央通路および環状通路内に周方向に並んで開口する小径孔とを有している請求項23に記載のハイブリッドレーザトーチ。
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