JPH1031320A - フタロシアニン混合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ヒドロキシガリウムフタロシアニンとアルコ
キシガリウムフタロシアニン二量体の混合物を含むフォ
トレセプタを提供する。 【解決手段】 光導電性画像形成部材は、支持基板、電
荷発生層、電荷輸送層で構成され、該電荷発生層はヒド
ロキシガリウムフタロシアニンとアルコキシで架橋され
たガリウムフタロシアニン二量体との混合物からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は（１）ヒドロキシガ
リウムフタロシアニンおよびアルコキシガリウムフタロ
シアニン二量体の混合物、および、（２）電荷発生材料
として該混合物を含む電子写真用フォトレセプタに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】ヒドロキシガリウムフタロシアニンは電
子写真用フォトレセプタの電荷キャリア発生顔料として
有用である。ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が
重要であるのは感度が高いからである。

【０００３】額田らの米国特許第５，３０２，７１０号
（特願平３−２２９６８８）は、ハロゲン化インジウム
フタロシアニンとハロゲン化ガリウムフタロシアニンか
らなるフタロシアニン混晶に関する。額田らはフタロシ
アニン混晶を含有する電子写真用フォトレセプタについ
て開示している。該混晶は乾式粉砕し有機溶媒で処理し
て製造される。該混晶を含有する電子写真用フォトレセ
プタの特徴は、反復使用に際して安定性が向上すること
である。

【０００４】Ｎｅａｌｅｙらの米国特許第５，４１８，
１０７号は、顔料粒子混合物も含めた電子写真画像形成
部材の製造方法に関する。該混合物はバナジルの入らな
い２種類のフタロシアニン顔料からなる。Ｎｅａｌｅｙ
らは、代表的な混合物として、金属の入らないフタロシ
アニンとチタニルフタロシアニン、クロロインジウムフ
タロシアニンとチタニルフタロシアニン、ヒドロキシガ
リウムフタロシアニンとチタニルフタロシアニンを挙げ
ている。

【０００５】Ｇｒａｍｍａｔｉｃａらの許可待ち中の米
国特許出願第０８／４３９，３９５号（特願平８−１０
５０９７）は、ＴｉＯフタロシアニン（IV）とクロロイ
ンジウムフタロシアニンを配合してバランスのとれた感
度を達成しようとするものである。

【０００６】一般的に、フタロシアニン粒子やフタロシ
アニン粒子混合物はある特定の感度域における特性を向
上させる目的で使用される。顔料をある特定の感度域に
合わせて調製することで、フォトレセプタの特定の用途
に適した特性を有する組成物が提供できる。例えば、あ
る組成物は７８０ｎｍの半導体レーザ露光システムのプ
リンタで使用されるフォトレセプタの電荷発生顔料とし
て使用できる。Ｇｒａｍｍａｔｉｃａらの米国特許出願
第０８／４３９，３９５号を参照のこと。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来
は、異なる用途には別個の顔料体系を使用しており、そ
れが顔料の一つの組み合わせで代用できるものはなかっ
た。

【０００８】本発明の目的は、用途別にフォトレセプタ
を設計できる結晶混合物を提供することにある。混合物
中の顔料の割合を変えることによって、ある感度域を提
供することができる。従って、混合物中の顔料の割合を
変えれば該混合物は多くの用途に使用できる。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、ヒドロキシガ
リウムフタロシアニンとアルコキシガリウムフタロシア
ニン二量体の混合物からなることを特徴とするフタロシ
アニン顔料を提供する。本発明は、ヒドロキシガリウム
フタロシアニンとアルコキシガリウムフタロシアニン二
量体の混合物からなることを特徴とする電子写真画像形
成部材を提供する。本発明は、それぞれの用途に応じた
感度を提供するために調整可能な顔料を提供する。

【００１０】

【発明の実施の形態】支持基板 支持基板２は不透明または実質的に透明で、必要な機械
的特性を有する数多くの適材で作られていてもよい。ア
ルミニウムのドラムが好ましい基板である。

【００１１】該基板はさらに導電表面（接地面３）を備
えていてもよい。それに応じて、該基板は無機または有
機組成物などの非導電性または導電性材料の層からなる
ものでもよい。非導電性材料として種々の公知の樹脂が
使用できる。例えば、ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリウレタンなどである。ベルトタイ
プの画像形成部材では、絶縁性または導電性基板は柔軟
性がなければならず、シート状、スクロール状、エンド
レスのフレキシブルベルト状などのいくつもの異なった
形状をとる。好ましくは、該基板はエンドレスのフレキ
シブルベルトの形状がよく、Ｅ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ
ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ ＆ Ｃｏ．，社のＭｙｌａｒま
たはＩＣＩ Ａｍｅｒｉｃａｎｓ Ｉｎｃ．社のＭｅｌ
ｉｎｅｘなどの市販の二軸延伸ポリエステルで作られ
る。

【００１２】基板層の好ましい厚さは経済的な考慮など
多くの要因に左右される。この層の厚さは約６５マイク
ロメートルから約１５０マイクロメートルの範囲で、好
ましくは約７５マイクロメートルから約１２５マイクロ
メートルがよい。なぜならば、この範囲であれば、直径
１９ミリメートルといった小さな直径のローラーの回り
を回転する際に最適の柔軟性が得られ、誘発される表面
の曲げ応力も最小になるからである。フレキシブルベル
トの基板は、実質的な厚さが例えば２００マイクロメー
トルでも、最小の厚さが例えば２００マイクロメートル
でも、最小の厚さが例えば５０マイクロメートルでも、
最終の光導電装置に悪影響がなければよい。基板層の表
面はコーティングの前にクリーニングして隣接層との接
着性をより高めるようにすることが好ましい。クリーニ
ングは基板層の表面にプラズマを放出したりイオン衝撃
を与えるなどして行う。

【００１３】導電性の接地面 導電性の接地面３（必要であれば）は金属層などの導電
層からなり、例えば基板２上に真空蒸着法などの適切な
コーティング技術により形成される。代表的な金属とし
ては、アルミニウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタ
ル、バナジウム、ハフニウム、チタン、ニッケル、ステ
ンレススチール、クロム、タングステン、モリブデンな
ど、およびその混合物や合金である。該導電層の厚さは
実質的に広範囲にわたっているが、光導電性部材に求め
られる光学的透明性や柔軟性によって決まる。従って、
フレキシブルな光応答画像形成装置としては、導電層の
厚さは好ましくは約２０オングストロームから約７５０
オングストロームの間で、さらに好ましくは導電率や柔
軟性、光透過性との最適の組み合わせの点から約５０オ
ングストロームから約２００オングストロームの間がよ
い。

【００１４】金属層を形成するのに使用される技術の如
何にかかわらず、大部分の金属の外表面には空気に触れ
ると酸化金属の薄い層が形成される。従って、該金属層
の上に重なる別の層が“連続”層として特徴づけられる
場合、上に重なるこれらの隣接層は、実際は酸化可能な
金属層の外表面に形成される薄い酸化金属の層に接触す
ることを意味する。一般的に背面消去露光では、導電層
の光透明度は少なくとも約１５％が望ましい。導電層を
金属に限る必要はない。導電層の別の例としては、約４
０００オングストロームから約９０００オングストロー
ムの波長の光に対する透明層として導電性のインジウム
酸化スズや、不透明な導電層として導電性のカーボンブ
ラックをプラスチックバインダに分散させた材料などの
組み合わせたものでもよい。導電性の基板を用いた場
合、導電性の接地面３は省略してもよい。

【００１５】電荷ブロッキング層 導電性の接地面層を蒸着した後、それにブロッキング層
４を接着する。正に帯電したフォトレセプタの電子ブロ
ッキング層は、正孔をフォトレセプタの画像形成表面か
ら導電層へと移動させる。負に帯電したフォトレセプタ
では、正孔が導電層から反対の光導電層へ注入するのを
防止するためのバリヤを形成できる適切な正孔ブロッキ
ング層であればどのようなものでも利用できる。

【００１６】ブロッキング層４は、ポリビニルブチラー
ル、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリシロキサン、ポ
リアミド、ポリウレタンなどのポリマー、窒素含有シロ
キサンまたは窒素含有チタン化合物で例えば、トリメト
キシシリルプロピルエチレンジアミン、ベータ−（アミ
ノエチル）ガンマ−アミノ−プロピルトリメトキシシラ
ン、イソプロピルアミノベンゼンスルホニルチタネー
ト、ジ（ドデシルベンゼンスルホニル）チタネート、イ
ソプロピルジ（４−アミノベンゾイル）イソステアロイ
ルチタネート、イソプロピルトリ（メチルアミノ）チタ
ネート、イソプロピルトリアントラニルチタネート、イ
ソプロピルトリ（Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミノ）チタ
ネート、チタニウム−４−アミノベンゼンスルホネート
オキシアセテート、チタニウム４−アミノベンゾエート
イソステアレートオキシアセテート、［Ｈ₂Ｎ（ＣＨ
₂−）₄］ＣＨ₃Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₂（ガンマ−アミノブチ
ルメチルジメトキシシラン）、［Ｈ₂Ｎ（ＣＨ₂）₃］Ｃ
Ｈ₃Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₂（ガンマ−アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン）、［Ｈ₂Ｎ（ＣＨ₂）₃］Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃（ガンマ−アミノプロピルトリメトキシシラン）
で、米国特許第４，３３８，３８７号、４，２８６，０
３３号、４，２９１，１１０号に開示されている。

【００１７】好ましい正孔ブロッキング層は、加水分解
されたシランまたは加水分解されたシラン類の混合物
と、金属接地面層の酸化された表面との反応混合物でで
きている。酸化表面は、蒸着後空気に触れたとき大部分
の金属接地面層の外表面に本来形成されるものである。
この組み合わせにより、低い相対湿度における電気的安
定性が高められる。使用できる加水分解されたシランは
従来技術で公知のものである。例えば、Ｔｅｕｓｃｈｅ
ｒらの米国特許第５，０９１，２７８号（特願平３−２
１１０７１）を参照のこと。

【００１８】ブロッキング層４は連続すべきもので、厚
さは使用する材料によるが最大２マイクロメートルであ
る。露光ステップ後の電荷の中和が容易であることおよ
び良好な電気的性能が得られることから、約０．００５
マイクロメートルから約０．３マイクロメートルの範囲
の厚さのブロッキング層がよい。最適の電気的挙動のた
めにブロッキング層の厚さは約０．０３マイクロメート
ルから約０．０６マイクロメートルが好ましい。

【００１９】ブロッキング層は、スプレー法、浸漬コー
ティング法、引張り棒コーティング法、グラビアコーテ
ィング法、シルクスクリーニング法、エアナイフコーテ
ィング法、リバースロールコーティング法、真空蒸着
法、化学処理法などの適切な技術によって接着される。
薄い層を得るための便宜上、ブロッキング層は好ましく
は希薄溶液の形態で適用され、溶媒はコーティングの接
着後、真空、加熱などの従来技術によって除去される。
一般的に、スプレーコーティングの場合、ブロッキング
層材料と溶媒の重量比が約０．５：１００から約５．
０：１００の間であることがよい。

【００２０】接着層 ブロッキング層４と電荷発生層６（又は光発生層）との
間に中間層５を作って接着性を高める。しかしながら、
本発明では浸漬コーティングをしたアルミニウムのドラ
ムが好ましい基板であり、接着層なしで使用される。接
着層を使用するときには、乾燥厚さが約０．０１マイク
ロメートルから約０．３マイクロメートル、より好まし
くは約０．０５から約０．２マイクロメートルであるこ
とを特徴とする。

【００２１】接着層は、使用する場合、電子写真画像形
成部材の層に使用される公知の接着剤であれば何れを使
ってもよい。接着層は、ｄｕ Ｐｏｎｔ ４９，０００
樹脂（Ｅ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ
＆ Ｃｏ．社製）、Ｖｉｔｅｌ １２００（Ｇｏｏｄ
ｙｅａｒ Ｒｕｂｂｅｒ ＆ Ｔｉｒｅ Ｃｏ．社製）
などの塗膜形成ポリエステル樹脂接着剤からなる。

【００２２】ｄｕ Ｐｏｎｔ ４９，０００もＶｉｔｅ
ｌ １２００の接着層も妥当な接着力があり、これを使
用して得られた画像形成部材に電子写真上の悪影響を与
えない。

【００２３】別のコポリエステル樹脂接着剤がＧｏｏｄ
ｙｅａｒ Ｔｉｒｅ ＆ Ｒｕｂｂｅｒ Ｃｏ．からＶ
ｉｔｅｌ ２２００の商品名で入手できる。このコポリ
エステル樹脂は２つの二酸と２つのジオールの直鎖飽和
コポリエステルである。この直鎖飽和コポリエステルの
分子構造は次のように表される。

【００２４】

【化１】 ここで、コポリエステル中のエチレングリコールに対す
る二酸の比率は１：１である。２つの二酸はテレフタル
酸とイソフタル酸で、その比率は１．２：１である。２
つのジオールはエチレングリコールと２，２−ジメチル
プロパンジオールで、その比率は１．３３：１である。
ＧｏｏｄｙｅａｒのＶｉｔｅｌ ２２００の直鎖飽和コ
ポリエステルは、２つの二酸と２つのジオールのモノマ
ー単位が不規則に入れ替わって並んでおり、重量平均分
子量は約５８，０００で、Ｔｇは約６７℃である。

【００２５】その他の適切なコポリエステルとして、Ｇ
ｏｏｄｙｅａｒのＶｉｔｅｌ １７１０、Ｖｉｔｅｌ
１８７０、Ｖｉｔｅｌ ３３００、Ｖｉｔｅｌ ３５５
０、Ｖｉｔｅｌ ５８３３がある。Ｖｉｔｅｌ ５８３
３は短鎖の枝分かれしたポリマーで、架橋結合可能な官
能基の水酸基とカルボキシル基をもつ。Ｖｉｔｅｌ５８
３３は、接着層の架橋結合濃度の増加を必要とする用途
で、単独または他のポリエステルと配合して使用するの
に特に有用である。

【００２６】電荷発生層 電荷発生層６はポリマーバインダと光導電性顔料混合物
とからなる。光導電性顔料はヒドロキシガリウムフタロ
シアニンとアルコキシガリウムフタロシアニン二量体の
混合物である。

【００２７】米国特許出願第０８／１６９，４８６号に
ヒドロキシガリウムフタロシアニンＶ型の製造方法が解
説されている。当該出願特許の開示内容は本発明に参考
文献として取り入れられている。当該出願では、顔料前
駆物質のＩ型クロロガリウムフタロシアニンを次のよう
に製造している。Ｎ−メチルピロリドンなどの溶媒に入
れた約１０部から約１００部、好ましくは約１９部の塩
化ガリウムを、塩化ガリウムの各部に対して約１部から
約１０部、好ましくは約４部の量の１，３−ジイミノイ
ソインドレン（ＤＩ³）と反応させる。生成した顔料前
駆物質のクロロガリウムフタロシアニンは標準法で加水
分解される。例えば、顔料前駆物質は酸ペースティング
法によって加水分解される。ここで前駆物質は濃硫酸に
溶かした後、水などの溶媒中に沈澱させるか、又はアン
モニアの希薄溶液、例えば約１０から約１５％のアンモ
ニアで沈澱させる。生成した加水分解されたヒドロキシ
ガリウムフタロシアニン顔料は、ヒドロキシガリウムフ
タロシアニンの各重量に対して約１容量部から約５０容
量部、好ましくは約１５容量部のＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドなどの溶媒中で処理される。溶媒中の顔料は、
直径約１ミリメートルから５ミリメートルの球状ガラス
ビーズの存在下、ボールミルで処理される。このときの
温度は室温で約２５℃、処理時間は約１時間から約１週
間、好ましくは約２４時間である。この処理によって、
残留塩素濃度が約０．００１％から約０．１％と非常に
低いヒドロキシガリウムフタロシアニンＶ型が生成す
る。

【００２８】さらに、ヒドロキシガリウムフタロシアニ
ンの製造方法は同時出願中の米国特許出願第０８／４１
３，５５４号と第０８／３３２，３０４号、およびＢｕ
ｒｔらの米国特許第５，４５６，９９８号、第５，４６
６，７９６号、第５，４９３，０１６号に記載されてい
る。各出願特許および各特許に開示されている内容は本
発明の参考文献となっている。

【００２９】さらに、いずれもＢｕｒｔらの米国特許第
５，４９３，０１６号、第５，４６６，７９６号、第
５，４５６，９９８号、第５，５２１，３０６号に、本
発明に適したアルコキシメタロフタロシアニン二量体と
その製造方法が開示されている。これらの特許の開示内
容は本発明の参考文献となっている。Ｂｕｒｔらの米国
特許第５，４９３，０１６号には、アルコキシで架橋さ
れたメタロフタロシアニン二量体を、三価の金属化合物
とオルト−フタロジニトリルまたは１，３−ジイミノイ
ソインドレンをジオールの存在下で反応させて製造する
方法が記載されている。米国特許第５，４６６，７９６
号は、アルコキシで架橋されたメタロフタロシアニンＣ
₃₂Ｈ₁₆Ｎ₈ＭＯＲＯＭＮ₈Ｈ₁₆Ｃ₃₂、ここでＭは金属、Ｒ
はアルキルまたはアルキルエーテルを表す、について解
説している。Ｂｕｒｔらの米国特許第５，４５６，９９
８号は、電荷発生材料としてアルコキシで架橋されたメ
タロフタロシアニン二量体からなる光導電性の画像形成
部材について開示している。ここで、二量体の化学式は
Ｃ₃₂Ｈ₁₆Ｎ₈ＭＯＲＯＭＮ₈Ｈ₁₆Ｃ₃₂であり、Ｍは３価金
属、Ｒはアルキルまたはアルキルエーテルを表す。Ｂｕ
ｒｔらの米国特許第５，５２１，３０６号にＶ型ヒドロ
キシガリウムフタロシアニンの製造方法が開示されてい
る。これは、アルコキシで架橋されたガリウムフタロシ
アニン二量体をその場で形成し、それを加水分解してヒ
ドロキシフタロシアニンにして、そのヒドロキシガリウ
ムフタロシアニン生成物をＶ型ヒドロキシガリウムフタ
ロシアニンに転換するというものである。

【００３０】適切なヒドロキシガリウムフタロシアニン
と適切なアルコキシガリウムフタロシアニンが前掲のＢ
ｕｒｔらの特許および同じくＢｕｒｔらの米国特許第
５，５２１，３０６号に開示されている。特に、Ｂｕｒ
ｔらの米国特許番号５，５２１，３０６号は、式１に示
してあるような一般式がＣ₃₂Ｈ₁₆Ｎ₈ＧａＯＲＯＧａＮ₈
Ｈ₁₆Ｃ₃₂のアルコキシガリウムフタロシアニン二量体に
ついて開示している。

【００３１】

【化２】 ここで、アルコキシ架橋単位（Ｏ−Ｒ−Ｏ）中のＲはア
ルキルまたはアルキルエーテルであり、例えば２から約
１０個、好ましくは約２から６個の炭素原子を含む。

【００３２】電荷発生層６は導電性の基板上にコーティ
ング組成物を塗布して形成する。該コーティング組成物
は、本発明のヒドロキシガリウムフタロシアニンとアル
コキシガリウムフタロシアニン二量体を有機溶媒に溶か
したバインダ樹脂の溶液中に分散させて製造する。顔料
としてのヒドロキシガリウムフタロシアニン対アルコキ
シガリウムフタロシアニン二量体の比率は用途に応じて
微調整により変わってくる。一般的には、重量比で９
９：１から１：９９である。好ましくは８０：２０から
２０：８０である。他の適切な比率は、６０：４０から
４０：６０および５５：４５から４５：５５である。

【００３３】フタロシアニン混合物とバインダ樹脂の配
合比は一般的に重量比で４０／１から１／１０、好まし
くは１０／１から１／４である。フタロシアニン混合物
の比率が高くなりすぎるとコーティング組成物の安定性
が低下しやすく、低くなりすぎると電荷発生層６の感度
が低下しやすい。

【００３４】コーティング組成物に使用される溶媒は電
荷発生層の下の層、すなわち電荷発生層が重ねられる層
を溶かせないような溶媒から選択するのが好ましい。そ
のような有機溶媒の例としては、例えばメタノール、エ
タノール、イソプロパノールなどのアルコール；アセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケト
ン；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどのアミド；ジメチルスルホキシド；テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールモ
ノメチルエーテルなどのエーテル；酢酸メチル、酢酸エ
チルなどのエステル；クロロホルム、塩化メチレン、ジ
クロロエチレン、四塩化炭素、トリクロロエチレンなど
のハロゲン化脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キ
シレン、リグロイン、モノクロロベンゼン、ジクロロベ
ンゼンなどの芳香族炭化水素がある。

【００３５】電荷発生層６用のコーティング組成物は、
浸漬コーティング、スプレーコーティング、スピンコー
ティング、ビードコーティング、ワイヤバーコーティン
グ、ブレードコーティング、ローラーコーティング、カ
ーテンコーティングなどの公知のコーティング技術によ
って塗布される。コーティング後の乾燥は、好ましくは
初め室温で少し乾かし、次いで加熱乾燥する。加熱乾燥
は２０℃から２００℃の温度で５分から２時間、静止し
た空気中または空気流の中で行われる。電荷発生層の厚
さは通常約０．０５から５ミクロンである。

【００３６】電荷輸送層 電荷輸送層７は、電荷発生層６から光で発生した正孔ま
たは電子が注入されるのをサポートすることができ、こ
れらの正孔または電子を移動させて選択的に表面電荷を
放電できる適切な透明の有機ポリマーまたは非高分子材
料からなる。電荷輸送層は正孔または電子を移動させる
だけでなく、電荷発生層を摩耗や化学薬品による腐食か
ら保護するので、画像形成部材の寿命が延びる。

【００３７】電荷輸送層７は、画像形成部材が使用され
ることになる領域における放射に対して実質的に透明で
ある。大部分の入射光が電荷輸送層の下にある電荷発生
層で確実に利用されるように電荷輸送層を通り抜けて露
光が行われる場合、電荷輸送層は通常透明である。透明
基板が用いられる場合、画像の露光または消去は、基板
を通過するすべての光を用いて基板を通して行われる。
この場合、電荷輸送材料は使用される波長領域の光を透
過する必要はない。

【００３８】電荷輸送層７は、通常は電気的に不活性な
高分子材料中にそれらの材料を電気的に活性にするため
に活性化化合物を分散して作られる。この化合物は、光
で発生した電荷の注入をサポートせず、その電荷の移動
も不可能な高分子材料に添加される。多層光導電体に使
用される輸送層で特に好ましいのは、約２５から約７５
重量％の、少なくとも１つの電荷を移動させる芳香族ア
ミン化合物と、約７５から約２５重量％の、芳香族アミ
ンが可溶な高分子塗膜形成樹脂からなるものである。

【００３９】電荷輸送層７は、好ましくは次の一般式を
もつ１つ以上の化合物からなる混合物から作られる。

【００４０】

【化３】 ここで、Ｒ１とＲ２は置換または非置換のフェニル基、
ナフチル基、ポリフェニル基の中から選ばれ、Ｒ３は置
換または非置換のアリール基、炭素原子数が１から１８
のアルキル基、炭素原子数が３から１８の脂環式炭化水
素基の中から選ばれる。置換基はＮＯ₂基やＣＮ基など
のような電子吸引基であってはならない。

【００４１】上記の構造式で示される電荷輸送芳香族ア
ミンの例としては、トリフェニルメタン、ビス（４−ジ
エチルアミン−２−メチルフェニル）−フェニルメタ
ン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）２，２’−ジメ
チルトリフェニルメタン、Ｎ，Ｎ’−ビス（アルキル−
フェニル）−（１，１’−ビフェニル）４，４’−ジア
ミン、ここでアルキルは例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ｎ−ブチルなど、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’
−ビス（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニ
ル）−４，４’−ジアミンなどがあり、これが不活性樹
脂バインダ中に分散している。

【００４２】塩化メチレンや他の適切な溶媒に可溶な不
活性樹脂バインダは適切なものであれば何でも使用でき
る。塩化メチレンに可溶な代表的な不活性樹脂バインダ
は、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルカルバゾール、
ポリエステル、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリ
スルホンなどである。分子量はさまざまで約２０，００
０から１，５００，０００にわたる。これらのバインダ
を溶解するその他の溶媒は、テトラヒドロフラン、トル
エン、トリクロロエチレン、１，１，２−トリクロロエ
タン、１，１，１−トリクロロエタンなどである。

【００４３】電気的に不活性な樹脂材料で好ましいのは
ポリカーボネート樹脂で、分子量は約２０，０００から
約１２０，０００、さらに好ましくは約５０，０００か
ら約１００，０００である。電気的に不活性な樹脂材料
として最も好ましい材料は、ポリ（４，４’−ジプロピ
リデン−ジフェニレンカーボネート）、分子量約３５，
０００から約４０，０００、商品名Ｌｅｘａｎ １４
５、Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｏｍｐａｎ
ｙ社製；ポリ（４，４’−イソプロピリデン−ジフェニ
レンカーボネート）、分子量約４０，０００から約４
５，０００、商品名Ｌｅｘａｎ １４１、Ｇｅｎｅｒａ
ｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｏｍｐａｎｙ社製；ポリカー
ボネート樹脂、分子量約５０，０００から約１００，０
００、商品名Ｍａｋｒｏｌｏｎ、Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒ
ｉｃｋｅｎ Ｂａｙｅｒ Ａ．Ｇ．社製；ポリカーボネ
ート樹脂、分子量約２０，０００から約５０，０００、
商品名Ｍｅｒｉｏｎ、Ｍｏｂａｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｃｏｍｐａｎｙ社製；ポリエーテルカーボネート；４，
４’−シクロヘキシリデンジフェニルポリカーボネート
である。塩化メチレン溶媒は、全成分を十分溶解し、沸
点も低いことから電荷輸送層のコーティング混合物とし
て望ましい。

【００４４】電荷輸送層７の厚さは約１０マイクロメー
トルから約５０マイクロメートル、好ましくは約１５マ
イクロメートルから約３５マイクロメートルである。最
適の厚さは約２３マイクロメートルから約３１マイクロ
メートルである。

【００４５】下引き層 下引き層(ground strip)９は塗膜形成バインダと導電性
粒子からなる。導電性粒子を分散するのにセルロースが
使われる。導電性粒子は適切なものであれば何でも導電
性の下引き層９に使用できる。下引き層９は、米国特許
第４，６６４，９９５号に列挙されているものを含む材
料からなる。導電性粒子として代表的なものは、カーボ
ンブラック、グラファイト、銅、銀、金、ニッケル、タ
ンタル、クロム、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、
インジウム酸化スズなどである。導電性粒子の形状は適
切などのような形状でもよい。代表的な形状としては、
不規則、粒状、球状、楕円、立方体、フレーク状、フィ
ラメント状などである。好ましくは、導電性粒子の大き
さは導電性の下引き層の厚さより小さくして、導電性の
下引き層９の外表面が過度に不規則になるのを避けなけ
ればならない。平均の粒子サイズが約１０マイクロメー
トル未満であれば、通常、乾燥下引き層の外表面で導電
性粒子が過度に突出することが避けられ、また、乾燥下
引き層のマトリックス全体に粒子を比較的均一に分散さ
せることができる。下引き層９に使われる導電性粒子の
濃度は、使用される特定の導電性粒子の導電率などの要
因によって異なる。

【００４６】下引き層９の厚さは約７マイクロメートル
から約４２マイクロメートル、好ましくは約１４マイク
ロメートルから約２７マイクロメートルである。

【００４７】抗カール層 抗カール層１は任意であり、電気絶縁性またはわずかに
半導性の有機ポリマーまたは無機ポリマーからなる。抗
カール層によって平坦性および／または耐摩耗性が備わ
る。

【００４８】抗カール層１は、基板２の裏側すなわち画
像形成層の反対側に形成される。抗カール層１は塗膜形
成樹脂と接着促進剤のポリエステル添加剤からなる。塗
膜形成樹脂の例としては、ポリアクリレート、ポリスチ
レン、ポリ（４，４’−イソプロピリデンジフェニルカ
ーボネート）、４，４’−シクロヘキシリデンジフェニ
ルポリカーボネートなどがある。添加剤として使われる
接着促進剤の代表的なものは、４９，０００（ｄｕ Ｐ
ｏｎｔ）、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−１００、Ｖｉｔｅｌ Ｐ
Ｅ−２００、Ｖｉｔｅｌ ＰＥ−３０７（Ｇｏｏｄｙｅ
ａｒ）などである。通常、約１から約１５重量％の接着
促進剤が塗膜形成樹脂に添加される。抗カール層１の厚
さは約３マイクロメートルから約３５マイクロメート
ル、好ましくは約１４マイクロメートルである。

【００４９】抗カール層１は、塗膜形成樹脂と接着促進
剤を塩化メチレンなどの溶媒に溶かして作られた溶液を
塗布することによって形成される。溶液はフォトレセプ
タ装置の支持基板２の裏面（画像形成層の反対側）に、
ハンドコーティングまたはその他の公知の方法によって
塗布される。塗布された湿った塗膜は次に乾燥させて抗
カール層１になる。

【００５０】オーバーコート層 任意のオーバーコート層８は、オーバーコート層を通っ
て電荷の移動可能な有機ポリマーまたは無機ポリマーか
らなる。オーバーコート層の厚さは約２マイクロメート
ルから約８マイクロメートルで、好ましくは約３マイク
ロメートルから約６マイクロメートルである。最適の厚
さは約３マイクロメートルから約５マイクロメートルの
範囲である。

【００５１】本発明をさらに以下の非制限的実施例で説
明するが、この実施例は説明することだけを目的とする
ものであって、本発明が、実施例中に引用されている材
料、条件、プロセスパラメータなどに制約されないこと
はいうまでもない。

【００５２】

【実施例】表１に、本発明によるヒドロキシガリウムフ
タロシアニンとアルコキシガリウムフタロシアニン二量
体の種々の配合比率が示してある。顔料は別々に分散さ
せてから所望の比率に配合された。組成物はＰＩＤＣ感
度について評価され、その感度は表中に報告されてい
る。表中、ＲＯＧａＰｃはアルコキシガリウムフタロシ
アニンでＲは−ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、ＨＯＧａＰｃはヒド
ロキシガリウムフタロシアニンを表す。

【００５３】

【表１】 次の表２に、Ｈｅｗｌｅｔｔ Ｐａｃｋａｒｄ Ｌａｓ
ｅｒｊｅｔ ＩＩＰプリンタ、ＡｐｐｌｅＷｒｉｔｅｒ
Ｓｅｌｅｃｔ ３６０ プリンタ、Ｈｅｗｌｅｔｔ
Ｐａｃｋａｒｄ Ｌａｓｅｒｊｅｔ ４ プリンタのｄ
Ｖ／ｄＸを示す。この３つのプリンタが選ばれたのは、
それらが低、中、高感度のフォトレセプタを必要とする
プリンタを代表しているからである。３つのプリントと
も暗さに関して同じ様であるという事実から、フォトレ
セプタの感度は必要な感度全域にわたって調整されてい
るということがわかる。

【００５４】

【表２】 図２はＨｅｗｌｅｔｔ Ｐａｃｋａｒｄのプリンタで印
刷されたテストプリントである（図面の簡単な説明にお
いては、ディスプレー上に表示した中間調画像の写真で
ある）。図３はＡｐｐｌｅのプリンタで印刷されたテス
トプリントである（図面の簡単な説明においては、ディ
スプレー上に表示した中間調画像の写真である）。図４
はＨｅｗｌｅｔｔ Ｐａｃｋａｒｄのプリンタで印刷さ
れたテストプリントである（図面の簡単な説明において
は、ディスプレー上に表示した中間調画像の写真であ
る）。図２〜図４は、いずれも電子写真画像形成部材に
よって提供された印刷のテストプリントを示す図であ
る。

【００５５】プリント試験の結果から、本発明に従って
２つの顔料の混合物を配合することによって、フォトレ
セプタ組成物をある感度範囲に調整できることがわか
る。調整されたフォトレセプタは、競争相手のフォトレ
セプタを用いて印刷されたプリントに匹敵しうるプリン
トを提供することができる。

【００５６】

【発明の効果】表に示されている結果からわかるとお
り、本発明ではさまざまな光感度の組成物を提供でき
る。ヒドロキシガリウムフタロシアニンとアルコキシガ
リウムフタロシアニンの割合は、記載したように、用途
に合った範囲の感度要件によって変えることができる。
本発明によれば、わずか２つの顔料を使用するだけでさ
まざまな製品を作り出すことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の多層フォトレセプタの断面図であ
る。

【図２】 ディスプレー上に表示した中間調画像の写真
である。

【図３】 ディスプレー上に表示した中間調画像の写真
である。

【図４】 ディスプレー上に表示した中間調画像の写真
である。

【符号の説明】

１ 抗カール層、２ 支持基板、３ 接地面、４ ブロ
ッキング層、５ 中間層、６ 電荷発生層、７ 電荷輸
送層、８ オーバーコート層、９ 下引き層。

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【手続補正書】

【提出日】平成９年６月１０日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２１

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２１】接着層は、使用する場合、電子写真画像形
成部材の層に使用される公知の接着剤であれば何れを使
ってもよい。接着層は、ｄｕ Ｐｏｎｔ ４９，０００
樹脂（Ｅ．Ｉ．ｄｕ Ｐｏｎｔ ｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ
＆ Ｃｏ．社製）、Ｖｉｔｅｌ １２００（Ｇｏｏｄ
ｙｅａｒ Ｔｉｒｅ ＆ Ｒｕｂｂｅｒ Ｃｏ．社製）
などの塗膜形成ポリエステル樹脂接着剤からなる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ヒドロキシガリウムフタロシアニンとア
   ルコキシガリウムフタロシアニン二量体とからなること
   を特徴とするフタロシアニン混合物。