JPH04234766A - 電子写真画像形成部材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は一般に電子写真に関し、
特に電子写真画像形成部材に関する。

【０００２】

【技術的背景】電子写真に於ては、導電性層上の光導電
性絶縁性層を含む電子写真プレートを、その表面を最初
に一様に静電的に帯電させることによって画像形成する
。このプレートを次に光のような活性化用電磁放射線の
パターンに露出する。放射線は光導電性絶縁性層の露光
領内の電荷を消失させるが、未露光領域内に静電潜像を
後に残す。この静電潜像を、次に、光導電性絶縁性層の
表面上に微粉砕検電顕像性粒子を付着させることによっ
て現像して可視画像を形成する。得られた可視画像を次
に電子写真プレートから紙のような支持体へ転写するこ
とができる。再使用可能な光導電性絶縁性層ではこの画
像形成プロセスを多数回繰返すことができる。

【０００３】電子写真画像形成部材は多数の形で提供さ
れることができる。例えば、画像形成部材はガラス質セ
レンのような単一物質の均一層であることもあり、ある
いは光導電体と別の物質とを含む複合層であることもあ
り得る。１つの型の複合画像形成部材は電気絶縁性有機
樹脂バインダー中に分散させた光導電性無機化合物の微
粉砕粒子の層を含む。米国特許第　４，２６５，９９０
号は別個の光発生層と電荷輸送層とを有する層状感光体
を記載している。光発生層は正孔を光発生し、光発生し
た正孔を電荷輸送層中へ注入することができる。

【０００４】次第に進歩するにつれて、より高速度の電
子写真複写機、デュープリケーター及びプリンターが開
発され、長期サイクリング中に画像品質の劣化が起こる
ようになった。さらに、複雑な手の込んだ、非常に高速
度で作動する複写及び印刷システムは感光体に狭い作動
限界を含む厳格な必要条件を置いた。例えば、多くの近
代的光導電性画像形成部材に見られる数多くの層は高度
に可撓性で、隣接層によく接着し、かつ数千回のサイク
ルにわたって優れたトナー画像を与えるため狭い作動限
界内の予測可能な電気的特性を示さねばならない。電子
写真画像形成システムに於てベルトとして用いられてい
る多層感光体の１つの型は基体、導電性層、ブロッキン
グ層、粘着剤層、電荷発生層、電荷輸送層及び画像形成
層の一方のエッジに隣接する導電性グランドストリップ
（ｇｒｏｕｎｄ　ｓｔｒｉｐ）層を含む。この感光体は
カーリング防止層及び随意のオーバーコーティング層の
ような付加的な層を含むこともできる。

【０００５】透明な電子写真画像形成部材が現在開発さ
れつつある。かかる透明な電子写真画像形成部材は活性
化用電磁放射線への背後露出のため透明な基体及び透明
な導電性層が必要である。沃化第一銅並びにＣｕＢｒ、
ＣｕＣｌ及び対応する銀塩のような他のＩ−ＶＩＩ　半
導体を含む導電性層（グランドプレーン）はかかる部材
に所望される所要な透明性を保ちながら望ましい導電性
を与える。例えば、Ａ．　Ｇｏｌｄｍａｎｎ　の総説“
Ｂａｎｄ　Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ　ａｎｄ　Ｏｐｔｉｃａ
ｌ　Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　ｏｆ　Ｔｅｔｒａｈｅｄｒ
ａｌｌｙ　Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｅｄ　Ｃｕ−ａｎｄ　Ａ
ｇ−Ｈａｌｉｄｅｓ，”　Ｐｈｙｓ．　Ｓｔａｔ．　Ｓ
ｏｌ，（ｂ）８１，９−４７（１９７７）を参照された
い。

【０００６】電子写真素子中に於ける沃化第一銅の導電
性物質としての使用は知られている。例えば、Ｓｔｅｋ
ｌｅｎｋｓｋｉ　らの米国特許第　４，０８２，５５１
号及び　Ｓｃｏｚｚａｆａｖａ　らの米国特許第　４，
４８５，１６１号はポリエステル基体上に被覆された沃
化第一銅の導電性層を記載している。Ｉｓｈｉｄａの米
国特許第　４，６６１，４２８号はＣｕＩを含むことが
できる複合感光性素子用の導電性基体を記載している。 Ｋａｗａｍｕｒａの米国特許第　４，４６５，７５１号
は沃化第一銅を含む導電性層と光導電性層とで構成され
る感光性材料を記載している。

【０００７】ヨウ化第一銅は光導電性物質としても用い
られている。例えば、Ｔａｋａｈａｓｈｉ　らの米国特
許第　４，１９０，４４５号は光導電性層のための絶縁
性バインダー中のＣｕＩのような無機導電性物質として
記載している。Ｆｕｊｉｗａｒａらの米国特許第　４，
１８８，２１２号はＣｕＩのような光導電性物質を含む
光電センサーを記載している。光導電体、特に沃化第一
銅導電性層で形成された光導電体は、支持基体への接着
が悪いため、僅かに曲げられた条件下で剥離する。光導
電性デバイスに於ける沃化第一銅層の剥離は、通常用い
られる基体物質、例えば　ｄｕ　ＰｏｎｔからのＭｙｌ
ａｒ又はＩＣＩ　Ａｍｅｒｉｃａｓ，　Ｉｎｃ．からの
Ｍｅｌｉｎｅｘ　として知られている二軸配向ポリエス
テルからしばしば見られる。さらに、活性化用電磁放射
線への背後露出のために基体及び導電性層の透明性が必
要な電子写真画像形成システムに於ては、活性化用電磁
放射線への望ましくない露出又は支持基体又は導電性層
の不透明性のための透明度の減少は光導電性画像形成部
材の性能の低下をひき起こすであろう。透明度の低下は
電磁放射線の強度を増加することによってある場合には
補償され得るが、かかる増加は、発熱量のため、並びに
高強度を得るための大きい費用のために、一般に望まし
くない。上記欠点を示す導電性層ははなはだ望ましくな
い。しかし、望ましい導電性を有する実質的に透明な層
を形成する導電性物質はほとんどない。

【０００８】支持基体と導電性層との間の粘着剤層の使
用は　Ｂｕｒｏｖらの米国特許第　４，０２４，０３０
号及びＲａｓｃｈ　の米国特許第　３，８８０，６５７
号に記載されている。Ｂｕｒｏｖ　らの特許は中間粘着
剤層によって基体へつけられた薄い金属層を含む放射線
感受性素子を記載している。金属層と密に接触している
感光性化合物は、放射線に露出されるとき、金属層と化
学反応する可能性がある。Ｒａｓｃｈ　の特許はポリエ
ステル誘電性層と導電性層との間の粘着剤重合体サビン
グ（ｓｕｂｂｉｎｇ）層を記載している。粘着剤サビン
グ（ｓｕｂｂｉｎｇ）層は塩化ビニリデン含有重合体で
あり、導電性層は保護用の無機酸化物成分と混合された
金属で構成される。金属と保護酸化物との導電性層は、
密な物理的混合物を得るために真空共蒸着（ｖａｃｕｕ
ｍ　ｃｏｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）によって形成される。 透明な導電性酸化物コーティングは溶液コーティングに
よって形成されることができるが、多くの又はほとんど
の重合体基体を分解するであろう摂氏数百度の望ましく
ない加熱工程を必要とする。かかる物質の溶液コーティ
ングは実際的でなく、かくして好ましくない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の１つの目的は
支持基体と導電性層との間の良好な付着を提供すること
である。本発明のもう１つの目的は層剥離に対してより
大きな抵抗を示す実質的に透明な導電性層を含む電子写
真画像形成部材を提供することである。

【００１０】本発明のもう１つの目的は支持基体と沃化
第一銅を含む透明な導電性層との間の粘着剤層を提供す
ることである。本発明のもう１つの目的は、溶液コーテ
ィングすることが可能であり、かつコーティング後剥離
しない導電性層を提供することである。本発明のもう１
つの目的は支持基体と実質的に透明な導電性層との間に
ある、画像形成部材の電気的強度に悪影響を与えない粘
着剤を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明のこれらの目的及
び他の目的は支持基体、粘着剤層、沃化第一銅を含む導
電性層、電荷ブロッキング層、及び少なくとも１つの光
導電性層を含む光導電性画像形成部材を提供することに
よって達成される。本発明の電子写真画像形成部材は支
持基体と導電性層との間に置かれた粘着剤層を含む。本
発明の粘着剤層は支持基体と導電性層との間の優れた付
着を可能にする。導電性層は実質的に透明な導電性物質
で構成されることができる。本発明の粘着剤層は、デバ
イスの光学的、導電性及び機械的性質に悪影響を与える
ことなくこれらの利益を提供する。

【００１２】電子写真画像形成部材の代表的構造を図１
に示す。この画像形成部材は支持基体１、粘着剤層２、
導電性グランドプレーン（導電性層）３、正孔ブロッキ
ング層４、随意の粘着剤層５、電荷発生層６、及び電荷
輸送層７を備えている。電荷輸送層上のオーバーコーテ
ィング層及び画像形成層とは反対側で基体と隣接するカ
ーリング防止層のような随意層もデバイス中に用いるこ
とができる。

【００１３】次に、図１中に示した電子写真画像形成部
材の各層について説明する。 支持基体 支持基体は不透明であっても、あるいは実質的に透明で
あってもよくかつ所要な機械的性質を有する数多くの適
当な物質を含むことができる。ポリエステル、ポリカー
ボネート、ポリアミド、ポリウレタンなどを含むこの目
的のために知られている種々の樹脂が用いられる。基体
は可撓性でなければならずかつ例えばシート、スクロー
ル、エンドレス可撓性ベルトなどのような任意の数の異
なる形状を有することができる。好ましくは、基体はエ
ンドレス可撓性ベルトの形でありかつ　Ｅ．　Ｉ．　ｄ
ｕ　Ｐｏｎｔ　　ｄｅ　Ｎｅｍｏｕｒｓ　＆　Ｃｏ．か
ら市販されているＭｙｌａｒ　、又はＩＣＩ　Ａｍｅｒ
ｉｃａｓ　Ｉｎｃ．　から市販されている　Ｍｅｌｉｎ
ｅｘ、又は　Ｈｏｅｃｈｓｔ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ
から市販されている　Ｈｏｓｔａｐｈａｎとして知られ
ている市販の二軸配向ポリエステルを含む。基体のため
の他の物質には、　ｄｕ　Ｐｏｎｔから　Ｔｅｄｌａｒ
　として市販されているポリ弗化ビニル、又は　ｄｕ　
Ｐｏｎｔから　Ｋａｐｔｏｎ　として市販されているよ
うなポリイミドのような重合体物質が含まれる。

【００１４】基体層の厚さは、機械的性能及び経済的考
慮を含む数多くの因子に依存する。この層の厚さは約６
５〜約１５０μｍ、好ましくは小直径ローラー、例えば
直径１９ｍｍのローラーの回りにサイクルされるとき最
適の可撓性及び最小の誘起表面曲げ応力のために約７５
〜約１２５μｍの範囲であることができる。可撓性ベル
ト用基体は、最終的な光導電性デバイスに悪影響がない
ならば、実質的な厚さ、例えば２００μｍ以上、あるい
は最小の厚さ、例えば５０μｍ以下であることができる
。 基体層の表面は、付着されるコーティングの大きい付着
を促進するため、コーティング前にクリーニングされる
ことができる。クリーニングは、基体層表面をプラズマ
放電、イオン衝撃、溶剤処理などに暴露することによっ
て行われる。 粘着剤層 粘着剤層２は支持基体への導電性層の付着を促進させる
ために基体上に被覆される。粘着剤層は、コポリエステ
ル、例えば　ｄｕ　Ｐｏｎｔ４９，０００樹脂（　Ｅ．
　Ｉ．　ｄｕ　Ｐｏｎｔ　ｄｅ　Ｎｅｍｏｕｒｓ　＆　
Ｃｏ．　から発売）、Ｖｉｔｅｌ　ＰＥ−１００、Ｖｉ
ｔｅｌ　ＰＥ−２００、Ｖｉｔｅｌ　ＰＥ−２００Ｄ及
びＶｉｔｅｌ　ＰＥ−２２２（Ｇｏｏｄｙｅａｒ　Ｒｕ
ｂｂｅｒ　＆　Ｔｉｒｅ　Ｃｏ．から発売）などのよう
な造膜性重合体から形成されることができる。

【００１５】ｄｕ　Ｐｏｎｔ４９，０００は４種のジ酸
とエチレングリコールとの直鎖状飽和コポリエステルで
あり、約７０，０００の分子量及び３２℃のガラス転移
温度を有する。その分子構造は ＨＯ−ＣＯ〔ジ酸−エチレングリコール〕ｎ　ＯＨ（こ
こでｎは重合度を示しかつ約７０，０００の分子量を与
える数である）として示される。コポリエステル中のジ
酸対エチレングリコールの比は１：１である。ジ酸は４
：４：１：１の比のテレフタル酸、イソフタル酸、アジ
ピン酸及びアゼライン酸である。

【００１６】Ｖｉｔｅｌ　ＰＥ−１００は２種のジ酸と
エチレングリコールとの直鎖状コポリエステルであり、
約５０，０００の分子量及び７１℃のガラス転移温度を
有する。 その分子構造は ＨＯ−ＣＯ−〔ジ酸−エチレングリコール〕ｎ　ＯＨ（
ここでｎは重合度を示しかつ約５０，０００の分子量を
与える数である）として示される。コポリエステル中の
ジ酸対エチレングリコールの比は１：１である。２種の
ジ酸は３：２の比のテレフタル酸及びイソフタル酸であ
る。

【００１７】Ｖｉｔｅｌ　ＰＥ−２００は２種のジ酸と
２種のジオールとの直鎖状飽和コポリエステルであり、
約４５，０００の分子量及び６７℃のガラス転移温度を
有する。 その分子構造は ＨＯ−ＣＯ−〔ジ酸−ジオール〕ｎ　ＯＨ（ここでｎは
重合度を示しかつ約４５，０００の分子量を与える数で
ある）として示される。コポリエステル中のジ酸対ジオ
ールの比は１：１である。２種のジ酸は１．２：１の比
のテレフタル酸及びイソフタル酸である。２種のジオー
ルは１．３３：１の比のエチレングリコール及び２，２
−ジメチルプロパンジオルである。

【００１８】粘着剤層は連続でなければならずかつ好ま
しくは約０．０１〜約２μｍ、より好ましくは約０．０
５〜０．５μｍの乾燥厚さを有する。０．０１μｍ未満
の厚さでは、基体と導電性層との間の付着が不良であり
かつベルトが直径１９ｍｍの曲率を有するローラー及び
曲がりスキッドプレート（ｃｕｒｖｅｄ　ｓｋｉｄ　ｐ
ｌａｔｅｓ）　のような小直径支持体上を運ばれるとき
自然剥離が起こる。粘着剤層の厚さが約２μｍより大き
いときには、長期サイクル中に過度の残留電荷の蓄積が
見られ得る。

【００１９】粘着剤層は、好ましくは溶液として適用さ
れる。任意の適当な溶剤又は溶剤混合物を用いてコーテ
ィング溶液を生成することができる。典型的な溶剤には
テトラヒドロフラン、トルエン、塩化メチレン、シクロ
ヘキサンなど及びこれらの混合物が含まれる。任意の適
当なコーティング技術を用いて混合しかつその後で粘着
剤層コーティング混合物を適用することができる。典型
的な適用技術には、吹付け、浸浸コーティング、グラビ
アコーティングなどが含まれる。付着したコーティング
の乾燥は、乾燥器乾燥、赤外線乾燥、空気乾燥などのよ
うな任意の適当な通常の技術によって行うことができる
。 導電性グランドプレーン 導電性グランドプレーン３は不透明又は透明の導電性層
であり、例えば真空蒸着技術のような任意の適当なコー
ティング技術によって粘着剤層上に形成することができ
る。好ましくは、物質を溶液からコーティングすること
ができる。好ましい物質はＣｕＩ、ＣｕＢｒ、ＣｕＣｌ
及び対応する銀塩のようなＩ−ＶＩＩ　半導体である。 Ｉ−ＶＩＩ　半導体は周期表のＩＢ族元素とＶＩＩ　Ａ
族元素とで生成される１群の化合物である。

【００２０】溶液コーティング可能な物質、例えば沃化
第一銅では、導電性層を適用するため、粘着剤層の適用
について上で説明した技術を含む任意の適当なコーティ
ング技術を用いることができる。沃化第一銅を任意の適
当な溶液、例えば有機ニトリルに溶解し、粘着剤層２へ
適用することができる。コーティング溶液を乾燥して、
非晶質、結晶性又は多結晶性であることができる純Ｃｕ
Ｉを生成する。結晶性構造では、ＣｕＩの粒径は約１０
０〜約２００オングストロームの範囲であることができ
る。

【００２１】導電性層の厚さは、その光導電性部材にと
って所望な光学的透明度、導電率及び可撓性によって実
質的に広い範囲にわたることができる。従って、可撓性
、感光性画像形成デバイスについては、導電性層の厚さ
は、導電性、可撓性及び光透過の最適な組合わせのため
に、約０．０１〜約０．１μｍ、より好ましくは約０．
０２〜約０．０８μｍであることができる。 電荷ブロッキング層 導電性グランドプレーン層の形成後、この層へブロッキ
ング層４を適用することができる。正に帯電された感光
体のための電子ブロッキング層は感光体の画像形成表面
から正孔を導電性層へ向かって移動させる。負に帯電さ
れた感光体については、導電性層から反対側の光導電性
層への正孔の注入を防ぐためのバリャーを形成すること
ができる任意の適当な正孔ブロッキング層を用いること
ができる。導電性層中に沃化第一銅のような物質を用い
るときには、導電性層の物質と反応しないブロッキング
物質を用いねばならない。特に、含窒素アミンのような
アミノ、イミノ又は第三アミン基を含むブロッキング層
用の物質は導電性層と反応して、導電性層の導電性を低
下又は破壊する。かくして、これらの物質を導電性層と
反応できないように変性しないならば、これらの物質の
使用は好ましくない。変性は、電荷ブロッキング物質の
アミノ、イミノ又は第三アミン基を金属錯化することに
よって達成される。

【００２２】電荷ブロッキング層はポリビニルブチラー
ル、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリシロキサン、ポ
リアミド、ポリウレタンなどのような重合体を含むこと
ができ、あるいは米国特許第　４，３３８，３８７号、
第　４，２８６，０３３号及び第　４，２９１，１１０
号に記載されているようなトリメトキシシリルプロピレ
ンジアミン、加水分解トリメトキシシリルプロピルエチ
レンジアミン、Ｎ−β−（アミノエチル）γ−アミノ−
プロピルトリメトキシシラン、イソプロピル４−アミノ
ベンゼンスルホニル、ジ（ドデシルベンゼンスルホニル
）チタネート、イソプロピルジ（４−アミノベンゾイル
）イソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ（Ｎ
−エチルアミノ−エチルアミノ）チタネート、イソプロ
ピルトリアントラニルチタネート、イソプロピルトリ（
Ｎ，Ｎ−ジメチル−エチルアミノ）チタネート、チタン
−４−アミノベンゼンスルホネートオキシアセテート、
チタン４−アミノベンゾエートイソステァレートオキシ
アセテート、〔Ｈ２　Ｎ（ＣＨ２　）４　〕ＣＨ３Ｓｉ
（ＯＣＨ３　）２　、（γ−アミノブチル）メチルジエ
トキシ−シラン、〔Ｈ２　Ｎ（ＣＨ２　）３　〕ＣＨ３
　Ｓｉ（ＯＣＨ３　）２　、及び（γ−アミノプロピル
）メチルジエトキシシランのような変性含窒素シロキサ
ン又は含窒素チタン化合物であることができる。

【００２３】アミノ、イミノ又は第三アミン基を含む電
荷ブロッキング物質は、好ましくは金属、金属イオン又
は含金属化合物で錯化される。好ましい金属には、遷移
金属、例えば銅、銀、金、ニッケル、パラジウム、白金
、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、
オスミウム、マンガン、クロム、バナジウム、チタン、
亜鉛、カドミウム、水銀、鉛、主族金属、希土類原子な
どが含まれる。好ましくは、電荷ブロッキング物質の窒
素に配位する遷移金属が用いられる。好ましくは、２，
３，４，５及び６配位種並びにより大きい金属イオンの
ためのより高い配位数をも形成することができる遷移金
属が用いられる。金属イオンは溶液の形で与えられ、こ
れを加水分解シラン溶液へ添加して化学的に反応させる
。得られた溶液を次に電荷ブロッキング層としてコーテ
ィングし、乾燥する。乾燥された電荷ブロッキング層は
層全体にわたって実質的に均一である。すなわち、電荷
ブロッキング層は錯化されたブロッキング物質の均一な
混合物を含む。加水分解シランは一般式

【００２４】

【化１】

【００２５】（上記一般式中、Ｒ１　は１〜２０個の炭
素原子を含むアルキリデン基であり、Ｒ２　、Ｒ３　及
びＲ７　は独立にＨ、１〜３個の炭素原子を含む低級ア
ルキル基及びフェニル基からなる群から選ばれ、Ｘは酸
又は酸性塩のアニオンであり、ｎは１〜４であり、ｙは
１〜４である）を有する。画像形成部材は、好ましくは
、ＣｕＩ導電性層上に、ｐＨ約４〜約１０の加水分解ア
ミノシラン水溶液のコーティングを付着させ、反応生成
物層を乾燥してシロキサン膜を生成し、かつ粘着剤層を
適用し、その後で粘着剤層へ光発生層及び正孔輸送層の
ような電気的作動性層を適用することによって製造され
る。

【００２６】ブロッキング層は連続でありかつ厚さが約
０．５μｍ未満でなければならない。というのは０．５
μｍより大きい厚さは望ましくない高い残留電圧を生ず
る可能性があるからである。電荷ブロッキング層の厚さ
は約０．００２〜約０．４μｍ、好ましくは約０．０２
〜約０．１６μｍの範囲であることができる。ブロッキ
ング層の適用は、吹付け、浸浸コーティング、ドローバ
ーコーティング、グラビアコーティング、シルクスクリ
ーニング、エアナイフコーティング、反転ロールコーテ
ィング、蒸着、化学処理などのような任意の適当な通常
の技術で行うことができる。薄層を得るのに便利のため
、好ましくは希薄溶液の形でブロッキング層を適用し、
コーティングの付着後、溶剤を真空、加熱などのような
通常の技術で除去する。一般に、ブロッキング層物質と
溶剤との約０．０５：１００〜約０．５：１００の重量
比が吹付けコーティング用に適当である。 随意の粘着剤層 ほとんどの場合に、ブロッキング層と隣接の電荷発生層
すなわち光発生層との間の中間層が付着を促進するため
に所望され得る。例えば、随意の粘着剤層５を用いるこ
とができる。かかる層を用いる場合、かかる層は約０．
００１〜約０．２μｍの乾燥厚さを有する。典型的な粘
着剤層はポリエステル、　ｄｕＰｏｎｔ４９，０００樹
脂（　Ｅ．　Ｉ．　ｄｕ　Ｐｏｎｔ　　ｄｅＮｅｍｏｕ
ｒｓ　＆　Ｃｏ．から発売）、ポリビニルブチラール、
ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、ポリメチルメタ
クリレートなどのような造膜性重合体を含む。 電荷発生層 ブロッキング層へ任意の適当な電荷発生層（光発生層）
を適用することができる。ブロッキング層へ随意の粘着
剤層が適用される場合には、この粘着剤層へ光発生層を
コーティングする。光発生層用物質の例には、造膜性重
合体バインダー中に分散された、非晶質セレン、三方晶
系セレン、及びセレン−テルル、セレン−テルル−ヒ素
、ヒ化セレンからなる群から選ばれるセレン合金のよう
な無機光導電性粒子；及び米国特許第　３，３５７，９
８９号記載の無金属フタロシアニンのＸ形のようなフタ
ロシアニン顔料；バナジルフタロシアニン及び銅フタロ
シアニンのような金属フタロシアニン；ジブロモアンタ
ントロン；スクアリリウム（ｓｑｕａｒｙｌｉｕｍ）；
　ｄｕ　Ｐｏｎｔから商品名Ｍｏｎａｓｔｒａｌ　Ｒｅ
ｄ　，　Ｍｏｎａｓｔｒａｌ　Ｖｉｏｌｅｔ　　及びＭ
ｏｎａｓｔｒａｌＲｅｄ　Ｙで販売されているもののよ
うなキナクリドン；商品名　Ｖａｔ　Ｏｒａｎｇｅ　１
及びＶａｔ　Ｏｒａｎｇｅ３で発売されているもののよ
うなジブロモアンタントロン顔料；ベンズイミダゾール
ペリレン；米国特許第　３，４４２，７８１号記載のよ
うな２，４−ジアミノトリアジン；Ａｌｌｉｅｄ　Ｃｈ
ｅｍｉｃａｌ　Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ　から商品名　
Ｉｎｄｏｆａｓｔ　Ｄｏｕｂｌｅ　Ｓｃａｒｌｅｔ，　
Ｉｎｄｏｆａｓｔ　　Ｖｉｏｌｅｔ　Ｌａｋｅ　Ｂ，　
Ｉｎｄｏｆａｓｔ　Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ　Ｓｃａｒｌｅ
ｔ　　及び　Ｉｎｄｏｆａｓｔ　Ｏｒａｎｇｅで販売さ
れているもののような多核芳香族キノンなどが含まれる
。光導電性層が光発生層の性質を増強又は減少するマル
チ・光発生層（ｍｕｌｔｉ−ｐｈｏｔｏｇｅｎｅｒａｔ
ｉｎｇ　ｌａｙｅｒ　）組成物を用いることができる。 この型の配置の例は米国特許第４，４１５，６３９号に
記載されている。所望ならば、技術上知られている他の
適当な光発生性物質を用いることもできる。バナジルフ
タロシアニン、チタニルフタロシアニン、無金属フタロ
シアニン、ベンズイミダゾールペリレン、非晶質セレン
、三方晶系セレン、セレン−テルル、セレン−テルル−
ヒ素、ヒ化セレンのようなセレン合金など及びこれらの
混合物のような光導電性物質を含む電荷発生層は、これ
らの物質が白色光に対して感受性なので、特に好ましい
。バナジルフタロシアニン、チタニルフタロシアニン、
無金属フタロシアニン及びテルル合金も、これらの物質
が赤外線に対して感受性であるという付加的な利益を与
えるので好ましい。

【００２７】光発生層中には、任意の適当な重合体造膜
性バインダー物質をマトリックスとして用いることがで
きる。典型的な重合体造膜性物質には、例えば米国特許
第　３，１２１，００６号に記載されている物質が含ま
れる。ブロッキング層と光発生層との間に粘着剤層を用
いる場合には、バインダー重合体は粘着剤層によく付着
し、粘着剤層の上表面をも溶解する溶剤中に溶解しかつ
粘着剤層のコポリエステルと混和性であって重合体ブレ
ンドゾーンを形成しなければならない。典型的な溶剤に
はテトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、塩化メチレ
ン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリ
クロロエタン、トリクロロエチレン、トルエンなど及び
これらの混合物が含まれる。蒸発範囲を調節するため溶
剤の混合物を用いることができる。例えば約９０：１０
〜約１０：９０の重量比のテトラヒドロフラン：トルエ
ンで満足な結果を得ることができる。一般に、光発生性
顔料、バインダー重合体及び溶剤の組み合わせが電荷発
生層コーティング組成物中の光発生性顔料の均一な分散
液を形成しなければならない。典型的な組み合わせには
、ポリビニルカルバゾール、三方晶系セレン及びテトラ
ヒドロフラン；フェノキシ樹脂、三方晶系セレン及びト
ルエン；及びポリカーボネート樹脂、バナジルフタロシ
アニン及び塩化メチレンが含まれる。電荷発生層バイン
ダー重合体用の溶剤は電荷発生層中に用いられる重合体
バインダーを溶解しなければならずかつ電荷発生層中に
存在する光発生性顔料を分散する能力がなければならな
い。

【００２８】光発生性組成物又は顔料は種々の量で樹脂
バインダー組成物中に存在することができる。一般に、
約５〜約９０容量％の光発生性顔料が約１０〜約９０容
量％の樹脂バインダー中に分散される。好ましくは、約
２０〜約３０容量％の光発生性顔料が約７０〜約８０容
量％の樹脂バインダー組成物中に分散される。１つの実
施態様に於ては、約８容量％の光発生性顔料が約９２容
量％の樹脂バインダー組成物中に分散される。

【００２９】光発生層の厚さは一般に約０．１〜約５．
０μｍ、好ましくは約０．３〜約３μｍの範囲である。 光発生層の厚さはバインダー含量に関係する。高バイン
ダー含量組成物は一般により厚い光発生層を必要とする
。本発明の目的が達成されるならば、これらの範囲外の
厚さを選ぶことが可能である。光発生層コーティング混
合物の混合及びその後の前以て適用されているブロッキ
ング層（又はもし用いられるならば乾燥粘着剤層）への
適用には任意の適当なかつ通常の技術を用いることがで
きる。 典型的な適用技術には、吹付け、浸浸コーティング、ロ
ールコーティング、巻線ロッドコーティングなどが含ま
れる。付着したコーティングの乾燥は乾燥器乾燥、赤外
線乾燥、空気乾燥などのような、コーティングの適用に
用いた溶剤の実質的に全部を除去する任意の適当な通常
の技術で行うことができる。 電荷輸送層 電荷輸送層７は電荷発生層からの発生した正孔又は電子
の注入を支持しかつこれらの正孔又は電子を輸送層を通
して輸送して表面電荷を選択的に放電させることができ
る任意の適当な透明有機重合体又は非重合体物質を含む
ことができる。電荷輸送層は正孔又は電子を輸送する働
きをするだけでなく、光導電性層を摩耗や化学的侵食か
ら保護し、従って感光体画像形成部材の作動寿命を長く
する。電荷輸送層は、ゼログラフィーに有用な波長、例
えば４０００〜９０００オングストロームの光に露光さ
れるとき、あったとしても無視できる放電を示さねばな
らない。電荷輸送層は、入射光のほとんどが下にある電
荷発生層によって利用されることを保証するため、輸送
層を通して露光するとき、光導電体がその領域内で用い
られる波長領域内で通常透明である。透明な基体と共に
用いられるとき、基体を通過するすべての光で基体を通
して像様露光又は消去を行うことができる。この場合に
は、電荷輸送物質は用いられる波長領域内の光を透過す
る必要はない。電荷発生層と共に電荷輸送層は、電荷輸
送層上に置かれた静電荷が未露光時に伝導しない程度に
絶縁体である。

【００３０】電荷輸送層は、通常電気的に不活性な造膜
性重合体物質中に分散されていて、これらの物質を電気
的に活性にする活性化用化合物すなわち電荷輸送分子を
含むことができる。これらの電荷輸送分子を、光発生さ
れた正孔の注入を支持することができずかつこれらの正
孔を輸送することもできない重合体物質へ添加すること
ができる。多層光導電体中に用いられる特に好ましい輸
送層は少なくとも１種の電荷輸送性芳香族アミン約２５
〜約７５重量％と芳香族アミンがその中に可溶である重
合体造膜性樹脂約７５〜約２５重量％とを含む。

【００３１】電荷輸送層は、好ましくは式

【００３２】

【化２】

【００３３】（上記式中、Ｒ１　及びＲ２　はおのおの
が置換又は未置換のフェニル基、ナフチル基及びポリフ
ェニル基からなる群から選ばれる芳香族基であり、Ｒ３
　は置換又は未置換アリール基、１〜１８個の炭素原子
を有するアルキル基及び３〜１８個の炭素原子を有する
シクロ脂肪族基からなる群から選ばれる）の少なくとも
１種の芳香族アミンを含む混合物から製造される。置換
基はＮＯ２　基、ＣＮ基などのような電子引抜き基を含
んでいてはならない。この構造式で表わされる典型的な
芳香族アミンには下記のものが含まれる。

【００３４】Ｉ．　　式

【００３５】

【化３】

【００３６】のようなトリフェニルアミンＩＩ．　　　
式

【００３７】

【化４】

【００３８】のようなビス及びポリトリアリールアミン
ＩＩＩ．　　式

【００３９】

【化５】

【００４０】のようなビスアリールアミンエーテル及び
ＩＶ．　　式

【００４１】

【化６】

【００４２】のようなビスアルキル−アリールアミン。 好ましい芳香族アミン化合物は一般式

【００４３】

【化７】

【００４４】（上記一般式中、Ｒ１　及びＲ２　は上で
定義した通りであり、Ｒ４　は置換又は未置換ビフェニ
ル基、ジフェニルエーテル基、１〜１８個の炭素原子を
有するアルキル基及び３〜１２個の炭素原子を有するシ
クロ脂肪族基からなる群から選ばれる。置換基はＮＯ２
　基、ＣＮ基などのような電子引抜き基を含んでいては
ならない。）を有する。

【００４５】上記構造式で表わされる電荷輸送性芳香族
アミンの例には、不活性樹脂バインダー中に分散された
、トリフェニルアミン、ビス（４−ジエチルアミン−２
−メチルフェニル）フェニルメタン、４，４′−ビス（
ジエチルアミノ）−２，２′−ジメチルトリフェニルメ
タン、Ｎ，Ｎ′−ビス（アルキルフェニル）−（１，１
′−ビフェニル）−４，４′−ジアミン（ここでアルキ
ルは例えばメチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチルなど
である）、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３
−メチルフェニル）−（１，１′−ビフェニル）−４，
４′−ジアミンなどが含まれる。

【００４６】塩化メチレン又は他の適当な溶剤に可溶な
任意の適当な不活性樹脂バインダーを用いることができ
る。塩化メチレンに可溶な典型的な不活性樹脂バインダ
ーには、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリエステル、ポリアリーレート、ポリアクリレー
ト、ポリエーテル、ポリスルホンなどが含まれる。分子
量は約２０，０００から約１，５００，０００までにわ
たることができる。これらのバインダーを溶解すること
ができる他の溶剤には、テトラヒドロフラン、トルエン
、トリクロロエチレン、１，１，２−トリクロロエタン
、１，１，１−トリクロロエタンなどが含まれる。

【００４７】好ましい電気的に不活性な樹脂物質は約２
０，０００〜約１２０，０００、より好ましくは約５０
，０００〜約１００，０００の分子量を有するポリカー
ボネートである。電気的に不活性な樹脂物質として最も
好ましい物質は　Ｇｅｎｅｒａｌ　Ｅｌｅｃｔｒｉｃ　
Ｃｏｍｐａｎｙ　から　Ｌｅｘａｎ１４５として発売さ
れている。約３５，０００〜約４０，０００の分子量を
有するポリ（４，４′−ジプロピリデン−ジフェニレン
カ−ボネート）；　Ｇｅｎｅｒａｌ　Ｅｌｅｃｔｒｉｃ
　Ｃｏｍｐａｎｙから　Ｌｅｘａｎ１４１として発売さ
れている、約４０，０００〜約４５，０００の分子量を
有するポリ（４，４′−イソプロピリデン−ジフェニレ
ンカーボネート）；Ｆａｒｂｅｎｆａｂｒｉｃｋｅｎ　
Ｂａｙｅｒ　Ａ．Ｇ．　から　Ｍａｋｒｏｌｏｎ　とし
て発売されている、約５０，０００〜約１００，０００
の分子量を有するポリカーボネート樹脂；Ｍｏｂａｙ　
Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏｍｐａｎｙから　Ｍｅｒｌｏｎ
　として発売されている、約２０，０００〜約５０，０
００の分子量を有するポリカーボネート樹脂；ポリエー
テルカーボネート；及び４，４′−シクロヘキシリデン
ジフェニルポリカーボネートである。塩化メチレンは、
すべての成分を充分に溶解するため及び低沸点であるた
め、電荷輸送層コーティング混合物の望ましい成分であ
る。

【００４８】特に好ましい多層光導電体は、光導電性物
質のバインダー層を含む電荷発生層と、約２５〜約７５
重量％の式

【００４９】

【化８】

【００５０】（上記式中、Ｘは１〜４個の炭素原子を有
するアルキル基及び塩素からなる群から選ばれる）を有
する１種以上の化合物がその中に分散されている、約２
０，０００〜約１２０，０００の分子量を有するポリカ
ーボネート樹脂物質の隣接正孔輸送層と、正孔の光発生
及び発生した正孔の注入の能力を示す光導電性層とを含
み、正孔輸送層は光導電性層が正孔を光発生しかつ光発
生した正孔を注入するスペクトル領域内で実質的に非吸
収性であるが、光導電性層からの光発生した正孔の注入
を支持しかつ正孔輸送層を通して正孔を輸送する能力が
ある。

【００５１】電荷輸送層の厚さは約１０〜約５０μｍ、
好ましくは約２０〜約３５μｍの範囲であることができ
る。最適の厚さは約２３〜約３１μｍの範囲であり得る
。以下、非限定的な実施例によって本発明をさらに説明
するが、これらの実施例は説明のためのみのものであり
、本発明が実施例中に示される物質、条件、プロセスパ
ラメーターなどに限定されるものでないことは当然であ
る。 〔比較実施例１〕１．２％沃化第一銅のブチロニトリル
（ＣＨ３　（ＣＨ２　）２　ＣＮ）（Ａｌｄｒｉｃｈ）
溶液を、自動式スプレーガン（Ｂｉｎｋｓ　Ｎｏ．　６
１）で、回転している０．０７６２ｍｍ（３ミル）のポ
リエステル基体（　ｄｕ　Ｐｏｎｔから発売されている
Ｍｙｌａｒ　）上に吹付けた。このコーティングを強制
空気乾燥器中で、１００℃で５分間乾燥して０．０６μ
ｍの乾燥厚さを得た。

【００５２】エタノール９０部／水１０部中の加水分解
γ−アミノプロピルトリエトキシシランとの銅錯体の１
．５％溶液を沃化第一銅導電性層上へ吹付けた。強制空
気乾燥器中で１００℃で１５分間乾燥後０．０８μｍの
厚さが得られた。Ｐａｎ　らの米国特許第　４，４３９
，５０７号に記載されているようなフェノキシセレンス
ラリーを自動式スプレーガン（Ｂｉｎｋｓ　Ｎｏ．　６
１）で銅錯体シラン層上に０．５μｍの厚さに吹付けた
。この層を強制空気乾燥器中で１００℃で１５分間乾燥
した。

【００５３】米国特許第　４，４３９，５０７号中に記
載されているような電荷輸送層を静電式自動スプレーガ
ン（Ｂｉｎｋｓ）で２０μｍの厚さに吹付けた。この層
を８０℃で１５分間、次いで１２５℃で５分間乾燥した
。このデバイスの１８０°剥離強さ試験を行った。実測
された強さは約３ｇ・ｃｍである。 〔実施例２〕比較実施例１記載と同じ方法に従った。但
し、導電性沃化第一銅層の吹付けの前に、回転している
０．０７６２ｍｍ（３ミル）ポリエステル（　ｄｕ　Ｐ
ｏｎｔから発売されているＭｙｌａｒ）上に自動スプレ
ーガン（Ｂｉｎｋｓ　Ｎｏ．　６１）で粘着剤層を吹付
けた。粘着剤溶液の組成は　ｄｕ　Ｐｏｎｔ４９，００
０ポリエステル０．５ｇ　、Ａｌｄｒｉｃｈ　から発売
されているテトラヒドロフラン８０重量部、及びＡｌｄ
ｒｉｃｈ　から発売されているシクロヘキサノン１９．
５重量部であった。この層の厚さは、強制空気乾燥器中
で１００℃で５分間乾燥後０．０３μｍであった。

【００５４】実測１８０剥離強さは１００ｇ　−　ｃｍ
であった。 〔比較実施例３〕０．０７６２ｍｍ（３ミル）厚ポリエ
ステル（ＩＣＩ製　Ｍｅｌｉｎｅｘ）のシート上に０．
０１２７ｍｍ（０．５ミル）ギャップ　Ｂｉｒｄ　コー
ターで１．２％沃化第一銅溶液をハンドコーティングし
た。この層を強制空気乾燥器中で８０℃で３０分間乾燥
した。楕円偏光法で測定して、その厚さは０．０５μｍ
であった。

【００５５】エタノール９０部及び水１０部の溶剤混合
物中の２％銅錯体加水分解シランのブロッキング層を、
前以て適用されている沃化第一銅層上にコーティングし
た。この層を１００℃で１５分間乾燥して厚さ１．２μ
ｍを得た。テトラヒドロフラン（Ａｌｄｒｉｃｈ）８０
部とシクロヘキサノン２０部との混合物中の５％　ｄｕ
　Ｐｏｎｔ製４９，０００ポリエステルの粘着剤溶液を
、前以て適用されているブロッキング層上に０．０１２
７ｍｍ（０．５ミル）ギャップ　Ｂｉｒｄ　コーターで
ハンドコーティングした。この層を強制空気乾燥器中で
１００℃で１５分間乾燥した。厚さは０．０５μｍであ
った。

【００５６】米国特許第　４，４６４，４５０号の方法
に従ってポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）−セレン層
を０．０１２７ｍｍ（０．５ミル）ギャップ　Ｂｉｒｄ
　コーターで粘着剤層上にハンドコーティングした。こ
の層を強制空気乾燥器中で１００℃で１５分間乾燥した
。この層の厚さは１．８μｍであった。米国特許第　４
，４６４，４５０号に従って電荷輸送層をも調製し、０
．１１４３ｍｍ（４．５ミル）ギャップ　Ｂｉｒｄ　コ
ーターでハンドコーティングした。８０℃で１０分間及
び１２５℃で１５分間乾燥後、デバイスの厚さは２８μ
ｍであると実測された。

【００５７】このデバイスの１８０°剥離強さは３ｇ−
　ｃｍであった。 〔実施例４〕比較実施例３と同じ方法に従った。但し、
導電性沃化第一銅のコーティングの前に粘着剤層をコー
ティングした。テトラヒドロフラン（Ａｌｄｒｉｃｈ）
８０部とシクロヘキサノン２０部との混合物中に０．５
％の４９，０００ポリエステル（　ｄｕ　Ｐｏｎｔ）を
含む粘着剤溶液を調製し、この溶液を０．０１２７ｍｍ
（０．５ミル）ギャップ　Ｂｉｒｄ　コーターでコーテ
ィングした。強制空気乾燥器中で１５分間乾燥後、０．
０５μｍの厚さが実測された。

【００５８】１８０°剥離強さの実測値は１００ｇ−　
ｃｍ以上であった。上記各実施例の層及び実測された１
８０°剥離強さを表１に示す。表１の結果は、本発明の
粘着剤層を有するデバイスがかかる粘着剤層を有しない
比較実施例よりもずっと高い剥離強さを与えることを示
している。

【００５９】

【表１】

【００６０】以上、特別な好ましい実施態様に関して本
発明を説明したが、本発明はこれらの実施態様に限定さ
れるものではない。むしろ、当業者はこれらの実施態様
に於て、本発明の精神内にありかつ特許請求の範囲内に
ある変化や変更を行うことができることを認めるであろ
う。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の多層感光体の断面図である。

【符号の説明】 １・・・支持基体 ２・・・粘着剤層 ３・・・導電性グランドプレーン ４・・・正孔ブロッキング層 ５・・・随意の粘着剤層 ６・・・電荷発生層 ７・・・電荷輸送層

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　支持基体、隣接粘着剤層、Ｉ−ＶＩＩ
   　半導体を含む導電性層及び少なくとも１つの光導電性
   層を含む電子写真画像形成部材。
2. 【請求項２】　　該Ｉ−ＶＩＩ　半導体がＣｕＩ、Ｃｕ
   Ｂｒ、ＣｕＣｌ、ＡｇＩ、ＡｇＢｒ及びＡｇＣｌからな
   る群から選ばれる請求項１記載の画像形成部材。
3. 【請求項３】　　該Ｉ−ＶＩＩ　半導体が沃化第一銅で
   ある請求項１記載の画像形成部材。
4. 【請求項４】　　該粘着剤層がポリエステルを含む請求
   項１記載の画像形成部材。
5. 【請求項５】　　該ポリエステルがコポリエステルであ
   る請求項４記載の画像形成部材。
6. 【請求項６】　　該画像形成部材が電磁放射線に対して
   実質的に透明である請求項１記載の画像形成部材。
7. 【請求項７】　　該少なくとも１つの光導電性層が電荷
   輸送層と電荷発生層とを含む請求項１記載の画像形成部
   材。
8. 【請求項８】　　該導電性層と該少なくとも１つの光導
   電性層との間に電荷ブロッキング層をも含む請求項１記
   載の画像形成部材。
9. 【請求項９】　　該電荷ブロッキング層と該少なくとも
   １つの光導電性層との間に第２粘着剤層をも含む請求項
   ８記載の画像形成部材。
10. 【請求項１０】　　該支持基体が二軸配向ポリエステル
    、ポリ弗化ビニル及びポリイミドからなる群から選ばれ
    る少なくとも１つの物質を含む請求項１記載の画像形成
    部材。
11. 【請求項１１】　　支持基体、Ｉ−ＶＩＩ　半導体で構
    成される導電性層、支持基体と導電性層との間の、コポ
    リエステルで構成される粘着剤層、電荷ブロッキング層
    、電荷発生層、及び電荷輸送層を含む電子写真画像形成
    部材。
12. 【請求項１２】　　該Ｉ−ＶＩＩ　半導体がＣｕＩ、Ｃ
    ｕＢｒ、ＣｕＣｌ、ＡｇＩ、ＡｇＢｒ及びＡｇＣｌから
    なる群から選ばれる請求項１１記載の画像形成部材。
13. 【請求項１３】　　該Ｉ−ＶＩＩ　半導体が沃化第一銅
    である請求項１１記載の画像形成部材。
14. 【請求項１４】　　該画像形成部材が電磁放射線に対し
    て実質的に透明である請求項１１記載の画像形成部材。
15. 【請求項１５】　　該電荷ブロッキング層と該電荷輸送
    層との間に第２粘着剤層をも含む請求項１１記載の画像
    形成部材。
16. 【請求項１６】　　該支持基体が二軸配向ポリエステル
    、ポリ弗化ビニル、及びポリイミドからなる群から選ば
    れる少なくとも１つの物質を含む請求項１１記載の画像
    形成部材。