JPH04268565A - 電子写真画像形成部材のための電荷発生層および電荷輸送層、およびその製造方法 - Google Patents
電子写真画像形成部材のための電荷発生層および電荷輸送層、およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般に電子写真法に関し
、特に、電子写真画像形成部材のための電荷発生層およ
び電荷輸送層およびその製造方法に関する。
、特に、電子写真画像形成部材のための電荷発生層およ
び電荷輸送層およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】電子写真法においては、導電層の上に光
導電性絶縁層を含む電子写真プレートが、最初、均一な
静電的な帯電で表面上に画像形成される。次にそのプレ
ートは光のような活性電磁放射のパターンに露光される
。放射は光導電性絶縁層の照射領域の電荷を選択的に消
散させ、非照射領域に静電潜像を残す。次にこの電子写
真潜像を現像し、光導電性絶縁層の表面上に微細分割し
た検電標識粒子を付着することにより可視像を形成する
。次に結果とてしの可視画像を電子写真プレートから紙
のような支持体に移動させる。この画像形成プロセスを
再使用可能な光導電性絶縁層で多数回繰返す。
導電性絶縁層を含む電子写真プレートが、最初、均一な
静電的な帯電で表面上に画像形成される。次にそのプレ
ートは光のような活性電磁放射のパターンに露光される
。放射は光導電性絶縁層の照射領域の電荷を選択的に消
散させ、非照射領域に静電潜像を残す。次にこの電子写
真潜像を現像し、光導電性絶縁層の表面上に微細分割し
た検電標識粒子を付着することにより可視像を形成する
。次に結果とてしの可視画像を電子写真プレートから紙
のような支持体に移動させる。この画像形成プロセスを
再使用可能な光導電性絶縁層で多数回繰返す。
【0003】電子写真画像形成部材は数多くあるどの形
状でも提供され得る。例えば、画像形成部材はガラス質
セレンのような単一材料の均一層あるいは光導電体およ
び他の材料を含む複合層であり得る。複合画像形成部材
の一つのタイプは、電気的絶縁性有機樹脂バインダー中
に分散した光導電性絶縁有機化合物の微細分割粒子の層
を含む。米国特許第4,265,990号公報は分離し
た光発生および電荷輸送層を持つ層状感光体について開
示している。光発生層は正孔を光発生し、その光発生正
孔を電荷輸送層中に注入することができる。
状でも提供され得る。例えば、画像形成部材はガラス質
セレンのような単一材料の均一層あるいは光導電体およ
び他の材料を含む複合層であり得る。複合画像形成部材
の一つのタイプは、電気的絶縁性有機樹脂バインダー中
に分散した光導電性絶縁有機化合物の微細分割粒子の層
を含む。米国特許第4,265,990号公報は分離し
た光発生および電荷輸送層を持つ層状感光体について開
示している。光発生層は正孔を光発生し、その光発生正
孔を電荷輸送層中に注入することができる。
【0004】さらに進んだ光導電性感光体はさらに高度
に特殊化した成分層を含む。例えば、電子写真画像形成
システムに採用されている多層感光体の一つの型は図1
に図解されており、基板11、導電性接地面12、電荷
ブロッキイグ層13、電荷発生層14(バインダー中に
光発生材料を含む)、電荷輸送層15(バインダー中に
電荷輸送材料を含む)、および任意のオーバーコート層
16を含む。
に特殊化した成分層を含む。例えば、電子写真画像形成
システムに採用されている多層感光体の一つの型は図1
に図解されており、基板11、導電性接地面12、電荷
ブロッキイグ層13、電荷発生層14(バインダー中に
光発生材料を含む)、電荷輸送層15(バインダー中に
電荷輸送材料を含む)、および任意のオーバーコート層
16を含む。
【0005】図1に示したタイプの感光体においては、
光に露光されたとき光発生材料が電子と正孔を発生する
。ブロッキング層は、導電性接地面中の正孔が、発生体
から感光正表面に導かれそこに形成された潜像を消去す
ることになる、その発生体への移動を妨げる。しかしな
がら、ブロッキング層は発生体中に生成した電子が導電
性接地面へ移動することは許容し、感光体のサイクルに
対して、発生体を通じて望ましくない高電圧が作られる
ことを妨げる。
光に露光されたとき光発生材料が電子と正孔を発生する
。ブロッキング層は、導電性接地面中の正孔が、発生体
から感光正表面に導かれそこに形成された潜像を消去す
ることになる、その発生体への移動を妨げる。しかしな
がら、ブロッキング層は発生体中に生成した電子が導電
性接地面へ移動することは許容し、感光体のサイクルに
対して、発生体を通じて望ましくない高電圧が作られる
ことを妨げる。
【0006】図1に図式的に示されたような電子写真画
像形成システムにおいては、特に好ましい電荷ブロッキ
ング層が有機シリコーン化合物で形成される。これらの
ブロッキング層化合物を今後シランと呼ぶことにする。 しかしながら、シランブロッキング層の存在は画像形成
プロセスに複数の負の効果を伴なってきた。第1に、シ
ラン層はちりめんじわ(reticulation)
として公知の印刷欠陥を引き起こす傾向があると信じら
れている。ゼログラフィー印刷に現われるちりめんじわ
パターンは一般にシランブロッキング層における不均一
な厚みの局所領域があるためであり、これらの領域のP
IDCに差異を生成する。PIDCとは感光体の表面電
圧に一定の変化を引き起こす光の量の基準である。かく
て、感光体表面電荷密度が変化し、印刷に認識し得るパ
ターンをもたらす。これらのパターンは性質として典型
的に循環的である。ちりめんじわは少なくとも部分的に
はシラン層の細胞状パターンによって引き起こされる。 第2に、そのようなシランブロッキング層にピンホール
がある場合、印刷イメージ中に微細−白色班点が現われ
ると思われる。 セレン組成物は特に好ましい光発生材料であり、そ
のような光発生材料はナトリウムをドープすることで改
良される。ホーガン(Horgan) らへの米国特許
第4,232,102号公報を見よ。特に、ナトリウム
−ドープしたセレン顔料は改良されたサイクル安定性、
増大したVbgおよび増大した電子受容性を提供すると
信じられている。 背景電圧、Vbg、はコピーされた書類の白色部分から
もたらされた画像の領域における感光体の表面電圧であ
る。高い背景電圧は感光体が感度を失なったことを示す
、すなわち、潜像電荷画像を形成する際、一定の表面電
圧降下を発生するのに余分の光を必要とするために望ま
しくない。しかしながら、複数の欠陥がナトリウムドー
プしたセレン光発生材料の使用に帰せられてきた。例え
ば、セレンのナトリウムドーピングはセレン顔料の不均
一コーティングとなると思われている。そのような不均
一コーティングは顔料の不均一放電を引き起こし、印刷
された画像の中の微細白色班点の原因になっていると信
じられている。
像形成システムにおいては、特に好ましい電荷ブロッキ
ング層が有機シリコーン化合物で形成される。これらの
ブロッキング層化合物を今後シランと呼ぶことにする。 しかしながら、シランブロッキング層の存在は画像形成
プロセスに複数の負の効果を伴なってきた。第1に、シ
ラン層はちりめんじわ(reticulation)
として公知の印刷欠陥を引き起こす傾向があると信じら
れている。ゼログラフィー印刷に現われるちりめんじわ
パターンは一般にシランブロッキング層における不均一
な厚みの局所領域があるためであり、これらの領域のP
IDCに差異を生成する。PIDCとは感光体の表面電
圧に一定の変化を引き起こす光の量の基準である。かく
て、感光体表面電荷密度が変化し、印刷に認識し得るパ
ターンをもたらす。これらのパターンは性質として典型
的に循環的である。ちりめんじわは少なくとも部分的に
はシラン層の細胞状パターンによって引き起こされる。 第2に、そのようなシランブロッキング層にピンホール
がある場合、印刷イメージ中に微細−白色班点が現われ
ると思われる。 セレン組成物は特に好ましい光発生材料であり、そ
のような光発生材料はナトリウムをドープすることで改
良される。ホーガン(Horgan) らへの米国特許
第4,232,102号公報を見よ。特に、ナトリウム
−ドープしたセレン顔料は改良されたサイクル安定性、
増大したVbgおよび増大した電子受容性を提供すると
信じられている。 背景電圧、Vbg、はコピーされた書類の白色部分から
もたらされた画像の領域における感光体の表面電圧であ
る。高い背景電圧は感光体が感度を失なったことを示す
、すなわち、潜像電荷画像を形成する際、一定の表面電
圧降下を発生するのに余分の光を必要とするために望ま
しくない。しかしながら、複数の欠陥がナトリウムドー
プしたセレン光発生材料の使用に帰せられてきた。例え
ば、セレンのナトリウムドーピングはセレン顔料の不均
一コーティングとなると思われている。そのような不均
一コーティングは顔料の不均一放電を引き起こし、印刷
された画像の中の微細白色班点の原因になっていると信
じられている。
【0007】図1の感光体の複数の層の逆転構造を含む
多層感光体の第2のタイプが図2に図式的に示されてお
り、基板21、導電性接地面22、電荷輸送層23、電
荷発生層24、と保護およびブロッキングオーバーコー
ト層25を含む。典型的には、層25は2%ヒ素と98
%セレンのアモルファス層である。この配置においては
最上のブロッキング層は,コロナ帯電からの正孔が電荷
発生層に入り、負電荷を放電し導電性接地面上に画像を
形成するのを妨ぐために必要である。
多層感光体の第2のタイプが図2に図式的に示されてお
り、基板21、導電性接地面22、電荷輸送層23、電
荷発生層24、と保護およびブロッキングオーバーコー
ト層25を含む。典型的には、層25は2%ヒ素と98
%セレンのアモルファス層である。この配置においては
最上のブロッキング層は,コロナ帯電からの正孔が電荷
発生層に入り、負電荷を放電し導電性接地面上に画像を
形成するのを妨ぐために必要である。
【0008】本出願の譲受人は図2に示したような電子
写真画像形成システムの開発に従事してきており、その
ような画像形成システムがしばしば低電荷受容性と急崚
なPIDCを示すことを認識してきた。急崚なPIDC
とは少量の光が感光体の表面電圧に大きな変化をもたら
すことである。PIDC感度とは、少量および大量の光
で所望の電圧降下を引き起こす感光体の能力のことであ
る。感度のあるPIDCとは、少量の光で一定の電圧降
下を示す感光体のことを示す。そのようなシステムはま
た、しばしば低電荷受容性の局所領域を示し、灰色班点
として述べられる印刷欠陥を導く。しばしば、局所放電
は十分大きくなり班点は大きな白色領域となる。しばし
ば、そのような班点は繰返しの間に、より悪くなる。
写真画像形成システムの開発に従事してきており、その
ような画像形成システムがしばしば低電荷受容性と急崚
なPIDCを示すことを認識してきた。急崚なPIDC
とは少量の光が感光体の表面電圧に大きな変化をもたら
すことである。PIDC感度とは、少量および大量の光
で所望の電圧降下を引き起こす感光体の能力のことであ
る。感度のあるPIDCとは、少量の光で一定の電圧降
下を示す感光体のことを示す。そのようなシステムはま
た、しばしば低電荷受容性の局所領域を示し、灰色班点
として述べられる印刷欠陥を導く。しばしば、局所放電
は十分大きくなり班点は大きな白色領域となる。しばし
ば、そのような班点は繰返しの間に、より悪くなる。
【0009】工程が単純で、印刷欠陥が減少し、特に拡
張した使用、および有用な寿命が伸びた前述のタイプの
感光体の開発に引き続く興味がある。コジマらへの米国
特許第4,264,695号公報は、電気的に導電性の
支持体、光を吸収を通じて導電性電荷キヤリヤーを発生
することのできる光導電性物質および電子供与体あるい
は電子受容体を含む第1層、および電子供与体あるいは
電子受容体を含む第2層を含む電子写真要素について開
示している。
張した使用、および有用な寿命が伸びた前述のタイプの
感光体の開発に引き続く興味がある。コジマらへの米国
特許第4,264,695号公報は、電気的に導電性の
支持体、光を吸収を通じて導電性電荷キヤリヤーを発生
することのできる光導電性物質および電子供与体あるい
は電子受容体を含む第1層、および電子供与体あるいは
電子受容体を含む第2層を含む電子写真要素について開
示している。
【0010】マクアネニーらへの米国特許第4,559
,287号は、光発生層と電子輸送層を含み、ここに電
荷輸送層が安定量のアリールアミン電子供与化合物を含
有する感光性画像形成部材について開示している。安定
化材料は電子輸送層の結晶化を妨げる。キタヤマらへの
米国特許第4,535,042号公報は、電子受容体を
含む層と電子供与体を含む層を持ち、これらの層が導電
性基板の上に支持されている電子写真感光性部材につい
て開示している。この2個の層は互に重なり合っており
、2個の層の間の界面に電荷移動錯体の薄い層を形成し
、この薄層を電荷発生層として使用する。
,287号は、光発生層と電子輸送層を含み、ここに電
荷輸送層が安定量のアリールアミン電子供与化合物を含
有する感光性画像形成部材について開示している。安定
化材料は電子輸送層の結晶化を妨げる。キタヤマらへの
米国特許第4,535,042号公報は、電子受容体を
含む層と電子供与体を含む層を持ち、これらの層が導電
性基板の上に支持されている電子写真感光性部材につい
て開示している。この2個の層は互に重なり合っており
、2個の層の間の界面に電荷移動錯体の薄い層を形成し
、この薄層を電荷発生層として使用する。
【0011】ハルムへの米国特許第4,379,823
号公報は、有機光導電性供与体化合物および受容体増感
化合物の組合せを含む光導電性コーティング層について
開示している。この特許によれば、コーティング層は、
導電性基板にコートし光導電性フィルムを提供するため
に用いることができる。ベレッタらへの米国特許第4,
337,305号公報は、増感有機電子供与体化合物と
色素で作られる光導電層について開示している。供与体
化合物はポリマーバイダー材料を結合して電荷輸送層で
ある光導電層を形成する。
号公報は、有機光導電性供与体化合物および受容体増感
化合物の組合せを含む光導電性コーティング層について
開示している。この特許によれば、コーティング層は、
導電性基板にコートし光導電性フィルムを提供するため
に用いることができる。ベレッタらへの米国特許第4,
337,305号公報は、増感有機電子供与体化合物と
色素で作られる光導電層について開示している。供与体
化合物はポリマーバイダー材料を結合して電荷輸送層で
ある光導電層を形成する。
【0012】パイへの米国特許第4,442,192号
公報は、導電性基板、樹脂性バインダー中に分散した光
導電性材料を含有する光導電層、正孔トラッピング層、
および感光性デバイスの表面上に含まれる正電荷に電子
を供与することのできる組成物を含むオーバーコート層
を含む感光性画像形成部材について開示している。エー
ルリッヒらへの米国特許第4,576,887号公報は
、光検出器および光導電性デバイスの製造に使用される
光導電性ポリマー組成物について開示している。特許に
従えば、ポリマーの光導電性は電子受容体ドーパントを
加えることで増大する。特許はいくつかの電気的に導電
性あるいは半導体的材料の導電性が電子受容体および/
あるいは電子供与体ドーパントの使用により増大し得る
ことに言及している。
公報は、導電性基板、樹脂性バインダー中に分散した光
導電性材料を含有する光導電層、正孔トラッピング層、
および感光性デバイスの表面上に含まれる正電荷に電子
を供与することのできる組成物を含むオーバーコート層
を含む感光性画像形成部材について開示している。エー
ルリッヒらへの米国特許第4,576,887号公報は
、光検出器および光導電性デバイスの製造に使用される
光導電性ポリマー組成物について開示している。特許に
従えば、ポリマーの光導電性は電子受容体ドーパントを
加えることで増大する。特許はいくつかの電気的に導電
性あるいは半導体的材料の導電性が電子受容体および/
あるいは電子供与体ドーパントの使用により増大し得る
ことに言及している。
【0013】ホーガンらへの米国特許第4,232,1
02号公報は、三方晶方セレンを含む光導電性材料中に
分散した有機樹脂の層を含む画像形成部材について開示
している。この層は、電荷輸送層を含有する画像形成部
材の中では電荷発生層であり得る。このような製造され
た光導電性材料は、繰返し電荷受容と制御の改良、およ
び暗減衰の改良に有用である。
02号公報は、三方晶方セレンを含む光導電性材料中に
分散した有機樹脂の層を含む画像形成部材について開示
している。この層は、電荷輸送層を含有する画像形成部
材の中では電荷発生層であり得る。このような製造され
た光導電性材料は、繰返し電荷受容と制御の改良、およ
び暗減衰の改良に有用である。
【0014】ミシュラらへの米国特許第4,639,4
02号公報は、有機樹脂バインダーおよび加水分解アミ
ノシランでコートされたセレン粒子を含む光導電性材料
を含む画像形成部材について開示している。この特許は
、加水分解アミノシランを採用するコーティング方法の
みを開示しており、加水分解アミノシランをコーティン
グ溶液の溶媒に加えることに関しては提供していない。
02号公報は、有機樹脂バインダーおよび加水分解アミ
ノシランでコートされたセレン粒子を含む光導電性材料
を含む画像形成部材について開示している。この特許は
、加水分解アミノシランを採用するコーティング方法の
みを開示しており、加水分解アミノシランをコーティン
グ溶液の溶媒に加えることに関しては提供していない。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は層状感
光体の製造と、その成分の生成法を提供し、先行技術に
おける問題を克服し、以前の感光体を越える改良された
性能を提供することである。本発明は従って、電荷発生
層あるいは電荷輸送層が、塩基性電子供与あるいはプロ
トン受容基を含む有機分子のドーパントを含有する、感
光体電荷発生層および電荷輸送層、およびそれらの製造
方法が提供される。好ましいドーパントとしては、トリ
エタノールアミン、n−ドデシルアミン、n−ヘキサデ
シルアミン、テトラメチルグアニジン、3−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリヒド
ロキシシランおよびそのオリゴマー、およびそれらの混
合物および組合わせがある。
光体の製造と、その成分の生成法を提供し、先行技術に
おける問題を克服し、以前の感光体を越える改良された
性能を提供することである。本発明は従って、電荷発生
層あるいは電荷輸送層が、塩基性電子供与あるいはプロ
トン受容基を含む有機分子のドーパントを含有する、感
光体電荷発生層および電荷輸送層、およびそれらの製造
方法が提供される。好ましいドーパントとしては、トリ
エタノールアミン、n−ドデシルアミン、n−ヘキサデ
シルアミン、テトラメチルグアニジン、3−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリヒド
ロキシシランおよびそのオリゴマー、およびそれらの混
合物および組合わせがある。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明に従う感光体は一
般に、導電層、電荷発生層および電荷輸送層を含む。い
くつかの実施熊様においては、電荷発生層は導電層と電
荷輸送層の間にあり、本発明に従う他の実施熊様におい
ては電荷輸送層は導電層と電荷発生層の間にある。
般に、導電層、電荷発生層および電荷輸送層を含む。い
くつかの実施熊様においては、電荷発生層は導電層と電
荷輸送層の間にあり、本発明に従う他の実施熊様におい
ては電荷輸送層は導電層と電荷発生層の間にある。
【0017】本発明は電荷発生層あるいは電荷輸送層(
両層が同時に、あるいはどちらか1個が個々に)が、塩
基性電子供与あるいはプロトン受容基、例えば、特に、
非環式、環式、あるいは復素環式のような塩基性窒素化
合物を含有する有機分子でドープされた感光体に関する
。脂肪族および/あるいは芳香族アミンが好ましいドー
パントである。加うるに、酸素、硫黄およびリン含有塩
基がドーパントとして適当であり得る。本発明に従う特
に好ましいドーパントとしては、トリエタノールアミン
(TEA)、n−ドデシルアミン(DA)、n−ヘキサ
デシルアミン(HA)、テトラメチルグアニジン(TM
G)、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−ア
ミノプロピルトリヒドロキシシランとそのオリゴマーお
よびそれらの混合物および組合わせがある。
両層が同時に、あるいはどちらか1個が個々に)が、塩
基性電子供与あるいはプロトン受容基、例えば、特に、
非環式、環式、あるいは復素環式のような塩基性窒素化
合物を含有する有機分子でドープされた感光体に関する
。脂肪族および/あるいは芳香族アミンが好ましいドー
パントである。加うるに、酸素、硫黄およびリン含有塩
基がドーパントとして適当であり得る。本発明に従う特
に好ましいドーパントとしては、トリエタノールアミン
(TEA)、n−ドデシルアミン(DA)、n−ヘキサ
デシルアミン(HA)、テトラメチルグアニジン(TM
G)、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−ア
ミノプロピルトリヒドロキシシランとそのオリゴマーお
よびそれらの混合物および組合わせがある。
【0018】特に、湿気が上昇したとき電荷発生層のド
ーピングがより良い電気的安定性を提供するために、電
荷輸送のドーピングよりも、本発明に従って電荷発生層
をドープすることがより好ましい。しかしながら、一般
に電荷輸送層と電荷発生層の間の化学的相互拡散のため
に、どちらか一方の層あるいは両方の層のドーピングは
類似の効果をもたらす。
ーピングがより良い電気的安定性を提供するために、電
荷輸送のドーピングよりも、本発明に従って電荷発生層
をドープすることがより好ましい。しかしながら、一般
に電荷輸送層と電荷発生層の間の化学的相互拡散のため
に、どちらか一方の層あるいは両方の層のドーピングは
類似の効果をもたらす。
【0019】本発明に従うドーパントの最適の量は、感
光体を配合するのに用いられた材料に依存する。常に、
異なるロットにおけるいくつかの出発材料は、製造のプ
ロセスの変化に応じてより酸性あるいは塩基性である。 ドーパントの量は材料のこの特性に依存する。いくつか
の材料はより早い感光体を生成し、一方、他のものより
遅い感光体を生成し、ドーパントの量の変化はそのよう
な変化に適合する。
光体を配合するのに用いられた材料に依存する。常に、
異なるロットにおけるいくつかの出発材料は、製造のプ
ロセスの変化に応じてより酸性あるいは塩基性である。 ドーパントの量は材料のこの特性に依存する。いくつか
の材料はより早い感光体を生成し、一方、他のものより
遅い感光体を生成し、ドーパントの量の変化はそのよう
な変化に適合する。
【0020】ドーパントの好ましい量はまた、感光体の
配合のプロセス、および感光体の配合に使用された材料
に依存する。本発明に従う感光体は、電気的に導電性あ
るいは電気的に非導電性で、電気的に導電性の接地面で
コートされた基板を含み得る。非導電性基板が採用され
た場合には電気的に導電的な接地面を採用しなければな
らず、接地面は導電層として作用する。導電性基板が採
用されたときには、基板は導電層として作用するが、導
電性接地面も任意に提供され得る。
配合のプロセス、および感光体の配合に使用された材料
に依存する。本発明に従う感光体は、電気的に導電性あ
るいは電気的に非導電性で、電気的に導電性の接地面で
コートされた基板を含み得る。非導電性基板が採用され
た場合には電気的に導電的な接地面を採用しなければな
らず、接地面は導電層として作用する。導電性基板が採
用されたときには、基板は導電層として作用するが、導
電性接地面も任意に提供され得る。
【0021】本発明による感光体はさらに電荷ブロッキ
ング層を含み得る。しかしながら、本発明による重要な
利点はブロッキング層に対する必要性は一般に除かれて
いることである。それにもかかわらず、ブロッキング層
が採用される場合には、それは、好ましくは、導電層の
上に配置される。多くの異なるタイプの層との関連で、
本明細書中で使われる“〜の上に”という語は、層が隣
接している場合に限定されないと理解されるべきである
。
ング層を含み得る。しかしながら、本発明による重要な
利点はブロッキング層に対する必要性は一般に除かれて
いることである。それにもかかわらず、ブロッキング層
が採用される場合には、それは、好ましくは、導電層の
上に配置される。多くの異なるタイプの層との関連で、
本明細書中で使われる“〜の上に”という語は、層が隣
接している場合に限定されないと理解されるべきである
。
【0022】本発明による感光体はさらに、電荷輸送層
と電荷発生層を含み、両者が導電層の上、およびブロッ
キング層があればその上に配置されている。上に述べた
ように、本発明に従ういくつかの実施熊様においては、
電荷発生層は導電層と電荷輸送層の間に配置し、他の実
施熊様においては、電荷輸送層は導電層と電荷発生層の
間に配置している。
と電荷発生層を含み、両者が導電層の上、およびブロッ
キング層があればその上に配置されている。上に述べた
ように、本発明に従ういくつかの実施熊様においては、
電荷発生層は導電層と電荷輸送層の間に配置し、他の実
施熊様においては、電荷輸送層は導電層と電荷発生層の
間に配置している。
【0023】本発明に従う実施熊様はさらに、オーバー
コーティング層の1個あるいは複数個を含み得て、もし
それが採用された場合には、図2ように電荷発生層の上
、あるいは図1のように電荷輸送層の上に配置される。 さらに、接着層がどの層の間、あるいは1個あるいはそ
れ以上の層の一部として提供され、そのような層の間の
適当な接着をもたらす。本明細書に採用された例におい
ては、接着層はブロッキング層と発生層の間に置かれて
いる。
コーティング層の1個あるいは複数個を含み得て、もし
それが採用された場合には、図2ように電荷発生層の上
、あるいは図1のように電荷輸送層の上に配置される。 さらに、接着層がどの層の間、あるいは1個あるいはそ
れ以上の層の一部として提供され、そのような層の間の
適当な接着をもたらす。本明細書に採用された例におい
ては、接着層はブロッキング層と発生層の間に置かれて
いる。
【0024】本発明はまた、フイルム形成バインダー、
光発生材料および上に説明したドーパントの群から選ん
だ少なくとも1個のドーパントを含む電荷発生層を提供
する。本発明はさらに、フイルム形成バインダー、電荷
輸送分子および上に説明したドーパントの群から選んだ
少なくとも1個のドーパントを含む電荷輸送層を提供す
る。
光発生材料および上に説明したドーパントの群から選ん
だ少なくとも1個のドーパントを含む電荷発生層を提供
する。本発明はさらに、フイルム形成バインダー、電荷
輸送分子および上に説明したドーパントの群から選んだ
少なくとも1個のドーパントを含む電荷輸送層を提供す
る。
【0025】本発明はまた、導電層の上に電荷発生層と
電荷輸送層をどの順序でも良く塗布することを含む感光
体の製造方法を提供する。電荷発生層あるいは電荷輸送
層(あるいは両者)のどちらかが上に揚げたドーパント
の群から選んだドーパントを含む。電荷発生層は好まし
くは、電荷発生フィルム形成バインダー、電荷発生フイ
ルム形成バインダーおよび光発生粒子のための溶媒、任
意に少なくとも1個のドーパントを含む電荷発生コーテ
ィング組成物を塗布することにより塗布される。電荷輸
送層は好ましくは、電荷輸送フイルム形成バインダー、
電荷輸送フィルム形成バインダーと電荷輸送分子のため
の溶媒、任意のドーパントを含む電荷輸送コーティング
組成物を塗布することにより塗布される。
電荷輸送層をどの順序でも良く塗布することを含む感光
体の製造方法を提供する。電荷発生層あるいは電荷輸送
層(あるいは両者)のどちらかが上に揚げたドーパント
の群から選んだドーパントを含む。電荷発生層は好まし
くは、電荷発生フィルム形成バインダー、電荷発生フイ
ルム形成バインダーおよび光発生粒子のための溶媒、任
意に少なくとも1個のドーパントを含む電荷発生コーテ
ィング組成物を塗布することにより塗布される。電荷輸
送層は好ましくは、電荷輸送フイルム形成バインダー、
電荷輸送フィルム形成バインダーと電荷輸送分子のため
の溶媒、任意のドーパントを含む電荷輸送コーティング
組成物を塗布することにより塗布される。
【0026】本発明に従う感光体は、(1)特に増大し
た電気的サイクルでのいくつかの印刷欠陥、例えば、微
細白色班点あるいは灰色班点の生長における減少;(2
)電荷受容の増大;(3)PIDC感度の減少;(4)
一定電流帯電下でのサイクルに伴うVddp の減衰(
すなわちサイクルダウン)における減少;(5)金属接
地面から感光体の残り部分への正孔注入に対する増大し
た障壁;および/あるいは(6)電荷発生層の底部にお
ける電気的涸渇層(electronic deple
tion layer)の生長の減少を達成する。感光
体における電気的涸渇層は、不純物の存在あるいは電気
的サイクルによって起きる。電子涸渇層(electr
on depletion layer)は電子電荷が
固定されたときに形成される。電場がないときに存在す
る電荷補償正孔は多かれ少なかれ自由状態にある。帯電
およびそれにより生じる涸渇領域を通じる電場の発生に
より、正孔がなくなり電子が残され電子涸渇層を形成す
る。
た電気的サイクルでのいくつかの印刷欠陥、例えば、微
細白色班点あるいは灰色班点の生長における減少;(2
)電荷受容の増大;(3)PIDC感度の減少;(4)
一定電流帯電下でのサイクルに伴うVddp の減衰(
すなわちサイクルダウン)における減少;(5)金属接
地面から感光体の残り部分への正孔注入に対する増大し
た障壁;および/あるいは(6)電荷発生層の底部にお
ける電気的涸渇層(electronic deple
tion layer)の生長の減少を達成する。感光
体における電気的涸渇層は、不純物の存在あるいは電気
的サイクルによって起きる。電子涸渇層(electr
on depletion layer)は電子電荷が
固定されたときに形成される。電場がないときに存在す
る電荷補償正孔は多かれ少なかれ自由状態にある。帯電
およびそれにより生じる涸渇領域を通じる電場の発生に
より、正孔がなくなり電子が残され電子涸渇層を形成す
る。
【0027】サイクルの間の時間より極めて長い休止は
正孔の電子の周囲での再形成を引起こす。かくてそのよ
うな休止の後の再帯電により、極めて低い電荷受容が観
測される。連続サイクルの間の時間が、極めて多くの正
孔の再形成を認めず、従って電荷受容における損失は連
続サイクルの間における程大きくはない。涸渇層の存在
は感光体の不安定性を増大させるのでその除去が望まし
い。
正孔の電子の周囲での再形成を引起こす。かくてそのよ
うな休止の後の再帯電により、極めて低い電荷受容が観
測される。連続サイクルの間の時間が、極めて多くの正
孔の再形成を認めず、従って電荷受容における損失は連
続サイクルの間における程大きくはない。涸渇層の存在
は感光体の不安定性を増大させるのでその除去が望まし
い。
【0028】電荷受容の増大は感光体上での電気的応力
の減少をもたらし、一定のVddp に対しては少ない
電荷で良く、かくて、感光体はそのサイクル寿命の間低
電場で作動できる。そのような低電場のもとでは感光体
に関連するちりめんじわあるいは微細白色班のような印
刷欠陥の有害な成長は起こりにくい。かくて増大した電
荷受容はサイクルの関数として、いくつかの印刷欠陥の
生長の減少を提供し、感光体寿命を増大させ、帯電制御
の必要性を除く。
の減少をもたらし、一定のVddp に対しては少ない
電荷で良く、かくて、感光体はそのサイクル寿命の間低
電場で作動できる。そのような低電場のもとでは感光体
に関連するちりめんじわあるいは微細白色班のような印
刷欠陥の有害な成長は起こりにくい。かくて増大した電
荷受容はサイクルの関数として、いくつかの印刷欠陥の
生長の減少を提供し、感光体寿命を増大させ、帯電制御
の必要性を除く。
【0029】PIDC感度における減少、すなわち、電
荷発生顔料の低速化したPIDC(遅い光応答)は高い
Vbg、背景電圧、およびVr 、残存電圧を提供する
。感光体PIDC仕様に合わせるためには、材料のバッ
チにおけるゆらぎがあるので、これらのバッチから作製
される感光体の感度を減少することが望ましい。減少し
たPIDC感度はまた電荷受容の増大とサイクル安定性
の増大をもたらす。
荷発生顔料の低速化したPIDC(遅い光応答)は高い
Vbg、背景電圧、およびVr 、残存電圧を提供する
。感光体PIDC仕様に合わせるためには、材料のバッ
チにおけるゆらぎがあるので、これらのバッチから作製
される感光体の感度を減少することが望ましい。減少し
たPIDC感度はまた電荷受容の増大とサイクル安定性
の増大をもたらす。
【0030】一定電流の帯電下でのサイクルによるVd
dp の減衰(すなわちサイクルダウン)における減少
はサイクル安定性を増大させ、印刷欠陥の生長を減少さ
せる。金属接地面から感光体の残りの部分への正孔注入
に対する増大した障壁は,接地面からの局所の高い正孔
注入を妨げ例えば、微細白色斑点の数を減少させること
により印刷欠陥の生長の減少を助ける。
dp の減衰(すなわちサイクルダウン)における減少
はサイクル安定性を増大させ、印刷欠陥の生長を減少さ
せる。金属接地面から感光体の残りの部分への正孔注入
に対する増大した障壁は,接地面からの局所の高い正孔
注入を妨げ例えば、微細白色斑点の数を減少させること
により印刷欠陥の生長の減少を助ける。
【0031】電荷発生層の底部における電気的涸渇層の
生長の減少はサイクルダウンを減少させる。また、微細
白色班点は感光体の酸性の局所領域から生じ得ると信じ
られている。本発明に従うドーピングはそのような領域
を中和し、それによって微細白色班点の形成を減少させ
る。
生長の減少はサイクルダウンを減少させる。また、微細
白色班点は感光体の酸性の局所領域から生じ得ると信じ
られている。本発明に従うドーピングはそのような領域
を中和し、それによって微細白色班点の形成を減少させ
る。
【0032】本発明に従うドーパントの提供は電荷発生
層中へのセレン顔料のナトリウムドーピングの必要性を
除去し、それによって多くの利点をもたらし得る。本発
明に従うドーピングは、離散的なセレン粒子をナトリウ
ムで(不均一的な仕方で)ドーピングする代わりに、全
コーティング溶液を良く分散した分子ドーパントで均一
にドーピングするより均一なドーピング方法を提供する
。結果として、本発明は光発生顔料のより均一な放電を
もたらす。本発明に従うドーパントは、ナトリウムード
ープしたセレンを用いて得られたものと対比し得る水準
まで微細白色班点の数の減少となるので、ナトリウムド
ーピングを除去し本発明のドーピングが有利になる微細
白色班点の形成に関して性能の損失がない。さらに、ナ
トリウムドーピングに対する本発明のドーパントの置換
は感光体の感度を減少させない。
層中へのセレン顔料のナトリウムドーピングの必要性を
除去し、それによって多くの利点をもたらし得る。本発
明に従うドーピングは、離散的なセレン粒子をナトリウ
ムで(不均一的な仕方で)ドーピングする代わりに、全
コーティング溶液を良く分散した分子ドーパントで均一
にドーピングするより均一なドーピング方法を提供する
。結果として、本発明は光発生顔料のより均一な放電を
もたらす。本発明に従うドーパントは、ナトリウムード
ープしたセレンを用いて得られたものと対比し得る水準
まで微細白色班点の数の減少となるので、ナトリウムド
ーピングを除去し本発明のドーピングが有利になる微細
白色班点の形成に関して性能の損失がない。さらに、ナ
トリウムドーピングに対する本発明のドーパントの置換
は感光体の感度を減少させない。
【0033】ナトリウムドーピングの除去により、感光
体はサイクルダウンの増大とともに迅速になる。アミン
のバックドーピングはかくて、より大きくなり、微細白
色班点のいくつかの非顔料関連の源を修正する。本発明
に従うドーパントを使用する場合にはナトリウムドーピ
ングを除去することが好ましい。そうでないと感光体が
受容できない程遅くなるので加えるドーパントの量は多
くなり得ない。本発明に従って十分なドーパントが加え
られると、電荷受容が増大し、疲労した暗減衰が減少す
る。かくて、一定の初期Vddp を得るために、少な
い電荷で良く、従って感光体を通じる電場は小さく、ち
りめんじわおよび微細白色班点のような感光体関連の欠
陥の生長の減少となる。
体はサイクルダウンの増大とともに迅速になる。アミン
のバックドーピングはかくて、より大きくなり、微細白
色班点のいくつかの非顔料関連の源を修正する。本発明
に従うドーパントを使用する場合にはナトリウムドーピ
ングを除去することが好ましい。そうでないと感光体が
受容できない程遅くなるので加えるドーパントの量は多
くなり得ない。本発明に従って十分なドーパントが加え
られると、電荷受容が増大し、疲労した暗減衰が減少す
る。かくて、一定の初期Vddp を得るために、少な
い電荷で良く、従って感光体を通じる電場は小さく、ち
りめんじわおよび微細白色班点のような感光体関連の欠
陥の生長の減少となる。
【0034】シランブロッキング層およびセレン顔料の
ナトリウムドーピングの両方の同時の除去は、本発明に
従うさらに高水準のドーパントを採用することを可能に
し、それによって微細白色班点のさらなる減少を可能に
する。トリエタノールアミン、あるいはヒドロキシル基
を含有する類似および関連化合物でのドーピングは、湿
気の増大とともに、電気的特性に対する望ましくない効
果を顕著に増大させる。特に、高湿度における残存電圧
は、湿気に対する感度の低い本発明に従うドーパント、
例えば、TMG、DAおよびHAよりも本発明に従うト
リエタノールアミンドーピングに関してより大きい。3
−アミノプロピルトリエトキシシランドーパントで、ケ
イ酸基の存在がアミンの塩基性効果を中和することが観
測された。結果として、感光体におけるこの分子の大き
い分子密度が所望の電気的効果を提供するために要求さ
れる。
ナトリウムドーピングの両方の同時の除去は、本発明に
従うさらに高水準のドーパントを採用することを可能に
し、それによって微細白色班点のさらなる減少を可能に
する。トリエタノールアミン、あるいはヒドロキシル基
を含有する類似および関連化合物でのドーピングは、湿
気の増大とともに、電気的特性に対する望ましくない効
果を顕著に増大させる。特に、高湿度における残存電圧
は、湿気に対する感度の低い本発明に従うドーパント、
例えば、TMG、DAおよびHAよりも本発明に従うト
リエタノールアミンドーピングに関してより大きい。3
−アミノプロピルトリエトキシシランドーパントで、ケ
イ酸基の存在がアミンの塩基性効果を中和することが観
測された。結果として、感光体におけるこの分子の大き
い分子密度が所望の電気的効果を提供するために要求さ
れる。
【0035】さらに本発明者は、感光体を作るために用
いる材料の変化が、しばしば材料の組合わせを導き、そ
の結果あまりに急速で大量にサイクルダウンする感光体
となることを認めた。本発明に従うドーピング技術の使
用はそのような欠点を修正、すなわち感度の高すぎる感
光体を作りだす材料パッケージのVdgを上昇させるこ
とができる。
いる材料の変化が、しばしば材料の組合わせを導き、そ
の結果あまりに急速で大量にサイクルダウンする感光体
となることを認めた。本発明に従うドーピング技術の使
用はそのような欠点を修正、すなわち感度の高すぎる感
光体を作りだす材料パッケージのVdgを上昇させるこ
とができる。
【0036】本発明者は、機械で塗布された一定量のT
MGドーパントを含む電荷発生コーティング組成物は電
荷発生層が手で塗布されたときより高いVbgを提供す
る感光体を作り出すことを観測した。所望の効果を得る
ために異なる作製技術は異なる水準のドーピングを要求
することが予測される。図3は本発明に従う感光体の一
つの実施熊様を説明している。図3の感光体は基板31
、導電性接地面32、電荷発生層33および電荷輸送層
34を含む。
MGドーパントを含む電荷発生コーティング組成物は電
荷発生層が手で塗布されたときより高いVbgを提供す
る感光体を作り出すことを観測した。所望の効果を得る
ために異なる作製技術は異なる水準のドーピングを要求
することが予測される。図3は本発明に従う感光体の一
つの実施熊様を説明している。図3の感光体は基板31
、導電性接地面32、電荷発生層33および電荷輸送層
34を含む。
【0037】図4は本発明に従う感光体の第2の実施態
様を説明している。図4の実施態様は基板41、導電性
接地面42、電荷輸送層43、電荷発生層44、と保護
およびブロッキングオーバーコーティング層45を含む
。以下は層、およびその形成の記述であり、本発明に従
う感光体に採用されている。他の配置もまた用いること
ができる。
様を説明している。図4の実施態様は基板41、導電性
接地面42、電荷輸送層43、電荷発生層44、と保護
およびブロッキングオーバーコーティング層45を含む
。以下は層、およびその形成の記述であり、本発明に従
う感光体に採用されている。他の配置もまた用いること
ができる。
【0038】本発明に従う感光体は好ましくは、第1に
基板を提供することにより製造される。基板は不透明あ
るいは実質的に透明であり得て、所望の機械的特性を持
つ多くの適当な材料のどれをも含み得る。基板は無機あ
るいは有機組成物のような電気的に非導電性の材料ある
いは電気的に導電性の材料を含む。非導電性材料が採用
されるならば、そのような非導電性材料の上に電気的に
導電性の接地面を提供する必要がある。もし導電性材料
が基板として使われるならば、別の接地面の層は必要で
はない。
基板を提供することにより製造される。基板は不透明あ
るいは実質的に透明であり得て、所望の機械的特性を持
つ多くの適当な材料のどれをも含み得る。基板は無機あ
るいは有機組成物のような電気的に非導電性の材料ある
いは電気的に導電性の材料を含む。非導電性材料が採用
されるならば、そのような非導電性材料の上に電気的に
導電性の接地面を提供する必要がある。もし導電性材料
が基板として使われるならば、別の接地面の層は必要で
はない。
【0039】基板は好ましくはフレキシブルであり、例
えば、シート、スクロール、エンドレスフレキシブルベ
ルト等のような多くの異なる形状のどれでも良い。好ま
しくは、基板はエンドレスフレキシブルベルトの形であ
る。本発明における感光体はまた、アルミニウムドラム
のような堅い不透明導電性基板の上にコートできる。そ
の場合には、感光体は前面から消去される。
えば、シート、スクロール、エンドレスフレキシブルベ
ルト等のような多くの異なる形状のどれでも良い。好ま
しくは、基板はエンドレスフレキシブルベルトの形であ
る。本発明における感光体はまた、アルミニウムドラム
のような堅い不透明導電性基板の上にコートできる。そ
の場合には、感光体は前面から消去される。
【0040】電気的に非導電的な材料としては、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタン
等を含む、この目的のために公知の種々の樹脂を採用で
きる。基板は好ましくは、イー.アイ.デュポンドネモ
アー社から入手可能なマイラー(Mylar)、アイシ
ーアイアメリカズ社から入手可能なメリネックス(Me
linex)、あるいはアメリカンヘキストコーポレー
ションから入手可能なホスタファン(Hostapha
n)として公知の商業的に入手可能な二軸延伸ポリエス
テルを含む。基板が含み得る他の材料としては、イー.
アイ.デュポンドネモアー社からテドラー(Tedle
r) として入手可能なポリビニルフッ化物、およびイ
ー.アイ.デュポンドネモアー社からカプトン(Kap
ton) として入手可能なポリイミドがある。感光体
はまた、導電性接地面が絶縁性プラスチックドラムの表
面上にコートされている場合に、そのドラム上にコート
することができる。
ステル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタン
等を含む、この目的のために公知の種々の樹脂を採用で
きる。基板は好ましくは、イー.アイ.デュポンドネモ
アー社から入手可能なマイラー(Mylar)、アイシ
ーアイアメリカズ社から入手可能なメリネックス(Me
linex)、あるいはアメリカンヘキストコーポレー
ションから入手可能なホスタファン(Hostapha
n)として公知の商業的に入手可能な二軸延伸ポリエス
テルを含む。基板が含み得る他の材料としては、イー.
アイ.デュポンドネモアー社からテドラー(Tedle
r) として入手可能なポリビニルフッ化物、およびイ
ー.アイ.デュポンドネモアー社からカプトン(Kap
ton) として入手可能なポリイミドがある。感光体
はまた、導電性接地面が絶縁性プラスチックドラムの表
面上にコートされている場合に、そのドラム上にコート
することができる。
【0041】導電性基板が採用される場合、適当な導電
性材料を用いることができる。例えば、導電性材料とし
ては、金属酸化物、硫化物、ケイ化物、第4級アンモニ
ウム塩組成物、ポリアセチレンのような導電性ポリマー
あるいはその熱分解および分子ドープ生成物、電荷移動
錯体、ポリフェニルシランおよびポリフェニルシランか
らの分子ドープ生成物を含むバインダー樹脂中の、アル
ミニウム、チタン、ニッケル、クロム、真ちゅう、金、
ステンレススチール、カーボンブラック、グラファイト
等のような金属フレーク、粉末あるいはファイバーがあ
る。導電性プラスチックドラムとともに、アルミニウム
のような材料から作られる導電性金属ドラムが使用でき
る。
性材料を用いることができる。例えば、導電性材料とし
ては、金属酸化物、硫化物、ケイ化物、第4級アンモニ
ウム塩組成物、ポリアセチレンのような導電性ポリマー
あるいはその熱分解および分子ドープ生成物、電荷移動
錯体、ポリフェニルシランおよびポリフェニルシランか
らの分子ドープ生成物を含むバインダー樹脂中の、アル
ミニウム、チタン、ニッケル、クロム、真ちゅう、金、
ステンレススチール、カーボンブラック、グラファイト
等のような金属フレーク、粉末あるいはファイバーがあ
る。導電性プラスチックドラムとともに、アルミニウム
のような材料から作られる導電性金属ドラムが使用でき
る。
【0042】基板の好ましい厚さは、所望の機械的性能
および経済的考慮を含む多くの因子に依存する。基板の
厚さは典型的には約65ミクロン〜約150ミクロンの
範囲にあり、好ましくは、小直径のローラー、例えば1
9ミリメートル直径のローラーのまわりで回転したとき
最適なフレキシビリティーと最小の誘起表面屈曲応力と
なるために約75ミクロン〜約125ミクロンである。 フレキシブルベルトのための基板は最終の光導電性デバ
イスに逆効果がない限り、相当の厚さ、例えば、200
ミクロン以上であり、あるいは最小の厚さ、例えば50
ミクロン以下であり得る。アルミニウムドラムを用いた
場合には、厚さは必要な剛性を提供するに十分なだけな
ければならない。
および経済的考慮を含む多くの因子に依存する。基板の
厚さは典型的には約65ミクロン〜約150ミクロンの
範囲にあり、好ましくは、小直径のローラー、例えば1
9ミリメートル直径のローラーのまわりで回転したとき
最適なフレキシビリティーと最小の誘起表面屈曲応力と
なるために約75ミクロン〜約125ミクロンである。 フレキシブルベルトのための基板は最終の光導電性デバ
イスに逆効果がない限り、相当の厚さ、例えば、200
ミクロン以上であり、あるいは最小の厚さ、例えば50
ミクロン以下であり得る。アルミニウムドラムを用いた
場合には、厚さは必要な剛性を提供するに十分なだけな
ければならない。
【0043】層が塗布される基板の表面はそのような層
のより強い接着を促進するために好ましくは洗浄される
。洗浄は基板層の表面をプラズマ放電、イオン衝撃等に
暴露することによりなされる。溶媒洗浄のような他の方
法も用いることができる。電気的導電性接地面を採用し
た場合には、基板の上に配置される。電気的導電性接地
面にふさわしい材料としては、アルミニウム、ジルコニ
ウム、ニオブ、タンタル、バナジウム、ハフニウム、チ
タン、ニッケル、ステンレススチール、クロム、タング
ステン、モリブデン、銅等、およびそられの混合物およ
び合金があり、アルミニウム、チタンおよびジルコニウ
ムが好ましい。
のより強い接着を促進するために好ましくは洗浄される
。洗浄は基板層の表面をプラズマ放電、イオン衝撃等に
暴露することによりなされる。溶媒洗浄のような他の方
法も用いることができる。電気的導電性接地面を採用し
た場合には、基板の上に配置される。電気的導電性接地
面にふさわしい材料としては、アルミニウム、ジルコニ
ウム、ニオブ、タンタル、バナジウム、ハフニウム、チ
タン、ニッケル、ステンレススチール、クロム、タング
ステン、モリブデン、銅等、およびそられの混合物およ
び合金があり、アルミニウム、チタンおよびジルコニウ
ムが好ましい。
【0044】接地面は、溶液コーティング、蒸気コーテ
ィングおよびスパッタリングのような公知のコーティン
グ技術で塗布できる。電気的導電性接地面を塗布する好
ましい方法は真空蒸着である。他の適当な方法も用いる
ことができる。接地面の好ましい厚さは、電子写真導電
性部材に所望される光学的透過度およびフレキシビリテ
ィーに依存して、実質的に広い範囲にある。従って、フ
レキシブル感光性画像形成デバイスに対しては、導電層
の厚さは好ましくは約20オングストローム〜約750
オングストロームであり、電気的導電性、フレキシビリ
ティーおよび光透過の最適な組合わせのために、さらに
好ましくは約50オングストローム〜約200オングス
トロームである。しかしながら、接地面は不透明で良く
前面消去を採用できる。
ィングおよびスパッタリングのような公知のコーティン
グ技術で塗布できる。電気的導電性接地面を塗布する好
ましい方法は真空蒸着である。他の適当な方法も用いる
ことができる。接地面の好ましい厚さは、電子写真導電
性部材に所望される光学的透過度およびフレキシビリテ
ィーに依存して、実質的に広い範囲にある。従って、フ
レキシブル感光性画像形成デバイスに対しては、導電層
の厚さは好ましくは約20オングストローム〜約750
オングストロームであり、電気的導電性、フレキシビリ
ティーおよび光透過の最適な組合わせのために、さらに
好ましくは約50オングストローム〜約200オングス
トロームである。しかしながら、接地面は不透明で良く
前面消去を採用できる。
【0045】上に論じたように、ブロッキング層は導電
層の上に配置される。図3に示したもののようないくつ
かのデバイスにおいて、本発明に従う電荷発生層のドー
ピングは、典型的にはシランで作られるブロッキング層
がもはや必要でない程度に、導電性接地面と電荷発生層
の間の界面における正孔注入障壁を増大させる。ブロッ
キング層の除去は複数の利点を持つ。第1に、多くのコ
ーティングステップの減少となる。第2に、シランブロ
ッキング層の場合には、ブロッキング層の除去はちりめ
んじわの現象を避け、シランブロッキング層に伴なう微
細白色斑点の形成を減少させる。さらに、本発明に従う
ドーピングとシランブロッキング層の除去はPIDC感
度の減少に帰着する。シラン層の除去とドーピング法の
使用は、もしシラン層が存在した場合には材料と作製技
術に依存して起こり得るPIDC感度における減少をも
たらす。(ドーピングから導かれる所望の改良は常にP
IDC感度における可能な減少に対して加重評価しなけ
ればならない。)それにもかかわらず、もし望むならば
、本発明においても電荷ブロッキング層を採用し、導電
層の上に塗布することができる。図2の逆転感光体構造
に関しては、正孔ブロッキング層25は、帯電表面から
の正孔が感光体を通して接地面に移動し、かくて潜像を
破壊するのを妨げる。負に帯電した感光体に関しては、
障壁を形成し、導電層から反対側の光導電層への正孔注
入を妨げることのできる適当な正孔ブロッキング層を利
用することができる。正孔ブロッキング層としては、ポ
リビニルブチラール、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポ
リシロキサン、ポリアミド、ポリウレタン等のポリマー
がある。正孔ブロッキング層はまた、米国特許第4,3
38,387、第4,286,033、第4,291,
110号公報に開示されているトリメトキシシリルプロ
ピレンジアミン、加水分解トリメトキシシリルプロピル
エチレンジアミン、N−β−(アミノエチル)−γ−ア
ミノ−プロピルトリメトキシシラン、イソプロピル4−
アミノ−ベンゼンスルホニル、ジ(ドデシルベンゼンス
ルホニル)チタネート、イソプロピルジ(4−アミノベ
ンゾイル)イソステアロイルチタネート、イソプロピル
ジ(4−アミノ−ベンゾイル)イソステアロイルチタネ
ート、イソプロピルトリアントラニルチタネート、イソ
プロピルトリ(N,N−ジメチル−エチル−アミノ)チ
タネート、チタン−4−アミノベンゼンスルホネートオ
キシアセテート、チタン4−アミノベンゾエートイソス
テアレートオキシアセテート、〔H2N(CH2)4
〕CH3Si(OCH3)2、(ガンマーアミノ−ブチ
ル)メチルジエトキシ−シラン、および〔H2N(CH
2)3 〕CH3Si(OCH3)2および(γ−アミ
ノプロピル)メチルジエトキシシランのような窒素含有
シロキサンあるいは窒素含有チタン化合物を含み得る。 他の適当な材料も使用できる。好ましい正孔ブロッキン
グ層は、加水分解シランあるいは加水分解シランの混合
物と金属接地面層の酸化表面との間の反応生成物を含む
。酸化表面は接地の後に空気に暴露されたとき大部分の
金属接地層の外側表面上に本来的に形成される。この結
合は、低相対湿度における電気的安定性を増大させる。 加水分解シランは一般化学式
層の上に配置される。図3に示したもののようないくつ
かのデバイスにおいて、本発明に従う電荷発生層のドー
ピングは、典型的にはシランで作られるブロッキング層
がもはや必要でない程度に、導電性接地面と電荷発生層
の間の界面における正孔注入障壁を増大させる。ブロッ
キング層の除去は複数の利点を持つ。第1に、多くのコ
ーティングステップの減少となる。第2に、シランブロ
ッキング層の場合には、ブロッキング層の除去はちりめ
んじわの現象を避け、シランブロッキング層に伴なう微
細白色斑点の形成を減少させる。さらに、本発明に従う
ドーピングとシランブロッキング層の除去はPIDC感
度の減少に帰着する。シラン層の除去とドーピング法の
使用は、もしシラン層が存在した場合には材料と作製技
術に依存して起こり得るPIDC感度における減少をも
たらす。(ドーピングから導かれる所望の改良は常にP
IDC感度における可能な減少に対して加重評価しなけ
ればならない。)それにもかかわらず、もし望むならば
、本発明においても電荷ブロッキング層を採用し、導電
層の上に塗布することができる。図2の逆転感光体構造
に関しては、正孔ブロッキング層25は、帯電表面から
の正孔が感光体を通して接地面に移動し、かくて潜像を
破壊するのを妨げる。負に帯電した感光体に関しては、
障壁を形成し、導電層から反対側の光導電層への正孔注
入を妨げることのできる適当な正孔ブロッキング層を利
用することができる。正孔ブロッキング層としては、ポ
リビニルブチラール、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポ
リシロキサン、ポリアミド、ポリウレタン等のポリマー
がある。正孔ブロッキング層はまた、米国特許第4,3
38,387、第4,286,033、第4,291,
110号公報に開示されているトリメトキシシリルプロ
ピレンジアミン、加水分解トリメトキシシリルプロピル
エチレンジアミン、N−β−(アミノエチル)−γ−ア
ミノ−プロピルトリメトキシシラン、イソプロピル4−
アミノ−ベンゼンスルホニル、ジ(ドデシルベンゼンス
ルホニル)チタネート、イソプロピルジ(4−アミノベ
ンゾイル)イソステアロイルチタネート、イソプロピル
ジ(4−アミノ−ベンゾイル)イソステアロイルチタネ
ート、イソプロピルトリアントラニルチタネート、イソ
プロピルトリ(N,N−ジメチル−エチル−アミノ)チ
タネート、チタン−4−アミノベンゼンスルホネートオ
キシアセテート、チタン4−アミノベンゾエートイソス
テアレートオキシアセテート、〔H2N(CH2)4
〕CH3Si(OCH3)2、(ガンマーアミノ−ブチ
ル)メチルジエトキシ−シラン、および〔H2N(CH
2)3 〕CH3Si(OCH3)2および(γ−アミ
ノプロピル)メチルジエトキシシランのような窒素含有
シロキサンあるいは窒素含有チタン化合物を含み得る。 他の適当な材料も使用できる。好ましい正孔ブロッキン
グ層は、加水分解シランあるいは加水分解シランの混合
物と金属接地面層の酸化表面との間の反応生成物を含む
。酸化表面は接地の後に空気に暴露されたとき大部分の
金属接地層の外側表面上に本来的に形成される。この結
合は、低相対湿度における電気的安定性を増大させる。 加水分解シランは一般化学式
【0046】
【化1】
【0047】あるいは、
【0048】
【化2】
【0049】を持っている。ここにR1 は1〜20個
の炭素原子を含むアルキリデン基であり、R2 、R3
およびR7 はH、1〜3個の炭素原子を含む低アル
キル基およびフェニル基から成る群から独立に選ばれ、
Xは酸および酸塩のアニオンであり、nは1〜4、そし
てyは1〜4である。他の適当な材料も使用し得る。シ
ランブロッキング層が存在してもしなくてもドーピング
が同様の有利な効果を持つという観点から、本発明には
ブロッキング層は必要ではないが、いくつかの実施態様
では存在する。これらの実施態様においては、ブロッキ
ング層は連続で約0.5ミクロン以下の厚さを持つべき
である。何故ならより大きな厚みでは望ましくない高い
残留電位となるからである。露光ステップ後の電荷中和
が促進され最適の電気性能が達成されるため、約0.0
05ミクロン〜約0.3ミクロンの正孔ブロッキング層
が好ましい。最適の電気的動作のためには約0.03ミ
クロン〜約0.06ミクロンの厚さが好ましい。ブロッ
キング層は、スプレー、浸漬コーティング、ワイヤワウ
ンドロッドコーティング、ドローバーコーティング、グ
ラビアコーティング、シルクスクリーニング、エアーナ
イフコーティング、ロールコーティング、真空蒸着、化
学処理等の適当な通常技術で塗布できる。薄層を得る便
宜のために、ブロッキング層は好ましくは希釈溶液の形
で塗布され、コーティングの接着の後、溶媒は真空、加
熱等の通常技術によって除去される。一般に、ブロッキ
ング層材料の溶媒に対する重量化約0.05:100〜
約0.5:100がスブレーコーティングに十分である
。コーティング固体に対する溶媒の比はコーティング方
法に依存して変化する。
の炭素原子を含むアルキリデン基であり、R2 、R3
およびR7 はH、1〜3個の炭素原子を含む低アル
キル基およびフェニル基から成る群から独立に選ばれ、
Xは酸および酸塩のアニオンであり、nは1〜4、そし
てyは1〜4である。他の適当な材料も使用し得る。シ
ランブロッキング層が存在してもしなくてもドーピング
が同様の有利な効果を持つという観点から、本発明には
ブロッキング層は必要ではないが、いくつかの実施態様
では存在する。これらの実施態様においては、ブロッキ
ング層は連続で約0.5ミクロン以下の厚さを持つべき
である。何故ならより大きな厚みでは望ましくない高い
残留電位となるからである。露光ステップ後の電荷中和
が促進され最適の電気性能が達成されるため、約0.0
05ミクロン〜約0.3ミクロンの正孔ブロッキング層
が好ましい。最適の電気的動作のためには約0.03ミ
クロン〜約0.06ミクロンの厚さが好ましい。ブロッ
キング層は、スプレー、浸漬コーティング、ワイヤワウ
ンドロッドコーティング、ドローバーコーティング、グ
ラビアコーティング、シルクスクリーニング、エアーナ
イフコーティング、ロールコーティング、真空蒸着、化
学処理等の適当な通常技術で塗布できる。薄層を得る便
宜のために、ブロッキング層は好ましくは希釈溶液の形
で塗布され、コーティングの接着の後、溶媒は真空、加
熱等の通常技術によって除去される。一般に、ブロッキ
ング層材料の溶媒に対する重量化約0.05:100〜
約0.5:100がスブレーコーティングに十分である
。コーティング固体に対する溶媒の比はコーティング方
法に依存して変化する。
【0050】本発明に従う電荷発生層は電荷発生フィル
ム形成ポリマーと光発生粒子を含む。本発明に従ういく
つかの実施態様における電荷発生層はさらに、塩基性電
子供与あるいはプロトン受容基を含有する有機分子を含
む1個あるいはそれ以上のドーパントを含む。適当な電
荷発生フィルム形成ポリマーには、例えば、米国特許第
3,121,006号公報に述べられているものがある
。フィルム形成ポリマーは好ましくは電荷発生層が塗布
される層に良く接着し、好ましくはどの隣接接着層(も
しそれが採用されるならば)をも溶解する溶媒中に溶解
し、かつ好ましくはどの隣接接着層(もしそれが採用さ
れるならば)のコポリエステルと混和しポリマーブレン
ドゾーンを形成する。例えば、適当なフィルム形成材料
としては、バイテル(Vitel)PE−100(グッ
ドイヤーから入手可能)およびレキサン(Lexan)
141およびレキサン145(ゼネラルエレクトリック
から入手可能)の商品名で入手できるような、ポリビニ
ルカルバゾール(PVK)、フェノキシ樹脂、ポリスチ
レン、ポリカーボネート樹脂がある。
ム形成ポリマーと光発生粒子を含む。本発明に従ういく
つかの実施態様における電荷発生層はさらに、塩基性電
子供与あるいはプロトン受容基を含有する有機分子を含
む1個あるいはそれ以上のドーパントを含む。適当な電
荷発生フィルム形成ポリマーには、例えば、米国特許第
3,121,006号公報に述べられているものがある
。フィルム形成ポリマーは好ましくは電荷発生層が塗布
される層に良く接着し、好ましくはどの隣接接着層(も
しそれが採用されるならば)をも溶解する溶媒中に溶解
し、かつ好ましくはどの隣接接着層(もしそれが採用さ
れるならば)のコポリエステルと混和しポリマーブレン
ドゾーンを形成する。例えば、適当なフィルム形成材料
としては、バイテル(Vitel)PE−100(グッ
ドイヤーから入手可能)およびレキサン(Lexan)
141およびレキサン145(ゼネラルエレクトリック
から入手可能)の商品名で入手できるような、ポリビニ
ルカルバゾール(PVK)、フェノキシ樹脂、ポリスチ
レン、ポリカーボネート樹脂がある。
【0051】光発生粒子としての使用にふさわしい材料
の例としては、例えば、ペリレンペリノンのアミドを含
む粒子、セレンII−VIあるいはテルルIII −V
化合物のカルコゲン、アモルファスセレン、三方晶系セ
レン、および例えばセレン−テルル、セレン−テルル−
ヒ素、セレンヒ化物のようなセレン合金、米国特許第3
,357,989号公報に述べられた無金属フタロシア
ニンのX−形のようなフタロシアニン顔料、バナジルフ
タロシアニンおよび銅フタロシアニンのような金属フタ
ロシアニン、ジブロモアンタントロン、スクアリリウム
、イー.アイ.デュポンドネモアー社からモナストラル
(Monastral)レッド、モナストラルバイオレ
ットおよびモナストラルレッドYの商品名のもとに入手
可能なキナクリドン、バット(Vat)オレンジおよび
バットオレンジ3の商品名のもとに入手可能であるよう
なジブロモアンタントロン顔料、ベンズイミダゾールペ
リレン、米国特許第3,442,781号公報に開示さ
れている置換2,4−ジアミノ−トリアジン、アライド
ケミカルコーポレーションからインドファースト(In
dofasd) ダブルスカーレット、インドファース
トバイオレットレーキB、インドファーストブリリアン
トスカーレットおよびインドファーストオレンジの商品
名のもとに入手可能な多核芳香族キノン等がある。
の例としては、例えば、ペリレンペリノンのアミドを含
む粒子、セレンII−VIあるいはテルルIII −V
化合物のカルコゲン、アモルファスセレン、三方晶系セ
レン、および例えばセレン−テルル、セレン−テルル−
ヒ素、セレンヒ化物のようなセレン合金、米国特許第3
,357,989号公報に述べられた無金属フタロシア
ニンのX−形のようなフタロシアニン顔料、バナジルフ
タロシアニンおよび銅フタロシアニンのような金属フタ
ロシアニン、ジブロモアンタントロン、スクアリリウム
、イー.アイ.デュポンドネモアー社からモナストラル
(Monastral)レッド、モナストラルバイオレ
ットおよびモナストラルレッドYの商品名のもとに入手
可能なキナクリドン、バット(Vat)オレンジおよび
バットオレンジ3の商品名のもとに入手可能であるよう
なジブロモアンタントロン顔料、ベンズイミダゾールペ
リレン、米国特許第3,442,781号公報に開示さ
れている置換2,4−ジアミノ−トリアジン、アライド
ケミカルコーポレーションからインドファースト(In
dofasd) ダブルスカーレット、インドファース
トバイオレットレーキB、インドファーストブリリアン
トスカーレットおよびインドファーストオレンジの商品
名のもとに入手可能な多核芳香族キノン等がある。
【0052】光導電層が光発生層の特性を増大あるいは
減少するところでは多重−光発生層組成物を利用するこ
とができる。この型の形状の例は米国特許第4,415
,639号公報に述べられている。技術的に公知の他の
適当な光発生材料も、もし望むならば、使用できる。バ
ナジルフタロシアニン、チタニルフタロシアニン、無金
属フタロシアニン、ベンズイミダゾールぺリレン、アモ
ルファスセレン、三方晶系セレン、セレン−テルル、セ
レン−テルル−ヒ素、セレンヒ化物のようなセレン合金
等およびそれらの混合物を含む電荷発生層は、白色光に
対する感度の故に特に好ましい。バナジルフタロシアニ
ン、チタニルフタロシアニン、無金属フタロシアニンお
よびテルル合金もまた、これらの材料赤外光に敏感であ
るという付加的な利点を提供する故に好ましい。電荷発
生層中での使用のための好ましい光導電性材料は、ベン
ズイミダゾールペリレン、三方晶系セレンおよびバナジ
ルフタロシアニンである。
減少するところでは多重−光発生層組成物を利用するこ
とができる。この型の形状の例は米国特許第4,415
,639号公報に述べられている。技術的に公知の他の
適当な光発生材料も、もし望むならば、使用できる。バ
ナジルフタロシアニン、チタニルフタロシアニン、無金
属フタロシアニン、ベンズイミダゾールぺリレン、アモ
ルファスセレン、三方晶系セレン、セレン−テルル、セ
レン−テルル−ヒ素、セレンヒ化物のようなセレン合金
等およびそれらの混合物を含む電荷発生層は、白色光に
対する感度の故に特に好ましい。バナジルフタロシアニ
ン、チタニルフタロシアニン、無金属フタロシアニンお
よびテルル合金もまた、これらの材料赤外光に敏感であ
るという付加的な利点を提供する故に好ましい。電荷発
生層中での使用のための好ましい光導電性材料は、ベン
ズイミダゾールペリレン、三方晶系セレンおよびバナジ
ルフタロシアニンである。
【0053】本発明に従ういくつかの実施態様における
光発生層は導電層(あるいは基板上の何らかの電荷ブロ
ッキング層)の上に塗布され、電荷輸送層が光発生層の
上に塗布される。本発明に従う他の実施態様においては
、電荷発生層が電荷輸送の上に塗布される。電荷発生層
は好ましくは電荷発生フィルム形成バインダーを適当な
溶媒中に提供することにより電荷発生コーティング組成
物を形成し、次に光発生粒子を加えることで塗布される
。バインダー、光発生粒子と溶媒を初期に混合するよう
な他の方法も除外されない。電荷発生層が1個ないしそ
れ以上のドーパントを含む実施態様に関しては、ドーパ
ントは好ましくは溶媒に加え、次にフィルム形成バイン
ダーおよび光発生粒子に加える。
光発生層は導電層(あるいは基板上の何らかの電荷ブロ
ッキング層)の上に塗布され、電荷輸送層が光発生層の
上に塗布される。本発明に従う他の実施態様においては
、電荷発生層が電荷輸送の上に塗布される。電荷発生層
は好ましくは電荷発生フィルム形成バインダーを適当な
溶媒中に提供することにより電荷発生コーティング組成
物を形成し、次に光発生粒子を加えることで塗布される
。バインダー、光発生粒子と溶媒を初期に混合するよう
な他の方法も除外されない。電荷発生層が1個ないしそ
れ以上のドーパントを含む実施態様に関しては、ドーパ
ントは好ましくは溶媒に加え、次にフィルム形成バイン
ダーおよび光発生粒子に加える。
【0054】本発明に従う電荷発生コーティング組成物
中での使用のための適当な溶媒としては、テトラヒドロ
フラン、シクロヘキサノン、塩化メチレン、1,1,1
−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、
トリクロロエチレン、トルエン等およびそれらの混合物
がある。他の適当な溶媒も用いることができる。溶媒の
混合物は蒸発範囲を制御するために利用される。例えば
、テトラヒドロフランのトルエンに対する比が重量で約
90:10〜約10:90で満足すべき結果が達成でき
る。
中での使用のための適当な溶媒としては、テトラヒドロ
フラン、シクロヘキサノン、塩化メチレン、1,1,1
−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、
トリクロロエチレン、トルエン等およびそれらの混合物
がある。他の適当な溶媒も用いることができる。溶媒の
混合物は蒸発範囲を制御するために利用される。例えば
、テトラヒドロフランのトルエンに対する比が重量で約
90:10〜約10:90で満足すべき結果が達成でき
る。
【0055】一般に、光発生顔料、バインダーポリマー
および溶媒の組合わせは電荷発生コーティング組成物中
で光発生顔料の均一な分散を形成しなければならない。 典型的な組合わせには、ポリビニルカルバゾール、三方
晶系セレンおよびテトラヒドロフラン;フェノキシ樹脂
、三方晶系セレンおよびトルエン;およびポリカーボネ
ート樹脂、バナジルフタロシアニンおよび塩化メチレン
がある。電荷発生フィルム形成バインダーのための溶媒
は電荷発生層中に利用されるバインダーを溶解し、電荷
発生層中に用いられる光発生顔料粒子を分散することが
できなければならない。ドーパントが電荷発生コーティ
ング組成物中に提供されるときには、それは同様に溶媒
中で溶解しなければならない。
および溶媒の組合わせは電荷発生コーティング組成物中
で光発生顔料の均一な分散を形成しなければならない。 典型的な組合わせには、ポリビニルカルバゾール、三方
晶系セレンおよびテトラヒドロフラン;フェノキシ樹脂
、三方晶系セレンおよびトルエン;およびポリカーボネ
ート樹脂、バナジルフタロシアニンおよび塩化メチレン
がある。電荷発生フィルム形成バインダーのための溶媒
は電荷発生層中に利用されるバインダーを溶解し、電荷
発生層中に用いられる光発生顔料粒子を分散することが
できなければならない。ドーパントが電荷発生コーティ
ング組成物中に提供されるときには、それは同様に溶媒
中で溶解しなければならない。
【0056】電荷発生コーティング組成物中での光発生
粒子の濃度は一般に、約5〜約90体積%の範囲内にあ
り、好ましくは約7.5〜約30体積%、さらに好まし
くは約7.5〜約20体積%である。電荷発生コーティ
ング組成物中のフィルム形成バインダーの濃度は一般に
約95〜約10体積%にあり、好ましくは約92.5〜
約70体積%、さらに好ましくは約92.5〜約80体
積%である。電荷発生コーティング組成物中の溶媒の濃
度は一般に約2〜約50体積%であり、好ましくは約3
〜約20体積、さらに好ましくは約3〜約10体積%で
ある。
粒子の濃度は一般に、約5〜約90体積%の範囲内にあ
り、好ましくは約7.5〜約30体積%、さらに好まし
くは約7.5〜約20体積%である。電荷発生コーティ
ング組成物中のフィルム形成バインダーの濃度は一般に
約95〜約10体積%にあり、好ましくは約92.5〜
約70体積%、さらに好ましくは約92.5〜約80体
積%である。電荷発生コーティング組成物中の溶媒の濃
度は一般に約2〜約50体積%であり、好ましくは約3
〜約20体積、さらに好ましくは約3〜約10体積%で
ある。
【0057】ドーパントが電荷発生コーティング組成物
中に含まれるときには、ドーパントの濃度は溶媒の重量
を基準として一般に約0〜約1000重量ppm の範
囲にあり、好ましくは溶媒の重量を基準として約0〜約
50重量ppm 、さらに好ましくは溶媒の重量を基準
として約0〜約25重量ppmである。実例としては、
前述の体積量のドーパントを、以下の発生コーティング
溶液中のTHF−トルエン溶媒に加えることである:固
体 7.5体積% 三方晶系セレン 25体積% mTBD 67.5体積% PVD 溶 媒 50体積% THF 50体積% トルエン 混合して固形分6体積%の溶液を作る。
中に含まれるときには、ドーパントの濃度は溶媒の重量
を基準として一般に約0〜約1000重量ppm の範
囲にあり、好ましくは溶媒の重量を基準として約0〜約
50重量ppm 、さらに好ましくは溶媒の重量を基準
として約0〜約25重量ppmである。実例としては、
前述の体積量のドーパントを、以下の発生コーティング
溶液中のTHF−トルエン溶媒に加えることである:固
体 7.5体積% 三方晶系セレン 25体積% mTBD 67.5体積% PVD 溶 媒 50体積% THF 50体積% トルエン 混合して固形分6体積%の溶液を作る。
【0058】この例はバード(Bird) バーコータ
ー上に作られるコーティングに応用できる。機械コート
した発生体に対しては、固形分は8体積%まで増大でき
、スプレーコートした発生体に対しては固形分は0.5
〜5体積%まで減少できる。顔料の溶媒に対する比にお
ける差異を認めるために溶媒中のドーパント濃度を調整
する必要がある。
ー上に作られるコーティングに応用できる。機械コート
した発生体に対しては、固形分は8体積%まで増大でき
、スプレーコートした発生体に対しては固形分は0.5
〜5体積%まで減少できる。顔料の溶媒に対する比にお
ける差異を認めるために溶媒中のドーパント濃度を調整
する必要がある。
【0059】電荷発生コーティング組成物は、例えば、
手で、スプレー、浸漬コーティング、ドローバーコーテ
ィング、グラビアコーティング、シルクスクリーニング
、エアナイフコーティング、真空蒸着、化学処理、ロー
ルコーティング、ワイヤワウンドロッドコーティング等
の適当な技術で塗布される。次に、電荷発生コーティン
グ組成物を乾燥し溶媒を除去する。接着したコーティン
グの乾燥は、オーブン乾燥、赤外放射乾燥、空気乾燥等
のような適当な通常技術で実行され、コーティングの塗
布に利用された実質的にすべての溶媒を除去する。
手で、スプレー、浸漬コーティング、ドローバーコーテ
ィング、グラビアコーティング、シルクスクリーニング
、エアナイフコーティング、真空蒸着、化学処理、ロー
ルコーティング、ワイヤワウンドロッドコーティング等
の適当な技術で塗布される。次に、電荷発生コーティン
グ組成物を乾燥し溶媒を除去する。接着したコーティン
グの乾燥は、オーブン乾燥、赤外放射乾燥、空気乾燥等
のような適当な通常技術で実行され、コーティングの塗
布に利用された実質的にすべての溶媒を除去する。
【0060】本発明の光発生層は一般に約0.1ミクロ
ン〜約5.0ミクロンの範囲内の厚さであり、好ましく
は約0.3ミクロン〜約3.0ミクロンである。本発明
の目的が達成される限り、この範囲外の厚さを選ぶこと
ができる。バインダー含量が多い組成物程、一般に、有
効な光発生のために厚い層を必要とする。本発明は、発
生体粒子濃度が変化することによりドーパントの量が変
化することを除いて、バインダー濃度によって影響され
ない。
ン〜約5.0ミクロンの範囲内の厚さであり、好ましく
は約0.3ミクロン〜約3.0ミクロンである。本発明
の目的が達成される限り、この範囲外の厚さを選ぶこと
ができる。バインダー含量が多い組成物程、一般に、有
効な光発生のために厚い層を必要とする。本発明は、発
生体粒子濃度が変化することによりドーパントの量が変
化することを除いて、バインダー濃度によって影響され
ない。
【0061】本発明に従う電荷輸送層は電荷輸送フィル
ム形成ポリマーと電荷輸送分子を含む。本発明に従うい
くつかの実施態様の電荷輸送層はさらに、塩基性電子供
与あるいはプロトン受容基を含有する有機分子を含む1
個あるいはそれ以上のドーパントを含む。適当な電荷輸
送フィルム形成ポリマーとしては、ポリカーボネート樹
脂、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル、ポリアリ
ーレート、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリスル
ホン、ポリスチレン等がある。好ましい電荷輸送フィル
ム形成バインダーは、約20,000〜約120,00
0の、さらに好ましくは約50,000〜約100,0
00の分子量を持つポリカーボネート樹脂である。最も
好ましい材料は、ゼネラルエレクトリックカンパニーか
らレキサン(Lexan)145として入手可能な、約
35,000〜約40,000の分子量を持つポリ(4
,4′−ジプロピリデン−ジフェニレンカーボネート)
;ゼネラルエレクトリックカンパニーからレキサン14
1として入手可能な、約40,000〜約45,000
の分子量を持つポリ(4,4′−イソプロピリデン−ジ
フェニレンカーボネート);ファーベンファブリケンバ
イエルエー.ジー.からマクロロン(Makrolon
) として入手可能な、約50,000〜約100,0
00の分子量を持つポリカーボネート樹脂;モーベイケ
ミカルカンパニーからメルロン(Merlon) とし
て入手可能な、約20,000〜約50,000の分子
量を持つポリカーボネート樹脂;ポリエーテルカーボネ
ート;および4,4′−シクロヘキシリデンジフェニル
ポリカーボネートである。他のポリマーの組合わせある
いはそれらの混合物も除外されない。
ム形成ポリマーと電荷輸送分子を含む。本発明に従うい
くつかの実施態様の電荷輸送層はさらに、塩基性電子供
与あるいはプロトン受容基を含有する有機分子を含む1
個あるいはそれ以上のドーパントを含む。適当な電荷輸
送フィルム形成ポリマーとしては、ポリカーボネート樹
脂、ポリビニルカルバゾール、ポリエステル、ポリアリ
ーレート、ポリアクリレート、ポリエーテル、ポリスル
ホン、ポリスチレン等がある。好ましい電荷輸送フィル
ム形成バインダーは、約20,000〜約120,00
0の、さらに好ましくは約50,000〜約100,0
00の分子量を持つポリカーボネート樹脂である。最も
好ましい材料は、ゼネラルエレクトリックカンパニーか
らレキサン(Lexan)145として入手可能な、約
35,000〜約40,000の分子量を持つポリ(4
,4′−ジプロピリデン−ジフェニレンカーボネート)
;ゼネラルエレクトリックカンパニーからレキサン14
1として入手可能な、約40,000〜約45,000
の分子量を持つポリ(4,4′−イソプロピリデン−ジ
フェニレンカーボネート);ファーベンファブリケンバ
イエルエー.ジー.からマクロロン(Makrolon
) として入手可能な、約50,000〜約100,0
00の分子量を持つポリカーボネート樹脂;モーベイケ
ミカルカンパニーからメルロン(Merlon) とし
て入手可能な、約20,000〜約50,000の分子
量を持つポリカーボネート樹脂;ポリエーテルカーボネ
ート;および4,4′−シクロヘキシリデンジフェニル
ポリカーボネートである。他のポリマーの組合わせある
いはそれらの混合物も除外されない。
【0062】電荷輸送材料は一般に、電荷発生層からの
光発生正孔の注入を支持し、表面電荷を選択的に放電す
るために、これらの正孔を層を通じて輸送することを可
能にすることのできる適当な透明な有機ポリマーあるい
は非ポリマー材料である。図2の逆転感光体構造におい
ては、電荷発生層からの光発生正孔は電荷輸送層を通じ
て導電性接地面へ移動する。これらの正孔は、光励起の
程度に依存して、接地面中の電子を選択的に放電する。 光発生正孔が去った後、発生体中に残った電子は表面上
の正電荷からのポテンシャルを中和する。このことは、
感光体を横切る潜在ポテンシャル像の形成を引起こす。
光発生正孔の注入を支持し、表面電荷を選択的に放電す
るために、これらの正孔を層を通じて輸送することを可
能にすることのできる適当な透明な有機ポリマーあるい
は非ポリマー材料である。図2の逆転感光体構造におい
ては、電荷発生層からの光発生正孔は電荷輸送層を通じ
て導電性接地面へ移動する。これらの正孔は、光励起の
程度に依存して、接地面中の電子を選択的に放電する。 光発生正孔が去った後、発生体中に残った電子は表面上
の正電荷からのポテンシャルを中和する。このことは、
感光体を横切る潜在ポテンシャル像の形成を引起こす。
【0063】電荷発生層が電荷輸送層と基板の間にある
(図3に描いたような)実施態様においては、電荷輸送
層は輸送正孔に役立つだけでなく、電荷発生層を摩耗あ
るいは化学攻撃から守り、それによって感光体画像形成
部材の動作寿命を延ばす。電荷輸送層は、ゼログラフィ
ーで有用な波長の光、例えば400オングストローム〜
9000オングストローム、に露光したとき、あったと
しても、無視し得る放電しか示すべきでない。電荷輸送
層は好ましくは、光導電体が用いられる領域の放射に対
して実質的に透明である。透明基板が採用される場合、
画像露光および/あるいは消去は基板を通して果される
。そのような実施態様においては、電荷輸送材料は使用
している波長領域において光を透過できる必要はない。
(図3に描いたような)実施態様においては、電荷輸送
層は輸送正孔に役立つだけでなく、電荷発生層を摩耗あ
るいは化学攻撃から守り、それによって感光体画像形成
部材の動作寿命を延ばす。電荷輸送層は、ゼログラフィ
ーで有用な波長の光、例えば400オングストローム〜
9000オングストローム、に露光したとき、あったと
しても、無視し得る放電しか示すべきでない。電荷輸送
層は好ましくは、光導電体が用いられる領域の放射に対
して実質的に透明である。透明基板が採用される場合、
画像露光および/あるいは消去は基板を通して果される
。そのような実施態様においては、電荷輸送材料は使用
している波長領域において光を透過できる必要はない。
【0064】電荷輸送材料は好ましくは、化学式:
【0
065】
065】
【化3】
【0066】の少なくとも1個の芳香族アミン化合物を
含む。ここにR1 およびR2 は各々、置換あるいは
未置換フェニル基、ナフチル基、およびポリフェニル基
から成る群から選ばれる芳香族基であり、R3 は置換
あるいは未置換アリール基、1〜18個の炭素原子を持
つアルキル基および3〜18個の炭素原子を持つ環状脂
肪族基から成る群から選ばれる。置換基はNO2 基、
CN基等のような基を持つべきでない。この構造式で表
わされる典型的な芳香族アミン化合物としては:
含む。ここにR1 およびR2 は各々、置換あるいは
未置換フェニル基、ナフチル基、およびポリフェニル基
から成る群から選ばれる芳香族基であり、R3 は置換
あるいは未置換アリール基、1〜18個の炭素原子を持
つアルキル基および3〜18個の炭素原子を持つ環状脂
肪族基から成る群から選ばれる。置換基はNO2 基、
CN基等のような基を持つべきでない。この構造式で表
わされる典型的な芳香族アミン化合物としては:
【00
67】
67】
【化4】
【0068】のようなトリフェニルアミン
【0069】
【化5】
【0070】のようなビスおよびポリトリアリールアミ
ン
ン
【0071】
【化6】
【0072】のようなビスアリールアミンエーテル
【0
073】
073】
【化7】
【0074】のようなビスアルキル−アリールアミンが
ある。好ましい芳香族アミン化合物は化学式:
ある。好ましい芳香族アミン化合物は化学式:
【007
5】
5】
【化8】
【0076】を持つ。ここにR1 およびR2 は上に
定義されたものであり、R4 は置換あるいは未置換ビ
フェニル基、ジフェニルエーテル基、1〜18個の炭素
原子を持つアルキル基、および3〜12個の炭素原子を
持つ環状脂肪族基から成る群から選ばれる。置換基はN
O2 基、CN基等の基を持つべきでない。上の構造式
で表わされる電荷輸送芳香族アミンの例としては、トリ
フェニルメタン、ビス(4−ジエチルアミン−2−メチ
ルフェニル)−フェニルメタン;4,4′−ビス(ジエ
チルアミノ)−2,2′−ジメチルトリフェニルメタン
;N,N′−ビス(アルキルフェニル)−(1,1′−
ビフェニル)−4,4′−ジアミンで、ここにアルキル
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル等
のもの;N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3′
−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,
4′−ジアミン等があり、不活性樹脂バインダー中に分
散している。他の正孔輸送材料も除外されない。
定義されたものであり、R4 は置換あるいは未置換ビ
フェニル基、ジフェニルエーテル基、1〜18個の炭素
原子を持つアルキル基、および3〜12個の炭素原子を
持つ環状脂肪族基から成る群から選ばれる。置換基はN
O2 基、CN基等の基を持つべきでない。上の構造式
で表わされる電荷輸送芳香族アミンの例としては、トリ
フェニルメタン、ビス(4−ジエチルアミン−2−メチ
ルフェニル)−フェニルメタン;4,4′−ビス(ジエ
チルアミノ)−2,2′−ジメチルトリフェニルメタン
;N,N′−ビス(アルキルフェニル)−(1,1′−
ビフェニル)−4,4′−ジアミンで、ここにアルキル
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル等
のもの;N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3′
−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,
4′−ジアミン等があり、不活性樹脂バインダー中に分
散している。他の正孔輸送材料も除外されない。
【0077】適当で、電荷発生層との関連において好ま
しいドーパントの記述は、電荷輸送層中に提供されるド
ーパントについても適用できる。電荷輸送層の電荷輸送
分子の濃度は一般に、立方センチメートルあたり、約3
.9×1020〜約11.7×1020分子の範囲にあ
り、好ましくは、立方センチメートルあたり約5.4×
1020〜約9.36×1020分子であり、最も好ま
しくは立方センチメートルあたり約6.24×1020
〜約7.8×1020分子である。ドーパントが電子輸
送層の中に提供される場合、ドーパントの濃度は一般に
、コーティング溶媒の約1〜約1000重量ppm の
範囲にあり、好ましくは、コーティング溶媒の約1〜約
50重量ppm であり、さらに好ましくは、コーティ
ング溶媒の約1〜約25重量ppm である。
しいドーパントの記述は、電荷輸送層中に提供されるド
ーパントについても適用できる。電荷輸送層の電荷輸送
分子の濃度は一般に、立方センチメートルあたり、約3
.9×1020〜約11.7×1020分子の範囲にあ
り、好ましくは、立方センチメートルあたり約5.4×
1020〜約9.36×1020分子であり、最も好ま
しくは立方センチメートルあたり約6.24×1020
〜約7.8×1020分子である。ドーパントが電子輸
送層の中に提供される場合、ドーパントの濃度は一般に
、コーティング溶媒の約1〜約1000重量ppm の
範囲にあり、好ましくは、コーティング溶媒の約1〜約
50重量ppm であり、さらに好ましくは、コーティ
ング溶媒の約1〜約25重量ppm である。
【0078】本発明のいくつかの実施態様における電荷
輸送層、例えば、図3に示されているもの、が乾燥した
電荷発生層の上に塗布される。本発明の他の実施態様、
例えば図4に示されているもの、においては導電層およ
びいくらかのブロッキング層の上に塗布される。電荷輸
送層は好ましくは、適当な溶媒中にフィルム形成バイン
ダーを提供することにより電荷輸送コーティング組成物
を形成し次に電荷輸送分子を加えることにより塗布され
る。しかしながら、この混合順序に接着する必要はない
。電荷発生層が1個あるいはそれ以上のドーパントを含
む実施態様に関しては、ドーパントは好ましくは、フィ
ルム形成バインダーおよび電荷輸送分子の添加の前に溶
媒に加えられる。
輸送層、例えば、図3に示されているもの、が乾燥した
電荷発生層の上に塗布される。本発明の他の実施態様、
例えば図4に示されているもの、においては導電層およ
びいくらかのブロッキング層の上に塗布される。電荷輸
送層は好ましくは、適当な溶媒中にフィルム形成バイン
ダーを提供することにより電荷輸送コーティング組成物
を形成し次に電荷輸送分子を加えることにより塗布され
る。しかしながら、この混合順序に接着する必要はない
。電荷発生層が1個あるいはそれ以上のドーパントを含
む実施態様に関しては、ドーパントは好ましくは、フィ
ルム形成バインダーおよび電荷輸送分子の添加の前に溶
媒に加えられる。
【0079】電荷輸送コーティング組成物中での使用に
適当な溶媒には一般に電荷発生コーティング組成物中で
の使用に適しているとして上に述べたようなものがある
。一般に、電荷輸送分子、バインダーポリマーおよび溶
媒の組合わせは電荷輸送コーティング組成物中で電荷輸
送分子が均一の分散を作らなければならない。電荷輸送
フィルム形成バインダーのための溶媒は電荷輸送層中に
用いられたバインダーを溶解し、電荷輸送層中の電荷輸
送分子を溶解することができなくてはならない。ドーパ
ントが電荷発生コーティング組成物中に提供される場合
には、それは同様に溶媒中に溶解しなければならない。
適当な溶媒には一般に電荷発生コーティング組成物中で
の使用に適しているとして上に述べたようなものがある
。一般に、電荷輸送分子、バインダーポリマーおよび溶
媒の組合わせは電荷輸送コーティング組成物中で電荷輸
送分子が均一の分散を作らなければならない。電荷輸送
フィルム形成バインダーのための溶媒は電荷輸送層中に
用いられたバインダーを溶解し、電荷輸送層中の電荷輸
送分子を溶解することができなくてはならない。ドーパ
ントが電荷発生コーティング組成物中に提供される場合
には、それは同様に溶媒中に溶解しなければならない。
【0080】電荷輸送コーティング組成物中の電荷輸送
分子の濃度は一般に約25〜約75体積%の範囲内にあ
り、好ましくは約35〜約60体積%、さらに好ましく
は約40〜約50体積%である。電荷輸送コーティング
組成物中の電荷輸送フィルム形成バインダーの濃度は一
般に約75〜約25体積%の範囲内にあり、好ましくは
約65〜約40体積%、さらに好ましくは約60〜約5
0体積%である。電荷輸送コーティング組成物中の溶媒
の濃度は一般に約1〜約95体積%の範囲内であり、好
ましくは約70〜約95体積%、さらに好ましくは約8
0〜約95体積%である。
分子の濃度は一般に約25〜約75体積%の範囲内にあ
り、好ましくは約35〜約60体積%、さらに好ましく
は約40〜約50体積%である。電荷輸送コーティング
組成物中の電荷輸送フィルム形成バインダーの濃度は一
般に約75〜約25体積%の範囲内にあり、好ましくは
約65〜約40体積%、さらに好ましくは約60〜約5
0体積%である。電荷輸送コーティング組成物中の溶媒
の濃度は一般に約1〜約95体積%の範囲内であり、好
ましくは約70〜約95体積%、さらに好ましくは約8
0〜約95体積%である。
【0081】ドーパントが電荷輸送コーティング組成物
中に提供される場合には、ドーパントの濃度は一般に溶
媒の重量に基づいて約1〜約1000重量ppm の範
囲内にあり、好ましくは、溶媒の重量に基づいて約1〜
約50重量ppm であり、さらに好ましくは、溶媒の
重量に基づいて約1〜約25重量ppm である。 輸送層コーティング溶液の例は: 固形物: 50重量% mTBD 50重量% マクロロン(Makrolon)溶
媒: 塩化メチレン 混合して固形物15重量%の溶液を作る。
中に提供される場合には、ドーパントの濃度は一般に溶
媒の重量に基づいて約1〜約1000重量ppm の範
囲内にあり、好ましくは、溶媒の重量に基づいて約1〜
約50重量ppm であり、さらに好ましくは、溶媒の
重量に基づいて約1〜約25重量ppm である。 輸送層コーティング溶液の例は: 固形物: 50重量% mTBD 50重量% マクロロン(Makrolon)溶
媒: 塩化メチレン 混合して固形物15重量%の溶液を作る。
【0082】ドーパントを溶媒の重量ppm で加える
。上の例はバード(Bird) バーコーティング用で
あり、固形物15重量%を含む。スプレーコーティング
溶液は固形物5〜10%を含む。従って、コーティング
溶媒中でのドーパントレベルは、ドーパントの固形物に
対する比を同一に保つために調整する必要がある。
。上の例はバード(Bird) バーコーティング用で
あり、固形物15重量%を含む。スプレーコーティング
溶液は固形物5〜10%を含む。従って、コーティング
溶媒中でのドーパントレベルは、ドーパントの固形物に
対する比を同一に保つために調整する必要がある。
【0083】一つの好ましいドーパントはTMGで、コ
ーティング溶液溶媒の重量ppm で加えられる。電荷
輸送コーティング組成物は、例えば、手で、スプレー、
浸漬コーティング、ドローバーコーティング、グラビア
コーティング、シルクスクリーニング、エアーナイフコ
ーティング、真空蒸着、化学処理、ロールコーティング
、ワイヤワウンドロッドコーティング等の適当な技術で
塗布される。次に、電荷輸送コーティング組成物を乾燥
し溶媒を除去する。接着したコーティングの乾燥は、オ
ーブン乾燥、赤外放射乾燥、空気乾燥等の適当な通常技
術で実行し、コーティングを塗布するのに利用した実質
的にすべての溶媒を除去する。
ーティング溶液溶媒の重量ppm で加えられる。電荷
輸送コーティング組成物は、例えば、手で、スプレー、
浸漬コーティング、ドローバーコーティング、グラビア
コーティング、シルクスクリーニング、エアーナイフコ
ーティング、真空蒸着、化学処理、ロールコーティング
、ワイヤワウンドロッドコーティング等の適当な技術で
塗布される。次に、電荷輸送コーティング組成物を乾燥
し溶媒を除去する。接着したコーティングの乾燥は、オ
ーブン乾燥、赤外放射乾燥、空気乾燥等の適当な通常技
術で実行し、コーティングを塗布するのに利用した実質
的にすべての溶媒を除去する。
【0084】電荷輸送層の厚さは好ましくは約10ミク
ロン〜約50ミクロンの範囲にあり、さらに好ましくは
約20〜約35ミクロンである。接着層は、必要に応じ
、本発明に従う感光体のどの層の間にも提供され、隣接
層の接着を確かなものにする。代替的にあるいは付加的
に、接着性材料が接着すべき層の一つあるいは両者の中
にとり込まれ得る。そのような任意の接着層は好ましく
は、約0.001ミクロン〜約0.2ミクロンの間の厚
さを持つ。そのような接着層は、接着材料を適当な溶媒
に溶解し、手で、スプレー、浸漬コーティング、ドロー
バーコーティング、グラビアコーティング、シルクスク
リーニング、エアーナイフコーティング、真空蒸着、化
学処理、ロールコーティング、ワイヤワウンドロッドコ
ーティング等により塗布し、乾燥して溶媒を除去するこ
とにより塗布される。
ロン〜約50ミクロンの範囲にあり、さらに好ましくは
約20〜約35ミクロンである。接着層は、必要に応じ
、本発明に従う感光体のどの層の間にも提供され、隣接
層の接着を確かなものにする。代替的にあるいは付加的
に、接着性材料が接着すべき層の一つあるいは両者の中
にとり込まれ得る。そのような任意の接着層は好ましく
は、約0.001ミクロン〜約0.2ミクロンの間の厚
さを持つ。そのような接着層は、接着材料を適当な溶媒
に溶解し、手で、スプレー、浸漬コーティング、ドロー
バーコーティング、グラビアコーティング、シルクスク
リーニング、エアーナイフコーティング、真空蒸着、化
学処理、ロールコーティング、ワイヤワウンドロッドコ
ーティング等により塗布し、乾燥して溶媒を除去するこ
とにより塗布される。
【0085】適当な接着剤としては、例えば、ポリエス
テル、デュポン49,000(イー.アイ.デュポンド
ネモアー社から入手可能)、バイテルPE−100(グ
ッドイヤーラバーアンドタイヤ社から入手可能)、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタ
ン、ポリメチルメタクリレート等のようなフィルム形成
ポリマーがある。本発明は接着層によって影響を受けな
い。
テル、デュポン49,000(イー.アイ.デュポンド
ネモアー社から入手可能)、バイテルPE−100(グ
ッドイヤーラバーアンドタイヤ社から入手可能)、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタ
ン、ポリメチルメタクリレート等のようなフィルム形成
ポリマーがある。本発明は接着層によって影響を受けな
い。
【0086】電気的に絶縁あるいはわずかに半−導体的
な有機ポリマーあるいは無機ポリマーを含む任意のアン
チ・カール層が提供される得る。アンチ・カール層は平
滑性および/あるいは摩耗抵抗を提供する。アンチ・カ
ール層は、画像形成層と反対側の、基板の裏側に形成さ
れる。アンチ・カール層はフィルム形成樹脂および接着
促進ポリエステル添加剤を含む。フィルム形成樹脂の例
としては、ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリ(4
,4′−イソプロピリデンジフェニルカーボネート)、
4,4′−シクロヘキシリデンジフェニルポリカーボネ
ート等がある。添加剤として用いられる典型的な接着促
進剤としては、49,000(デュポンドネモアー社か
ら入手可能)、バイテルPE−100、バイテルPE−
200、バイテルPE−307(グッドイヤーから入手
可能)等がある。通常、約1〜約15重量%の接着促進
剤がフィルム形成樹脂添加のために選ばれる。アンチ・
カール層の厚さは一般に約3ミクロン〜約35ミクロン
の範囲内にあり、好ましくは約14ミクロンである。
な有機ポリマーあるいは無機ポリマーを含む任意のアン
チ・カール層が提供される得る。アンチ・カール層は平
滑性および/あるいは摩耗抵抗を提供する。アンチ・カ
ール層は、画像形成層と反対側の、基板の裏側に形成さ
れる。アンチ・カール層はフィルム形成樹脂および接着
促進ポリエステル添加剤を含む。フィルム形成樹脂の例
としては、ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリ(4
,4′−イソプロピリデンジフェニルカーボネート)、
4,4′−シクロヘキシリデンジフェニルポリカーボネ
ート等がある。添加剤として用いられる典型的な接着促
進剤としては、49,000(デュポンドネモアー社か
ら入手可能)、バイテルPE−100、バイテルPE−
200、バイテルPE−307(グッドイヤーから入手
可能)等がある。通常、約1〜約15重量%の接着促進
剤がフィルム形成樹脂添加のために選ばれる。アンチ・
カール層の厚さは一般に約3ミクロン〜約35ミクロン
の範囲内にあり、好ましくは約14ミクロンである。
【0087】電気的に絶縁あるいはわずかに半導体的な
有機ポリマーあるいは無機ポリマーを含む任意のオーバ
ーコーティング層が画像形成層の上に提供され得る。そ
のような保護オーバーコーティング層は好ましくは、電
荷輸送化合物でドープしたフィルム形成バインダーを含
む。本発明のオーバーコーティング層中に適当なフィル
ム形成不活性樹脂バインダーが採用され得る。例えば、
フィルム形成バインダーはポリカーボネート、ポリカル
バゾール、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリスルホ
ン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、
およびポリアクリレートのような多くの樹脂のどれであ
っても良い。オーバーコーティング層中に用いられる樹
脂バインダーは、電荷輸送層中に用いられる樹脂バイン
ダーと同一であっても異なっても良い。バインダー樹脂
は、約2×105 psi より大きいヤング率、10
%より小さい破断伸長、150℃より高いガラス遷移温
度を持たねばならない。バインダーはさらにバインダー
のブレンドであり得る。好ましいポリマー性フィルム形
成バインダーとしては、ファーベンファブリケンバイエ
ルエー.ジー.から入手可能の約50,000〜約10
0,000の分子量を持つポリカーボネート樹脂である
マクロロン(Makrolon) 、ミツビシケミカル
ズから入手可能の4,4′−シクロヘキシリデンジフェ
ニルポリカーボネート、ゼネラルエレクトリックカンパ
ニーから入手可能の高分子レキサン(Lexan)13
5、ユニオンカーバイドから入手可能なアーデル(Ar
del)ポリアクリレートD−100、ファーベンファ
ブリケンバイエルエー.ジー.から入手可能のマクロロ
ンとグッドイヤータイヤアンドラバーカンパニーから入
手可能のコポリエステルバイテル(Vitel)PE−
100あるいはバイテルPE−200とのポリマーブレ
ンドがある。ブレンドした組成物中では、約1重量%〜
約10重量%の範囲のバイテルコポリエステルが好まし
く、さらに好ましくは約3重量%〜約7重量%である。 オーバーコートを通しての正孔輸送能力を提供するため
には、上述のバインダー樹脂あるいは樹脂ブレンドは少
なくとも5重量%の電荷輸送化合物でドープされなけれ
ばならない。オーバーコート中の樹脂として使用可能な
他のポリマーとしてはセラニース(Celanese)
からのデュレル(Durel)ポリアリーレート、ゼ
ネラルエレクトリックカンパニーからのポリカーボネー
トコポリマーレキサン(Lexan)3250、レキサ
ンPPC4501、およびレキサンPPC4701およ
びダウ(Dow)からのカリブル(Calibre)が
ある。
有機ポリマーあるいは無機ポリマーを含む任意のオーバ
ーコーティング層が画像形成層の上に提供され得る。そ
のような保護オーバーコーティング層は好ましくは、電
荷輸送化合物でドープしたフィルム形成バインダーを含
む。本発明のオーバーコーティング層中に適当なフィル
ム形成不活性樹脂バインダーが採用され得る。例えば、
フィルム形成バインダーはポリカーボネート、ポリカル
バゾール、ポリアリレート、ポリスチレン、ポリスルホ
ン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルイミド、
およびポリアクリレートのような多くの樹脂のどれであ
っても良い。オーバーコーティング層中に用いられる樹
脂バインダーは、電荷輸送層中に用いられる樹脂バイン
ダーと同一であっても異なっても良い。バインダー樹脂
は、約2×105 psi より大きいヤング率、10
%より小さい破断伸長、150℃より高いガラス遷移温
度を持たねばならない。バインダーはさらにバインダー
のブレンドであり得る。好ましいポリマー性フィルム形
成バインダーとしては、ファーベンファブリケンバイエ
ルエー.ジー.から入手可能の約50,000〜約10
0,000の分子量を持つポリカーボネート樹脂である
マクロロン(Makrolon) 、ミツビシケミカル
ズから入手可能の4,4′−シクロヘキシリデンジフェ
ニルポリカーボネート、ゼネラルエレクトリックカンパ
ニーから入手可能の高分子レキサン(Lexan)13
5、ユニオンカーバイドから入手可能なアーデル(Ar
del)ポリアクリレートD−100、ファーベンファ
ブリケンバイエルエー.ジー.から入手可能のマクロロ
ンとグッドイヤータイヤアンドラバーカンパニーから入
手可能のコポリエステルバイテル(Vitel)PE−
100あるいはバイテルPE−200とのポリマーブレ
ンドがある。ブレンドした組成物中では、約1重量%〜
約10重量%の範囲のバイテルコポリエステルが好まし
く、さらに好ましくは約3重量%〜約7重量%である。 オーバーコートを通しての正孔輸送能力を提供するため
には、上述のバインダー樹脂あるいは樹脂ブレンドは少
なくとも5重量%の電荷輸送化合物でドープされなけれ
ばならない。オーバーコート中の樹脂として使用可能な
他のポリマーとしてはセラニース(Celanese)
からのデュレル(Durel)ポリアリーレート、ゼ
ネラルエレクトリックカンパニーからのポリカーボネー
トコポリマーレキサン(Lexan)3250、レキサ
ンPPC4501、およびレキサンPPC4701およ
びダウ(Dow)からのカリブル(Calibre)が
ある。
【0088】カルバゾールポリマーのような固有の正孔
輸送特性を持つポリマー性材料を、電荷輸送化合物のド
ーピングを必要とせずに感光体オーバーコートとして使
用し得る。これらのカルバゾールは単体であるいはフィ
ルム形成ポリマーバインダーと少なくとも30重量%の
カルバゾールポリマーのブレンドとして使用し得る。興
味あるカルバゾールポリマーは以下のようなものである
:
輸送特性を持つポリマー性材料を、電荷輸送化合物のド
ーピングを必要とせずに感光体オーバーコートとして使
用し得る。これらのカルバゾールは単体であるいはフィ
ルム形成ポリマーバインダーと少なくとも30重量%の
カルバゾールポリマーのブレンドとして使用し得る。興
味あるカルバゾールポリマーは以下のようなものである
:
【0089】
【化9】
【0090】これらの正孔輸送ポリマーはまた、オーバ
ーコート層に電荷輸送化合物をドーピングすることを必
要とせずに、マクロロン(Makrolon)のような
他のフィルム形成オーバーコート樹脂と、約40重量%
〜約60重量%の範囲でブレンドして用いることができ
る。例えば、60重量%のポリビニルカルバゾール(構
造A)と40重量%のマクロロンを含む3.5ミクロン
の厚さのオーバーコーティング層は、電荷輸送化合物の
浸出/結晶化および鉱物油に一定暴露の後に起きる、静
止−屈曲電荷輸送層クラッキングに対して十分な抵抗を
持っている。
ーコート層に電荷輸送化合物をドーピングすることを必
要とせずに、マクロロン(Makrolon)のような
他のフィルム形成オーバーコート樹脂と、約40重量%
〜約60重量%の範囲でブレンドして用いることができ
る。例えば、60重量%のポリビニルカルバゾール(構
造A)と40重量%のマクロロンを含む3.5ミクロン
の厚さのオーバーコーティング層は、電荷輸送化合物の
浸出/結晶化および鉱物油に一定暴露の後に起きる、静
止−屈曲電荷輸送層クラッキングに対して十分な抵抗を
持っている。
【0091】オーバーコーティング層のドープに用いら
れる電荷輸送分子は、米国特許第4,786,570号
公報に述べられているような電荷輸送層中に採用される
多くの公知の電荷輸送分子のうちのどれでも良い。電荷
輸送分子は、電荷輸送層中に存在する電荷輸送化合物と
同一でも異なっていても良い。オーバーコートドーピン
グには、電荷輸送層に用いられたのと同一の電荷輸送分
子を使用することが好ましい。電荷輸送分子としては、
電荷輸送層に関して上に述べたどの分子でも良く、好ま
しくは以下に示す化合物である:
れる電荷輸送分子は、米国特許第4,786,570号
公報に述べられているような電荷輸送層中に採用される
多くの公知の電荷輸送分子のうちのどれでも良い。電荷
輸送分子は、電荷輸送層中に存在する電荷輸送化合物と
同一でも異なっていても良い。オーバーコートドーピン
グには、電荷輸送層に用いられたのと同一の電荷輸送分
子を使用することが好ましい。電荷輸送分子としては、
電荷輸送層に関して上に述べたどの分子でも良く、好ま
しくは以下に示す化合物である:
【0092】
【化10】
【0093】ここにXは1〜約4個の炭素原子を持つア
ルキル基および塩素から成る郡から選ばれる、他の適当
な輸送分子も除外されない。好ましくは、本発明のオー
バーコーティング層の樹脂は約3重量%〜約10重量%
の電荷輸送分子でドープされ、さらに好ましくは、約3
重量%〜約7重量%である。10重量%以上の電荷輸送
分子のドーピングは結晶化、浸出、および応力クラッキ
ングをもたらす。3重量%以下のドーピングはオーバコ
ーティングの電荷輸送能力を消去し、感光体の機能とし
て受容し難くする。
ルキル基および塩素から成る郡から選ばれる、他の適当
な輸送分子も除外されない。好ましくは、本発明のオー
バーコーティング層の樹脂は約3重量%〜約10重量%
の電荷輸送分子でドープされ、さらに好ましくは、約3
重量%〜約7重量%である。10重量%以上の電荷輸送
分子のドーピングは結晶化、浸出、および応力クラッキ
ングをもたらす。3重量%以下のドーピングはオーバコ
ーティングの電荷輸送能力を消去し、感光体の機能とし
て受容し難くする。
【0094】オーバーコーティング層は適当な通常技術
で製造され、数多くの塗布方法のどれかで塗布される。 典型的な塗布方法としては、例えば、ハンドコーティン
グ、スプレーコーティング、ウエブコーティング等があ
る。接着コーティングの乾燥は、オーブン乾燥、赤外放
射乾燥、空気乾燥等の適当な通常技術で実行される。約
3ミクロン〜約7ミクロンのオーバーコーティングが、
電荷輸送分子の浸出、結晶化および電荷輸送層のクラッ
キングを阻止するのに有効である。好ましくは約3ミク
ロン〜約5ミクロンの厚さを持つ層が採用され得る。
で製造され、数多くの塗布方法のどれかで塗布される。 典型的な塗布方法としては、例えば、ハンドコーティン
グ、スプレーコーティング、ウエブコーティング等があ
る。接着コーティングの乾燥は、オーブン乾燥、赤外放
射乾燥、空気乾燥等の適当な通常技術で実行される。約
3ミクロン〜約7ミクロンのオーバーコーティングが、
電荷輸送分子の浸出、結晶化および電荷輸送層のクラッ
キングを阻止するのに有効である。好ましくは約3ミク
ロン〜約5ミクロンの厚さを持つ層が採用され得る。
【0095】任意のグラウンドストリップが電荷輸送層
に隣接して、画像形成部材の外側端に提供される。米国
特許第4,664,995号公報を見よ。グランドスト
リップは通常ベルトには必要であるが、導電性ドラムお
よび他の導電性基板には必要でない。グラウンドストリ
ップ(もし採用されるならば)は電子写真プロセス間、
グラウンディングデバイス(示されていない)とのグラ
ウンディング接触を提供するために電荷輸送層とともに
共押出しされる。グラウンドストリップはフィルム形成
ポリマーバインダーと電気的に導電性の粒子を含む。セ
ルロースを導電性粒子の分散に使用し得る。適当な電気
的に導電的な粒子を電気的に導電性のグラウンドストリ
ップ層中に使用し得る。グラウンドストリップは、米国
特許第4,664,995号公報中に列挙されたものを
含む材料を含み得る。典型的な電気的に導電性の粒子と
しては、カーボンブラック、グラファイト、銅、銀、金
、ニッケル、タンタル、クロム、ジルコニウム、バナジ
ウム、ニオブ、インジウム、スズ酸化物等がある。電気
的に導電性の粒子は適当な形状を持ち得る。典型的な形
状としては、不定形、グラニュール状、球状、楕円形、
立方形、フレーク、フィラメント等がある。好ましくは
、電気的導電性粒子は、電気的に導電性のグラウンドス
トリップ層が過剰の不規則外表面を持つことを避けるた
めに、電気的に導電性のグラウンドストリップ層の厚み
よりも小さい粒径を持つ。約10ミクロンより小さい平
均粒径は一般に、乾燥グラウンドストリップ層の外表面
における電気的に導電性粒子の過剰な隆起を避け、乾燥
グラウンドストリップ層のマトリックスを通じて粒子の
相対的に均一な分散を確保する。グラウンドストリップ
中に使われるべき導電性粒子の濃度は、利用した特定の
導電性粒子の伝導度のような因子に依存する。
に隣接して、画像形成部材の外側端に提供される。米国
特許第4,664,995号公報を見よ。グランドスト
リップは通常ベルトには必要であるが、導電性ドラムお
よび他の導電性基板には必要でない。グラウンドストリ
ップ(もし採用されるならば)は電子写真プロセス間、
グラウンディングデバイス(示されていない)とのグラ
ウンディング接触を提供するために電荷輸送層とともに
共押出しされる。グラウンドストリップはフィルム形成
ポリマーバインダーと電気的に導電性の粒子を含む。セ
ルロースを導電性粒子の分散に使用し得る。適当な電気
的に導電的な粒子を電気的に導電性のグラウンドストリ
ップ層中に使用し得る。グラウンドストリップは、米国
特許第4,664,995号公報中に列挙されたものを
含む材料を含み得る。典型的な電気的に導電性の粒子と
しては、カーボンブラック、グラファイト、銅、銀、金
、ニッケル、タンタル、クロム、ジルコニウム、バナジ
ウム、ニオブ、インジウム、スズ酸化物等がある。電気
的に導電性の粒子は適当な形状を持ち得る。典型的な形
状としては、不定形、グラニュール状、球状、楕円形、
立方形、フレーク、フィラメント等がある。好ましくは
、電気的導電性粒子は、電気的に導電性のグラウンドス
トリップ層が過剰の不規則外表面を持つことを避けるた
めに、電気的に導電性のグラウンドストリップ層の厚み
よりも小さい粒径を持つ。約10ミクロンより小さい平
均粒径は一般に、乾燥グラウンドストリップ層の外表面
における電気的に導電性粒子の過剰な隆起を避け、乾燥
グラウンドストリップ層のマトリックスを通じて粒子の
相対的に均一な分散を確保する。グラウンドストリップ
中に使われるべき導電性粒子の濃度は、利用した特定の
導電性粒子の伝導度のような因子に依存する。
【0096】グラウンドストリップ層は約7ミクロン〜
約42ミクロンの厚さを持ち得て、好ましくは約14ミ
クロン〜約27ミクロンである。特別に好ましい多層光
導電体は、光導電性材料のバインダー層を含む電荷発生
層および約20,000〜約120,000の分子量を
持つポリカーボネート樹脂材料とそこに約25〜約75
重量%の1個あるいはそれ以上の化学式:
約42ミクロンの厚さを持ち得て、好ましくは約14ミ
クロン〜約27ミクロンである。特別に好ましい多層光
導電体は、光導電性材料のバインダー層を含む電荷発生
層および約20,000〜約120,000の分子量を
持つポリカーボネート樹脂材料とそこに約25〜約75
重量%の1個あるいはそれ以上の化学式:
【0097】
【化11】
【0098】を持つ化合物が分散されている隣接正孔輸
送層を含む。上の化学式において、Xは1〜約4個の炭
素原子を持つアルキル基および塩素から成る群から選ば
れ、光導電層は正孔の光発生とその正孔の注入の能力を
示し、正孔輸送層は、光導電層が光発生正孔の発生と注
入を行なうスペクトル領域において実質的に非吸収であ
るが、光導電層からの光発生正孔の注入を支持し、正孔
輸送層を通じる正孔の輸送を行う能力がある。
送層を含む。上の化学式において、Xは1〜約4個の炭
素原子を持つアルキル基および塩素から成る群から選ば
れ、光導電層は正孔の光発生とその正孔の注入の能力を
示し、正孔輸送層は、光導電層が光発生正孔の発生と注
入を行なうスペクトル領域において実質的に非吸収であ
るが、光導電層からの光発生正孔の注入を支持し、正孔
輸送層を通じる正孔の輸送を行う能力がある。
【0099】上述の感光体の電気的ゼログラフィー特性
を調整して以前述べた所望の電気的特性を引出すために
は、発生あるいは輸送層のどちらかあるいは両方に塩基
性ドーパントを加えることが望ましい。ドーパント濃度
は、感光体中に取入れられた材料中の不純物および製造
工程における通常のゆらぎによって引起こされる電気的
特性における他の変化に依存して変動する。適当なコー
テイング溶液を作るために用いられた溶媒の量は、感光
体の層の作製方法、すなわち、ロールコーティング対ス
プレーおよび浸漬コーティング、に依存して変化する。 典型的なスプレーコーティングはロールコーティングよ
り多くの溶媒を必要とする。浸漬コーティングはロール
コーティングとほぼ同量の溶媒を必要とする。ドーパン
トの範囲は、適当なコーティング溶液を作るために固形
物に加えた溶媒の1〜1000重量ppm 内にあるべ
きである。
を調整して以前述べた所望の電気的特性を引出すために
は、発生あるいは輸送層のどちらかあるいは両方に塩基
性ドーパントを加えることが望ましい。ドーパント濃度
は、感光体中に取入れられた材料中の不純物および製造
工程における通常のゆらぎによって引起こされる電気的
特性における他の変化に依存して変動する。適当なコー
テイング溶液を作るために用いられた溶媒の量は、感光
体の層の作製方法、すなわち、ロールコーティング対ス
プレーおよび浸漬コーティング、に依存して変化する。 典型的なスプレーコーティングはロールコーティングよ
り多くの溶媒を必要とする。浸漬コーティングはロール
コーティングとほぼ同量の溶媒を必要とする。ドーパン
トの範囲は、適当なコーティング溶液を作るために固形
物に加えた溶媒の1〜1000重量ppm 内にあるべ
きである。
【0100】本発明はさらに以下の非限定的な実施例で
説明されるが、これらの例はたんに説明的なものとして
意図されており、本発明は本明細書に列挙された材料、
条件、プロセスパラメータ等に限定されることを意図し
ていないと理解すべきである。
説明されるが、これらの例はたんに説明的なものとして
意図されており、本発明は本明細書に列挙された材料、
条件、プロセスパラメータ等に限定されることを意図し
ていないと理解すべきである。
【0101】
【実施例】マイラー基板をチタンでコートし、次にシラ
ンの層でコートした。次に、接着層をシラン層に塗布し
た。感光体を作るための材料の好ましい組合わせは、約
500オングストロームの厚さのシランブロッキング層
でコートしたマイラー上の約20%の透過を持つチタン
接地面である。コーティングを作るために用いた3−ア
ミノプロピルトリエトキシシランを加水分解し、酢酸で
中和する。シランは49K界面の約700オングストロ
ーム層でコートする。7.5体積%の三方晶系セレン顔
料、67.5体積%のPVKバインダー および25
体積%のmTBD輸送分子の発生層を界面に約2.3μ
mの厚さにコートする。次に50重量%のmTBDと5
0重量%のポリカーボネートバインダーを含有する25
μmの輸送層を最後の層として加える。ドーパントを前
に述べた方法で通常10〜50ppm の範囲で輸送層
コーティング溶液に加える。
ンの層でコートした。次に、接着層をシラン層に塗布し
た。感光体を作るための材料の好ましい組合わせは、約
500オングストロームの厚さのシランブロッキング層
でコートしたマイラー上の約20%の透過を持つチタン
接地面である。コーティングを作るために用いた3−ア
ミノプロピルトリエトキシシランを加水分解し、酢酸で
中和する。シランは49K界面の約700オングストロ
ーム層でコートする。7.5体積%の三方晶系セレン顔
料、67.5体積%のPVKバインダー および25
体積%のmTBD輸送分子の発生層を界面に約2.3μ
mの厚さにコートする。次に50重量%のmTBDと5
0重量%のポリカーボネートバインダーを含有する25
μmの輸送層を最後の層として加える。ドーパントを前
に述べた方法で通常10〜50ppm の範囲で輸送層
コーティング溶液に加える。
【0102】次に、電荷発生スラリーを、7.5体積%
の三方晶系セレン顔料、25体積%のN,N′−ジフェ
ニル−N,N′−ビス〔3−メチルプロピル〕−〔1,
1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンおよび67.
5体積%のPVK固形物を混合することにより作製し、
そのスラリーを、体積で等量のTHFとトルエンを含む
溶媒に加え、固形物6体積%の電荷発生コーティング組
成物を作製する。バード(Bird) バーコーターを
用い、電荷発生コーティング組成物を接着層に塗布し、
空気乾燥によって周囲温度で5〜10分間乾燥し、引続
いて強制空気に135℃で5分間さらす。次に、輸送層
コーティング組成物を、重量で等量のN,N′−ジフェ
ニル−N,N′−ビス〔3−メチルプロピル〕−〔1,
1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンとマクロロン
(Makrolon)固形物を混合して作製し、次にそ
れを塩化メチレン溶媒に加え、固形物15重量%の溶液
を作製する。次に輸送層コーティング組成物を乾燥電荷
発生層にバード(Bird)バーコーターを用いて塗布
し、電荷発生層を乾燥したのと同様の方法で乾燥する。
の三方晶系セレン顔料、25体積%のN,N′−ジフェ
ニル−N,N′−ビス〔3−メチルプロピル〕−〔1,
1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンおよび67.
5体積%のPVK固形物を混合することにより作製し、
そのスラリーを、体積で等量のTHFとトルエンを含む
溶媒に加え、固形物6体積%の電荷発生コーティング組
成物を作製する。バード(Bird) バーコーターを
用い、電荷発生コーティング組成物を接着層に塗布し、
空気乾燥によって周囲温度で5〜10分間乾燥し、引続
いて強制空気に135℃で5分間さらす。次に、輸送層
コーティング組成物を、重量で等量のN,N′−ジフェ
ニル−N,N′−ビス〔3−メチルプロピル〕−〔1,
1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミンとマクロロン
(Makrolon)固形物を混合して作製し、次にそ
れを塩化メチレン溶媒に加え、固形物15重量%の溶液
を作製する。次に輸送層コーティング組成物を乾燥電荷
発生層にバード(Bird)バーコーターを用いて塗布
し、電荷発生層を乾燥したのと同様の方法で乾燥する。
【0103】次に、表1に示した量(THF−トルエン
溶媒の重量を基準にした100万あたりの部)でドーパ
ントを電荷発生コーティング組成物に加える以外は上の
方法を繰返す。
表 1 電荷発生 コーティング組成物 ドーパント
ドーピング(重量でのppm )
57−1A TMG
0
57−2A
TMG
25 5
7−3A TMG
50
57−4A
TMG
100 57−5A
TMG
200
54−1A HA
0
54−2A
HA
223 5
4−3A HA
446
54−4A
HA
892 54−5A
HA
1784 本発明
に従う、ドーパントの取込みは、40%の相対温度にお
いてサイクル安定性を改良することが見出される。Vd
dp 安定性が改良され、疲労した暗減衰が減少するこ
とも見出される。TMGドーパントを用い、Vbgを減
少させ、しかも一様なサイクル安定性を維持するために
は、ドーパントの最適量は25ppm 以下である。N
HAドーパントを用い、VbgとVR サイクルアップ
を減少させるためには、ドーパントの最適量は223p
pm 以下である。
溶媒の重量を基準にした100万あたりの部)でドーパ
ントを電荷発生コーティング組成物に加える以外は上の
方法を繰返す。
表 1 電荷発生 コーティング組成物 ドーパント
ドーピング(重量でのppm )
57−1A TMG
0
57−2A
TMG
25 5
7−3A TMG
50
57−4A
TMG
100 57−5A
TMG
200
54−1A HA
0
54−2A
HA
223 5
4−3A HA
446
54−4A
HA
892 54−5A
HA
1784 本発明
に従う、ドーパントの取込みは、40%の相対温度にお
いてサイクル安定性を改良することが見出される。Vd
dp 安定性が改良され、疲労した暗減衰が減少するこ
とも見出される。TMGドーパントを用い、Vbgを減
少させ、しかも一様なサイクル安定性を維持するために
は、ドーパントの最適量は25ppm 以下である。N
HAドーパントを用い、VbgとVR サイクルアップ
を減少させるためには、ドーパントの最適量は223p
pm 以下である。
【0104】
表 2 ナトリウムの
ない三方晶系セレンに関するドーピング結果の表 試
料 ドーパント ドーパント
10Kにおけ 初期値 初期値
レベル
る△Vddp Vddp
Vbg 57−1A
0.0ppm −68
601 9557−2A TMG
25.0
+2 683 18654−1A
0.0ppm
−100 598 8954−
2A HA 223.0
−3 713 2
06表2は、塩基ドーピングが、ナトリウムドーピング
のない顔料で作られたこれらの感光体のサイクル安定性
をいかに増大したかを示している。10Kサイクルにわ
たるVddp の下落を表わす△Vddp は十分減少
した。塩基ドーピングは初期Vddp とVbgの両方
を増大させた。ドープしない顔料を持ち塩基性ドーピン
グのないこれらの感光体は、ナトリウムドープした三方
晶系セレン顔料を持つ感光体と有用な置き換えをするに
はあまりにも低いVddp とVbgを持つと考えられ
て来た。塩基ドーピングは、ナトリウムドープした顔料
を持つ感光体と類似の値になるまでこれらの値を増大さ
せた。
表 2 ナトリウムの
ない三方晶系セレンに関するドーピング結果の表 試
料 ドーパント ドーパント
10Kにおけ 初期値 初期値
レベル
る△Vddp Vddp
Vbg 57−1A
0.0ppm −68
601 9557−2A TMG
25.0
+2 683 18654−1A
0.0ppm
−100 598 8954−
2A HA 223.0
−3 713 2
06表2は、塩基ドーピングが、ナトリウムドーピング
のない顔料で作られたこれらの感光体のサイクル安定性
をいかに増大したかを示している。10Kサイクルにわ
たるVddp の下落を表わす△Vddp は十分減少
した。塩基ドーピングは初期Vddp とVbgの両方
を増大させた。ドープしない顔料を持ち塩基性ドーピン
グのないこれらの感光体は、ナトリウムドープした三方
晶系セレン顔料を持つ感光体と有用な置き換えをするに
はあまりにも低いVddp とVbgを持つと考えられ
て来た。塩基ドーピングは、ナトリウムドープした顔料
を持つ感光体と類似の値になるまでこれらの値を増大さ
せた。
【0105】ドープしない三方晶系セレン顔料を持つ感
光体の塩基ドーピングの有益な効果のもう一つの例は、
感光体にナトリウムドープした顔料を用いたときに現れ
るプリント中の白色班点の減少である。この例における
感光体はロールコーターで作られる。この例における発
生体は、8体積%のコーティングスラリーを提供するた
めに等体積のTHFとトルエンを用いる以外は上に述べ
たのと同様の仕方で作られる。TMGドーパントを溶媒
重量のppm 単位で溶媒に加える。表は、ナトリウム
が存在しない発生体へのTMGドーピングが、TMGレ
ベルが増大するとともに、いかに班点密度を減少させる
かを示している。表はまた、TMGドーピングが、Se
中のNaを持つ標準AMATに対して、サイクルととも
にいかに班点サイズ密度の生長を減少させるかを示して
いる。
光体の塩基ドーピングの有益な効果のもう一つの例は、
感光体にナトリウムドープした顔料を用いたときに現れ
るプリント中の白色班点の減少である。この例における
感光体はロールコーターで作られる。この例における発
生体は、8体積%のコーティングスラリーを提供するた
めに等体積のTHFとトルエンを用いる以外は上に述べ
たのと同様の仕方で作られる。TMGドーパントを溶媒
重量のppm 単位で溶媒に加える。表は、ナトリウム
が存在しない発生体へのTMGドーピングが、TMGレ
ベルが増大するとともに、いかに班点密度を減少させる
かを示している。表はまた、TMGドーピングが、Se
中のNaを持つ標準AMATに対して、サイクルととも
にいかに班点サイズ密度の生長を減少させるかを示して
いる。
【0106】
表 3 感光体 説
明 TMGppm スポッ
ト スポット 試 料
インチ2(t=o) インチ2(t=
1 時間)3692−3294 NAを含まない
0 130
323 24
μm SMTL
−2082 −
1 137
287 −1515
− 5
61 148
−351
25 33
45 −2427
−
1 184 453
−1182 −
5 118
180 −591
− 25
46 48
3701−2187 Se 中Na を持つ
0 51
164 標準A
MAT
S
e 中にNa を持つ一群の標準 0
63±16 185±78AMA
Tにわたる平均
± 1標準偏差
本発明を特別の好ましい実施態様を参照して述べたが
、本発明はそれに限定されない;むしろ、当業者は、本
発明の精神内における、かつ請求項の範囲内における変
形および改変がなされ得ることを認めるであろう。
表 3 感光体 説
明 TMGppm スポッ
ト スポット 試 料
インチ2(t=o) インチ2(t=
1 時間)3692−3294 NAを含まない
0 130
323 24
μm SMTL
−2082 −
1 137
287 −1515
− 5
61 148
−351
25 33
45 −2427
−
1 184 453
−1182 −
5 118
180 −591
− 25
46 48
3701−2187 Se 中Na を持つ
0 51
164 標準A
MAT
S
e 中にNa を持つ一群の標準 0
63±16 185±78AMA
Tにわたる平均
± 1標準偏差
本発明を特別の好ましい実施態様を参照して述べたが
、本発明はそれに限定されない;むしろ、当業者は、本
発明の精神内における、かつ請求項の範囲内における変
形および改変がなされ得ることを認めるであろう。
本発明は付随する図面とその図面に示される実施態様の
記述を参照することでさらに十分に理解されよう。本発
明は例示的な実施態様に制限されることなく、通常の技
術者の技術でのすべての改変を考慮しているものと認知
されるべきである。
記述を参照することでさらに十分に理解されよう。本発
明は例示的な実施態様に制限されることなく、通常の技
術者の技術でのすべての改変を考慮しているものと認知
されるべきである。
【図1】図1は感光体の図式的な図面である。
【図2】図2は感光体の図式的な図面である。
【図3】図3は本発明による感光体の図式的な図面であ
る。
る。
【図4】図4は本発明による感光体の図式的な図面であ
る。
る。
11 基板
12 導電性接地面
13 電荷ブロッキング層
14 電荷発生層
15 電荷輸送層
16 オーバーコート層
21 基板
22 導電性接地面
23 電荷輸送層
24 電荷発生層
25 保護およびブロッキングオーバーコート層
31 基板 32 導電性接地面 33 電荷発生層 34 電荷輸送層 41 基板 42 導電性接地面 43 電荷輸送層 44 電荷発生層 45 保護およびブロッキングオーバーコーティ
ング層
31 基板 32 導電性接地面 33 電荷発生層 34 電荷輸送層 41 基板 42 導電性接地面 43 電荷輸送層 44 電荷発生層 45 保護およびブロッキングオーバーコーティ
ング層
Claims (8)
- 【請求項1】 導電層を提供し;その導電層の上に、
電荷輸送バインダーと電荷輸送分子を含む電荷輸送層を
塗布し;その電荷輸送層の上に、電荷発生バンイダーと
光発生粒子を含む電荷発生層を塗布することを含む感光
体の製造方法であって、かつ上記電荷輸送層および上記
電荷発生層の少なくとも一つは、塩基性電子供与あるい
はプロトン受容基を含む有機分子を含む少なくとも一つ
のドーパントを含む方法。 - 【請求項2】 ドーパントが脂肪族アミンおよび芳香
族アミンから成る群から選ばれる請求項1記載の方法。 - 【請求項3】 ドーパントがトリエタノールアミン、
n−ドデシルアミン、n−ヘキサデシルアミン、テトラ
メチルグアニジン、3−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、3−アミノプロピルトリヒドロキシシランおよび
そのオリゴマーから成る群から選ばれる請求項1記載の
方法。 - 【請求項4】 バインダー、電荷輸送分子、および脂
肪族アミンから成る群から選ばれる少なくとも一つのド
ーパントを含む電荷輸送層を含む感光体。 - 【請求項5】 ドーパントがトリエタノールアミン、
n−ドデシルアミン、n−ヘキサデシルアミン、テトラ
メチルグアニジン、3−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、3−アミノプロピルトリヒドロキシシランおよび
そのオリゴマーから成る群から選ばれる請求項4記載の
感光体。 - 【請求項6】 導電層;電荷輸送バインダーおよび電
荷輸送分子を含み、上記導電層の上に配置されている電
荷輸送層;電荷発生バインダーと光発生粒子を含み、上
記電荷輸送層の上に配置されている電荷発生層;を含み
、かつ上記電荷発生層および上記電荷輸送層の少なくと
も一つが塩基性電子供与あるいはプロトン受容基を含有
する有機分子を含む少なくとも一つのドーパントを含む
感光体。 - 【請求項7】 ドーパントが脂肪族および芳香族アミ
ンから成る群から選ばれる、請求項6記載の感光体。 - 【請求項8】 ドーパントがトリエタノールアミン、
n−ドデシルアミン、n−ヘキサデシルアミン、テトラ
メチルグアニジン、3−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、3−アミノプロピルトリヒドロキシシランおよび
そのオリゴマーから成る群から選ばれる、請求項6記載
の感光体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/618731 | 1990-11-27 | ||
US07/618,731 US5164276A (en) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | Charge generation layers and charge transport, layers for electrophotographic imaging members, and processes for producing same |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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