JPH04277751A - 電子写真像形成部材 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/142—Inert intermediate layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真に関し、さらに
詳細には、電子写真像形成部材に関する。
詳細には、電子写真像形成部材に関する。
【0002】
【従来の技術】電子写真においては、導電性層上に光導
電性絶縁層を含有する電子写真部材に先ずその表面を均
一に静帯電させることによって像形成する。次いで、こ
の部材を光のような活性化用電磁線の像に露光させる。 電磁線は非照射領域の静電潜像を残存させたままで光導
電性絶縁層の照射領域内の電荷を選択的に消散させる。 この静電潜像はその後、光導電性絶縁層の表面上に微分
割トナー粒子を付着させることによって現像して、可視
像を形成することができる。次いで、得られた可視像は
電子写真部材から紙のような支持体に転写できる。この
像形成方法は再使用可能な光導電性絶縁層によって多数
回繰返すことができる。電子写真像形成部材は多くの形
で提供し得る。例えば、像形成部材は単一材料の均質層
としてもよく、あるいは光導電体と他の材料を含有する
複合層としてもよい。多層型感光体は、例えば、基体、
導電層、ブロッキング層、接着層、電荷発生層および電
荷輸送層を含み得る。少なくとも2つの電気作動層を有
する感光性部材の例には米国特許第4,265,990
号、第4,233,384号、第4,306,008号
、第4,299,897号および第4,439,507
号に開示されているような電荷発生体層とジアミン含有
輸送層がある。
電性絶縁層を含有する電子写真部材に先ずその表面を均
一に静帯電させることによって像形成する。次いで、こ
の部材を光のような活性化用電磁線の像に露光させる。 電磁線は非照射領域の静電潜像を残存させたままで光導
電性絶縁層の照射領域内の電荷を選択的に消散させる。 この静電潜像はその後、光導電性絶縁層の表面上に微分
割トナー粒子を付着させることによって現像して、可視
像を形成することができる。次いで、得られた可視像は
電子写真部材から紙のような支持体に転写できる。この
像形成方法は再使用可能な光導電性絶縁層によって多数
回繰返すことができる。電子写真像形成部材は多くの形
で提供し得る。例えば、像形成部材は単一材料の均質層
としてもよく、あるいは光導電体と他の材料を含有する
複合層としてもよい。多層型感光体は、例えば、基体、
導電層、ブロッキング層、接着層、電荷発生層および電
荷輸送層を含み得る。少なくとも2つの電気作動層を有
する感光性部材の例には米国特許第4,265,990
号、第4,233,384号、第4,306,008号
、第4,299,897号および第4,439,507
号に開示されているような電荷発生体層とジアミン含有
輸送層がある。
【0003】多層型像形成部材においては、各層におい
て使用する材料は好ましくは望ましい機械的性質を有す
ると共に装置の機能に必要な電気的性質も有するもので
ある。像形成装置の1つの層の材料を特定の性質、例え
ば、電気的性質を改善するために変える場合、この変え
ることによって機械的性質に悪影響を及ぼし得る、例え
ば、そのような変化ははく離をもたらす。多層型像形成
装置のバリヤー(電荷ブロッキング)層においては、電
荷注入を防止すると共に電荷輸送化合物のような材料の
電荷ブロッキング層を通しての移行を防止する材料を用
いることが望ましい。その他の難しさも像形成部材の製
造において存在する。例えば、シームレス像形成部材に
おいては、導電性金属層を経済的な方法で付着させるこ
とができない。真空コーティング法はシームレス基体を
用いる場合、費用が高い。従って、他のコーティング法
によって塗布した導電性層の使用が重要になる。最近の
研究は分散させたカーボンブラック粒子を含むナイロン
の導電性基体を有するシームレス感光体が魅力的な性質
を有することを示唆している。しかしながら、そのよう
な感光体は不満足な接着性と貧弱な機械的性質とを有し
得る。Matsuno 等に付与された米国特許第3,
887,369号は、アルキルビニルエーテルと無水マ
レイン酸を含むコポリマー、またはアルキルビニルエー
テル/マレイン酸のアルキル半エステルのコポリマーと
ポリビニルピロリドンまたはそのコポリマーとの複合体
のバリヤー層を開示している。
て使用する材料は好ましくは望ましい機械的性質を有す
ると共に装置の機能に必要な電気的性質も有するもので
ある。像形成装置の1つの層の材料を特定の性質、例え
ば、電気的性質を改善するために変える場合、この変え
ることによって機械的性質に悪影響を及ぼし得る、例え
ば、そのような変化ははく離をもたらす。多層型像形成
装置のバリヤー(電荷ブロッキング)層においては、電
荷注入を防止すると共に電荷輸送化合物のような材料の
電荷ブロッキング層を通しての移行を防止する材料を用
いることが望ましい。その他の難しさも像形成部材の製
造において存在する。例えば、シームレス像形成部材に
おいては、導電性金属層を経済的な方法で付着させるこ
とができない。真空コーティング法はシームレス基体を
用いる場合、費用が高い。従って、他のコーティング法
によって塗布した導電性層の使用が重要になる。最近の
研究は分散させたカーボンブラック粒子を含むナイロン
の導電性基体を有するシームレス感光体が魅力的な性質
を有することを示唆している。しかしながら、そのよう
な感光体は不満足な接着性と貧弱な機械的性質とを有し
得る。Matsuno 等に付与された米国特許第3,
887,369号は、アルキルビニルエーテルと無水マ
レイン酸を含むコポリマー、またはアルキルビニルエー
テル/マレイン酸のアルキル半エステルのコポリマーと
ポリビニルピロリドンまたはそのコポリマーとの複合体
のバリヤー層を開示している。
【0004】Yashiki に付与された米国特許第
4,579,801号は、基体と感光性層の間に、レゾ
ールコートから形成させたフェノール樹脂層を有する電
子写真感光性部材を開示している。このフェノール樹脂
層は分散させた導電性材料を含有している。カーボンを
導電性材料として示している。Yashiki に付与
された米国特許第4,571,371号は、基体と感光
性層との間に導電性層を有する電子写真感光性部材を開
示している。この導電性層は導電性材料、バインダー樹
脂およびシリコーン化合物均展剤を含有している。カー
ボン粉末を導電性材料として記載しており、フェノール
樹脂をバインダー樹脂として記載している。シリコーン
化合物均展剤は、記載するところによれば、導電性層と
基体および感光性層間の両方の界面を改良している。H
asegawa等に付与された米国特許第4,296,
190号は、電子写真感光性材料として、非変性無水マ
レイン酸タイプの不飽和ポリエステルのようなイオン化
性放射線硬化性樹脂を開示している。 この材料は溶液として導電性基体に塗布し得る。上述の
各装置は多くの欠点を有する。例えば、幾つかの電子写
真像形成部材は貧弱な電荷アクセプタンスと過度の電荷
注入を示す。さらに、感光性層からの電荷輸送物質が拡
散し導電性層と接触して感光体に悪影響を与え得る。さ
らに、従来技術の像形成部材の問題にはスキャナー中で
の長期のサイクル操作における電気データのサイクルア
ップ(cycling up) と消去後の過度の残留
原電圧がある。
4,579,801号は、基体と感光性層の間に、レゾ
ールコートから形成させたフェノール樹脂層を有する電
子写真感光性部材を開示している。このフェノール樹脂
層は分散させた導電性材料を含有している。カーボンを
導電性材料として示している。Yashiki に付与
された米国特許第4,571,371号は、基体と感光
性層との間に導電性層を有する電子写真感光性部材を開
示している。この導電性層は導電性材料、バインダー樹
脂およびシリコーン化合物均展剤を含有している。カー
ボン粉末を導電性材料として記載しており、フェノール
樹脂をバインダー樹脂として記載している。シリコーン
化合物均展剤は、記載するところによれば、導電性層と
基体および感光性層間の両方の界面を改良している。H
asegawa等に付与された米国特許第4,296,
190号は、電子写真感光性材料として、非変性無水マ
レイン酸タイプの不飽和ポリエステルのようなイオン化
性放射線硬化性樹脂を開示している。 この材料は溶液として導電性基体に塗布し得る。上述の
各装置は多くの欠点を有する。例えば、幾つかの電子写
真像形成部材は貧弱な電荷アクセプタンスと過度の電荷
注入を示す。さらに、感光性層からの電荷輸送物質が拡
散し導電性層と接触して感光体に悪影響を与え得る。さ
らに、従来技術の像形成部材の問題にはスキャナー中で
の長期のサイクル操作における電気データのサイクルア
ップ(cycling up) と消去後の過度の残留
原電圧がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明はスキャナー中
での長期のサイクル操作中の電気データの望ましくない
サイクルアップを軽減することおよび各層間の良好な接
着性を有する材料の組合せを提供することに関する。本
発明の1つの目的は正電荷の注入を効果的にブロックし
、電荷アクセプタンスを改善しかつ電荷輸送化合物の移
行(ブロッキング層を通じての)を防止するブロッキン
グ層を有する電子写真像形成部材を提供することによっ
て従来技術の欠点を克服することである。本発明のさら
なる目的はサイクルアップを低減しかつ残留原電圧を低
減する層を含む電子写真像形成部材を提供することであ
る。
での長期のサイクル操作中の電気データの望ましくない
サイクルアップを軽減することおよび各層間の良好な接
着性を有する材料の組合せを提供することに関する。本
発明の1つの目的は正電荷の注入を効果的にブロックし
、電荷アクセプタンスを改善しかつ電荷輸送化合物の移
行(ブロッキング層を通じての)を防止するブロッキン
グ層を有する電子写真像形成部材を提供することによっ
て従来技術の欠点を克服することである。本発明のさら
なる目的はサイクルアップを低減しかつ残留原電圧を低
減する層を含む電子写真像形成部材を提供することであ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の1つの局面によ
れば、中和マレイン酸半エステルコポリマー好ましくは
マレイン酸半エステルコポリマーの水およびアルコール
可溶性無機塩を含み、好ましくは基体に接着層によって
結合させたブロッキング層が提供される。本発明のもう
1つの局面によれば、導電性または非導電性基体、導電
性フェノール樹脂接着層、および中和マレイン酸半エス
テルコポリマーを含むブロッキング層を含む電子写真像
形成部材が提供される。本像形成部材はまた少なくとも
1つの光導電性層好ましくは電荷発生層と電荷輸送層も
含み、好ましくは実質的に透明であって後からの消去を
行い得る。本発明は添付図面および添付図面中で示した
実施態様についての以下の説明によってより十分に理解
できるであろう。本発明はこれらの例示としての実施態
様に限定するものではなく、すべての変形が当業者に容
易であると理解すべきである。
れば、中和マレイン酸半エステルコポリマー好ましくは
マレイン酸半エステルコポリマーの水およびアルコール
可溶性無機塩を含み、好ましくは基体に接着層によって
結合させたブロッキング層が提供される。本発明のもう
1つの局面によれば、導電性または非導電性基体、導電
性フェノール樹脂接着層、および中和マレイン酸半エス
テルコポリマーを含むブロッキング層を含む電子写真像
形成部材が提供される。本像形成部材はまた少なくとも
1つの光導電性層好ましくは電荷発生層と電荷輸送層も
含み、好ましくは実質的に透明であって後からの消去を
行い得る。本発明は添付図面および添付図面中で示した
実施態様についての以下の説明によってより十分に理解
できるであろう。本発明はこれらの例示としての実施態
様に限定するものではなく、すべての変形が当業者に容
易であると理解すべきである。
【0007】本発明の電子写真像形成部材の代表的な構
造を図1に示す。この像形成部材は支持基体1、任意構
成成分としての接着層2、導電性層3、ブロッキング層
4、任意構成成分としての接着層5、電荷発生層6およ
び電荷輸送層7を含む。電子写真像形成部材での使用に
適する各層の他の組合せも本発明の範囲に属する。以下
は本発明による電子写真像形成部材に含有させ得る各層
の説明である。支持基体1は不透明または実質的に透明
であり得、許容し得る機械的性質を有する多くの適当な
材料の任意のものを含み得る。基体は導電性表面を有す
るように製造できる。非導電性材料としては、ポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタン等
のような任意の種々の樹脂を用い得る。基体はE.I.
デュポン社から入手できるマイラー(Mylar)また
はICIアメリカズ社より入手できるメリネックス(M
elinex)として知られている市販の2軸配向型ポ
リエステルを含み得る。非導電性材料は導電性粉末を樹
脂中に分散させることによって導電性とすることができ
る。分散用の導電性粉末には、例えば、カーボンブラッ
ク、金属粉末、イオン性有機導電性粒子、導電性無機粒
子、アンチモンまたはインジウムでドーピングした S
nO2 、導電性酸化亜鉛等がある。別法としてあるい
はその上に、導電性金属層のような導電性層を基体上に
形成させてもよい。導電性金属の例にはアルミニウム、
ジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナジウム、ハフニ
ウム、チタン、ニッケル、ステンレススチール、クロム
、タングステン、モリブデン、黄銅、金およびこれらの
混合物等がある。基体は可撓性または硬質であり得、例
えば、シート、スクロール、エンドレス可撓性ベルト、
ドラム等の任意の多くの種々の形状を有し得る。好まし
くは、基体はエンドレス可撓性ベルトの形状である。
造を図1に示す。この像形成部材は支持基体1、任意構
成成分としての接着層2、導電性層3、ブロッキング層
4、任意構成成分としての接着層5、電荷発生層6およ
び電荷輸送層7を含む。電子写真像形成部材での使用に
適する各層の他の組合せも本発明の範囲に属する。以下
は本発明による電子写真像形成部材に含有させ得る各層
の説明である。支持基体1は不透明または実質的に透明
であり得、許容し得る機械的性質を有する多くの適当な
材料の任意のものを含み得る。基体は導電性表面を有す
るように製造できる。非導電性材料としては、ポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリウレタン等
のような任意の種々の樹脂を用い得る。基体はE.I.
デュポン社から入手できるマイラー(Mylar)また
はICIアメリカズ社より入手できるメリネックス(M
elinex)として知られている市販の2軸配向型ポ
リエステルを含み得る。非導電性材料は導電性粉末を樹
脂中に分散させることによって導電性とすることができ
る。分散用の導電性粉末には、例えば、カーボンブラッ
ク、金属粉末、イオン性有機導電性粒子、導電性無機粒
子、アンチモンまたはインジウムでドーピングした S
nO2 、導電性酸化亜鉛等がある。別法としてあるい
はその上に、導電性金属層のような導電性層を基体上に
形成させてもよい。導電性金属の例にはアルミニウム、
ジルコニウム、ニオブ、タンタル、バナジウム、ハフニ
ウム、チタン、ニッケル、ステンレススチール、クロム
、タングステン、モリブデン、黄銅、金およびこれらの
混合物等がある。基体は可撓性または硬質であり得、例
えば、シート、スクロール、エンドレス可撓性ベルト、
ドラム等の任意の多くの種々の形状を有し得る。好まし
くは、基体はエンドレス可撓性ベルトの形状である。
【0008】本発明の1つの実施態様においては、基体
1はナイロンまたはカーボンブラックを分散させたナイ
ロンを含む。カーボンブラックを分散させたナイロンの
基体は電子写真像形成部材に導電性を与え、また、本発
明に従ってブロッキング層でオーバーコーティングした
とき、より良好な接着性を与える。導電性基体は装置に
必要な接地性を与えまた接地ストリップを必要としない
。基体のカーボンブラック含有量は基体層の総重量基準
で約10〜約35重量%である。約10%より少ない含
有量では、導電性に悪影響を受けがちであり、約35%
を越える含有量では、クラッキング問題が生ずる傾向に
ある。可撓性の喪失もそのような含有量においては基体
をベルト形で用いる場合に生じがちである。好ましい含
有量範囲は、層の総重量基準で、約10〜約30重量%
であり、より好ましくは、約13〜約17重量%である
。基体層の厚さの選定は経済性のような多くの要因によ
る。基体を可撓性ベルトで使用する場合には、基体層の
厚さは、小直径ロール、例えば、19mm径のロールの
周りでサイクル操作する場合の最適の可撓性と最小の誘
起表面曲げ応力のためには約25.4〜約254μm(
約1〜約10ミル)好ましくは約76.2〜約127μ
m (約3〜約5ミル)の範囲で使用する。可撓性ベル
トまたは硬質ドラム用の基体は、最終の光導電性装置に
悪影響を与えぬ限り、実質的な厚さを有し得る。約10
6 オーム−cm以下の表面抵抗が好ましい。
1はナイロンまたはカーボンブラックを分散させたナイ
ロンを含む。カーボンブラックを分散させたナイロンの
基体は電子写真像形成部材に導電性を与え、また、本発
明に従ってブロッキング層でオーバーコーティングした
とき、より良好な接着性を与える。導電性基体は装置に
必要な接地性を与えまた接地ストリップを必要としない
。基体のカーボンブラック含有量は基体層の総重量基準
で約10〜約35重量%である。約10%より少ない含
有量では、導電性に悪影響を受けがちであり、約35%
を越える含有量では、クラッキング問題が生ずる傾向に
ある。可撓性の喪失もそのような含有量においては基体
をベルト形で用いる場合に生じがちである。好ましい含
有量範囲は、層の総重量基準で、約10〜約30重量%
であり、より好ましくは、約13〜約17重量%である
。基体層の厚さの選定は経済性のような多くの要因によ
る。基体を可撓性ベルトで使用する場合には、基体層の
厚さは、小直径ロール、例えば、19mm径のロールの
周りでサイクル操作する場合の最適の可撓性と最小の誘
起表面曲げ応力のためには約25.4〜約254μm(
約1〜約10ミル)好ましくは約76.2〜約127μ
m (約3〜約5ミル)の範囲で使用する。可撓性ベル
トまたは硬質ドラム用の基体は、最終の光導電性装置に
悪影響を与えぬ限り、実質的な厚さを有し得る。約10
6 オーム−cm以下の表面抵抗が好ましい。
【0009】可撓性ナイロンまたは硬質ナイロン基体の
場合には、フェノール樹脂を含む導電性層3が基体1と
ブロッキング層4間の接着性を改善する。フェノール樹
脂は良好な接着性と機械特性を与える。都合の良いこと
に、カーボンブラックをフェノール樹脂中で用いてフェ
ノール樹脂を導電性にし得る。フェノール層は層中に分
散させたカーボンブラックを約10〜約30重量%、よ
り好ましくは約13〜約17重量%の量で含む。フェノ
ール樹脂中にカーボンブラックを分散させることにより
層を導電性となし得る。さらに、好ましいカーボンブラ
ックの約13〜約17重量%の含有量においては、フェ
ノール樹脂は十分に透明でかつ導電性であり、その結果
として、後からの消去をなし得る。層3は基体1上に、
スプレー、ディップコーティング、延伸棒コーティング
、グラビアコーティング、シルクスクリーニング、エア
ナイフコーティング、リバースロールコーティング、化
学処理等のような任意の適当なコーティング法によって
形成し得る。この層は好ましくはTHF(テトラヒドロ
フラン)、メチルエチルケトン、メチルプロピレングリ
コールおよびそのエステル、塩化メチレン等のような溶
媒を用いて塗布する。層3は、光導電性部材に望まれる
光透過性および可撓性のより、広い範囲の厚さを有し得
る。従って、可撓性の感光性像形成装置においては、こ
のフェノール層の厚さは約0.5〜約50ミクロン好ま
しくは約1〜約3ミクロンの範囲である。本発明のフェ
ノール層は長期のサイクル操作における電気データのサ
イクルアップを低減するのにまた消去後の残留原電圧を
低減するのに有効である。
場合には、フェノール樹脂を含む導電性層3が基体1と
ブロッキング層4間の接着性を改善する。フェノール樹
脂は良好な接着性と機械特性を与える。都合の良いこと
に、カーボンブラックをフェノール樹脂中で用いてフェ
ノール樹脂を導電性にし得る。フェノール層は層中に分
散させたカーボンブラックを約10〜約30重量%、よ
り好ましくは約13〜約17重量%の量で含む。フェノ
ール樹脂中にカーボンブラックを分散させることにより
層を導電性となし得る。さらに、好ましいカーボンブラ
ックの約13〜約17重量%の含有量においては、フェ
ノール樹脂は十分に透明でかつ導電性であり、その結果
として、後からの消去をなし得る。層3は基体1上に、
スプレー、ディップコーティング、延伸棒コーティング
、グラビアコーティング、シルクスクリーニング、エア
ナイフコーティング、リバースロールコーティング、化
学処理等のような任意の適当なコーティング法によって
形成し得る。この層は好ましくはTHF(テトラヒドロ
フラン)、メチルエチルケトン、メチルプロピレングリ
コールおよびそのエステル、塩化メチレン等のような溶
媒を用いて塗布する。層3は、光導電性部材に望まれる
光透過性および可撓性のより、広い範囲の厚さを有し得
る。従って、可撓性の感光性像形成装置においては、こ
のフェノール層の厚さは約0.5〜約50ミクロン好ま
しくは約1〜約3ミクロンの範囲である。本発明のフェ
ノール層は長期のサイクル操作における電気データのサ
イクルアップを低減するのにまた消去後の残留原電圧を
低減するのに有効である。
【0010】任意構成成分の接着層2は支持基体と導電
性層3の間に存在させて接着を促進させ得る。この接着
層は特定の組合せの層を用いる場合には必要でない。例
えば、良好な接着はナイロン基体とフェノール樹脂の導
電性層間で得られる。また、接着層は硬質ドラムを用い
るときよりも可撓性ベルトにおいて用いられる。何故な
らば、可撓性ベルトははく離を防止するのに各層間でよ
り大きい接着力を必要とするからである。負帯電型感光
体においては、ブロッキング層は導電性層からの光導電
性層への正孔注入を防止し得るものでなければならない
。本発明のブロッキング層4は好ましくはマレイン酸半
エステルの水およびアルコール可溶性のコポリマー塩を
含む。その塩は好ましくはアルカリ金属塩である。本明
細書で用いるときの“半エステル”コポリマーとは、繰
返しの炭化水素の主鎖とこの主鎖に化学的に結合したペ
ンダント側鎖としての基とを含み、このペンダント側鎖
の半分が−COOHまたは−COOM(Mは金属である
)の末端であり、他の半分がエステル基の末端である化
合物として定義される。
性層3の間に存在させて接着を促進させ得る。この接着
層は特定の組合せの層を用いる場合には必要でない。例
えば、良好な接着はナイロン基体とフェノール樹脂の導
電性層間で得られる。また、接着層は硬質ドラムを用い
るときよりも可撓性ベルトにおいて用いられる。何故な
らば、可撓性ベルトははく離を防止するのに各層間でよ
り大きい接着力を必要とするからである。負帯電型感光
体においては、ブロッキング層は導電性層からの光導電
性層への正孔注入を防止し得るものでなければならない
。本発明のブロッキング層4は好ましくはマレイン酸半
エステルの水およびアルコール可溶性のコポリマー塩を
含む。その塩は好ましくはアルカリ金属塩である。本明
細書で用いるときの“半エステル”コポリマーとは、繰
返しの炭化水素の主鎖とこの主鎖に化学的に結合したペ
ンダント側鎖としての基とを含み、このペンダント側鎖
の半分が−COOHまたは−COOM(Mは金属である
)の末端であり、他の半分がエステル基の末端である化
合物として定義される。
【0011】上記の半エステルコポリマーはアルコール
溶媒には十分に可溶であり、ジエチルエーテル、ヘキサ
ンおよびトルエンのような他の有機溶媒には可溶でない
。即ち、その塗布コーティングはその後の層を塗布する
のに通常用いる有機溶媒の幾つかによって影響を受けず
、ホワイトスポットは防止される。残念なことに、半エ
ステルコポリマー自体を含有するブロッキング層は感光
体のサイクルダウン(cycling down) を
生ずる。しかしながら、半エステル化合物へのアルカリ
金属の付加は多くの利用可能な遊離酸基を中和すること
によってサイクルダウンを防止する。半エステルの利用
可能な遊離酸は約5〜約100モル%好ましくは20〜
約75モル%中和できる。残りの未中和遊離酸基は隣接
層への架橋による接着のために好ましい。何らかの理論
によって拘束することは望まないけれども、中和したマ
レイン酸半エステルは電荷注入を防止するのに有効であ
ると考えられる。マレイン酸半エステルは無水マレイン
酸と他のモノマーのコポリマーから得ることができる。 他のモノマーは増大したコポリマーの溶解性およびフィ
ルム形成能力を与えるように選択するのが好ましい。例
えば、エチレン、メチルビニルエーテル、および/また
はブチルビニルエーテルは無水マレイン酸とのコモノマ
ーとして使用できる。例えば、上記の半エステルは次の
ように表わすことができる:
溶媒には十分に可溶であり、ジエチルエーテル、ヘキサ
ンおよびトルエンのような他の有機溶媒には可溶でない
。即ち、その塗布コーティングはその後の層を塗布する
のに通常用いる有機溶媒の幾つかによって影響を受けず
、ホワイトスポットは防止される。残念なことに、半エ
ステルコポリマー自体を含有するブロッキング層は感光
体のサイクルダウン(cycling down) を
生ずる。しかしながら、半エステル化合物へのアルカリ
金属の付加は多くの利用可能な遊離酸基を中和すること
によってサイクルダウンを防止する。半エステルの利用
可能な遊離酸は約5〜約100モル%好ましくは20〜
約75モル%中和できる。残りの未中和遊離酸基は隣接
層への架橋による接着のために好ましい。何らかの理論
によって拘束することは望まないけれども、中和したマ
レイン酸半エステルは電荷注入を防止するのに有効であ
ると考えられる。マレイン酸半エステルは無水マレイン
酸と他のモノマーのコポリマーから得ることができる。 他のモノマーは増大したコポリマーの溶解性およびフィ
ルム形成能力を与えるように選択するのが好ましい。例
えば、エチレン、メチルビニルエーテル、および/また
はブチルビニルエーテルは無水マレイン酸とのコモノマ
ーとして使用できる。例えば、上記の半エステルは次の
ように表わすことができる:
【0012】
【化1】
【0013】(式中、Mは金属、例えば、リチウム、ナ
トリウム、カリウム等であり、Rはアルキル基、例えば
、メチル、エチル、ブチル等であり、nは約10〜約2
,000である。)この半エステルは無水マレイン酸コ
ポリマーをアルコールと反応させることによって得られ
る。無水マレイン酸コポリマーは、ジェネラル アニ
リンアンド フィルム社(GAF)からガントレズ(
Gantrez)AN119、ガントレズAN149、
ガントレズAN169、ガントレズおよびガントレズA
N179として商業的に入手できる。エチレンと無水マ
レイン酸のコポリマーはモンサント社から商品名EMA
として入手可能である。アルカリ金属は上記コポリマー
の酸基を中和することが判っている。一価のアルカリ金
属、例えば、ナトリウム、リチウム、カリウム、ルビジ
ウム、セシウム等が本発明において好ましい。ナトリウ
ムとリチウムが最も好ましい。本発明のマレイン酸半エ
ステルコポリマー塩の調製においては、上述のコポリマ
ーをメチルアルコール、エチルアルコール、水、これら
の混合物等の溶液中に溶解し得る。アルカリ金属水酸化
物、例えば、水酸化ナトリウムまたは水酸化リチウムの
溶液はメチルアルコールまたはエチルアルコールの溶液
でコポリマー溶液に添加し得る。コポリマーは酸として
作用し、アルカリ金属水酸化物は塩基として作用し、そ
れによってコポリマー塩を生成する。
トリウム、カリウム等であり、Rはアルキル基、例えば
、メチル、エチル、ブチル等であり、nは約10〜約2
,000である。)この半エステルは無水マレイン酸コ
ポリマーをアルコールと反応させることによって得られ
る。無水マレイン酸コポリマーは、ジェネラル アニ
リンアンド フィルム社(GAF)からガントレズ(
Gantrez)AN119、ガントレズAN149、
ガントレズAN169、ガントレズおよびガントレズA
N179として商業的に入手できる。エチレンと無水マ
レイン酸のコポリマーはモンサント社から商品名EMA
として入手可能である。アルカリ金属は上記コポリマー
の酸基を中和することが判っている。一価のアルカリ金
属、例えば、ナトリウム、リチウム、カリウム、ルビジ
ウム、セシウム等が本発明において好ましい。ナトリウ
ムとリチウムが最も好ましい。本発明のマレイン酸半エ
ステルコポリマー塩の調製においては、上述のコポリマ
ーをメチルアルコール、エチルアルコール、水、これら
の混合物等の溶液中に溶解し得る。アルカリ金属水酸化
物、例えば、水酸化ナトリウムまたは水酸化リチウムの
溶液はメチルアルコールまたはエチルアルコールの溶液
でコポリマー溶液に添加し得る。コポリマーは酸として
作用し、アルカリ金属水酸化物は塩基として作用し、そ
れによってコポリマー塩を生成する。
【0014】アルカリ金属で中和した半エステルコポリ
マーを含有する組成物はアルコール溶液からコーティン
グとして容易に塗布してサイクルダウンおよびホワイト
スポットを防止できる。さらにまた、半エステルコポリ
マーは湿気およびはく離問題に対して感受性が小さい。 中和半エステルコポリマーは好ましくは約100℃以上
の温度に加熱したときグリセリンのようなポリオールと
架橋し得る遊離の酸成分を有するので、そのコーティン
グは、半エステルコーティング組成物が加熱時に架橋さ
れるために、その後塗布するコーティング中に含有され
る殆んどの有機溶媒に不溶性となる。湿気条件下でのは
く離もまた架橋によって防止される。典型的なポリオー
ルにはグリセリン、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエタノールアミンおよびこれらの混合物
等がある。一般に、1モルのコポリマー対0.15〜0
.03モルのポリオールのモル比が満足できる。上記ブ
ロッキング層は好ましくは連続であり約0.01〜約1
μm の厚さを有する。それより大きい厚さは望ましく
ない高残留電圧をもたらす傾向にある。約0.05〜約
0.5μm のバリヤー層厚さが露光工程後の電荷中和
を容易にしかつ最適の電気性能を得るために好ましい。
マーを含有する組成物はアルコール溶液からコーティン
グとして容易に塗布してサイクルダウンおよびホワイト
スポットを防止できる。さらにまた、半エステルコポリ
マーは湿気およびはく離問題に対して感受性が小さい。 中和半エステルコポリマーは好ましくは約100℃以上
の温度に加熱したときグリセリンのようなポリオールと
架橋し得る遊離の酸成分を有するので、そのコーティン
グは、半エステルコーティング組成物が加熱時に架橋さ
れるために、その後塗布するコーティング中に含有され
る殆んどの有機溶媒に不溶性となる。湿気条件下でのは
く離もまた架橋によって防止される。典型的なポリオー
ルにはグリセリン、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエタノールアミンおよびこれらの混合物
等がある。一般に、1モルのコポリマー対0.15〜0
.03モルのポリオールのモル比が満足できる。上記ブ
ロッキング層は好ましくは連続であり約0.01〜約1
μm の厚さを有する。それより大きい厚さは望ましく
ない高残留電圧をもたらす傾向にある。約0.05〜約
0.5μm のバリヤー層厚さが露光工程後の電荷中和
を容易にしかつ最適の電気性能を得るために好ましい。
【0015】ブロッキング層はスプレー、ディップコー
ティング、延伸棒コーティング、グラビアコーティング
、シルクスクリーニング、エアナイフコーティング、リ
バースロールコーティング等の任意適当な方法によって
塗布し得る。薄層を得るのに有利なのは、ブロッキング
層を好ましくは希溶液の形で塗布し、エチルまたはメチ
ルアルコールをコーティングの塗布後真空の適用または
加熱等の方法によって除去する。ブロッキング層溶液は
フェノール層に塗布し加熱してフェノール層とバリヤー
層間、例えば、マレイン酸の遊離酸基とフェノール樹脂
の遊離ヒドロキシ基間の架橋エステルを得ることができ
る。十分な架橋は約60℃〜約120℃で約1分〜約2
4時間、好ましくは100℃で約10分〜約1時間およ
び120℃で約10分〜約1時間加熱することによって
起こすことができる。従って、各層間の優れた結合が得
られる。乾燥温度はオープン、強制送風炉、放射加熱ラ
ンプ等の任意の適当な方法によって維持できる。乾燥時
間は温度による。即ち、高温を用いた時程時間は短い。 一般的には、時間を長くすれば、溶媒の除去量も増大す
る。十分な乾燥が行なわれているかどうかはクロマトグ
ラフまたは重量分析によって容易に測定できる。上記半
エステルを含有するコーティング組成物はコーティング
を塗布するのに用いた溶媒に不溶性となる。この不溶性
は架橋の結果であり、その後塗布するコーティング溶液
の溶媒がブロッキング層がそのような溶媒に可溶性であ
るとき悪影響を及ぼすので重要である。
ティング、延伸棒コーティング、グラビアコーティング
、シルクスクリーニング、エアナイフコーティング、リ
バースロールコーティング等の任意適当な方法によって
塗布し得る。薄層を得るのに有利なのは、ブロッキング
層を好ましくは希溶液の形で塗布し、エチルまたはメチ
ルアルコールをコーティングの塗布後真空の適用または
加熱等の方法によって除去する。ブロッキング層溶液は
フェノール層に塗布し加熱してフェノール層とバリヤー
層間、例えば、マレイン酸の遊離酸基とフェノール樹脂
の遊離ヒドロキシ基間の架橋エステルを得ることができ
る。十分な架橋は約60℃〜約120℃で約1分〜約2
4時間、好ましくは100℃で約10分〜約1時間およ
び120℃で約10分〜約1時間加熱することによって
起こすことができる。従って、各層間の優れた結合が得
られる。乾燥温度はオープン、強制送風炉、放射加熱ラ
ンプ等の任意の適当な方法によって維持できる。乾燥時
間は温度による。即ち、高温を用いた時程時間は短い。 一般的には、時間を長くすれば、溶媒の除去量も増大す
る。十分な乾燥が行なわれているかどうかはクロマトグ
ラフまたは重量分析によって容易に測定できる。上記半
エステルを含有するコーティング組成物はコーティング
を塗布するのに用いた溶媒に不溶性となる。この不溶性
は架橋の結果であり、その後塗布するコーティング溶液
の溶媒がブロッキング層がそのような溶媒に可溶性であ
るとき悪影響を及ぼすので重要である。
【0016】本発明によるブロッキング層の電荷ブロッ
キング効果は厚さとは実質的に無関係であり、その結果
として、消去露光後に残留電位の実質的な増加はない。 任意構成成分の接着層5はブロッキング層4と電荷発生
層6間で用いて両層間の接着性を改善し得る。任意の適
当な接着材料を任意構成成分の接着層2と5用に使用し
得る。これら接着層は好ましくは約0.001〜約0.
2μm の乾燥厚さを有する。典型的な接着層にはポリ
エステル〔例えば、E.I.デュポン社より入手できる
49,000樹脂;グッドイヤー ラバーアンド
タイヤ社より入手できるバイテル(Vitel)PE−
100およびバイテルPE−200樹脂)、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、ポ
リメチルメタクリレート、4−ビニルピロリドン等のよ
うなフィルム形成性ポリマーがある。デュポン49,0
00は分子量約70,000を有する4つの二酸(di
acids) とエチレングリコールの直鎖状飽和コポ
リエステルである。その分子構造を次に示す: HO−CO−[ 二酸−エチレングリコール ]n −
OHこのコポリエステル中の二酸対エチレングリコール
の比は1:1である。二酸は4:4:1:1の比のテレ
フタル酸、イソフタル酸、アジピン酸およびアゼライン
酸である。
キング効果は厚さとは実質的に無関係であり、その結果
として、消去露光後に残留電位の実質的な増加はない。 任意構成成分の接着層5はブロッキング層4と電荷発生
層6間で用いて両層間の接着性を改善し得る。任意の適
当な接着材料を任意構成成分の接着層2と5用に使用し
得る。これら接着層は好ましくは約0.001〜約0.
2μm の乾燥厚さを有する。典型的な接着層にはポリ
エステル〔例えば、E.I.デュポン社より入手できる
49,000樹脂;グッドイヤー ラバーアンド
タイヤ社より入手できるバイテル(Vitel)PE−
100およびバイテルPE−200樹脂)、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリウレタン、ポ
リメチルメタクリレート、4−ビニルピロリドン等のよ
うなフィルム形成性ポリマーがある。デュポン49,0
00は分子量約70,000を有する4つの二酸(di
acids) とエチレングリコールの直鎖状飽和コポ
リエステルである。その分子構造を次に示す: HO−CO−[ 二酸−エチレングリコール ]n −
OHこのコポリエステル中の二酸対エチレングリコール
の比は1:1である。二酸は4:4:1:1の比のテレ
フタル酸、イソフタル酸、アジピン酸およびアゼライン
酸である。
【0017】バイテルPE−100は分子量約50,0
00を有する2つの二酸とエチレングリコールの直鎖状
コポリエステルである。その分子構造は次のとおりであ
る: HO−CO−[ 二酸−エチレングリコール ]n −
OHこのコポリエステル中の二酸対エチレングリコール
の比は1:1である。2つの二酸は3:2の比のテレフ
タル酸とイソフタル酸である。バイテルPE−200は
分子量約45,000を有する2つの二酸と2つのジオ
ールの直鎖状飽和コポリエステルである。その分子構造
は次のとおりである: HO−CO−[ 二酸−ジオール ]n −OHこのコ
ポリエステル中の二酸とジオールの比は1:1である。 2つの二酸は1.2:1の比のテレフタル酸とイソフタ
ル酸である。2つのジオールは1.33:1の比のエチ
レングリコールと2,2−ジメチルプロパンジオールで
ある。接着層は適当な液体キャリヤーにより塗布できる
。典型的な液体キャリヤーには塩化メチレン、アルコー
ル、THF、ケトン類、エステル類、炭化水素類等があ
る。
00を有する2つの二酸とエチレングリコールの直鎖状
コポリエステルである。その分子構造は次のとおりであ
る: HO−CO−[ 二酸−エチレングリコール ]n −
OHこのコポリエステル中の二酸対エチレングリコール
の比は1:1である。2つの二酸は3:2の比のテレフ
タル酸とイソフタル酸である。バイテルPE−200は
分子量約45,000を有する2つの二酸と2つのジオ
ールの直鎖状飽和コポリエステルである。その分子構造
は次のとおりである: HO−CO−[ 二酸−ジオール ]n −OHこのコ
ポリエステル中の二酸とジオールの比は1:1である。 2つの二酸は1.2:1の比のテレフタル酸とイソフタ
ル酸である。2つのジオールは1.33:1の比のエチ
レングリコールと2,2−ジメチルプロパンジオールで
ある。接着層は適当な液体キャリヤーにより塗布できる
。典型的な液体キャリヤーには塩化メチレン、アルコー
ル、THF、ケトン類、エステル類、炭化水素類等があ
る。
【0018】任意の適当な電荷発生(光生成)層6を接
着層5(用いた場合)またはブロッキング層4に塗布で
きる。光生成層用の材料の例には、フィルム形成性バイ
ンダー中に分散させた非晶質セレン、三方晶セレン、お
よびセレン−テルル、セレン−テルル−ひ素、セレン−
ひ素からなる群より選ばれたセレン合金のような無機光
導電性粒子;米国特許第3,357,989号に記載さ
れているX形の無金属フタロシアニン、バナジルフタロ
シアニン、チタニルフタロシアニンおよび銅フタロシア
ニンのような金属フタロシアニンのようなフタロシアニ
ン顔料;ジブロモアンサンスロン、スクアリリウム;デ
ュポン社より商品名モナストラル(Monastral
)レッド、モナストラル バイオレットおよびモナス
トラル レッドYとして入手できるキナクリドン類;
バット(Vat)オレンジ1およびバットオレンジ3(
ジブロモ アンサンスロン顔料の商品名);ベンズイ
ミダゾールペリレン,米国特許第3,442,781号
に記載されている置換2,4−ジアミノ−トリアジン類
;アライドケミカル社より商品名インドファースト(I
ndofast) ダブル スカーレット,インド
ファースト バイオレット レーキB,インドフ
ァースト ブリリアント スカーレットおよびイン
ドファースト オレンジで出ている多環芳香族キノン
類等がある。当該技術において公知の他の適当な光生成
性物質も必要に応じて使用できる。非晶質ケイ素、微結
晶性シリカ、バナジルフタロシアニン、無金属フタロシ
アニン、ベンズイミダゾールペリレン、非晶質セレン、
三方晶セレン;セレン−テルル、セレン−テルル−ひ素
、セレン−ひ素のようなセレン合金、およびこれらの混
合物のような光導電性材料を含む電荷発生層は、それら
の白色光に対する感応性故に特に好ましい。バナジルフ
タロシアニン、無金属フタロシアニンおよびセレン合金
はまたこれらの材料が赤外光に対しても感応性であるさ
らなる利点を与える故に好ましい。
着層5(用いた場合)またはブロッキング層4に塗布で
きる。光生成層用の材料の例には、フィルム形成性バイ
ンダー中に分散させた非晶質セレン、三方晶セレン、お
よびセレン−テルル、セレン−テルル−ひ素、セレン−
ひ素からなる群より選ばれたセレン合金のような無機光
導電性粒子;米国特許第3,357,989号に記載さ
れているX形の無金属フタロシアニン、バナジルフタロ
シアニン、チタニルフタロシアニンおよび銅フタロシア
ニンのような金属フタロシアニンのようなフタロシアニ
ン顔料;ジブロモアンサンスロン、スクアリリウム;デ
ュポン社より商品名モナストラル(Monastral
)レッド、モナストラル バイオレットおよびモナス
トラル レッドYとして入手できるキナクリドン類;
バット(Vat)オレンジ1およびバットオレンジ3(
ジブロモ アンサンスロン顔料の商品名);ベンズイ
ミダゾールペリレン,米国特許第3,442,781号
に記載されている置換2,4−ジアミノ−トリアジン類
;アライドケミカル社より商品名インドファースト(I
ndofast) ダブル スカーレット,インド
ファースト バイオレット レーキB,インドフ
ァースト ブリリアント スカーレットおよびイン
ドファースト オレンジで出ている多環芳香族キノン
類等がある。当該技術において公知の他の適当な光生成
性物質も必要に応じて使用できる。非晶質ケイ素、微結
晶性シリカ、バナジルフタロシアニン、無金属フタロシ
アニン、ベンズイミダゾールペリレン、非晶質セレン、
三方晶セレン;セレン−テルル、セレン−テルル−ひ素
、セレン−ひ素のようなセレン合金、およびこれらの混
合物のような光導電性材料を含む電荷発生層は、それら
の白色光に対する感応性故に特に好ましい。バナジルフ
タロシアニン、無金属フタロシアニンおよびセレン合金
はまたこれらの材料が赤外光に対しても感応性であるさ
らなる利点を与える故に好ましい。
【0019】任意の適当な高分子フィルム形成性バイン
ダー材料を光生成バインダー層中のマトリックスとして
使用し得る。典型的な高分子フィルム形成性材料には、
例えば、米国特許第3,121,006号に記載された
材料がある。バインダーポリマーは接着層に良好に付着
し、接着層の上表面を溶解する溶媒中に溶解しかつ接着
層のコポリエステルと混和性であってポリマーブレンド
領域を形成すべきである。典型的な溶媒にはモノクロロ
ベンゼン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、塩化
メチレン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2
−トリクロロエタン、ジクロロエチレン、トルエン、お
よびこれらの混合物等がある。溶媒混合物を用いて蒸発
範囲を調整してもよい。例えば、満足できる結果は重量
で約90:10〜約10:90のテトラヒドロフラン対
トルエン比で得ることができる。一般的には、光生成性
顔料、バインダーポリマーおよび溶媒の組合せにより、
電荷発生層コーティング組成物中の光生成性顔料の均一
分散体を形成すべきである。典型的な組合せにはポリビ
ニルカルバゾール、三方晶セレンおよびテトラヒドロフ
ラン;フェノキシ樹脂、三方晶セレンおよびトルエン;
並びにポリカーボネート樹脂、バナジルフタロシアニン
および塩化メチレンがある。電荷発生層バインダーポリ
マー用の溶媒は電荷発生層中で用いるポリマーバインダ
ーを溶解しかつ電荷発生層中に存在する光生成性顔料粒
子を分散し得べきである。
ダー材料を光生成バインダー層中のマトリックスとして
使用し得る。典型的な高分子フィルム形成性材料には、
例えば、米国特許第3,121,006号に記載された
材料がある。バインダーポリマーは接着層に良好に付着
し、接着層の上表面を溶解する溶媒中に溶解しかつ接着
層のコポリエステルと混和性であってポリマーブレンド
領域を形成すべきである。典型的な溶媒にはモノクロロ
ベンゼン、テトラヒドロフラン、シクロヘキサン、塩化
メチレン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2
−トリクロロエタン、ジクロロエチレン、トルエン、お
よびこれらの混合物等がある。溶媒混合物を用いて蒸発
範囲を調整してもよい。例えば、満足できる結果は重量
で約90:10〜約10:90のテトラヒドロフラン対
トルエン比で得ることができる。一般的には、光生成性
顔料、バインダーポリマーおよび溶媒の組合せにより、
電荷発生層コーティング組成物中の光生成性顔料の均一
分散体を形成すべきである。典型的な組合せにはポリビ
ニルカルバゾール、三方晶セレンおよびテトラヒドロフ
ラン;フェノキシ樹脂、三方晶セレンおよびトルエン;
並びにポリカーボネート樹脂、バナジルフタロシアニン
および塩化メチレンがある。電荷発生層バインダーポリ
マー用の溶媒は電荷発生層中で用いるポリマーバインダ
ーを溶解しかつ電荷発生層中に存在する光生成性顔料粒
子を分散し得べきである。
【0020】樹脂バインダー組成物中の光生成性化合物
または顔料は種々の量で用いることができる。一般的に
は、約5〜約90容量%の光生成性顔料を約95〜約1
0容量%の樹脂バインダー中に分散させる。1つの実施
態様においては、約8容量%の光生成性顔料を約92容
量%の樹脂バインダー組成物中に分散させる。別の実施
態様においては、約90容量%の光生成性顔料を約10
%のバインダー中に分散させる。光導電性化合物および
/または顔料および樹脂バインダー材料を含有する光生
成層は一般に約0.1〜約5.0μm の厚さ範囲にあ
り、好ましくは約0.3〜約3μm の厚さを有する。 光生成層の厚さは一般に顔料含有量による。高バインダ
ー含有量の組成物は一般に光生成のためには厚目の層を
必要とする。上記以外の厚さも本発明の目的が達成され
る限り使用できる。任意の適当な方法を用いて光生成層
コーティング混合物を混合しその後前以って乾燥させた
接着層に塗布できる。典型的な塗布方法にはスプレー法
、ディップコーティング、ロールコーティング、ワイヤ
ー巻棒コーティング等がある。塗布したコーティングの
乾燥はオーブン乾燥、赤外線乾燥、風乾等の任意の適当
な通常の方法で行ってコーティングを塗布するのに用い
た実質的にすべての溶媒を除去できる。
または顔料は種々の量で用いることができる。一般的に
は、約5〜約90容量%の光生成性顔料を約95〜約1
0容量%の樹脂バインダー中に分散させる。1つの実施
態様においては、約8容量%の光生成性顔料を約92容
量%の樹脂バインダー組成物中に分散させる。別の実施
態様においては、約90容量%の光生成性顔料を約10
%のバインダー中に分散させる。光導電性化合物および
/または顔料および樹脂バインダー材料を含有する光生
成層は一般に約0.1〜約5.0μm の厚さ範囲にあ
り、好ましくは約0.3〜約3μm の厚さを有する。 光生成層の厚さは一般に顔料含有量による。高バインダ
ー含有量の組成物は一般に光生成のためには厚目の層を
必要とする。上記以外の厚さも本発明の目的が達成され
る限り使用できる。任意の適当な方法を用いて光生成層
コーティング混合物を混合しその後前以って乾燥させた
接着層に塗布できる。典型的な塗布方法にはスプレー法
、ディップコーティング、ロールコーティング、ワイヤ
ー巻棒コーティング等がある。塗布したコーティングの
乾燥はオーブン乾燥、赤外線乾燥、風乾等の任意の適当
な通常の方法で行ってコーティングを塗布するのに用い
た実質的にすべての溶媒を除去できる。
【0021】活性電荷輸送層7は電荷発生層からの光生
成した正孔および/または電子の注入を支持しかつこれ
ら正孔または電子の有機層を通しての輸送を行って表面
電荷を選択的に放電し得る任意の適当な透明の有機ポリ
マーまたは非高分子材料を含み得る。活性電荷輸送層は
正孔または電子を輸送するように機能するばかりでなく
、光導電性層を磨耗または化学侵蝕から保護し、従って
、感光体像形成部材の操作寿命を延長する。電荷輸送層
はゼログラフィーで有用な光の波長、例えば、4000
〜9000オングストロームに露光させたとき、あった
としても無視し得る放電しか示してはならない。従って
、電荷輸送層は光導電体を使用すべき領域の電磁線に対
して実質的に透明である。即ち、活性電荷輸送層は電荷
発生層からの光生成した正孔または電子の注入を支持す
る材料である。活性電荷輸送層は、露光を該輸送層を通
して行うとき、照射電磁線の殆んどを下地層の電荷発生
層が利用して効果的な光生成を行うようにするため、通
常透明である。透明基体を用いる場合、像形成露光また
は消去は基体を通して行い、すべての光が基体を通過す
る。この場合、活性輸送材料は使用する波長領域におい
て透過性である必要はない。電荷発生層と接触させた電
荷輸送層は、電荷輸送層上の静電荷が照射の不存在下で
は導電しない程度に絶縁性である。
成した正孔および/または電子の注入を支持しかつこれ
ら正孔または電子の有機層を通しての輸送を行って表面
電荷を選択的に放電し得る任意の適当な透明の有機ポリ
マーまたは非高分子材料を含み得る。活性電荷輸送層は
正孔または電子を輸送するように機能するばかりでなく
、光導電性層を磨耗または化学侵蝕から保護し、従って
、感光体像形成部材の操作寿命を延長する。電荷輸送層
はゼログラフィーで有用な光の波長、例えば、4000
〜9000オングストロームに露光させたとき、あった
としても無視し得る放電しか示してはならない。従って
、電荷輸送層は光導電体を使用すべき領域の電磁線に対
して実質的に透明である。即ち、活性電荷輸送層は電荷
発生層からの光生成した正孔または電子の注入を支持す
る材料である。活性電荷輸送層は、露光を該輸送層を通
して行うとき、照射電磁線の殆んどを下地層の電荷発生
層が利用して効果的な光生成を行うようにするため、通
常透明である。透明基体を用いる場合、像形成露光また
は消去は基体を通して行い、すべての光が基体を通過す
る。この場合、活性輸送材料は使用する波長領域におい
て透過性である必要はない。電荷発生層と接触させた電
荷輸送層は、電荷輸送層上の静電荷が照射の不存在下で
は導電しない程度に絶縁性である。
【0022】活性電荷輸送層は電気的に不活性な高分子
材料中に分散させ、これら高分子材料を電気的に活性に
する添加剤として有用な活性化用化合物を含み得る。こ
れらの化合物は電荷輸送層からの光生成正孔の注入を支
持し得ずかつこれら正孔の輸送を行い得ない高分子材料
に添加し得る。この添加により電気的に不活性な高分子
化合物を電荷発生層からの光生成正孔の注入を支持し得
かつこれら正孔の活性電荷輸送層を通しての輸送を行い
、活性電荷輸送層上の表面電荷を放電し得る材料に転化
する。多層光導電体で用いる特に好ましい電荷輸送層は
約25〜約75重量%の少なくとも1種の電荷輸送性芳
香族アミン化合物と、約75〜約25重量%の該芳香族
アミンが可溶性である高分子フィルム形成性樹脂とを含
む。
材料中に分散させ、これら高分子材料を電気的に活性に
する添加剤として有用な活性化用化合物を含み得る。こ
れらの化合物は電荷輸送層からの光生成正孔の注入を支
持し得ずかつこれら正孔の輸送を行い得ない高分子材料
に添加し得る。この添加により電気的に不活性な高分子
化合物を電荷発生層からの光生成正孔の注入を支持し得
かつこれら正孔の活性電荷輸送層を通しての輸送を行い
、活性電荷輸送層上の表面電荷を放電し得る材料に転化
する。多層光導電体で用いる特に好ましい電荷輸送層は
約25〜約75重量%の少なくとも1種の電荷輸送性芳
香族アミン化合物と、約75〜約25重量%の該芳香族
アミンが可溶性である高分子フィルム形成性樹脂とを含
む。
【0023】電荷輸送層形成用混合物は、好ましくは、
下記の式:
下記の式:
【化2】
(式中、R1 およびR2 は、各々、置換または非置
換のフェニル基、ナフチル基およびポリフェニル基から
なる群より選ばれた芳香族基であり、R3 は置換また
は非置換のアリール基、1〜18個の炭素原子を有する
アルキル基および3〜18個の炭素原子を有する脂環式
基からなる群より選ばれる。)を有する1種以上の化合
物の芳香族アミン化合物を含む電荷輸送材料を含む。電
荷輸送層形成用混合物は好ましくはトリアリールアミン
、即ち、上式中R1 R2 およびR3 のすべてがア
リール基を示すアミンを含む電荷輸送材料を含む。置換
基(R1 〜R3 )は NO2基、 CN 基等の電
子吸引基を含むべきでない。上記の構造式で示される典
型的な芳香族アミン化合物には下記のものがある:
換のフェニル基、ナフチル基およびポリフェニル基から
なる群より選ばれた芳香族基であり、R3 は置換また
は非置換のアリール基、1〜18個の炭素原子を有する
アルキル基および3〜18個の炭素原子を有する脂環式
基からなる群より選ばれる。)を有する1種以上の化合
物の芳香族アミン化合物を含む電荷輸送材料を含む。電
荷輸送層形成用混合物は好ましくはトリアリールアミン
、即ち、上式中R1 R2 およびR3 のすべてがア
リール基を示すアミンを含む電荷輸送材料を含む。置換
基(R1 〜R3 )は NO2基、 CN 基等の電
子吸引基を含むべきでない。上記の構造式で示される典
型的な芳香族アミン化合物には下記のものがある:
【0024】I. 次のようなトリフェニルアミン類
:
:
【化3】
II. 次のようなビスおよびポリトリアリールアミ
ン類:
ン類:
【化4】
【0025】III. 次のようなビスアリールエー
テル類:
テル類:
【化5】
IV. 次のようなビスアルキル−アリールアミン類
:
:
【化6】
好ましい芳香族アミン化合物は下記の式を有する:
【化
7】
7】
【0026】(式中、R1 およびR2 は前記で定義
したとおりであり、R4 は置換または非置換のビフェ
ノール基、ジフェニルエーテル基、1〜18個の炭素原
子を有するアルキル基、および3〜12個の炭素原子を
有する脂環式基からなる群より選ばれる。)各置換基は
NO2基、CN基等の電子吸引基を含むべきでない。 電荷発生層からの光生成正孔の注入を支持しかつこれら
正孔を電荷輸送層を通じて輸送し得る電荷輸送層用の上
述の構造式によって示される電荷輸送芳香族アミンの例
には、不活性樹脂バインダー中に分散させたトリフェニ
ルメタン、ビス(4−ジエチルアミン−2−メチルフェ
ニル)フェニルメタン、4′−4″−ビス(ジエチルア
ミノ)−2′,2″−ジメチルトリフェニルメタン、N
,N’−ビス(アルキルフェニル)−(1,1′−ビス
フェニル)−4,4′−ジアミン(式中、アルキルは、
例えば、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル等であ
る)、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″−
メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4
′−ジアミン等がある。
したとおりであり、R4 は置換または非置換のビフェ
ノール基、ジフェニルエーテル基、1〜18個の炭素原
子を有するアルキル基、および3〜12個の炭素原子を
有する脂環式基からなる群より選ばれる。)各置換基は
NO2基、CN基等の電子吸引基を含むべきでない。 電荷発生層からの光生成正孔の注入を支持しかつこれら
正孔を電荷輸送層を通じて輸送し得る電荷輸送層用の上
述の構造式によって示される電荷輸送芳香族アミンの例
には、不活性樹脂バインダー中に分散させたトリフェニ
ルメタン、ビス(4−ジエチルアミン−2−メチルフェ
ニル)フェニルメタン、4′−4″−ビス(ジエチルア
ミノ)−2′,2″−ジメチルトリフェニルメタン、N
,N’−ビス(アルキルフェニル)−(1,1′−ビス
フェニル)−4,4′−ジアミン(式中、アルキルは、
例えば、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル等であ
る)、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″−
メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4
′−ジアミン等がある。
【0027】塩化メチレンまたは他の適当な溶媒中に可
溶性の任意の適当な不活性樹脂バインダーを使用し得る
。塩化メチレンに可溶性の典型的な不活性樹脂バインダ
ーには、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアクリレート
、ポリエーテル、ポリスルホン等がある。分子量は約2
0,000〜約1,500,000の範囲で変えること
ができる。これらバインダーを溶解する他の溶媒にはモ
ノクロロベンゼン、テトラヒドロフラン、トルエン、ジ
クロロエチレン、1,1,2−トリクロロエタン、1,
1,1−トリクロロエタン等がある。好ましい電気的に
不活性な樹脂材料は分子量約20,000〜約120,
000、より好ましくは約50,000〜約100,0
00を有するポリカーボネート樹脂である。電気的に不
活性な樹脂材料として最も好ましい材料はジェネラル
エレクトリック社よりレクサン(Lexan)145
として入手できる分子量約35,000〜約40,00
0を有するポリ(4,4′−ジプロピリデン−ジフェニ
レンカーボネート);ジェネラル エレクトリック社
よりレクサン141として入手できる分子量約40,0
00〜約45,000を有するポリ(4,4′−イソプ
ロピリデン−ジフェニレンカーボネート);ファルベン
ファブリケン バイエル社よりマクロロン(Ma
krolon) として入手できる分子量約50,00
0〜約100,000を有するポリカーボネート樹脂;
モーベイケミカル社よりメルロン(Merlon) と
して入手できる分子量約20,000〜約50,000
を有するポリカーボネート樹脂;および4,4′−シク
ロヘキシリデンジフェニルポリカーボネートである。塩
化メチレン溶媒は、すべての成分を適切に溶解しまたそ
の低沸点故に、電荷輸送層コーティング混合物の望まし
い成分である。
溶性の任意の適当な不活性樹脂バインダーを使用し得る
。塩化メチレンに可溶性の典型的な不活性樹脂バインダ
ーには、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアクリレート
、ポリエーテル、ポリスルホン等がある。分子量は約2
0,000〜約1,500,000の範囲で変えること
ができる。これらバインダーを溶解する他の溶媒にはモ
ノクロロベンゼン、テトラヒドロフラン、トルエン、ジ
クロロエチレン、1,1,2−トリクロロエタン、1,
1,1−トリクロロエタン等がある。好ましい電気的に
不活性な樹脂材料は分子量約20,000〜約120,
000、より好ましくは約50,000〜約100,0
00を有するポリカーボネート樹脂である。電気的に不
活性な樹脂材料として最も好ましい材料はジェネラル
エレクトリック社よりレクサン(Lexan)145
として入手できる分子量約35,000〜約40,00
0を有するポリ(4,4′−ジプロピリデン−ジフェニ
レンカーボネート);ジェネラル エレクトリック社
よりレクサン141として入手できる分子量約40,0
00〜約45,000を有するポリ(4,4′−イソプ
ロピリデン−ジフェニレンカーボネート);ファルベン
ファブリケン バイエル社よりマクロロン(Ma
krolon) として入手できる分子量約50,00
0〜約100,000を有するポリカーボネート樹脂;
モーベイケミカル社よりメルロン(Merlon) と
して入手できる分子量約20,000〜約50,000
を有するポリカーボネート樹脂;および4,4′−シク
ロヘキシリデンジフェニルポリカーボネートである。塩
化メチレン溶媒は、すべての成分を適切に溶解しまたそ
の低沸点故に、電荷輸送層コーティング混合物の望まし
い成分である。
【0028】特に好ましい多層型光導電体は、光導電性
材料のバインダー層を含む電荷発生層と、下記の式:
材料のバインダー層を含む電荷発生層と、下記の式:
【
化8】 (式中、Xは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基お
よび塩素からなる群より選ばれる)を有する1種以上の
化合物約25〜約75重量%を分散させた分子量約20
,000〜約120,000を有するポリカーボネート
樹脂材料の連続正孔輸送層とを含み、光導電性層が正孔
の光生成と正孔の注入能力を示し、正孔輸送層が光導電
性層が光生成し、光生成した正孔を注入するスペクトル
領域では実質的に非吸収性であるが、光導電性層からの
光生成正孔の注入を支持し、かつこれら正孔を正孔輸送
層を通じて輸送し得るものである。
化8】 (式中、Xは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基お
よび塩素からなる群より選ばれる)を有する1種以上の
化合物約25〜約75重量%を分散させた分子量約20
,000〜約120,000を有するポリカーボネート
樹脂材料の連続正孔輸送層とを含み、光導電性層が正孔
の光生成と正孔の注入能力を示し、正孔輸送層が光導電
性層が光生成し、光生成した正孔を注入するスペクトル
領域では実質的に非吸収性であるが、光導電性層からの
光生成正孔の注入を支持し、かつこれら正孔を正孔輸送
層を通じて輸送し得るものである。
【0029】接地ストリップ(図示せず)を像形成部材
の外端に電荷輸送層と隣接して設け得る。米国特許第4
,664,995号を参照されたい。接地ストリップは
接地装置(図示せず)との接地接触を与えるように電荷
輸送層に隣接してコーティングする。
の外端に電荷輸送層と隣接して設け得る。米国特許第4
,664,995号を参照されたい。接地ストリップは
接地装置(図示せず)との接地接触を与えるように電荷
輸送層に隣接してコーティングする。
【実施例】本発明を以下の実施例においてさらに具体的
に説明するが、これらの実施例は単なる例示であり、本
発明をこれら実施例において示した材料、条件およびプ
ロセスパラメーターに限定するものではないことを理解
されたい。
に説明するが、これらの実施例は単なる例示であり、本
発明をこれら実施例において示した材料、条件およびプ
ロセスパラメーターに限定するものではないことを理解
されたい。
【0030】〔比較例1〕接着層をTHF/シクロヘキ
サンを溶媒とする 1/2%ポリエステル(デュポン4
9,000)の溶液から調製し、1/2 ミル(12.
7μm )空隙バード棒で3ミル(76.2μm )ポ
リエステル(マイラー)フィルム上にコーティングした
。このコーティングフィルムを100℃で1時間かけ、
強制的に送風乾燥させた。THF/シクロヘキサン(5
0:50)に導電性カーボンブラック、即ち、ブラック
パール(Black Pearle) 2000(キャ
ボット社)とバルカム(Varcum) 29−112
(Reichhold 社) とを20/80比で加え
たスラリーをボールミリングにより調製した。このスラ
リーを上記の49,000をコーティングしたマイラー
上に 1/2ミル(12.7μm )空隙バード棒でコ
ーティングし、100℃で1時間かけ、強制送風炉中で
乾燥させた。これによって感光体用の導電性層を形成さ
せた。上述したような 1/2%49,000溶液の接
着層を上記導電性カーボンブラック層上にコーティング
し、強制送風炉中で100℃で1時間乾燥させた。セレ
ン/PVK(50:50THF/TOL溶液中に10容
量%)の電荷発生層を上記接着層上に 1/2ミル(1
2.7μm )空隙バード棒でコーティングし、125
℃で30分間乾燥させた。電荷輸送層を上記電荷発生層
上に4.5ミル(114.3μm)バード棒でコーティ
ングした。この層は重量比1:1のN,N′−ジフェニ
ル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−1,1′
−ビフェニル−4,4′−ジアミンと塩化メチレンを溶
媒とするマクロロンの溶液(15%固形分)から調製し
た。これを80℃で15分、次いで125℃で15分間
乾燥させた。この装置のゼログラフィーサイクル試験は
許容し得ない電荷アクセプタンスを示した。接着層と発
生層間の接着力は、インストロン テンシル テス
ターによる逆はがし試験では、10〜15gであった。 電気特性は後の表1に示す。
サンを溶媒とする 1/2%ポリエステル(デュポン4
9,000)の溶液から調製し、1/2 ミル(12.
7μm )空隙バード棒で3ミル(76.2μm )ポ
リエステル(マイラー)フィルム上にコーティングした
。このコーティングフィルムを100℃で1時間かけ、
強制的に送風乾燥させた。THF/シクロヘキサン(5
0:50)に導電性カーボンブラック、即ち、ブラック
パール(Black Pearle) 2000(キャ
ボット社)とバルカム(Varcum) 29−112
(Reichhold 社) とを20/80比で加え
たスラリーをボールミリングにより調製した。このスラ
リーを上記の49,000をコーティングしたマイラー
上に 1/2ミル(12.7μm )空隙バード棒でコ
ーティングし、100℃で1時間かけ、強制送風炉中で
乾燥させた。これによって感光体用の導電性層を形成さ
せた。上述したような 1/2%49,000溶液の接
着層を上記導電性カーボンブラック層上にコーティング
し、強制送風炉中で100℃で1時間乾燥させた。セレ
ン/PVK(50:50THF/TOL溶液中に10容
量%)の電荷発生層を上記接着層上に 1/2ミル(1
2.7μm )空隙バード棒でコーティングし、125
℃で30分間乾燥させた。電荷輸送層を上記電荷発生層
上に4.5ミル(114.3μm)バード棒でコーティ
ングした。この層は重量比1:1のN,N′−ジフェニ
ル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−1,1′
−ビフェニル−4,4′−ジアミンと塩化メチレンを溶
媒とするマクロロンの溶液(15%固形分)から調製し
た。これを80℃で15分、次いで125℃で15分間
乾燥させた。この装置のゼログラフィーサイクル試験は
許容し得ない電荷アクセプタンスを示した。接着層と発
生層間の接着力は、インストロン テンシル テス
ターによる逆はがし試験では、10〜15gであった。 電気特性は後の表1に示す。
【0031】〔実施例2〕ガントレズ169(GAF社
)の5%アルコール溶液を攪拌しながら、24時間リフ
ラックスさせて半エステルを得た。溶液の粘度は反応が
進行するにつれて増大した。この溶液に、アルコールを
媒体とする水酸化リチウムの溶液を加えて、半エステル
の酸基の化学量論的に 1/2を中和した。中和後、こ
の溶液を0.5%に希釈し比較例1の導電性層と接着層
の間にコーティングした。スキャナーでの電気サイクル
試験は装置が良好な電荷アクセプタンスを有して許容し
得ることを示した。電気特性については表1を参照され
たい。装置全体の接着層と発生体層間の接着力も高容量
複写機用の感光体を設計するのに許容し得るもの(10
〜15g)であることが判った。シート抵抗値は8×1
03 オーム/sqであり、光透過性は1.6%であっ
た。
)の5%アルコール溶液を攪拌しながら、24時間リフ
ラックスさせて半エステルを得た。溶液の粘度は反応が
進行するにつれて増大した。この溶液に、アルコールを
媒体とする水酸化リチウムの溶液を加えて、半エステル
の酸基の化学量論的に 1/2を中和した。中和後、こ
の溶液を0.5%に希釈し比較例1の導電性層と接着層
の間にコーティングした。スキャナーでの電気サイクル
試験は装置が良好な電荷アクセプタンスを有して許容し
得ることを示した。電気特性については表1を参照され
たい。装置全体の接着層と発生体層間の接着力も高容量
複写機用の感光体を設計するのに許容し得るもの(10
〜15g)であることが判った。シート抵抗値は8×1
03 オーム/sqであり、光透過性は1.6%であっ
た。
【0032】〔実施例3〕実施例2におけるのと同じ手
順を追試したが、導電性層中のカーボン含有量25%で
行った。この導電性層のシート抵抗値は2.5×103
オーム/sqであり、光透過性は1%未満であった。 〔実施例4〕実施例2におけるのと同じ手順を追試した
が、導電性層中のカーボン含有量17%で行った。この
導電性層のシート抵抗値は2.5×104 オーム/s
qであり、光透過性は2%であった。 〔実施例5〕実施例2におけるのと同じ手順を追試した
が、導電性層中のカーボン含有量15%で行った。この
導電性層のシート抵抗値は8×104 オーム/sqで
あり、光透過性は5%であった。
順を追試したが、導電性層中のカーボン含有量25%で
行った。この導電性層のシート抵抗値は2.5×103
オーム/sqであり、光透過性は1%未満であった。 〔実施例4〕実施例2におけるのと同じ手順を追試した
が、導電性層中のカーボン含有量17%で行った。この
導電性層のシート抵抗値は2.5×104 オーム/s
qであり、光透過性は2%であった。 〔実施例5〕実施例2におけるのと同じ手順を追試した
が、導電性層中のカーボン含有量15%で行った。この
導電性層のシート抵抗値は8×104 オーム/sqで
あり、光透過性は5%であった。
【0033】〔実施例6〕実施例2におけるのと同じ手
順を追試したが、導電性層中のカーボン含有量10%で
行った。この導電性層のシート抵抗値は7×107 オ
ーム/sqであり、光透過性は17%であった。 〔実施例7〕実施例2におけるのと同じ手順を追試した
が、水酸化リチウムを水酸化ナトリウムと置換えた。電
気的特性は良好であり、表2に示す。 〔比較例8〕実施例2におけるのと同じ手順を追試した
が、水酸化リチウムを用いなかった。半エステル/酸を
そのまま使用した。電気的特性は良好な電荷アクセプタ
ンスを示したが、高暗減衰と10,000回サイクル試
験で貧弱なサイクル安定性を示した。電気特性を表2に
示す。
順を追試したが、導電性層中のカーボン含有量10%で
行った。この導電性層のシート抵抗値は7×107 オ
ーム/sqであり、光透過性は17%であった。 〔実施例7〕実施例2におけるのと同じ手順を追試した
が、水酸化リチウムを水酸化ナトリウムと置換えた。電
気的特性は良好であり、表2に示す。 〔比較例8〕実施例2におけるのと同じ手順を追試した
が、水酸化リチウムを用いなかった。半エステル/酸を
そのまま使用した。電気的特性は良好な電荷アクセプタ
ンスを示したが、高暗減衰と10,000回サイクル試
験で貧弱なサイクル安定性を示した。電気特性を表2に
示す。
【0034】〔実施例9〕実施例2におけるのと同じ手
順を追試したが、0.1%のエチレンジグリコールを半
エステル溶液に加えた。エチレンジグリコールは乾燥中
に作用する架橋剤として用いた。グリコールは高湿度で
の接着性を助長させる。電気的サイクル安定性は許容し
得るものであった。 〔実施例10〕実施例2におけるのと同じ手順を追試し
たが、ナイロンチューブをマイラー基体の代りに用い、
ナイロンチューブに接着剤を塗布しなかった。代りに、
導電性層をナイロンチューブに直接コーティングした。 許容し得る電気的結果を得た。 〔実施例11〕実施例10と同じ手順を追試したが、2
0%の導電性カーボンブラックをナイロンに加えた。こ
の装置は別個の接地用ストリップなしで用いた。チュー
ブを合金接地型感光体で用いる金属ドラムと同じような
取付け固定具により接地した。許容し得る電気的結果を
得た。
順を追試したが、0.1%のエチレンジグリコールを半
エステル溶液に加えた。エチレンジグリコールは乾燥中
に作用する架橋剤として用いた。グリコールは高湿度で
の接着性を助長させる。電気的サイクル安定性は許容し
得るものであった。 〔実施例10〕実施例2におけるのと同じ手順を追試し
たが、ナイロンチューブをマイラー基体の代りに用い、
ナイロンチューブに接着剤を塗布しなかった。代りに、
導電性層をナイロンチューブに直接コーティングした。 許容し得る電気的結果を得た。 〔実施例11〕実施例10と同じ手順を追試したが、2
0%の導電性カーボンブラックをナイロンに加えた。こ
の装置は別個の接地用ストリップなしで用いた。チュー
ブを合金接地型感光体で用いる金属ドラムと同じような
取付け固定具により接地した。許容し得る電気的結果を
得た。
【0035】
表 1電気的特性
バリヤー層なし バリヤー層(水
酸化リチウム
処理ガントレズ)
(比較例1)
(実施例2) 電荷アクセプタンス
400 ボルト
880 ボルト暗減衰,/秒
200 ボルト
80 ボルト1回光フラッシュ,
220 ボルトから 800ボルトから12
0 ボルトへ 5エルグ
120 ボルトへ光消去,300 エルグ
5 ボルト
10 ボルト
表 1電気的特性
バリヤー層なし バリヤー層(水
酸化リチウム
処理ガントレズ)
(比較例1)
(実施例2) 電荷アクセプタンス
400 ボルト
880 ボルト暗減衰,/秒
200 ボルト
80 ボルト1回光フラッシュ,
220 ボルトから 800ボルトから12
0 ボルトへ 5エルグ
120 ボルトへ光消去,300 エルグ
5 ボルト
10 ボルト
【0036】
表 2電気的特性
バリヤー層あり バリヤ
ー層あり(水酸化
(ガントレズ単独) ナトリ
ウム 処理)
(比較例8)
(実施例7) 電荷アクセプタンス
750 ボルト
880 ボルト暗減衰,/秒
250 ボルト
90 ボルト1回光フラッシュ,
500 ボルトから 790ボルトから120
ボルトへ 5エルグ
120 ボルトへ光消去,300 エルグ
10 ボルト
10 ボルト
表 2電気的特性
バリヤー層あり バリヤ
ー層あり(水酸化
(ガントレズ単独) ナトリ
ウム 処理)
(比較例8)
(実施例7) 電荷アクセプタンス
750 ボルト
880 ボルト暗減衰,/秒
250 ボルト
90 ボルト1回光フラッシュ,
500 ボルトから 790ボルトから120
ボルトへ 5エルグ
120 ボルトへ光消去,300 エルグ
10 ボルト
10 ボルト
【0037】本発明を特に好ましい実施
態様に関して説明して来たけれども、本発明はこれら特
定の実施例に限定されるものでなく、当業者ならば、他
の実施態様および修正を本発明の精神および範囲を逸脱
することなくなし得るであろう。
態様に関して説明して来たけれども、本発明はこれら特
定の実施例に限定されるものでなく、当業者ならば、他
の実施態様および修正を本発明の精神および範囲を逸脱
することなくなし得るであろう。
【図1】本発明による電子写真像形成部材の断面図を示
す。
す。
1 支持基体
2 接着層
3 導電性層
4 ブロッキング層
5 接着層
6 電荷発生層
7 電荷輸送層
Claims (1)
- 【請求項1】 少なくとも1つの光導電性層と、マレ
イン酸半エステルコポリマーのアルカリ金属塩を含むブ
ロック層とを含み、前記コポリマー内の遊離酸基の少な
くとも1部がアルカリ金属で中和されていることを特徴
とする電子写真像形成部材。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/635,310 US5110700A (en) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | Electrophotographic imaging member |
US07/635310 | 1990-12-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04277751A true JPH04277751A (ja) | 1992-10-02 |
Family
ID=24547280
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3320219A Withdrawn JPH04277751A (ja) | 1990-12-28 | 1991-12-04 | 電子写真像形成部材 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5110700A (ja) |
JP (1) | JPH04277751A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018109196A (ja) * | 2015-08-21 | 2018-07-12 | 住友ベークライト株式会社 | 樹脂組成物、樹脂膜および電子装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3106906B2 (ja) * | 1995-06-02 | 2000-11-06 | 富士電機株式会社 | 電子写真用円筒状支持体および電子写真用有機感光体 |
US6156803A (en) * | 1997-10-14 | 2000-12-05 | Isp Investments Inc | Aqueous, flowable suspension concentrate of an agriculturally active chemical, and sprayable use formulation thereof |
US7341812B2 (en) * | 2005-04-14 | 2008-03-11 | Xerox Corporation | Photosensitive member having two layer undercoat |
US8273514B2 (en) * | 2009-05-22 | 2012-09-25 | Xerox Corporation | Interfacial layer and coating solution for forming the same |
JP5430352B2 (ja) * | 2009-11-02 | 2014-02-26 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3007901A (en) * | 1953-11-12 | 1961-11-07 | Eastman Kodak Co | Resinous mixed alkyl ester and carboxy ester lactones and preparation process therefor |
US3121006A (en) * | 1957-06-26 | 1964-02-11 | Xerox Corp | Photo-active member for xerography |
US3357989A (en) * | 1965-10-29 | 1967-12-12 | Xerox Corp | Metal free phthalocyanine in the new x-form |
US3442781A (en) * | 1966-01-06 | 1969-05-06 | Xerox Corp | Photoelectrophoretic and xerographic imaging processes employing triphenodioxazines as the electrically photosensitive component |
BE734288A (ja) * | 1968-06-10 | 1969-11-17 | ||
US3745005A (en) * | 1971-08-25 | 1973-07-10 | Eastman Kodak Co | Electrophotographic elements having barrier layers |
JPS5135147B2 (ja) * | 1972-11-06 | 1976-09-30 | ||
US4082551A (en) * | 1977-03-31 | 1978-04-04 | Eastman Kodak Company | Electrophotographic element containing a multilayer interlayer |
US4265990A (en) * | 1977-05-04 | 1981-05-05 | Xerox Corporation | Imaging system with a diamine charge transport material in a polycarbonate resin |
US4296190A (en) * | 1977-06-24 | 1981-10-20 | Ricoh Co., Ltd. | Photosensitive material for use in electrophotography with a radiation cured binder resin |
US4306008A (en) * | 1978-12-04 | 1981-12-15 | Xerox Corporation | Imaging system with a diamine charge transport material in a polycarbonate resin |
US4299897A (en) * | 1978-12-15 | 1981-11-10 | Xerox Corporation | Aromatic amino charge transport layer in electrophotography |
US4233384A (en) * | 1979-04-30 | 1980-11-11 | Xerox Corporation | Imaging system using novel charge transport layer |
US4362713A (en) * | 1980-07-25 | 1982-12-07 | Johnson & Johnson Products Inc. | Salts of maleic acid copolymers as dental plaque barrier agents |
US4439507A (en) * | 1982-09-21 | 1984-03-27 | Xerox Corporation | Layered photoresponsive imaging device with photogenerating pigments dispersed in a polyhydroxy ether composition |
JPS59208556A (ja) * | 1983-05-11 | 1984-11-26 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
US4579801A (en) * | 1983-08-02 | 1986-04-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member having phenolic subbing layer |
US4664995A (en) * | 1985-10-24 | 1987-05-12 | Xerox Corporation | Electrostatographic imaging members |
-
1990
- 1990-12-28 US US07/635,310 patent/US5110700A/en not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-12-04 JP JP3320219A patent/JPH04277751A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018109196A (ja) * | 2015-08-21 | 2018-07-12 | 住友ベークライト株式会社 | 樹脂組成物、樹脂膜および電子装置 |
JP2018172700A (ja) * | 2015-08-21 | 2018-11-08 | 住友ベークライト株式会社 | 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、樹脂膜および電子装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5110700A (en) | 1992-05-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990311 |