JPH10293201A

JPH10293201A - 撥水処理光学要素

Info

Publication number: JPH10293201A
Application number: JP9100188A
Authority: JP
Inventors: Hirohisa Kato; 裕久加藤; Masanori Sugiura; 正宣杉浦; Tomonori Aoki; 智則青木; Kazunori Miyashita; 和典宮下; Hiroyuki Seki; 浩幸関
Original assignee: OPUTORON KK; Itoh Optical Industrial Co Ltd; Seiko Epson Corp
Current assignee: OPUTORON KK; Itoh Optical Industrial Co Ltd; Seiko Epson Corp
Priority date: 1997-04-17
Filing date: 1997-04-17
Publication date: 1998-11-04

Abstract

(57)【要約】【課題】撥水性に優れていると共に、耐久性に優れて
いる撥水処理光学要素を提供すること。【解決手段】接触角が８０°以上の非硬化性の撥水処
理層が、下記要件〜を満たす非反応性シリコーン樹
脂の蒸着膜で形成されてなる撥水処理光学要素。繰り返し単位がＲＳｉＯ_3/2 で、末端が（ＣＨ₃ ）₃
ＳｉＯ_1/2 で、封止されてなるポリオルガノシロキサン
（但し、Ｒ：アルキル、アリール、またはハロゲン化ア
ルキル。）数平均分子量（ＧＰＣ法：ポリスチレン換算）が、3,
000 〜200,000 軟化点が、６０〜１５０℃

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、撥水処理光学要素に関
する。特に、眼鏡用・写真用レンズとして好適な発明で
ある。

【０００２】本明細書で、配合単位は、特に断らない限
り、重量単位である。

【０００３】

【従来の技術】眼鏡用や写真用レンズの場合、水滴が付
着すると、結像がゆがめられるため、水滴が付着しがた
いことが望ましい。水滴付着の原因は、親水性の無機ガ
ラス基材や、有機ガラス基材の表面に、反射率低減また
は増大のために親水性の金属酸化物・ハロゲン化物層
（以下「金属酸化物層等」）に、手あか・塵埃等の汚れ
が付着したり、また、微細な傷が発生したりすると、不
均一な親水性面となるためである。

【０００４】そして、前記金属酸化物層等は、通常、真
空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等で代
表されるＰＶＤ（Physical Vapor deposition ：物理蒸
着メッキ）法で形成されている。このため、金属酸化物
層等の表面は微細凹凸が存在し、より汚れ等が付着し易
く、付着後も除去しがたいとともに、微細な傷も発生し
易い。従って、金属酸化物層等が表面に形成されている
場合、水滴付着の傾向が増大する。

【０００５】このような場合、撥水処理をすることが考
えられる。そして、当該撥水処理層は、撥水性に優れて
いることは勿論、耐久性に優れていることが望ましい。

【０００６】そして、上記金属酸化物層（無機コート
膜）を撥水処理を行う従来技術として、下記のような特
許文献がある。

【０００７】特開昭６２−１６９１０２・２４７３０
２号公報：塗布（浸漬等）やガス化反応によりハロゲン
化シラン化合物、または、Ｓｉ−Ｎ結合等を有するシラ
ン化合物を、無機コート膜に反応させて撥水処理を行
う。

【０００８】特開平５−２１５９０５・６−３４０９
６６号公報：フルオロアルキルシラザン等のシラン化合
物を多孔性材料（燒結フィルター・スチールウール等）
に含浸させて、無機コート膜に真空下・加熱蒸着させて
撥水処理を行う。

【０００９】特公平６−５３２４号公報：有機ポリシ
ロキサン系重合物またはパーフルオロアルキル基含有化
合物を重合してなる重合物からなる有機物含有硬化物質
層を、浸漬後・硬化（反応）させて無機コート膜上に形
成することにより形成して撥水処理を行う。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記撥水処理
技術は、いずれも、耐久性に優れていることを目的とし
て、使用する撥水剤が、いずれも反応性を有するシラン
化合物である。このため、撥水剤のポットライフが短
く、安定した撥水性（耐水性・滑り性等）を得難いこと
が分かってきた。また、上記やの如くフッ素含有シ
ラン化合物を使用する場合は、撥水剤の価格が高いとい
う問題点もある。

【００１１】また、金属酸化物層を真空蒸着により形成
する場合は、上記の如く、同一の真空蒸着槽を使用し
て撥水処理を行うことが、生産性・効率の面から望まし
い。

【００１２】しかし、上記のに開示されている撥水剤
を用いて真空蒸着により撥水処理を行う場合は、撥水剤
の受け皿として、多孔性材料を使用する。このため、該
撥水剤と空気との接触面積が増大し、撥水剤が空気中の
水分と反応して、使用期間がより短くなり、安定した撥
水性を得難くなる。更には、光学要素基材が有機ガラス
の場合、該表面で重合・硬化させるため、収縮歪みを生
じ易く、光学性能に悪影響を与えるおそれがある。

【００１３】本発明は、上記にかんがみて、反応性撥水
剤を使用しなくても耐久性に優れた撥水処理膜を有し、
かつ、撥水剤の使用期間が長くて、安定した撥水性が得
られる撥水処理光学要素を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明に係る撥水処理光
学要素は、上記課題を、下記構成により解決するもので
ある。

【００１５】接触角が８０°以上で非硬化性の撥水処理
層が、下記要件〜を満たす非反応性シリコーン樹脂
の蒸着膜で形成されてなることを特徴とする撥水処理光
学要素。

【００１６】繰り返し単位がＲＳｉＯ_3/2 で、末端が
（ＣＨ₃ ）₃ ＳｉＯ_1/2 で、封止されてなるポリオルガ
ノシロキサン（但し、Ｒ：アルキル、アリール、または
ハロゲン化アルキル。）数平均分子量（ＧＰＣ法：ポリスチレン換算）が、3,
000 〜200,000 軟化点が、６０〜１５０℃ なお、上記ＧＰＣ法とは、ゲルマトパーミュエーション
クロマトグラフィーの略で、ポリスチレンゲルを用いて
測定したものである。

【００１７】

【手段の詳細な説明】次に、上記手段の各構成について
詳細な説明を行う。

【００１８】(1) 本発明は、特定の非反応性シリコーン
樹脂を蒸着して撥水処理層を形成した場合、該撥水処理
層が、撥水性に優れるとともに、耐久性にも優れること
を見出したことにある。

【００１９】ここで、特定の非反応性シリコーンオイル
とは、下記要件〜を満たすものとする。

【００２０】繰り返し単位がＲＳｉＯ_3/2 で、末端が
（ＣＨ₃ ）₃ ＳｉＯ_1/2 で、封止されてなるポリオルガ
ノシロキサン（但し、Ｒ：アルキル、アリール、または
ハロゲン化アルキル。）数平均分子量（ＧＰＣ法：ポリスチレン換算）が、3,
000 〜200,000 （望ましくは、10,000〜100,000 ）軟化点が、６０〜１５０℃（望ましくは、８０〜１２
０℃）具体的には、特開平４−１７８４２８号公報の特許請求
の範囲の欄に記載の下記構成のもののうちから上記〜
の要件を満たすものを使用でき、製造方法の具体例
は、本件公報に記載されている。

【００２１】「ＲＳｉＯ_3/2 単位３０〜９９モル％Ｒ₂ ＳｉＯ単位０〜８０モル％Ｒ₃ ＳｉＯ_1/2 単位１〜２０モル％およびＳｉＯ₂ 単位０〜５０モル％（式中、ここで、Ｒは非置換の１価の炭化水素基および
／またはポリフルオロアルキル基を表す。）より構成さ
れ、平均分子量が５００以上であり且つシラノール基が
０．５％以下であることを特徴とする非反応性シリコー
ン樹脂。」ここで、上記〜に限定した理由は、下記の通りであ
る。

【００２２】(i) 非反応性レジンを固形化するために
は、ＲＳｉＯ_3/2 ポリマーを主体にすることが製造上、
不可欠である。

【００２３】(ii)上記の組成から軟化点６０〜１５０
℃に対応する分子量は、3,000 〜200,000 である。

【００２４】(iii) 軟化点が６０℃以上でないと、常温
で固形化しないため、製品化が困難である。

【００２５】また、上記撥水処理層の膜厚は、通常、１
〜１００ｎｍとする。

【００２６】(2) 本発明の非硬化性の撥水処理層である
非反応性シリコーン樹脂の蒸着膜をセラミックス層上に
形成する方法としては、特に限定されないが、下記各公
報で提示されている方法が望ましい。

【００２７】第一手法（特開平４−７２０５５号公報
の請求項２参照）「有機系保護被膜の形成が、真空中で気化し得る有機系
被膜形成物質を含浸固化させた多孔性セラミックスを加
熱することによって行われる。」第二手法（特開平６−３４０９６６号公報の請求項１
参照）「真空槽内で有機系被膜形成物質を加熱・蒸発せしめ、
無機コート膜上に有機系被膜を形成する表面処理方法に
おいて、該有機系被膜形成物質を繊維状の導電性物質の
塊に付着させ、それを加熱し、該無機コート膜上に該有
機系被膜を形成する。」本発明に非反応性シリコーン樹脂を蒸着させる場合の上
記第一手法・第二手法の条件は、それぞれ下記の通りと
する。

【００２８】(i) 第一手法：真空度１０^-3〜１０^-7Tor
r、蒸発源温度３００〜８００℃、時間１〜５分間 (ii)第二手法：真空度１０^-3〜１０^-7Torr、蒸発源温度
３００〜５００℃、時間１〜３分間 (3) 本発明を適用する基材としては、無機ガラス、有機
ガラスを問わない。ポリメチルメタクリレート、ポリジ
エチレングリコールビスアリルカーボネート、ポリカー
ボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、不飽和ポリ
エステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタ
ン、その他が挙げられる。

【００２９】無機ガラスの場合は、直接本物質を蒸着
し、撥水処理することができる。

【００３０】有機ガラスの場合は、基材と本物質の密着
が劣るため、本撥水処理前にセラミックス蒸着膜を形成
することが必須となる。該セラミックス蒸着膜は、通
常、反射防止膜やハーフミラー膜を兼ねる。

【００３１】使用するセラミックスとしては、各種金属
酸化物、金属ハロゲン化物を使用できる。金属酸化物と
しては、酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、
酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化セリウム、酸化
イットリウム等を挙げることができる。

【００３２】また、金属ハロゲン化物としては、フッ化
マグネシウム、フッ化セリウム、フッ化ランタン、フッ
化ネオジウム等を挙げることができる。

【００３３】また、有機ガラスの種類によっては、残留
モノマー、水分等のガスが発生するため、予めシリコー
ン系、アクリル系等のガス防止用コートを施すことも必
要である。

【００３４】一般には、上記無機物を蒸着処理する前
に、ガス及び硬度の対策として、有機ガラスの上にハー
ドコート層を施すことが多い。

【００３５】ハードコート層としては、通常、下記一般
式で示される有機シラン化合物および／またはその部分
加水分解物の硬化物で形成することが望ましい（特公平
６−５３２４号公報等参照）。

【００３６】Ｒ¹ _aＲ² _bＳｉ（ＯＲ³ ）_4-a-b （ここで、Ｒ¹ 、Ｒ² は各々アルキル基、アルケニル
基、アリール基、またはハロゲン基、エポキシ基、グリ
シドキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリロオキ
シド基あるいはシアノ基を有する炭化水素基、Ｒ³ は炭
素数が１〜８のアルキル基、アルコキシアルキル基、ア
シル基、アリール基、ａおよびｂは０または１、かつ、
ａ＋ｂは０、１または２である。）また、耐衝撃性改善のために、上記ハードコート層とガ
ラス基材との間にウレタン樹脂等からなるプライマー層
を慣用の手段で形成することも可能である（特開平６−
１１８２０３・５−１４２４０１・３−１０９５０２
号、特開昭６３−８７２２３号公報等）。

【００３７】(4) 本発明は、各種光学要素に適用可能で
あり、具体的には、眼鏡レンズ、カメラレンズ、パソコ
ンのディスプレー等に付設する光学フィルター、各種光
学フィルター、自動車用窓ガラス等、その他である。

【００３８】

【発明の効果】本発明の撥水処理光学要素は、上記構成
により、後述の実施例で示す如く、反応性撥水剤を使用
しなくても耐久性に優れた撥水処理膜を有し、かつ、撥
水剤の使用期間が長くて、安定した撥水性が得られる。

【００３９】また、撥水剤として、従来技術の如く、反
応性を有するシラン化合物を使用しない。このため、
撥水剤のポットライフが長く、従来技術に比して、安定
した撥水性（耐水性・滑り性等）を得易い、また、生
産性の見地から、多孔性材料を撥水剤の受け皿として真
空加熱蒸着により撥水処理するに際しても、撥水剤が空
気中の水分と反応して、使用期間がより短くなるような
ことはなく、安定した撥水性を得易い、更には、光学
要素基材が有機ガラスの場合、従来技術の如く、有機ガ
ラス表面で重合・硬化させないため、収縮歪みが生じる
ことなく、光学性能に悪影響を与えるおそれがない。

【００４０】更に、本発明に使用する撥水剤は、フッ素
含有シラン化合物に比して安価であり、上記生産性と相
まって、光学要素の撥水処理コストの低減化も可能とな
る。

【００４１】

【実施例】以下、本発明の効果を確認するために行っ
た、実施例について比較例とともに説明をする。以下の
説明で、「部」は「重量部」を意味する。

【００４２】＜試験片の調製＞表１〜２に示す組み合わ
せで、基材上に、単層または複層の処理膜を形成した。

【００４３】(1) 各基材の符号はそれぞれ下記仕様のも
のに各下記前処理を施したものである。

【００４４】「Ｇ」：白板ガラス、屈折率１．５３（λ
＝５２０ｎｍ）３０mmφ、厚さ１．２mmの平板；アセトン含浸木綿布で拭く。

【００４５】「Ｐ−１」：ポリメチルメタアクリレー
ト、屈折率１．４９（λ＝５２０ｎｍ）、７０mmφ、プ
ラノレンズ（中心厚：１．８mm）三菱レーヨン社製、商品名「アクリペット」；アルコール含浸木綿布で拭く。

【００４６】「Ｐ−２」：ポリジエチレングリコールビ
スアリルカーボネート屈折率１．５０（λ＝５２０ｎｍ）、７０mmφ、プラノ
レンズ（中心厚：１．９mm）；１０％濃度苛性ソーダ液（５０℃）に３分間浸漬後、
水洗いをを十分にしたものを、アルコール含浸木綿布で
拭く。

【００４７】「Ｐ−３」：チオウレタン系ポリマー、屈
折率１．６６（λ＝５２０ｎｍ）、７０mmφ、プラノレ
ンズ（中心厚１．２mm）モノマーは、三井東圧化学製、商品名「ＭＲ−７」；３％濃度苛性ソーダ液（５０℃）を３分間浸漬後、水
洗いを十分にしたものを、アルコール含浸布で拭く。

【００４８】(2) ハードコート層の符号はそれぞれ下記
ハードコート液を、下記塗布方法により形成したもので
ある。

【００４９】「ＨＤ−１」：（液調製）メチルトリメトキシシラン１５０部、ケイ酸
エチル５０部、イソプロピルアルコール１８０部を混合
し、１０^-2ＮＨＣｌを４６部添加して混合し、加水分解
を行い、さらに、酢酸カリウムを８部添加、溶解させて
ハードコート液ＨＤ−１を作成した。

【００５０】（塗布方法）Ｐ−１基材をＨＤ−１液に浸
漬、引き上げスピード１５０mm／min で引き上げ後、８
０℃で２時間乾燥させた。なお、膜厚は２．０μｍ、屈
折率は１．４７であった。

【００５１】「ＨＤ−２」：（液調製）γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン１００部、ケイ酸エチル３０部、メチルアルコール１
００部を混合し、１０^-2ＮＨＣｌを３０部添加して混合
し、加水分解を行い、さらに、メタノールシリカゾル
（酸化ケイ素３０部、平均粒径１５ｎｍ）を２００部添
加して混合し、さらに、触媒として、アセチルアセトン
アルミニウムを８部添加、溶解させてハードコート液Ｈ
Ｄ−２を作成した。

【００５２】（塗布方法）Ｐ−２基材をＨＤ−２液に浸
漬、引き上げスピード１２０mm／min で引き上げ後、１
００℃で２時間乾燥させた。なお、膜厚は２．３μｍ、
屈折率は１．５１であった。

【００５３】「ＨＤ−３」：（液調製）γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン１００部、ケイ酸エチル１０部、メチルアルコール５
０部を混合し、１０^-2ＮＨＣｌを２６部添加して混合
し、加水分解を行い、さらに、メタノールチタニアゾル
（酸化チタン３０部、平均粒径１７ｎｍ）２２０部を添
加して混合し、さらに、触媒として、アセチルアセトン
アルミニウムを８部添加、溶解させてハードコート液Ｈ
Ｄ−３を作成した。

【００５４】（塗布方法）Ｐ−３基材をＨＤ−３液に浸
漬、引き上げスピード１２０mm／min で引き上げ後、１
００℃で２時間乾燥させた。膜厚は２．５μｍ、屈折率
は１．６６であった。

【００５５】(3) セラミックス蒸着層各セラミックス蒸着層の符号はそれぞれ下記仕様（λ＝
５２０ｎｍ）となるように、蒸着装置として「シンクロ
ン（株）製ＶＥ８００型」を使用し、各層を蒸着したも
のである。

【００５６】「Ｓ−１」：膜厚０．２５λのＳｉＯ₂ 単
層膜「Ｓ−２」：膜厚０．２５λのＭｇＦ₂ 単層膜「ＡＲ−１」：基材またはハードコート層側から、０．
１５λＺｒＯ₂ ／０．２５λＳｉＯ₂ からなる反射防止
膜Ｍ−１：基材側から０．２５λＺｒＯ₂ ／０．２５λＳ
ｉＯ₂ の交互の８層膜からなるハーフミラー膜ＡＲ−２：ハードコート層側から０．２５λＳｉＯ₂ ／
０．２５λＺｒＯ₂の交互の４層膜に、最上層０．２５
λＳｉＯ₂ からなる反射防止膜 (5) 撥水処理層表１に示す各撥水処理層の符号はそれぞれ、下記Ａ・Ｂ
受け皿に下記各撥水剤を添加して、蒸発装置「（株）シ
ンクロン製ＶＥ８００型」内にセットし、加熱源とし
て、Ａ受皿のとき電子銃（出力４ｋＶ×７ｍＡ）、Ｂ受
け皿のときタングステン製抵抗加熱ボート（幅３０mm、
長さ７０mm、厚さ０．２mm）で、それぞれ撥水剤を蒸発
させ、撥水層を形成させた。

【００５７】Ａ受皿：スチールウール（日本スチール
ウール（株）製、＃０、線径０．０２５mm）１を外径１
８mm、高さ７mm、肉厚２mmで、上方が解放の円筒形の銅
に詰めたもの。

【００５８】Ｂ受皿：酸化ジルコニウムの粉末に、有
機バインダーを加え混合した後に、寸法が直径１８mm、
高さ１０mmの円筒形にプレス成形し、さらに、１４００
℃で６時間焼いたもの。

【００５９】（実施例群）「ＷＰ−Ａ」：Ａ受皿に非反応熱可塑性有機ケイ素化合
物（東芝シリコーン（株）製：ＸＲ３９−Ｂ１６７６）
０．２部をシクロヘキサン０．３部で溶解したものを添
加し、１２０℃で１時間乾燥したもの。

【００６０】「ＷＰ−Ｂ」：上記非反応熱可塑性有機ケ
イ素化合物固体２０部をシクロヘキサン３０部で溶解し
た溶液に、Ｂ受皿を１０分間浸漬後、１２０℃で１時間
乾燥したもの。

【００６１】なお、「ＸＲ３９−Ｂ１６７６」は、数平
均分子量（ＧＰＣ法）18,000、軟化点８６℃の固体粉末
である。

【００６２】（比較例群）「ＷＰＲ」：両末端にシラノール基を有するジメチルシ
ロキサン（数平均分子量：２６，０００）１０部、炭化
水素溶媒のアイパーＥ部を添加・混合し、さらに、エチ
ルトリアセトキシシラン１部、ジブチルスズアセテート
０．０５部を添加・混合し、２４時間放置した。その
後、メチルイソブチルケトン５４０部と、シクロヘキサ
ノン５４０部を添加・混合し、撥水塗料組成物とした。

【００６３】塗布及び硬化：撥水塗料組成物に浸漬、引
き上げスピード１００mm／min で引き上げ後、２４時間
室温で乾燥、硬化させた。

【００６４】Ｂ．試験方法上記のようにして調製をした各実施例・比較例の試験片
について、下記各項目の試験を膜評価試験を行った。

【００６５】＜初期膜評価方法＞外観：蛍光灯を使用し、肉眼にて干渉色、曇り等を観
察する。

【００６６】密着性：１ｃｍ² の表面の中にナイフで
縦、横に１ミリ間隔毎に切れめを入れ、１mm² のマス目
を１００個形成させた。さらに、該表面にセロハンテー
プ（ニチバン製、１８mm）を強く押しつけた後、該表面
から９０°方向へ引っ張り、剥離した後のコート被膜の
残っているマス目の数で判断した。

【００６７】良好：１マス目も剥離しない。

【００６８】不良：１マス目以上剥離。

【００６９】接触角：接触角計（協和界面化学製：Ｃ
Ａ−Ｄ型）を用いて蒸留水による液滴法で測定した。接触角判定１００°≦ ◎ 撥水性優良８０°≦ ○ 撥水性良６０°≦ △ 撥水性有り６０°＞ Χ 撥水性なし＜膜耐久性評価＞各耐久性試験後の表面（膜）の接触角
を測定し、判定した。接触角の測定方法については、上
記に同じである。

【００７０】拭き耐久性：メタノールとエチルエーテ
ルとの混合溶液（混合比１：１）を木綿布に吸収させ、
手で表面を１００回擦った後の接触角を測定した。

【００７１】耐アルカリ性：苛性ソーダでｐＨ１１に
調整した液に、室温で６時間浸漬後の接触角を測定し
た。

【００７２】耐候性：耐候性試験機（スガ試験機
（株）製：サンシャインスーパーロングライフウェザー
メーター）で２００時間暴露後の接触角を測定した。

【００７３】Ｃ．試験結果・評価上記試験の結果を示す表３〜４から、本発明の実施例
は、いずれも、撥水性に優れているとともに、耐久性能
においても、従来例（比較例４・５・８・９・１１・１
２）に優るとも劣らないことが分かる。

【００７４】

【表１】

【００７５】

【表２】

【００７６】

【表３】

【００７７】

【表４】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者杉浦正宣愛知県蒲郡市宮成町３番19号伊藤光学工業株式会社内 (72)発明者青木智則茨城県取手市白山７丁目５番16号株式会社オプトロン内 (72)発明者宮下和典長野県諏訪市大和３丁目３番５号セイコーエプソン株式会社内 (72)発明者関浩幸長野県諏訪市大和３丁目３番５号セイコーエプソン株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】接触角が８０°以上の非硬化性の撥水処
理層が、下記要件〜を満たす非反応性シリコーン樹
脂の蒸着膜で形成されてなることを特徴とする撥水処理
光学要素。繰り返し単位がＲＳｉＯ_3/2 で、末端が（ＣＨ₃ ）₃
ＳｉＯ_1/2 で、封止されてなるポリオルガノシロキサン
（但し、Ｒ：アルキル、アリール、またはハロゲン化ア
ルキル。）数平均分子量（ＧＰＣ法：ポリスチレン換算）が、3,
000 〜200,000 軟化点が、６０〜１５０℃
【請求項２】前記撥水処理層の直下に接して、蒸着金
属酸化物層からなる反射率調整層を備えてなることを特
徴とする請求項１記載の撥水処理光学要素。
【請求項３】光学要素基材が有機ガラスで形成されて
なり、前記光学要素基材と、前記光学要素基材と前記反
射率調整層との間にハードコート層を備えてなることを
特徴とする請求項２記載の撥水処理光学要素。
【請求項４】真空蒸着装置内で、請求項１に記載の前
記非反応性シリコーン樹脂を含浸固化させた多孔質セラ
ミックスを加熱することにより前記撥水処理層を蒸着形
成することを特徴とする光学要素の撥水処理方法。
【請求項５】真空蒸着装置内で、請求項１に記載の前
記非反応性シリコーン樹脂を繊維状の導電性物質の塊に
付着させ、それを加熱することにより撥水処理層を蒸着
形成することを特徴とする光学要素の撥水処理方法。