JPH10292034A - 側鎖にエチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）およびその製造方法 - Google Patents
側鎖にエチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）およびその製造方法Info
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- JPH10292034A JPH10292034A JP10161897A JP10161897A JPH10292034A JP H10292034 A JPH10292034 A JP H10292034A JP 10161897 A JP10161897 A JP 10161897A JP 10161897 A JP10161897 A JP 10161897A JP H10292034 A JPH10292034 A JP H10292034A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
- C08G2261/31—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating aromatic structural elements in the main chain
- C08G2261/312—Non-condensed aromatic systems, e.g. benzene
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- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規なエチレンオキシド鎖を有するポリ（フ
ェニレン）およびその工業的に有利な製造方法を提供す
る。 【解決手段】 下記一般式［１］で表されるエチレンオ
キシド鎖を有するポリ（フェニレン）、および下記一般
式［３］で表わされるジアルコキシベンゼンを酸化重合
するエチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）の
製造方法にかかるものである。 （式中、Ｒ1は下記一般式［２］で表わされるエチレン
オキシド鎖を表わし、Ｒ2は炭素数１〜１０の炭化水素
基または下記一般式［２］で表わされるエチレンオキシ
ド鎖を表わし、ｎは平均の重合度で２以上の数を表わ
す。） （式中、Ｒ3〜Ｒ6は水素原子または炭素数１〜１０の炭
化水素基を表わし、Ｒ7は炭素数１〜１０の炭化水素基
を表わす。ｍは１〜１０の整数である。） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前記と同じである。）
ェニレン）およびその工業的に有利な製造方法を提供す
る。 【解決手段】 下記一般式［１］で表されるエチレンオ
キシド鎖を有するポリ（フェニレン）、および下記一般
式［３］で表わされるジアルコキシベンゼンを酸化重合
するエチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）の
製造方法にかかるものである。 （式中、Ｒ1は下記一般式［２］で表わされるエチレン
オキシド鎖を表わし、Ｒ2は炭素数１〜１０の炭化水素
基または下記一般式［２］で表わされるエチレンオキシ
ド鎖を表わし、ｎは平均の重合度で２以上の数を表わ
す。） （式中、Ｒ3〜Ｒ6は水素原子または炭素数１〜１０の炭
化水素基を表わし、Ｒ7は炭素数１〜１０の炭化水素基
を表わす。ｍは１〜１０の整数である。） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前記と同じである。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、導電性高分子、特
に表示材料または電池用途の電極材料として有用であ
る、エチレンオキシド鎖を有する新規なポリ（フェニレ
ン）およびその製造方法に関する。
に表示材料または電池用途の電極材料として有用であ
る、エチレンオキシド鎖を有する新規なポリ（フェニレ
ン）およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリ（フェニレン）は導電性高分子とし
て、特に高分子発光素子への応用が期待されている。こ
の分野では、高分子発光電気化学素子（ＬＥＣ）といわ
れる素子が最近提案され、その発光効率の高さから着目
されている。その構造は両電極間に導電性高分子とイオ
ン伝導性を有するポリエチレンオキシドおよび支持塩か
らなる高分子膜を挟んだもので、電極からの正負電荷の
注入とドーパントとなる支持塩の正負両イオンの移動に
より、膜中でｐ−ｎ接合が形成されることが動作原理と
なっていると推定される。電子伝導性を有する導電性高
分子にさらにイオン伝導性をも付与することができれ
ば、前記のような複合膜ではなく単一の材料で素子の製
造が可能になり、プロセス上大きな利点がある。
て、特に高分子発光素子への応用が期待されている。こ
の分野では、高分子発光電気化学素子（ＬＥＣ）といわ
れる素子が最近提案され、その発光効率の高さから着目
されている。その構造は両電極間に導電性高分子とイオ
ン伝導性を有するポリエチレンオキシドおよび支持塩か
らなる高分子膜を挟んだもので、電極からの正負電荷の
注入とドーパントとなる支持塩の正負両イオンの移動に
より、膜中でｐ−ｎ接合が形成されることが動作原理と
なっていると推定される。電子伝導性を有する導電性高
分子にさらにイオン伝導性をも付与することができれ
ば、前記のような複合膜ではなく単一の材料で素子の製
造が可能になり、プロセス上大きな利点がある。
【０００３】また、導電性高分子はしばしばポリマー電
池などの電極材料としても利用されている。電極活物質
と電解質成分との界面のイオン抵抗が高いこと、あるい
は活物質と集電体との電子伝導性が問題であり、電子伝
導性とイオン伝導性とを併せ持つ高分子材料はその解決
策として期待できる。
池などの電極材料としても利用されている。電極活物質
と電解質成分との界面のイオン抵抗が高いこと、あるい
は活物質と集電体との電子伝導性が問題であり、電子伝
導性とイオン伝導性とを併せ持つ高分子材料はその解決
策として期待できる。
【０００４】しかしながら、電子伝導性とイオン伝導性
とを併せ持つ高分子材料については従来ほとんど知られ
ていない。エチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレ
ン）誘導体として、J. Am. Chem. Soc., Vol. 118, pp
7416-7417 (1996)には、ポリ［９，９−ビス（３，６−
ジオキサヘプチル）フルオレン−２，７−ジイル］が報
告されているが、原料モノマーの製造が煩雑であるとい
う問題があった。
とを併せ持つ高分子材料については従来ほとんど知られ
ていない。エチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレ
ン）誘導体として、J. Am. Chem. Soc., Vol. 118, pp
7416-7417 (1996)には、ポリ［９，９−ビス（３，６−
ジオキサヘプチル）フルオレン−２，７−ジイル］が報
告されているが、原料モノマーの製造が煩雑であるとい
う問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】かかる状況下、本発明
が解決しようとする課題、即ち本発明の目的は、新規な
エチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）および
その工業的に有利な製造方法を提供することにある。
が解決しようとする課題、即ち本発明の目的は、新規な
エチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）および
その工業的に有利な製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成するべく鋭意研究を行った結果、安価な原料を用い
て温和な条件下に短いステップで容易に新規なエチレン
オキシド鎖を有するポリ（フェニレン）が得られること
を見出し本発明を完成するに至った。即ち本発明は、下
記一般式［１］で表されるエチレンオキシド鎖を有する
ポリ（フェニレン）、および下記一般式［３］で表わさ
れるジアルコキシベンゼンを酸化重合するエチレンオキ
シド鎖を有するポリ（フェニレン）の製造方法にかかる
ものである。 （式中、Ｒ1は下記一般式［２］で表わされるエチレン
オキシド鎖を表わし、Ｒ2は炭素数１〜１０の炭化水素
基または下記一般式［２］で表わされるエチレンオキシ
ド鎖を表わし、ｎは平均の重合度で２以上の数を表わ
す。） （式中、Ｒ3〜Ｒ6は水素原子または炭素数１〜１０の炭
化水素基を表わし、Ｒ7は炭素数１〜１０の炭化水素基
を表わす。ｍは１〜１０の整数である。） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前記と同じである。）
達成するべく鋭意研究を行った結果、安価な原料を用い
て温和な条件下に短いステップで容易に新規なエチレン
オキシド鎖を有するポリ（フェニレン）が得られること
を見出し本発明を完成するに至った。即ち本発明は、下
記一般式［１］で表されるエチレンオキシド鎖を有する
ポリ（フェニレン）、および下記一般式［３］で表わさ
れるジアルコキシベンゼンを酸化重合するエチレンオキ
シド鎖を有するポリ（フェニレン）の製造方法にかかる
ものである。 （式中、Ｒ1は下記一般式［２］で表わされるエチレン
オキシド鎖を表わし、Ｒ2は炭素数１〜１０の炭化水素
基または下記一般式［２］で表わされるエチレンオキシ
ド鎖を表わし、ｎは平均の重合度で２以上の数を表わ
す。） （式中、Ｒ3〜Ｒ6は水素原子または炭素数１〜１０の炭
化水素基を表わし、Ｒ7は炭素数１〜１０の炭化水素基
を表わす。ｍは１〜１０の整数である。） （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前記と同じである。）
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
上記一般式［１］においてＲ1は上記一般式［２］で表
わされるエチレンオキシド鎖を表わす。一般式［２］に
おけるＲ3〜Ｒ6は水素原子または炭素数１〜１０の炭化
水素基を表わす。炭化水素基としてはアルキル基が好ま
しく、具体例としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブ
チル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、オクチル基などが例示される。Ｒ3〜Ｒ6は好ましく
は、水素原子またはメチル基であり、最も好ましくは水
素原子である。
上記一般式［１］においてＲ1は上記一般式［２］で表
わされるエチレンオキシド鎖を表わす。一般式［２］に
おけるＲ3〜Ｒ6は水素原子または炭素数１〜１０の炭化
水素基を表わす。炭化水素基としてはアルキル基が好ま
しく、具体例としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブ
チル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、オクチル基などが例示される。Ｒ3〜Ｒ6は好ましく
は、水素原子またはメチル基であり、最も好ましくは水
素原子である。
【０００８】上記一般式［２］においてＲ7は炭素数１
〜１０の炭化水素基を表わす。炭化水素基としてはアル
キル基が好ましく、具体例としてはメチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、オクチル基などが例示される。Ｒ7は
好ましくは、炭素数１〜５の炭化水素基であり、さらに
好ましくはメチル基またはエチル基である。
〜１０の炭化水素基を表わす。炭化水素基としてはアル
キル基が好ましく、具体例としてはメチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル
基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、オクチル基などが例示される。Ｒ7は
好ましくは、炭素数１〜５の炭化水素基であり、さらに
好ましくはメチル基またはエチル基である。
【０００９】上記一般式［２］においてｍは１〜１０の
整数である。ｍは好ましくは１〜５であり、より好まし
くは１〜３である。
整数である。ｍは好ましくは１〜５であり、より好まし
くは１〜３である。
【００１０】上記一般式［１］においてＲ2は炭素数１
〜１０の炭化水素基または一般式［２］で表わされるエ
チレンオキシド鎖を表わす。炭化水素基としてはアルキ
ル基が好ましく、具体例としてはメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、
ｉｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、オクチル基などが例示される。炭化水素基
として好ましくは、炭素数１〜５の炭化水素基であり、
さらに好ましくはメチル基またはエチル基である。
〜１０の炭化水素基または一般式［２］で表わされるエ
チレンオキシド鎖を表わす。炭化水素基としてはアルキ
ル基が好ましく、具体例としてはメチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、
ｉｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、オクチル基などが例示される。炭化水素基
として好ましくは、炭素数１〜５の炭化水素基であり、
さらに好ましくはメチル基またはエチル基である。
【００１１】上記一般式［１］においてｎは平均の重合
度で２以上の数を表わす。ｎは好ましくは３〜１００で
ある。さらに好ましくは、５〜５０である。
度で２以上の数を表わす。ｎは好ましくは３〜１００で
ある。さらに好ましくは、５〜５０である。
【００１２】本発明のポリ（フェニレン）は、下記一般
式［３］で表されるエチレンオキシド鎖を有するジアル
コキシベンゼン類を酸化重合することにより製造可能で
ある。 （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前記と同じである。）
式［３］で表されるエチレンオキシド鎖を有するジアル
コキシベンゼン類を酸化重合することにより製造可能で
ある。 （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前記と同じである。）
【００１３】上記一般式［３］で表されるエチレンオキ
シド鎖を有するジアルコキシベンゼン類は、安価な原料
であるハイドロキノンまたはそのモノアルキルエーテル
と、エチレンオキシドのハロゲン化物とをアルカリ存在
下に反応させて容易に合成することが可能である。ハイ
ドロキノンを原料に用いればベンゼン環の両側にエチレ
ンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）を、ハイドロ
キノンモノアルキルエーテルからはベンゼン環の片方に
エチレンオキシド鎖を有しもう片方にアルコキシ基を有
するポリ（フェニレン）を製造することができる。
シド鎖を有するジアルコキシベンゼン類は、安価な原料
であるハイドロキノンまたはそのモノアルキルエーテル
と、エチレンオキシドのハロゲン化物とをアルカリ存在
下に反応させて容易に合成することが可能である。ハイ
ドロキノンを原料に用いればベンゼン環の両側にエチレ
ンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）を、ハイドロ
キノンモノアルキルエーテルからはベンゼン環の片方に
エチレンオキシド鎖を有しもう片方にアルコキシ基を有
するポリ（フェニレン）を製造することができる。
【００１４】上記一般式［３］で表されるエチレンオキ
シド鎖を有するジアルコキシベンゼン類を重合してポリ
（フェニレン）を得る際には、遷移金属錯体触媒、なか
でもオキソバナジウム（IV）錯体を触媒に用いて、酸化
剤、酸および溶媒存在下に酸化重合する方法が選択性お
よび経済性の上で好ましく用いられる。
シド鎖を有するジアルコキシベンゼン類を重合してポリ
（フェニレン）を得る際には、遷移金属錯体触媒、なか
でもオキソバナジウム（IV）錯体を触媒に用いて、酸化
剤、酸および溶媒存在下に酸化重合する方法が選択性お
よび経済性の上で好ましく用いられる。
【００１５】触媒の具体例としては、ビス（アセチルア
セトナト）オキソバナジウム（IV）錯体、ビス（ベンゾ
イルアセトナト）オキソバナジウム（IV）錯体、ビス
（ジベンゾイルメタナト）オキソバナジウム（IV）錯
体、ビス（トリフルオロアセチルアセトナト）オキソバ
ナジウム（IV）錯体、ビス（ヘキサフルオロアセチルア
セトナト）オキソバナジウム（IV）錯体等のオキソバナ
ジウム錯体が挙げられる。触媒の使用量は原料であるジ
アルコキシベンゼンに対して通常０．００１〜１０倍の
モル比で用いられる。
セトナト）オキソバナジウム（IV）錯体、ビス（ベンゾ
イルアセトナト）オキソバナジウム（IV）錯体、ビス
（ジベンゾイルメタナト）オキソバナジウム（IV）錯
体、ビス（トリフルオロアセチルアセトナト）オキソバ
ナジウム（IV）錯体、ビス（ヘキサフルオロアセチルア
セトナト）オキソバナジウム（IV）錯体等のオキソバナ
ジウム錯体が挙げられる。触媒の使用量は原料であるジ
アルコキシベンゼンに対して通常０．００１〜１０倍の
モル比で用いられる。
【００１６】酸化剤としては重合活性が維持される限り
任意のものが使用できるが、好ましくは酸素が用いられ
る。酸素源として好ましくは酸素ガスまたは空気が用い
られ、大気圧または加圧下において反応が行われる。
任意のものが使用できるが、好ましくは酸素が用いられ
る。酸素源として好ましくは酸素ガスまたは空気が用い
られ、大気圧または加圧下において反応が行われる。
【００１７】酸としては通常、プロトン酸および／また
は酸無水物が用いられる。酸としてはプロトン酸と酸無
水物を併用することが好ましい。
は酸無水物が用いられる。酸としてはプロトン酸と酸無
水物を併用することが好ましい。
【００１８】プロトン酸としては強酸性のものが好まし
く、具体的には硫酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸などが例示される。より好ましくはト
リフルオロメタンスルホン酸が用いられる。プロトン酸
の使用量は、原料である芳香族化合物に対して通常０．
００１〜１０倍のモル比で用いられる。
く、具体的には硫酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸などが例示される。より好ましくはト
リフルオロメタンスルホン酸が用いられる。プロトン酸
の使用量は、原料である芳香族化合物に対して通常０．
００１〜１０倍のモル比で用いられる。
【００１９】酸無水物として好ましくは、無水トリフル
オロ酢酸または無水トリフルオロメタンスルホン酸が用
いられる。酸無水物の使用量は、原料である芳香族化合
物に対して通常０．００１〜１０倍のモル比で用いられ
る。
オロ酢酸または無水トリフルオロメタンスルホン酸が用
いられる。酸無水物の使用量は、原料である芳香族化合
物に対して通常０．００１〜１０倍のモル比で用いられ
る。
【００２０】酸化重合反応は溶媒の非存在下でも行える
が、通常は溶媒の存在下で行われる。溶媒としては重合
活性が維持される限り任意のものが使用できるが、好ま
しくは非プロトン性溶媒が用いられる。具体的には、ベ
ンゼン、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニ
トロメタン、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル等が例示
される。溶媒の使用量は原料である芳香族化合物に対し
て、１〜１００倍の重量比で用いられる。
が、通常は溶媒の存在下で行われる。溶媒としては重合
活性が維持される限り任意のものが使用できるが、好ま
しくは非プロトン性溶媒が用いられる。具体的には、ベ
ンゼン、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルム、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニ
トロメタン、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル等が例示
される。溶媒の使用量は原料である芳香族化合物に対し
て、１〜１００倍の重量比で用いられる。
【００２１】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例によりその範囲を
限定されるものではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例によりその範囲を
限定されるものではない。
【００２２】参考例１ 下記式［４］で表わされるモノマー、１−（２−（２−
メトキシエトキシ）エトキシ−４−メトキシベンゼン
（以下ＭＥ２ＰＭと略すことがある。）の合成例であ
る。 マグネチックスターラおよび還流冷却器を備えた２００
ｍｌ三つ口フラスコ中に、窒素雰囲気下、４−メトキシ
フェノール２．４８ｇ（２０ｍｍｏｌ）、１−クロロ−
２−（２−メトキシエトキシ）エタン２．７７ｇ（２０
ｍｍｏｌ）、および塩化ベンジルトリメチルアンモニウ
ム０．７４ｇ（４ｍｍｏｌ）を入れ、トルエン３０ｍｌ
とジメチルスルホキシド１０ｍｌを加え撹拌した。これ
に５０％水酸化ナトリウム水溶液４０ｍｌを加え、６０
℃で８時間撹拌した。冷却後、水１００ｍｌに注ぎ濃塩
酸で中和した。トルエン１００ｍｌで３回抽出して合わ
せ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンをエ
バポレータで留去した。残りの液を減圧蒸留することに
より、ＭＥ２ＰＭを１０ｍｍＨｇで沸点が１７５℃の無
色液体として２．７９ｇ得た。1Ｈ−および13Ｃ−ＮＭ
Ｒスペクトル測定結果から得られた化合物がＭＥ２ＰＭ
である事が確認された。
メトキシエトキシ）エトキシ−４−メトキシベンゼン
（以下ＭＥ２ＰＭと略すことがある。）の合成例であ
る。 マグネチックスターラおよび還流冷却器を備えた２００
ｍｌ三つ口フラスコ中に、窒素雰囲気下、４−メトキシ
フェノール２．４８ｇ（２０ｍｍｏｌ）、１−クロロ−
２−（２−メトキシエトキシ）エタン２．７７ｇ（２０
ｍｍｏｌ）、および塩化ベンジルトリメチルアンモニウ
ム０．７４ｇ（４ｍｍｏｌ）を入れ、トルエン３０ｍｌ
とジメチルスルホキシド１０ｍｌを加え撹拌した。これ
に５０％水酸化ナトリウム水溶液４０ｍｌを加え、６０
℃で８時間撹拌した。冷却後、水１００ｍｌに注ぎ濃塩
酸で中和した。トルエン１００ｍｌで３回抽出して合わ
せ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンをエ
バポレータで留去した。残りの液を減圧蒸留することに
より、ＭＥ２ＰＭを１０ｍｍＨｇで沸点が１７５℃の無
色液体として２．７９ｇ得た。1Ｈ−および13Ｃ−ＮＭ
Ｒスペクトル測定結果から得られた化合物がＭＥ２ＰＭ
である事が確認された。
【００２３】参考例２ １−クロロ−２−（２−メトキシエトキシ）エタンに代
えて１−クロロ−２−（２−（２−メトキシエトキシ）
エトキシ）エタン３．５８ｇ（２０ｍｍｏｌ）を用いた
他は参考例１を繰り返すことにより、下記式［５］で表
わされるモノマー、１−（２−（２−（２−メトキシエ
トキシ）エトキシ）エトキシ−４−メトキシベンゼン
（以下ＭＥ３ＰＭと略すことがある。）を、１０ｍｍＨ
ｇで沸点が１９０℃の無色液体として３．３５ｇ得た。
1Ｈ−および13Ｃ−ＮＭＲスペクトル測定結果から得ら
れた化合物がＭＥ３ＰＭである事が確認された。
えて１−クロロ−２−（２−（２−メトキシエトキシ）
エトキシ）エタン３．５８ｇ（２０ｍｍｏｌ）を用いた
他は参考例１を繰り返すことにより、下記式［５］で表
わされるモノマー、１−（２−（２−（２−メトキシエ
トキシ）エトキシ）エトキシ−４−メトキシベンゼン
（以下ＭＥ３ＰＭと略すことがある。）を、１０ｍｍＨ
ｇで沸点が１９０℃の無色液体として３．３５ｇ得た。
1Ｈ−および13Ｃ−ＮＭＲスペクトル測定結果から得ら
れた化合物がＭＥ３ＰＭである事が確認された。
【００２４】参考例３ ハイドロキノン１１．０ｇ（０．１ｍｏｌ）、２−クロ
ロエチルエーテル２３．９ｇ（０．２２ｍｏｌ）、塩化
ベンジルトリエチルアンモニウム４．５６ｇ（０．０２
ｍｏｌ）、トルエン１２０ｍｌ、およびジメチルスルホ
キシド４０ｍｌを用いて、参考例１と同様の反応を行
い、下記式［５］で表わされるモノマー、１，４−ビス
（２−エトキシエトキシ）ベンゼン（以下ＢＥ２Ｐと略
すことがある。）を、２．５ｍｍＨｇで沸点が１４０℃
の無色液体として４．４３ｇ得た。 1Ｈ−および13Ｃ−
ＮＭＲスペクトル測定結果から得られた化合物がＢＥ２
Ｐである事が確認された。
ロエチルエーテル２３．９ｇ（０．２２ｍｏｌ）、塩化
ベンジルトリエチルアンモニウム４．５６ｇ（０．０２
ｍｏｌ）、トルエン１２０ｍｌ、およびジメチルスルホ
キシド４０ｍｌを用いて、参考例１と同様の反応を行
い、下記式［５］で表わされるモノマー、１，４−ビス
（２−エトキシエトキシ）ベンゼン（以下ＢＥ２Ｐと略
すことがある。）を、２．５ｍｍＨｇで沸点が１４０℃
の無色液体として４．４３ｇ得た。 1Ｈ−および13Ｃ−
ＮＭＲスペクトル測定結果から得られた化合物がＢＥ２
Ｐである事が確認された。
【００２５】実施例１ マグネチックスターラ、酸素導入管および還流冷却器を
備えた５０ｍｌフラスコ中に，ビス（アセチルアセトナ
ト）オキソバナジウム（以下ＶＯ（ａｃａｃ） 2と略す
ことがある。）０．２１ｇ（０．８ｍｍｏｌ）とＭＥ２
ＰＭ ２．２６ｇ（１０ｍｍｏｌ）を入れ、１，２−ジ
クロロエタン２０ｍｌを加え撹拌溶解した。これにトリ
フルオロメタンスルホン酸０．２ｍｌと無水トリフルオ
ロ酢酸４．０ｍｌを順次加えた。酸素ガスを吹き込みな
がら５０℃で１２０時間撹拌を続けた。反応終了後反応
混合物を濃塩酸１ｍｌを含むメタノール２００ｍｌ中に
注ぎ込んだ。沈澱物を濾取し、５０℃で５時間減圧乾燥
して、０．５９ｇのポリ（２−メトキシ−５−（２−
（２−メトキシエトキシ）エトキシ）−１，４−フェニ
レン）が褐色粉末として得られた。ＩＲスペクトルデー
タを図１に示す。
備えた５０ｍｌフラスコ中に，ビス（アセチルアセトナ
ト）オキソバナジウム（以下ＶＯ（ａｃａｃ） 2と略す
ことがある。）０．２１ｇ（０．８ｍｍｏｌ）とＭＥ２
ＰＭ ２．２６ｇ（１０ｍｍｏｌ）を入れ、１，２−ジ
クロロエタン２０ｍｌを加え撹拌溶解した。これにトリ
フルオロメタンスルホン酸０．２ｍｌと無水トリフルオ
ロ酢酸４．０ｍｌを順次加えた。酸素ガスを吹き込みな
がら５０℃で１２０時間撹拌を続けた。反応終了後反応
混合物を濃塩酸１ｍｌを含むメタノール２００ｍｌ中に
注ぎ込んだ。沈澱物を濾取し、５０℃で５時間減圧乾燥
して、０．５９ｇのポリ（２−メトキシ−５−（２−
（２−メトキシエトキシ）エトキシ）−１，４−フェニ
レン）が褐色粉末として得られた。ＩＲスペクトルデー
タを図１に示す。
【００２６】実施例２ ＭＥ２ＰＭに代えてＭＥ３ＰＭ ２．７０ｇを用いて実
施例１を繰り返した結果、０．１８ｇのポリ（２−メト
キシ−５−（２−（２−（２−メトキシエトキシ）エト
キシ）エトキシ）−１，４−フェニレン）が褐色粉末と
して得られた。ＩＲスペクトルデータを図１に示す。
施例１を繰り返した結果、０．１８ｇのポリ（２−メト
キシ−５−（２−（２−（２−メトキシエトキシ）エト
キシ）エトキシ）−１，４−フェニレン）が褐色粉末と
して得られた。ＩＲスペクトルデータを図１に示す。
【００２７】実施例３ ＭＥ２ＰＭに代えてＢＥ２Ｐ １．２７ｇを用い、ＶＯ
（ａｃａｃ）2を１３３ｍｇ、トリフルオロメタンスル
ホン酸を０．１ｍｌ、無水トリフルオロ酢酸を１．５ｍ
ｌとして実施例１と同様の酸化重合を４０℃で５２時間
行った結果、０．４２ｇのポリ（２，５−ビス（２−エ
トキシエトキシ）−１，４−フェニレン）が褐色粉末と
して得られた。
（ａｃａｃ）2を１３３ｍｇ、トリフルオロメタンスル
ホン酸を０．１ｍｌ、無水トリフルオロ酢酸を１．５ｍ
ｌとして実施例１と同様の酸化重合を４０℃で５２時間
行った結果、０．４２ｇのポリ（２，５−ビス（２−エ
トキシエトキシ）−１，４−フェニレン）が褐色粉末と
して得られた。
【００２８】
【発明の効果】本発明により導電性高分子、特に表示材
料または電池用途の電極材料として有用なエチレンオキ
シド鎖を有するポリ（フェニレン）、およびそれを安価
な原料を用いて温和な条件下に短いステップで容易に製
造する方法が提供される。
料または電池用途の電極材料として有用なエチレンオキ
シド鎖を有するポリ（フェニレン）、およびそれを安価
な原料を用いて温和な条件下に短いステップで容易に製
造する方法が提供される。
【図１】図１は実施例１および実施例２で得られたポリ
マーのＩＲスペクトルデータである。
マーのＩＲスペクトルデータである。
Claims (7)
- 【請求項１】下記一般式［１］で表されることを特徴と
するエチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）。 （式中、Ｒ1は下記一般式［２］で表わされるエチレン
オキシド鎖を表わし、Ｒ2は炭素数１〜１０の炭化水素
基または下記一般式［２］で表わされるエチレンオキシ
ド鎖を表わし、ｎは平均の重合度で２以上の数を表わ
す。） （式中、Ｒ3〜Ｒ6は水素原子または炭素数１〜１０の炭
化水素基を表わし、Ｒ7は炭素数１〜１０の炭化水素基
を表わす。ｍは１〜１０の整数である。） - 【請求項２】Ｒ3〜Ｒ6が、水素原子又はメチル基である
ことを特徴とする請求項１記載のエチレンオキシド鎖を
有するポリ（フェニレン）。 - 【請求項３】下記一般式［３］で表されるジアルコキシ
ベンゼンを酸化重合することを特徴とするエチレンオキ
シド鎖を有するポリ（フェニレン）の製造方法。 （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前記と同じである。） - 【請求項４】下記一般式［３］で表されるジアルコキシ
ベンゼンを、遷移金属錯体触媒、酸化剤および酸の存在
下に酸化重合することを特徴とするエチレンオキシド鎖
を有するポリ（フェニレン）の製造方法。 （式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ前記と同じである。） - 【請求項５】遷移金属錯体が、オキソバナジウム（IV）
錯体であることを特徴とする請求項４記載のエチレンオ
キシド鎖を有するポリ（フェニレン）の製造方法。 - 【請求項６】酸化剤が、酸素であることを特徴とする請
求項４または５記載のエチレンオキシド鎖を有するポリ
（フェニレン）の製造方法。 - 【請求項７】酸が、プロトン酸および／または酸無水物
であることを特徴とする請求項４〜６のいずれかに記載
のエチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10161897A JP3738525B2 (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 側鎖にエチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10161897A JP3738525B2 (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 側鎖にエチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10292034A true JPH10292034A (ja) | 1998-11-04 |
| JP3738525B2 JP3738525B2 (ja) | 2006-01-25 |
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ID=14305401
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10161897A Expired - Fee Related JP3738525B2 (ja) | 1997-04-18 | 1997-04-18 | 側鎖にエチレンオキシド鎖を有するポリ（フェニレン）およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3738525B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006001519A1 (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 芳香族化合物重合体の製造方法 |
| JP2006045196A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-02-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | バナジル二核錯体 |
| JP2007002157A (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 芳香族化合物重合体の製造方法 |
| JP2010202885A (ja) * | 2010-06-11 | 2010-09-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 芳香族化合物重合体の製造方法 |
| JP2013166871A (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-29 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 製膜組成物並びにそれを使用する製膜方法、積層構造体及び有機電子素子 |
-
1997
- 1997-04-18 JP JP10161897A patent/JP3738525B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006001519A1 (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-05 | Sumitomo Chemical Company, Limited | 芳香族化合物重合体の製造方法 |
| JP2006045196A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-02-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | バナジル二核錯体 |
| EP1767560A4 (en) * | 2004-06-28 | 2009-09-23 | Sumitomo Chemical Co | PROCESS FOR PREPARING POLYMERS FROM AROMATIC COMPOUNDS |
| EP2241548A1 (en) * | 2004-06-28 | 2010-10-20 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Vanadium di-nuclear complex |
| EP2241547A1 (en) * | 2004-06-28 | 2010-10-20 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing aromatic compound polymer |
| US8048982B2 (en) | 2004-06-28 | 2011-11-01 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Method for producing aromatic compound polymer |
| KR101209413B1 (ko) | 2004-06-28 | 2012-12-06 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 방향족 화합물 중합체의 제조 방법 |
| JP2007002157A (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 芳香族化合物重合体の製造方法 |
| JP2010202885A (ja) * | 2010-06-11 | 2010-09-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 芳香族化合物重合体の製造方法 |
| JP2013166871A (ja) * | 2012-02-16 | 2013-08-29 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 製膜組成物並びにそれを使用する製膜方法、積層構造体及び有機電子素子 |
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| JP3738525B2 (ja) | 2006-01-25 |
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