JPH10279068A - 基板搬送装置及びこれを用いた基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 回転処理部へ基板を精度よく搬送することが
できる基板搬送装置およびこれを用いた基板処理装置を
提供する。 【解決手段】 回転処理部へ基板Ｗを搬送する基板搬送
装置の搬送アーム１に、基板Ｗの周縁を受け止める２つ
の固定ガイド３と、変移可能な移動ガイド４とが設けら
れている。移動ガイド４には永久磁石６が埋め込まれて
いる。この移動ガイド４に対向して電磁石７が配備され
ている。電磁石７に通電して移動ガイド４を前進させる
ことにより、基板Ｗを固定ガイド３に押し付けて基板Ｗ
を位置決めする。位置決めされた基板Ｗを基板搬送装置
が回転処理部へ搬送する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示器用のガラス基板等の各種基板を搬送するための
基板搬送装置に係り、特に、回転塗布処理部、回転現像
処理部、回転洗浄処理部などの回転処理部へ基板を搬送
するのに適した基板搬送装置及びこれを用いた基板処理
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の基板搬送装置は、平面視
で「Ｃ」の字状の搬送アームに、基板の下面を受け持ち
支持する複数個の支持爪と、基板の周縁に作用して基板
の位置を規制する固定ガイドとを設けて構成されてい
る。固定ガイドで規制される間隔は、被処理基板の寸法
精度によって決まる最大寸法よりも、若干広め（例え
ば、０．２ｍｍ程度）に設定されている。このような搬
送アーム上に基板を載置して、上述したような回転処理
部や、熱処理部などの非回転処理部へ基板が搬送され
る。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。従来の基板搬送装置は、その構造上、固定ガイド
の間隔が基板寸法よりも大きく設定されており、必然的
に固定ガイドと基板との間に隙間が生じるので、基板の
位置決め精度が悪い。そのため、この基板搬送装置で基
板を回転処理部に搬送してセットすると、回転処理部の
回転中心に対して、基板がアンバランスに載置される。
その結果、（１）基板を高速回転させて処理する際に基
板が振動したり、（２）最悪の場合には基板が飛散して
破損したり、（３）基板の偏芯により、基板への処理が
不均一になったりする、という不具合が生じる。

【０００４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、回転処理部へ基板を精度よく搬送する
ことができる基板搬送装置およびこれを用いた基板処理
装置を提供することを目的としている。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、搬送アームに基板を載置
した状態で基板を回転処理部へ搬送する基板搬送装置で
あって、前記搬送アームに基板の周縁を受け止める固定
ガイドと、基板の周縁を押圧して基板を前記固定ガイド
に押し付ける変移可能な移動ガイドと、前記移動ガイド
を駆動する駆動手段とを備えたことを特徴とする。

【０００６】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の装置において、前記駆動手段は、移動ガイドに付設さ
れた磁性体と、前記移動ガイドに対向するように配備さ
れた電磁石とで構成されるものである。

【０００７】請求項３に記載の発明は、非回転処理部と
回転処理部とを備え、前記各処理部へ基板を搬送する基
板搬送装置を備えた基板処理装置であって、前記基板搬
送装置は、基板を載置した状態で基板を非回転処理部へ
搬送する第１の搬送アームと、基板を載置した状態で基
板を回転処理部へ搬送する第２の搬送アームとを含む少
なくとも２つの搬送アームを備え、前記第１の搬送アー
ムは、基板寸法よりも若干広めに形成された固定ガイド
を備え、前記第２の搬送アームは、基板の周縁を受け止
める固定ガイドと、基板の周縁を押圧して基板を前記固
定ガイドに押し付ける変移可能な移動ガイドと、前記移
動ガイドを駆動する駆動手段とを備え、前記非回転処理
部への基板搬送には前記第１の搬送アームを使い、回転
処理部への基板搬送には前記第２の搬送アームを使うこ
とを特徴とする。

【０００８】請求項４に記載の発明は、非回転処理部と
回転処理部とを備え、前記各処理部へ基板を搬送する基
板搬送装置を備えた基板処理装置であって、前記基板搬
送装置は、基板を載置した状態で基板を非回転処理部ま
たは回転処理部に搬送する少なくとも１つの搬送アーム
を備え、前記搬送アームに基板の周縁を受け止める固定
ガイドと、基板の周縁を押圧して基板を前記固定ガイド
に押し付ける変移可能な移動ガイドと、前記移動ガイド
を駆動する駆動手段とを備え、非回転処理部へ基板を搬
送するときは、前記駆動手段によって前記移動ガイドを
後退させて、前記固定ガイドと前記移動ガイドとの間隔
を基板よりも若干広めに設定し、これら固定ガイドと移
動ガイドとによって基板の位置を規制し、回転処理部へ
基板を搬送するときは、前記駆動手段によって前記移動
ガイドを前進させ、この移動ガイドで基板の周縁を押圧
して基板を前記固定ガイドに押し付けて基板を位置決め
することを特徴とする。

【０００９】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。搬送アーム上に基板を載せるときは、駆動手段によ
り移動ガイドを後退移動させて、固定ガイドと移動ガイ
ドとの間隔を、基板の寸法よりも若干広めにする。搬送
アーム上に基板が載った後に、駆動手段により移動ガイ
ドを前進移動させて、移動ガイドで基板の周縁を押圧
し、基板を固定ガイドに押し付けて位置決めする。搬送
した基板を回転処理部へ受け渡すときには、駆動手段に
より移動ガイドを後退させて基板を自由状態にし、基板
を回転処理部へ受け渡す。

【００１０】請求項２に記載の発明の作用は次のとおり
である。移動ガイドを後退移動させるときには、移動ガ
イドに付設された磁性体と電磁石とが引き合うように、
電磁石の電流をコントロールする。移動ガイドを前進移
動させて基板の位置決めをする場合には、永久磁石と電
磁石とが反発するように、電磁石の電流をコントロール
する。

【００１１】請求項３に記載の発明の作用は次のとおり
である。第１の搬送アームは固定ガイドで基板の位置を
規制するので、その構造上、固定ガイドの間隔は基板寸
法よりも若干広めに設定されている。そのため固定ガイ
ドと基板との間に隙間が生じて、位置決め精度は若干悪
くなる。しかし、熱処理部のような非回転処理部に基板
を受け渡す場合には、基板の高い位置決め精度は要求さ
れないので不具合はない。一方、高い位置決め精度が要
求される回転処理部へ基板を搬送する場合には、固定ガ
イドと移動カイドとを備えた第２の搬送アームを用い
る。第１の搬送アームで基板を搬送する場合、第２の搬
送アームのように駆動手段で移動ガイドを駆動する過程
がない分、基板の搬送処理が迅速である。

【００１２】請求項４に記載の発明の作用は次のとおり
である。高い位置決め精度が要求されない非回転処理部
へ基板を搬送する場合には、移動ガイドを後退移動させ
た状態のまま、この移動ガイドと固定ガイドとで基板の
位置を規制して基板を搬送する。一方、高い位置決め精
度が要求される回転処理部へ基板を搬送する場合には、
移動ガイドを前進移動させて、固定ガイドに基板を押し
付けて位置決めする。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。 Ａ：基板搬送装置の第１実施例 図１は本発明に係る基板搬送装置の第１実施例の要部を
示した斜視図、図２は図１の０２−０２矢視断面図であ
り、図２（ａ）は移動部材が後退した状態、図２（ｂ）
は移動部材が前進した状態を示す。また、図３は図１の
０３−０３矢視断面図である。

【００１４】図中、符号１は、本実施例の基板搬送装置
に備えられた搬送アームである。この搬送アーム１は平
面視で略「Ｃ」の字形状を呈している。搬送アーム１の
内周面に３個の支持爪２が内側に向かって張り出すよう
に等間隔に設けられている。搬送アーム１の開放端側に
ある２つの支持爪２の上側に固定ガイド３がそれぞれ設
けられている。搬送アーム１の基端側にある支持爪２の
上側に移動ガイド４が設けられている。この移動ガイド
４は、図２、図３に示すように、上部材４ａと下部材４
ｂとをネジ止め連結して構成されている。両部材４ａ、
４ｂによって形成される凹溝が、搬送アーム１に形成さ
れたガイド孔５の張出部に緩く嵌まり込むことによっ
て、移動ガイド４が搬送アーム１の開放端側に向けて変
移可能になっている。上部材４ａの、搬送アーム１の基
端側の端面に磁性体としての永久磁石６が埋め込まれて
いる。この永久磁石６に対向するように、電磁石７がブ
ラケット８を介して搬送アーム１上に固定されている。
なお、電磁石７から導出されるリード線は図示省略して
ある。

【００１５】以上のように構成された搬送アーム１の作
用を説明する。図１に示すように、３本の支持ピン９上
に支持された基板（この例では半導体ウエハ）Ｗを搬送
アーム１で受け取る場合、まず、永久磁石６と電磁石７
の対向する極同士が逆極性になるように、電磁石７に電
流を流す。その結果、移動ガイド４が電磁石７側に引き
寄せられる。移動ガイド４が後退した状態で２つの固定
ガイド３と移動ガイド４の各内側面で区画される仮想円
の直径は、基板Ｗの直径よりも０．２〜１．０ｍｍ程度
広くなっている。この搬送アーム１が基板Ｗの下側へ進
入する。続いて支持ピン９が搬送アーム１に対して相対
的に下降することにより、支持ピン９上の基板Ｗが搬送
アーム１の支持爪２上に移載される（図２の（ａ）参
照）。搬送アーム１が基板Ｗを受け取った後、永久磁石
６と電磁石７の対向する極同士が同極性になるように、
電磁石７に電流を流す。その結果、移動ガイド４と電磁
石７との間に反発力が生じて、移動ガイド４が搬送アー
ム１の開放端側に前進する。この移動ガイド４が基板Ｗ
の周縁を押圧することにより、基板Ｗが水平に変移して
固定ガイド３の内側面に押し付けられることにより、基
板Ｗが位置決めされる（図２の（ｂ）参照）。

【００１６】基板Ｗを位置決めした状態で搬送アーム１
が移動して、基板Ｗを回転処理部へ搬送する。基板Ｗを
回転処理部の回転テーブルなどへ受け渡す際には、搬送
アーム１が回転テーブル上に進入した後に、電磁石７の
電流の向きを切り換えて移動ガイド４を後退させること
により、基板Ｗを自由状態にする。この状態で搬送アー
ム１に対して回転テーブルが相対的に上昇することによ
り、搬送アーム１の支持爪２上の基板Ｗが回転テーブル
に受け渡される。

【００１７】本実施例を以下のように変形して実施する
ことも可能てある。 （１）基板Ｗの受け取り、基板Ｗの位置決め、基板Ｗの
受け渡しの手順は上記の実施例で説明したものに限らな
い。例えば、移動ガイド４を後退させた状態で支持ピン
９から基板Ｗを受け取り、この状態のまま搬送アーム１
を回転処理部へ移動させ、基板Ｗを回転処理部へ受け渡
す直前に、移動ガイド４を前進および後退させて、基板
Ｗの位置決めを行い、その後、基板Ｗを回転処理部へ受
け渡すようにしてもよい。

【００１８】（２）永久磁石６に代えて、鉄などの磁性
体を移動ガイド４に埋め込むとともに、コイルバネなど
によって移動ガイド４を搬送アーム１の開放端側（電磁
石７から離れる方向）に付勢する。そして、基板Ｗの受
け取りや受け渡しの際には、電磁石７に通電することに
より、移動ガイド４を後退させて基板Ｗを自由状態にす
る。一方、基板Ｗを位置決めするときには、電磁石７へ
の通電を遮断することにより、移動ガイド４をバネ力で
前進させて基板Ｗを固定ガイド３に押し付けて位置決め
する。

【００１９】（３）移動ガイド４を駆動する手段とし
て、エアーシリンダやモータなどを用いてもよい。ただ
し、装置構成の簡素化や搬送アームの軽量化の点から言
えば、上記実施例で説明した電磁石による駆動が好まし
い。

【００２０】Ｂ：基板搬送装置の第２実施例 図４は本発明に係る基板搬送装置の第２実施例の要部を
示した斜視図である。第１実施例の搬送アーム１は、そ
の構造上、外径が基板Ｗの外径よりも大きくなるので、
カセットに対して基板Ｗを搬入・搬出するのには適さな
い。第２実施例の搬送アーム１１は、カセットＣに対す
る基板Ｗの搬入・搬出に適したものである。

【００２１】本実施例の搬送アーム１１は平面視で略
「コ」の字形状を呈しており、その横幅が基板Ｗよりも
小さくなるように形成されている。「コ」の字状に突き
出た搬送アーム１１の各先端部には、支持爪１２と固定
ガイド１３とがそれぞれ設けられている。搬送アーム１
１の基端両側に、支持爪１２と移動ガイド１４がそれぞ
れ設けられている。本実施例では、基端側の支持爪１２
と移動ガイド１４とが一体となって搬送アーム１の先端
側に変移するようになっている。各移動ガイド１４には
第１実施例と同様に永久磁石が埋め込まれている。ま
た、各移動ガイド１４に対向して、ブラケット１８を介
して電磁石がそれぞれ取付けられている。

【００２２】本実施例の搬送アーム１１によれば、電磁
石に通電して各移動ガイド１４を後退させた状態で、搬
送アーム１１をカセットＣ内の基板Ｗの下側に進入させ
る。続いて、搬送アーム１１を少し上昇させることによ
り、支持爪１２上に基板Ｗを受け取る。搬送アーム１１
をカセットＣから抜き出した後に、各移動ガイド１４を
前進させることにより、基板Ｗを各固定ガイド１３に押
し付けて位置決めし、回転処理部へ搬送する。回転処理
部への基板Ｗの受け渡しは、第１実施例と同様であるの
で、ここでの説明は省略する。なお、本第２実施例も、
上述した第１実施例の変形例と同様に変形実施すること
が可能である。

【００２３】Ｃ：基板処理装置の第１実施例 次に、上述した基板搬送装置を用いた基板処理装置の第
１実施例を説明する。図５は本実施例に係る基板処理装
置の概略構成を示した平面図である。この基板処理装置
は、大きく分けて、基板Ｗを多段に収納する複数個のカ
セットＣに対して基板Ｗを搬入・搬出するためのインデ
クサユニット（ＩＤ）２０と、基板Ｗに対して種々の処
理を施すプロセスユニット３０とから構成されている。

【００２４】インデクサユニット２０は、複数個のカセ
ットＣを一列に並べて載置するカセット載置台２１と、
このカセット載置台２１に沿って水平移動可能な基板取
り出し装置２２とを備える。基板取り出し装置２２は、
昇降およびカセットＣに対して前後進可能な基板吸着ア
ーム２３や、基板Ｗを受け持ち支持する昇降可能な３本
の支持ピン２４などを備えている。

【００２５】プロセスユニット３０は、各基板処理部へ
基板Ｗを搬送するための基板搬送装置４０と、この基板
搬送装置４０の搬送路Ｌの両側に配置された複数個の基
板処理部（ＳＳ、ＳＳＲ、Ｒ、ＲＤ）を備える。ここ
で、符号ＳＳは基板Ｗを回転させながら、その表面を洗
浄する基板表面回転処理部、符号ＳＳＲは基板Ｗを回転
させながら、その裏面を洗浄する基板裏面回転処理部、
符号Ｒは基板Ｗの表裏を反転させる基板反転機構、符号
ＲＤは基板Ｗの表裏を反転させるとともに、オリエンテ
ーションフラットの位置合わせを行う位置決め反転機構
を、それぞれ示す。

【００２６】以下、図７〜図９を参照して基板搬送装置
４０の構成を説明する。図７は基板搬送装置４０の外観
斜視図、図８はその縦断面図、図９はその横断面図であ
る。

【００２７】基板搬送装置４０は、移動台４５の上面に
上下に配置された２つの搬送アーム４１、４２を備えて
いる。移動台４５は図示しないネジ送り機構で搬送路Ｌ
に沿って往復動可能で、かつ旋回可能に構成されてい
る。上側に配置された第１の搬送アーム４１は、基板Ｗ
を載置した状態で基板Ｗを非回転処理部（本実施例で
は、基板反転機構Ｒおよび位置決め反転機構ＲＤ）へ搬
送するためのものである。一方、下側に配置された第２
の搬送アーム４２は、基板Ｗを載置した状態で基板Ｗを
回転処理部（本実施例ては、基板表面回転処理部ＳＳお
よび基板裏面回転処理部ＳＳＲ）へ搬送するためのもの
である。なお、図７では、第２の搬送アーム４２が前方
にせり出した状態を示してある。

【００２８】第１の搬送アーム４１は平面視で略「Ｃ」
の字形状を呈しており、その内周面４３に基板Ｗを支持
するための３本の支持爪４４が内側に向かって張り出し
ている。第１の搬送アーム４１の内周面４３は、基板Ｗ
の位置を規制する固定ガイドの役目も担っている。
「Ｃ」の字形状の内周面４３の内径は、基板Ｗの外径よ
りも若干（０．２ｍｍ程度）広めに設定されている。第
１の搬送アーム４１の基端部は、後述するアーム駆動機
構に連結されて、前後進するようになっている。

【００２９】第２の搬送アーム４２は、図１において説
明した搬送アーム１と同じ構成であり、支持爪２、固定
ガイド３、永久磁石が埋め込まれた移動ガイド４、電磁
石７を内蔵したブラケット８を搭載して構成されてい
る。第２の搬送アーム４２の基端も、後述するアーム駆
動機構に連結され、前後進するようになっている。

【００３０】次に、第１および第２の搬送アーム４１、
４２を駆動するアーム駆動機構について説明する。両ア
ーム４１、４２を個別に駆動する２つのアーム駆動機構
５０が移動台４５の内部に配備されている。各アーム駆
動機構５０の構成は同じであるので、以下では第２の搬
送アーム４２のアーム駆動機構５０について説明する。

【００３１】第２の搬送アーム４２の基端部は、アーム
駆動機構５０のガイド部材５１に沿って摺動移動可能に
支持されている。モータ５２の駆動軸に連結された駆動
ローラ５３と、従動ローラ５４、５５、５６とにわたっ
てワイヤー５７が巻回されており、このワイヤー５７に
第２の搬送アーム４２の基端部が連結されている。結
果、モータ５２が正逆に回転することによって、第２の
搬送アーム４２がガイド部材５１に沿って前後進するよ
うになっている。

【００３２】以下、図６も参照して、本実施例装置にお
ける基板搬送について説明する。図６はプロセスユニッ
ト３０の各処理部へ基板Ｗを搬送するときの搬送アーム
の使い分けを示したもので、破線が第１の搬送アーム４
１による搬送を、実線が第２の搬送アーム４２による搬
送を、それぞれ示している。なお、本実施例装置では、
それぞれ２つの基板表面回転処理部ＳＳと基板裏面回転
処理部ＳＳＲとを使って並行処理を行うことにより、基
板処理のスループットを上げているが、以下では説明の
簡単のために、一方側の処理部ＳＳ、ＳＳＲを使って処
理を進める場合を例に採って説明する。

【００３３】まず、インデクサユニット（ＩＤ）２０に
おいて、基板取り出し装置２２がカセット載置台２１に
沿って移動することにより、基板Ｗを取り出さそうとす
るカセットＣの前に位置する。次に、取り出し対象とな
る基板Ｗに対向する位置にまで基板吸着アーム２３が昇
降する。その基板Ｗの下側へ基板吸着アーム２３が進入
し、少し上昇することにより基板Ｗを受け取る。基板Ｗ
を吸着保持した後、基板吸着アーム２３が後退して基板
ＷをカセットＣから取り出す。基板Ｗを取り出した基板
取り出し装置２２は基板受け渡し位置（図５の鎖線で示
す位置）にまで移動する。続いて、支持ピン２４が上昇
して、基板吸着アーム２３上の基板Ｗを支持ピン２４上
に移載する。

【００３４】基板搬送装置４０がインデクサユニット２
０側へ移動し、受け渡し位置に向けて旋回する。第２の
搬送アーム４２が前進して支持ピン２４の下側に進入す
る。このとき、第２の搬送アーム４２の移動ガイド４は
電磁石７に吸引された後退状態にある。支持ピン２４が
下降することにより、第２の搬送アーム４２の支持爪２
上に基板Ｗを受け渡す。基板Ｗを受け取った第２の搬送
アーム４２が後退復帰した後、電磁石７に流す電流の方
向を切り換えて、移動ガイド４を前進させる。結果、基
板Ｗが移動ガイド４に押圧されて、固定ガイド３に押し
付けられることにより、基板Ｗが位置決めされる。この
状態で第２の搬送アーム４２が元の向きに旋回復帰し、
基板搬送装置４０が搬送路Ｌに沿って水平移動して、基
板Ｗを基板表面回転処理部ＳＳへ搬送する。

【００３５】基板搬送装置４０が基板表面回転処理部Ｓ
Ｓに達すると、第２の搬送アーム４２が前進して基板Ｗ
を基板表面回転処理ＳＳの回転テーブル上に位置させ
る。続いて、電磁石７に流す電流の向きを切り換えるこ
とにより、移動ガイド４を後退させ、基板Ｗを自由状態
にする。第２の搬送アーム４２が下降することにより、
第２の搬送アーム４２から回転テーブル上に基板Ｗを移
載する。第２の搬送アーム４２が後退復帰した後、回転
テーブル上の基板Ｗに洗浄処理が施される。

【００３６】基板搬送装置４０がインデクサユニット２
０側へ移動し、上述と同様に作動して次の基板Ｗを第２
の搬送アーム４２上に受け取って位置決めし、その基板
Ｗを基板表面回転処理部ＳＳに搬送する。最初の基板Ｗ
の処理が終わると、基板搬送装置４０の第１の搬送アー
ム４１が前進して、回転テーブル上の基板Ｗの下側に進
入する。続いて、第１の搬送アーム４１が上昇すること
により、処理済の基板Ｗが第１の搬送アーム４１上に受
け渡される。処理済の基板Ｗを受け取った第１の搬送ア
ーム４１が後退復帰した後、次の基板Ｗを保持している
第２の搬送アーム４２が前進する。以下、上述したと同
様に、第２の搬送アーム４２から回転テーブル上に基板
Ｗが受け渡されて、次の基板Ｗに洗浄処理が施される。

【００３７】表面洗浄された基板Ｗを第１の搬送アーム
４１上に受け取った基板搬送装置４０は、その基板Ｗを
位置決め反転機構ＲＤへ搬送する。基板Ｗは、ここで表
裏反転される。表裏反転された基板Ｗを基板搬送装置４
０の第２の搬送アーム４２が受け取り、この基板Ｗを基
板裏面回転処理部ＳＳＲへ搬送する。この処理部ＳＳＲ
で基板Ｗの裏面が洗浄される。基板Ｗを基板裏面回転処
理部ＳＳＲへ受け渡した基板搬送装置４０は、インデク
サユニット２０へ戻り、第２の搬送アーム４２上に、次
の基板Ｗを受け取る。基板搬送装置４０は、この基板Ｗ
を基板表面回転処理部ＳＳへ搬送し、表面洗浄処理済の
基板を第１の搬送アーム４１上に受け取った後に、第２
の搬送アーム４２上の基板Ｗを基板表面回転処理部ＳＳ
に受け渡す。

【００３８】表面洗浄処理された基板Ｗを受け取った基
板搬送装置４０は、この基板Ｗを位置決め反転機構４０
に搬送して受け渡す。位置決め反転機構４０で表裏反転
された基板Ｗを第２の搬送アーム４２で受け取り、この
基板Ｗを基板裏面回転処理部ＳＳＲへ搬送する。基板搬
送装置４０は、裏面洗浄済の基板Ｗを第１の搬送アーム
４１で受け取り、続いて、第２の搬送アーム４２上の基
板Ｗを基板裏面回転処理部ＳＳＲに受け渡す。裏面洗浄
された基板Ｗを基板反転機構Ｒに搬送して受け渡す。基
板反転機構Ｒで表裏反転されて表面が上側になった基板
を、第２の搬送アーム４２が受け取り、インデクサユニ
ット２０に搬送する。インデクサユニット２０では、上
述した基板取り出しと逆の動作で、表裏面が洗浄処理さ
れた基板をカセットＣに戻す。

【００３９】以上の手順が繰り返し実行されて基板Ｗの
洗浄処理が進められる。上述の説明から明らかなよう
に、基板表面回転処理部ＳＳおよび基板裏面回転処理部
ＳＳＲへの基板搬送に第２の搬送アーム４２を用いてい
るので、各回転処理部ＳＳ、ＳＳＲに対して高精度に基
板Ｗを受け渡すことができる。したがって、各回転処理
部ＳＳ、ＳＳＲにおいて、回転テーブルと基板Ｗとの中
心位置のズレが少なくなり、基板Ｗの回転洗浄処理を円
滑に進めることができる。一方、高い位置決め精度を必
要としない反転機構Ｒ、ＲＤへの基板搬送には第１の搬
送アーム４１を用いているので、第２の搬送アーム４２
のように移動ガイド４を駆動する過程が伴わない分、基
板Ｗの搬送を迅速に行うことができる。

【００４０】Ｃ：基板処理装置の第２実施例 図１０は本発明に係る基板処理装置の第２実施例の要部
を示した斜視図である。本実施例の特徴は、上下に配置
された第１の搬送アーム６１および第２の搬送アーム６
２のそれぞれが、図７において説明した第２の搬送アー
ム４２と同様の位置決め機構を備えている点にある。基
板処理装置の全体構成、搬送アームの構造、アーム駆動
機構の構造は、図５および図７に示した基板処理装置の
第１実施例と同様であるので、ここでの説明は省略す
る。

【００４１】図７に示した第１実施例では、反転機構
Ｒ、ＲＤに基板Ｗを搬送するときは第１の搬送アーム４
１を用い、回転処理部ＳＳ、ＳＳＲに搬送するときは第
２の搬送アーム４２を用いる、というように各搬送アー
ム４１、４２を使い分けたが、本実施例の搬送アーム６
１、６２は共に位置決め機構を備えているので、必ずし
も搬送アーム６１、６２を使い分ける必要はない。すな
わち、回転処理部ＳＳ、ＳＳＲへ基板を搬送するとき
は、いずれの搬送アーム６１、６２を使うにしても、電
磁石７で移動ガイド４を前後進させることにより、基板
Ｗの位置決めを行い、反転機構Ｒ、ＲＤへ基板を搬送す
るときは、いずれの搬送アーム６１、６２を使うにして
も、電磁石７で移動ガイド４を後退姿勢に維持した状態
のまま、基板搬送をするようにすればよい。

【００４２】本実施例によれば、基板を搬送する処理部
が回転処理部や非回転処理部かに応じて、必ずしも搬送
アーム６１、６２を使い分ける必要がないので、それだ
け基板搬送の自由度を高めることができる。

【００４３】本発明に係る基板処理装置は、次のように
変形実施することも可能である。 （１）上述した基板処理装置の第１、第２実施例では、
基板搬送装置に２つの搬送アームを搭載したが、図１に
示したような位置決め機構を備えた搬送アームを１つだ
け搭載し、回転処理部へ基板Ｗを搬送する際には、位置
決め機構を作動させ、非回転処理部へ搬送する際には、
位置決め機構を非作動にするようにしてもよい。また、
基板搬送装置に３つ以上の搬送アームを搭載し、少なく
とも１つの搬送アームを図１に示したような位置決め機
構を備えたものにすることも可能である。

【００４４】（２）上述した基板処理装置の実施例で
は、回転処理部の例として回転洗浄処理部を挙げたが、
本発明は、基板を回転させながらフォトレジストなどを
塗布する回転塗布処理部や、基板を回転させながら現像
処理を行う回転現像処理部へ基板を搬送する場合にも適
用できる。また、非回転処理部としては、上述の実施例
のような基板反転機構に限らず、熱プレートに基板を載
置して熱処理を施す熱処理部などであってもよい。

【００４５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば次の効果を奏する。請求項１に記載の基板搬送
装置によれば、移動ガイドを前進駆動することにより、
基板を固定ガイドに押し付けて基板を位置決めしている
ので、回転処理部へ受け渡される基板の位置決め精度が
向上する。その結果、回転処理部の回転中心に対して、
基板をバランスよく載置することができ、回転処理部で
の基板処理の品質を向上させることができる。

【００４６】請求項２に記載の基板搬送装置によれば、
移動ガイドに磁性体を付設するとともに、これに対向し
て電磁石を設け、この電磁石の電流をコントロールする
ことにより、移動ガイドを前後に駆動しているので、移
動ガイドの前後進の制御を簡単、かつ迅速に行うことが
できる。

【００４７】請求項３に記載の基板処理装置によれば、
非回転処理部への基板搬送には固定ガイドで基板の位置
を規制する第１の搬送アームを用い、回転処理部への基
板搬送には移動ガイドを備えた第２の搬送アームを用い
ているので、回転処理部へ受け渡される基板の位置決め
精度が向上する。また、第１の搬送アームによる基板搬
送時には、第２の搬送アームのように移動ガイドを駆動
する時間を設定する必要がないので、上記のように２つ
の搬送アームを使い分けることにより、全体として、基
板処理装置における基板の搬送時間を短くすることがで
きる。

【００４８】請求項４に記載の基板処理装置によれば、
回転処理部への基板搬送時には、移動ガイドを前進させ
て基板を固定ガイドを押し付けることにより基板の位置
決めをしているので、回転処理部へ受け渡される基板の
位置決め精度が向上する。また、非回転処理部への搬送
時には、移動ガイドを後退させた状態のまま、この移動
ガイドと固定ガイドとで基板の位置を規制して基板を搬
送するので、移動ガイドを前後進させる過程を含まない
分、搬送時間が短くなる。また、本発明によれば、非回
転処理部および回転処理部への基板搬送を１種類の搬送
アームで行うことができるので、２種類の搬送アームを
備える場合に比べて装置構成が簡単になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板搬送装置の第１実施例の要部
を示した斜視図である。

【図２】図１の０２−０２矢視断面図であり、（ａ）は
移動部材が後退した状態、（ｂ）は移動部材が前進した
状態を示す。

【図３】図１の０３−０３矢視断面図である。

【図４】本発明に係る基板搬送装置の第２実施例の要部
を示した斜視図である。

【図５】本発明に係る基板処理装置の一例の概略構成を
示した平面図である。

【図６】２つの搬送アームを使い分けた基板搬送の様子
を示した図である。

【図７】基板処理装置の第１実施例で用いられる基板搬
送装置の外観斜視図である。

【図８】図７に示した基板搬送装置の縦断面図である。

【図９】図７に示した基板搬送装置の横断面図である。

【図１０】基板処理装置の第２実施例で用いられる基板
搬送装置の外観斜視図である。

【符号の説明】

１、１１…搬送アーム ２、１２…支持爪 ３、１３…固定ガイド ４、１４…移動ガイド ６…永久磁石 ７…電磁石 ９…支持ピン ２０…インデクサユニット ２２…基板取り出し装置 ３０…プロセスユニット ４０、６０…基板搬送装置 ４１…第１の搬送アーム ４２…第２の搬送アーム ６０…基板搬送装置 ６１、６２…搬送アーム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 辻 雅夫 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 森田 彰彦 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 岩見 優樹 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 (72)発明者 西村 讓一 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西事業所内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送アームに基板を載置した状態で基板
   を回転処理部へ搬送する基板搬送装置であって、 前記搬送アームに基板の周縁を受け止める固定ガイド
   と、基板の周縁を押圧して基板を前記固定ガイドに押し
   付ける変移可能な移動ガイドと、前記移動ガイドを駆動
   する駆動手段とを備えたことを特徴とする基板搬送装
   置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の装置において、 前記駆動手段は、移動ガイドに付設された磁性体と、前
   記移動ガイドに対向するように配備された電磁石とで構
   成される基板搬送装置。
3. 【請求項３】 非回転処理部と回転処理部とを備え、前
   記各処理部へ基板を搬送する基板搬送装置を備えた基板
   処理装置であって、 前記基板搬送装置は、基板を載置した状態で基板を非回
   転処理部へ搬送する第１の搬送アームと、基板を載置し
   た状態で基板を回転処理部へ搬送する第２の搬送アーム
   とを含む少なくとも２つの搬送アームを備え、 前記第１の搬送アームは、基板寸法よりも若干広めに形
   成された固定ガイドを備え、 前記第２の搬送アームは、基板の周縁を受け止める固定
   ガイドと、基板の周縁を押圧して基板を前記固定ガイド
   に押し付ける変移可能な移動ガイドと、前記移動ガイド
   を駆動する駆動手段とを備え、 前記非回転処理部への基板搬送には前記第１の搬送アー
   ムを使い、回転処理部への基板搬送には前記第２の搬送
   アームを使うことを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】 非回転処理部と回転処理部とを備え、前
   記各処理部へ基板を搬送する基板搬送装置を備えた基板
   処理装置であって、 前記基板搬送装置は、基板を載置した状態で基板を非回
   転処理部または回転処理部に搬送する少なくとも１つの
   搬送アームを備え、 前記搬送アームに基板の周縁を受け止める固定ガイド
   と、基板の周縁を押圧して基板を前記固定ガイドに押し
   付ける変移可能な移動ガイドと、前記移動ガイドを駆動
   する駆動手段とを備え、 非回転処理部へ基板を搬送するときは、前記駆動手段に
   よって前記移動ガイドを後退させて、前記固定ガイドと
   前記移動ガイドとの間隔を基板よりも若干広めに設定
   し、これら固定ガイドと移動ガイドとによって基板の位
   置を規制し、 回転処理部へ基板を搬送するときは、前記駆動手段によ
   って前記移動ガイドを前進させ、この移動ガイドで基板
   の周縁を押圧して基板を前記固定ガイドに押し付けて基
   板を位置決めすることを特徴とする基板処理装置。