JPH10249688A

JPH10249688A - ウェーハ面取装置

Info

Publication number: JPH10249688A
Application number: JP5519097A
Authority: JP
Inventors: Atsushi Takatani; 淳高谷; Kazumi Ikeda; 一実池田
Original assignee: Tokyo Seimitsu Co Ltd
Current assignee: Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date: 1997-03-10
Filing date: 1997-03-10
Publication date: 1998-09-22

Abstract

(57)【要約】【課題】スループットが高く、効率的な運転を行うこと
ができるウェーハ面取装置の提供。【解決手段】ウェーハ面取装置１０に、ウェーハＷの面
取り加工を各々独立して行うことができる加工ユニット
４８を複数設置するとともに、該加工ユニット４８をウ
ェーハ面取装置１０の本体フレーム１０Ａから着脱自在
に構成する。これにより、たとえば、１つの加工ユニッ
ト４８が故障した場合であっても、その故障した加工ユ
ニット４８のみを本体フレーム１０Ａから取り外し、装
置外で修理することにより、修理中に残りの加工ユニッ
ト４８を無駄なく稼働させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はウェーハ面取装置に
係り、特に半導体素子の素材となるシリコン等のウェー
ハの周縁を面取り加工するウェーハ面取装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種のウェーハ面取装置とし
て、１台の面取装置に複数の面取り加工部を設けたもの
がある。このウェーハ面取装置は、省スペースでウェー
ハの処理能力を向上させるとの観点から考案されたもの
で、各加工部は、おのおの独立してウェーハの面取り加
工を行うことができ、この複数ある加工部を同時に稼働
させることにより、一度に多数のウェーハを処理しよう
とするものである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のウェーハ面取装置では、複数ある加工部のう
ち１つでも故障が発生すると、その故障が生じた加工部
を修理するために、面取装置全体の運転を停止しなけれ
ばならず、スループットが著しく低下するという欠点が
あった。

【０００４】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、スループットが高く、効率的な運転を行うこと
ができるウェーハ面取装置を提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、ウェーハが多数格納された供給カセット
からウェーハを取り出して加工部に搬送し、該加工部で
ウェーハの外周の面取り加工を行ったのち、その面取り
加工の完了したウェーハを前記加工部から取り出して、
回収カセットに格納するウェーハ面取装置において、前
記加工部に前記ウェーハの面取り加工を各々独立して行
うことができる加工ユニットを複数設置するとともに、
該加工ユニットを前記ウェーハ面取装置の装置本体から
着脱自在にしたことを特徴とする。

【０００６】本発明によれば、たとえば、１つの加工ユ
ニットが故障した場合であっても、装置全体の運転を停
止する必要がなくなる。すなわち、加工ユニットは面取
装置本体から取り外しができるので、故障した場合は、
その故障した加工ユニットを面取装置本体から取り外
し、装置外で修理することにより、修理中に残りの加工
ユニットを無駄なく稼働させることができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、添付図面に従って本発明に
係るウェーハ面取装置の好ましい実施の形態について詳
説する。図１は、ウェーハ面取装置の全体構成を示す平
面図である。同図に示すように、前記ウェーハ面取装置
１０は、ウェーハＷの供給を行う供給部１２、ウェーハ
Ｗのアライメントを行うアライメント部１４、ウェーハ
Ｗの面取り加工を行う加工部１６、ウェーハＷの洗浄を
行う洗浄部１８及びウェーハＷの回収を行う回収部２０
から構成されている。

【０００８】まず、供給部１２の構成について説明す
る。前記供給部１２には、供給カセット２２、２２、…
を設置するためのカセット設置台２４、２４、…が同一
直線上に４か所設置されている。ウェーハＷは、このカ
セット設置台２４に設置された供給カセット２２に多数
積載された状態で格納されている。前記カセット設置台
２４の側部近傍には、前記カセット設置台２４に沿って
ガイドレール２４が配設されている。このガイドレール
２６上には、第１供給搬送装置２８がスライド自在に支
持されており、該第１供給搬送装置２８は、図示しない
駆動装置に駆動されて、前記ガイドレール２６上を図中
Ｙ−Ｙ方向にスライド移動する。

【０００９】前記第１供給搬送装置２８は、昇降移動自
在なアーム２８Ａを有しており、該アーム２８Ａの先端
部には、ウェーハＷを吸着保持する吸着パッド２８Ｂが
設けられている。前記各供給カセット２２に格納された
ウェーハＷは、この第１供給搬送装置２８によって供給
カセット２２から取り出され、供給部１２の中央に形成
された受渡部３０に搬送される。

【００１０】前記受渡部３０には、第２供給搬送装置３
２が設けられており、該第２供給搬送装置３２は、図示
しない駆動手段に駆動されて図中Ｘ−Ｘ方向に移動す
る。この第２供給装置３２は、アーム３２Ａを有してお
り、該アーム３２の先端下部には、ウェーハＷを吸着保
持する吸着パッド（図示せず）が設けられている。前記
第１供給搬送装置２８によって供給カセット２２から受
渡部３０に搬送されたウェーハＷは、第１供給搬送装置
２８からこの第２供給搬送装置３２に受け渡され、該第
２供給搬送装置３２によって図中Ｘ−Ｘ方向に搬送され
る。この第２供給搬送装置３２の移動先には、次述する
アライメント部１４のウェーハ搬送テーブル３６が位置
しており、搬送されたウェーハＷは、このアライメント
部１４のウェーハ搬送テーブル３６に受け渡される。

【００１１】次に、前記アライメント部１４の構成につ
いて説明する。図２は、アライメント部１４の構成を示
す平面図である。同図に示すように、前記アライメント
部１４には、図中Ｙ−Ｙ方向に沿ってガイドレール３４
が敷設されている。このガイドレール３４には、ウェー
ハ搬送テーブル３６がスライド自在に支持されており、
該ウェーハ搬送テーブル３６は、図示しない駆動装置に
駆動されて、前記ガイドレール３４上を図中Ｙ−Ｙ方向
にスライド移動する。

【００１２】前記ウェーハ搬送テーブル３６は、前記供
給部１２から搬送されてきたウェーハＷを受け取り、そ
のウェーハＷを吸着保持して、アライメント部１４に設
置された各装置間を移動する。このため、前記ウェーハ
搬送テーブル３６の上部には、ウェーハＷを吸着保持す
るための吸着パッド３６Ａが設けられている。前記ウェ
ーハ搬送テーブル３６によるウェーハＷの搬送路上に
は、図中上方からリジェクト装置３８、エッジ検出装置
４０、厚さ測定装置４２、アライメント装置４４及び移
載装置４６が設置されている。以下、アライメント処理
の流れに従って各装置の構成について説明する。

【００１３】前記供給部１２の第２供給搬送装置３２に
よって搬送されてきたウェーハＷは、前記ウェーハ搬送
テーブル３６に受け渡される前に、まず、エッジ検出装
置４０によって、そのウェーハエッジの通過を確認され
る。これは、第２供給搬送装置３２によって搬送されて
きたウェーハＷをウェーハ搬送テーブル３６上の所定の
位置に保持させるために行われるもので、次の操作によ
り、ウェーハＷをウェーハ搬送テーブル３６上の所定の
位置に保持させる。

【００１４】まず、ウェーハＷが前記第２供給搬送装置
３２の所定の位置に保持されて搬送された場合を考え
る。この場合、前記供給部１２の受渡部３０とウェーハ
搬送テーブル３６との間の距離は一定なので、前記第２
供給搬送装置３２をどのくらいの送り量で送れば、ウェ
ーハＷがウェーハ搬送テーブル３６上の所定の位置に受
け渡されるかは、設定から予め分かるはずである。

【００１５】したがって、前記エッジ検出装置４０で検
出されるウェーハエッジの通過も、前記受渡部３０から
どれだけ送ったときに確認されるかも、設定から予め分
かるはずである（この送り量を「第１基準送り量を
ｘ₁」とする。）。そして、更に、この確認された位置
から、どれだけ送ればウェーハＷがウェーハ搬送テーブ
ル３６上の所定の位置に受け渡されるかも、設定から予
め分かるはずである（この送り量を「第２基準送り量ｘ
₂」とする。）。

【００１６】一方、ウェーハＷが前記第２供給搬送装置
３２の所定の保持位置に保持されずに搬送されてきたと
する。この場合、前記エッジ検出装置４０で検出される
ウェーハエッジの通過は、前述した場合、すなわち、ウ
ェーハＷが前記第２供給搬送装置３２の所定の保持位置
に保持されている場合と比べて早く確認されるか、若し
くは、遅く確認される。

【００１７】ここで、たとえば、ウェーハエッジの通過
の確認が、第１基準送り量ｘ₁よりも早く確認されたと
する。この場合、ウェーハＷは、アライメント部１４側
にシフトして保持されているので、これを修正する場合
には、このズレ分をウェーハエッジが確認された以降の
送りに反映させればよいこととなる。具体的には、前記
ウェーハエッジの通過が確認されたときの送り量を
ｘ₁' とすれば、この送り量ｘ₁' と第１基準送り量ｘ
₁とのズレは（ｘ₁−ｘ₁' ）であるので、修正する場
合は、このズレ分（ｘ₁−ｘ₁' ）を第２基準送り量ｘ
₂から減じた量、すなわち、ｘ₂' ＝ｘ₂−（ｘ₁−ｘ'
）だけ送れば、ウェーハＷは、ウェーハ測定テーブル
３６上の所定の位置に受け渡される。

【００１８】同様に、ウェーハエッジの通過の確認が、
所定の送り量ｘ₁よりも遅く確認された場合は、その第
１基準送り量ｘ₁とのズレを第２基準送り量ｘ₂に加算
して送れば、ウェーハＷは、ウェーハ測定テーブル３６
上の所定の位置に受け渡される。なお、前記エッジ検出
装置４０によるウェーハエッジの通過の検出は、フォト
センサで行う。すなわち、前記エッジ検出装置４０は、
投光部と受光部からなる一対のフォトセンサを有してお
り、この一対のフォトセンサの間を、前記第２供給搬送
装置３２で搬送されてくるウェーハＷが通過させること
により、そのウェーハエッジの通過を確認する。

【００１９】また、前記第２供給搬送装置３２からウェ
ーハＷを受け取る位置は、ウェーハ受取位置とされ、該
ウェーハ受取位置は、前記第２供給搬送装置３２の移動
直線上に設置されている。以上のようにして第２供給搬
送装置３２からウェーハＷを受け取ったウェーハ搬送テ
ーブル３６は、次に、図中下方向に移動して、厚さ測定
位置に移動する。

【００２０】前記ウェーハ搬送テーブル３６が厚さ測定
位置に位置すると、該ウェーハ搬送テーブル３６に保持
されたウェーハＷは、厚さ測定装置４２によって、その
厚さを測定される。この厚さ測定装置４２は、所定間隔
をもって水平に配設された一対のアーム４２Ａ、４２Ａ
を有しており、該アーム４２Ａ、４２Ａの先端部に設け
られた一対の厚さセンサ４２Ｂ、４２Ｂで前記ウェーハ
Ｗを直接挟持して、その間に位置するウェーハＷの厚さ
を測定する。

【００２１】なお、前記ウェーハＷの厚さを測定するに
際して、前記ウェーハＷは、その中心が前記厚さセンサ
４２Ｂ、４２Ｂの測定位置に位置するように、厚さ測定
位置が設定される。以上のようにして厚さ測定が終了す
ると、ウェーハ搬送テーブル３６は、次に、図中下方向
に移動して、アライメント装置４４が設置されたアライ
メント位置に移動する。

【００２２】ここで、前記アライメント装置４４は、レ
ーザーセンサユニット４４Ａと測定テーブル４４Ｂとか
ら構成されており、前記アライメント位置に前記ウェー
ハ搬送テーブル３６が位置すると、そのウェーハ搬送テ
ーブル３６に保持されたウェーハＷは、前記測定テーブ
ル４４Ｂの上方に位置する。そして、その測定テーブル
４４Ｂに受け渡される。

【００２３】前記測定テーブル４４Ｂは、その上部に回
転自在な吸着パッド４４ｂを有しており、前記ウェーハ
搬送テーブル３６からウェーハＷを受け渡されると、そ
の吸着パッド４４ｂでウェーハＷを吸着保持する。な
お、この状態において、前記ウェーハＷは、その中心が
前記吸着パッド４４ｂの中心と一致した状態で吸着保持
される。

【００２４】一方、前記レーザーセンサユニット４４Ａ
は、投光部と受光部からなる一対のレーザーセンサから
構成されている。そして、前記ウェーハＷが前記測定テ
ーブル４４Ｂの吸着パッド４４ｂに吸着保持されると、
その測定テーブル４４Ｂに保持されたウェーハＷは、こ
の一対のレーザーセンサの間に位置する。前記のごとく
構成されたアライメント部１４では、次のようにして、
ウェーハＷの外周部の厚さが測定される。

【００２５】まず、ウェーハＷが、前記測定テーブル４
４Ｂの吸着パッド４４ｂに吸着されると、前記吸着パッ
ド４４ｂが回転駆動されてウェーハＷが回転する。そし
て、この回転するウェーハＷの外周部の厚さが、前記レ
ーザーセンサユニット４４Ａ、４４Ａによって測定され
る。ここで、前記レーザーセンサユニット４４Ａ、４４
Ａは、ウェーハＷの外周部の厚さ測定と同時に、ノッチ
又はオリフラ位置の測定を行う。そして、その測定結果
に基づいて、前記ノッチ又はオリフラが所定位置に位置
するように、前記吸着パッド４４ｂの回転が停止され
る。

【００２６】位置合わせ後、ウェーハＷは、測定テーブ
ル４４Ｂによる保持から解除され、これと同時に、再び
ウェーハ搬送テーブル３６に保持される。以上一連の工
程で、ウェーハＷは、その中心部の厚さ測定と、外周部
の厚さ測定、及び、円周方向の位置合わせがなされ、こ
の段階で異常が発生していなければ、ウェーハＷを保持
したウェーハ搬送テーブル３６は、図中下方に移動し
て、移載位置に位置する。

【００２７】前記ウェーハ搬送テーブル３６が移載位置
に位置すると、該ウェーハ搬送テーブル３６に保持され
たウェーハＷは、ウェーハ搬送テーブル３６から移載装
置４６に受け渡される。ここで、前記移載装置４６は、
図示しない駆動手段に駆動されて昇降移動する昇降テー
ブル４６Ａを有しており、該昇降テーブル４６Ａには、
その下面にウェーハＷを吸着保持する吸着パッド４６Ｂ
が設けられている。

【００２８】前記ウェーハ搬送テーブル３６が移載位置
に位置すると、ウェーハ搬送テーブル３６に保持された
ウェーハＷは、その上面中央を前記昇降テーブル４６Ａ
の吸着パッド４６Ｂに吸着保持される。これと同時に、
ウェーハ搬送テーブル３６によるウェーハＷの吸着保持
は解除され、これにより、ウェーハＷは、移載装置４６
の昇降テーブル４６Ａに受け渡される。ウェーハＷを受
け取った昇降テーブル４６Ａは、所定高さまで上昇し、
その後、後述する加工部１６の供給トランスファー５２
にウェーハＷを受け渡す。

【００２９】一方、前述したウェーハＷの中心部の厚さ
測定及び外周部の厚さ測定の結果、不良ウェーハが発見
された場合は、次のように処理する。すなわち、不良ウ
ェーハＷが発見された段階で、その不良ウェーハを保持
したウェーハ搬送テーブル３６が、図中上方のリジェク
ト位置に移動する。そして、そのリジェクト位置に設置
されたリジェクト装置３８に、不良ウェーハＷを受け渡
す。リジェクト装置３８は、この不良ウェーハＷを回収
し、保管する。

【００３０】アライメント部１４によるアライメント処
理の流れと各装置の構成は、以上の通りである。次に、
前記加工部１６の構成について説明する。図１に示すよ
うに、前記加工部１６には、図中Ｘ−Ｘ方向に沿って３
台の加工ユニット４８、４８、４８が並列して配置され
ている。そして、この並列して配置された３台の加工ユ
ニット４８、４８、４８に沿うようにしてガイドレール
５０が敷設されており、該ガイドレール５０には、供給
トランスファー５２と回収トランスファー５４がスライ
ド移動自在に支持されている。

【００３１】前記供給トランスファー５２と回収トラン
スファー５４は、共に図示しない駆動手段に駆動されて
前記ガイドレール５０上を図中Ｘ−Ｘ方向にスライド移
動する。また、前記供給トランスファー５２と回収トラ
ンスファー５４は、共にアーム５２Ａ、５４Ａを有して
おり、前記供給トランスファー５２は、そのアーム５２
Ａの先端上側に、また、前記回収トランスファー５４
は、そのアーム５４Ａの先端下側に、それぞれウェーハ
Ｗを吸着する吸着パッド５２Ｂ、５４Ｂを有している。

【００３２】以上のように構成された供給トランスファ
ー５２と回収トランスファー５４のうち、供給トランス
ファー５２は、アライメント部１４から各加工ユニット
４８にウェーハＷを搬送して供給し、回収トランスファ
ー５４は、各加工ユニット４８で面取り加工されたウェ
ーハＷを回収して後述する洗浄部１８に搬送する。一
方、前記加工ユニット４８は、次のように構成されてい
る。図３は、前記加工ユニット４８の側面図であり、同
図に示すように、前記加工ユニット４８は、ウェーハ送
り装置５６、砥石装置５８及びセンタリング装置６０を
主要構成として構成されている。

【００３３】まず、ウェーハ送り装置５６の構成から説
明する。図３に示すように、前記加工ユニット４８のベ
ース６２上には、図中Ｙ−Ｙ方向に沿ってガイドレール
６４が敷設されている。このガイドレール６４上には、
スライドテーブル６６がスライド移動自在に支持されて
おり、該スライドテーブル６６は図示しない駆動手段に
駆動されて前記ガイドレール６４上を図中Ｙ−Ｙ方向に
スライド移動する。

【００３４】前記スライドテーブル６６上には、ハウジ
ング６８が設置されており、該ハウジング６８の上部に
は、ウェーハＷを吸着保持するウェーハテーブル７０が
回転自在に設けられている。ウェーハテーブル７０は、
前記ハウジング６８内に内蔵された図示しないモータに
駆動されて回転する。次に、砥石装置５８の構成につい
て説明する。前記加工ユニット４８のベース６２上に
は、コラム７２が垂直に立設されている。このコラム７
２の内部には、ハウジング７４が設けられており、該ハ
ウジング７４は、前記コラム７２に設けられた支持軸７
６に揺動自在に支持されている。そして、このハウジン
グ７４は、前記コラム７２に設けられた油圧シリンダ７
８を駆動して、そのロッドを伸張させることにより、図
に示す状態から反時計回りの方向に９０°回転する。

【００３５】前記ハウジング７４の下部には、外周加工
砥石８０とノッチ加工砥石８２が設けられている。この
外周加工砥石８０とノッチ加工砥石８２は、それぞれ前
記ハウジング７４内に設けられた図示しないモータに駆
動されて回転するとともに、図示しない駆動手段に駆動
されて図中上下方向に昇降移動する。また、この外周加
工砥石８０とノッチ加工砥石８２は、共に前記ウェーハ
テーブル７０の移動直線上に設置されており、かつ、ノ
ッチ加工砥石８２が外周加工砥石８０の上方に位置する
ように設置されている。したがって、互いに高さ調整を
したのち、前記ウェーハテーブル７０を図中右方向に移
動させれば、前記ウェーハテーブル７０上に保持された
ウェーハＷは、その外周又はノッチが、前記外周加工砥
石８０又はノッチ加工砥石８２に当接する。

【００３６】ところで、前記ハウジング７４が、揺動自
在に支持されているのは、前記外周加工砥石８０とノッ
チ加工砥石８２を交換するときの利便性を考慮してのも
のである。すなわち、前記ハウジング７４が、図３に示
す様態から反時計回りの方向に９０°回転することによ
り、ハウジング７４の下部に設けられた外周加工砥石８
０とノッチ加工砥石８２が加工ユニット４８の背面側に
移動し、交換を容易に行えるようになる。

【００３７】次に、センタリング装置６０の構成につい
て説明する。前記コラム７２には、その前面に図中Ｚ−
Ｚ方向に沿ってガイドレール８４が敷設されている。こ
のガイドレール８４には、昇降テーブル８６がスライド
移動自在に支持されており、該昇降スライド８６は図示
しない駆動手段に駆動されて前記ガイドレール８４上を
図中Ｚ−Ｚ方向にスライド移動する。

【００３８】前記昇降テーブル８６の正面部には、セン
タリングユニット８８が設けられており、該センタリン
グユニット８８は、前記供給トランスファー５２によっ
てアライメント部１４から搬送されてくるウェーハＷを
受け取り、その受け取ったウェーハＷを前記ウェーハテ
ーブル７０上にセンタリングして載置する。すなわち、
ウェーハＷをウェーハテーブル７０の軸心に対して同軸
上に位置決めし、かつ、ウェーハＷのノッチ又はオリフ
ラを所定の方向に位置決めして載置する。

【００３９】このセンタリングユニット８８は、２個の
ローラ９０、９０と１個の位置決め駒９２でウェーハＷ
を挟んで支持し、これによって、ウェーハＷのセンタリ
ングを行う。以上のように構成された加工ユニット４８
による面取り加工は、以下のように行われる。

【００４０】前記アライメント部１４からウェーハＷを
受け取った供給トランスファー５２は、前記ガイドレー
ル５０上を移動して所定の受渡位置（各加工ユニット４
８に設定されている）に停止する。前記受渡位置に前記
供給トランスファー５２が停止すると、その供給トラン
スファー５２に保持されたウェーハＷの上方からセンタ
リングユニット８８が下降してくる。この時、前記セン
タリングユニット８８は、その２個のローラ９０、９０
と１個の位置決め駒９２が、おのおの拡径した状態で下
降し、このローラ９０、９０及び位置決め駒９２が、前
記供給トランスファー５２に保持されたウェーハＷのと
ころまで下降すると停止する。そして、その２個のロー
ラ９０、９０と１個の位置決め駒９２が縮径し、この結
果、前記ウェーハＷが、前記２個のローラ９０、９０と
１個の位置決め駒９２に挟み込まれる。

【００４１】一方、前記ウェーハＷが、前記２個のロー
ラ９０、９０と１個の位置決め駒９２に挟まれると、前
記供給トランスファー５２は、そのウェーハＷの吸着を
解除する。これにより、ウェーハＷは、前記２個のロー
ラ９０、９０と１個の位置決め駒９２に挟持され、この
結果、ウェーハＷはセンタリングされる。ところで、前
記ウェーハＷは、前記供給トランスファー５２によって
搬送される前に、あらかじめアライメント部１４におい
て、ノッチ又はオリフラを位置決めされている。したが
って、前記供給トランスファー５２によって前記受渡位
置に搬送されてきたときには、既に、ウェーハＷは、そ
のノッチ又はオリフラが所定の位置に位置決めされ、か
つ、その中心が前記センタリングユニット８８のセンタ
リング中心と一致しているはずである。

【００４２】しかしながら、前記アライメント部１４に
おいて、ウェーハＷのノッチ又はオリフラが正確に位置
決めされていなかったり、前記ウェーハＷが前記供給ト
ランスファー５２によって正常に搬送されてこなかった
りすることも起こりうる。そこで、前記ウェーハＷが受
渡位置に搬送されてきた段階で、もう一度、センタリン
グユニット８８によってセンタリングし直すことによ
り、ウェーハＷを正確に位置決めすることができる。。

【００４３】ウェーハＷが供給トランスファー５２から
センタリングユニット８８に受け渡されると、前記供給
トランスファー５２は、受渡位置からアライメント部１
４の方向へ移動し、次のウェーハＷの搬送を行う。一
方、ウェーハＷを受け取ったセンタリングユニット８８
は、その状態から下降し、同軸上に位置しているウェー
ハテーブル６８にウェーハＷを載置する。

【００４４】ウェーハＷが載置されると、ウェーハテー
ブル６８は、その載置されたウェーハ６６を吸着保持
し、ウェーハＷを載置したセンタリングユニット８８
は、ローラ９０、９０及び位置決め駒９２が拡径して、
ウェーハＷの保持を解除する。そして、ウェーハＷの保
持を解除したのち、センタリングユニット８８は所定の
待機位置まで上昇する。

【００４５】以上の一連の操作により、ウェーハＷのセ
ンタリングは終了し、ウェーハＷは、ウェーハテーブル
６８上の所定の位置に所定の状態で、すなわち、その中
心がウェーハテーブル６８の中心と一致し、かつ、その
ノッチ又はオリフラが所定の位置に位置した状態で吸着
保持される。そして、このようにウェーハＷがウェーハ
テーブル６８上に吸着保持されると、ウェーハＷの面取
り加工が開始される。

【００４６】ウェーハＷの面取り加工は、まず、ウェー
ハＷの外周から行い、このため、ウェーハＷと外周加工
砥石８０との高さ方向の位置合わせが行われる。そし
て、外周加工砥石８０が所定の高さに位置したところ
で、ウェーハテーブル６８及び外周加工砥石８０が回転
し、この回転する外周加工砥石８０に向かってウェーハ
テーブル６８が移動する。この結果、ウェーハＷの外周
に回転する外周加工砥石８０に当接し、ウェーハＷは、
その周縁を面取りされる。

【００４７】ウェーハＷの外周の面取りが終了すると、
ウェーハテーブル６８は、一時、外周加工砥石８０から
退避し、その回転が停止する。これと同時に、外周加工
砥石８０の回転も停止する。互いの回転が停止すると、
次に、ウェーハＷとノッチ加工砥石８２との高さ方向の
位置合わせが行われる。そして、ノッチ加工砥石８２が
所定の高さに位置したところで、ノッチ加工砥石８２が
回転し、この回転するノッチ加工砥石８２に向かってウ
ェーハテーブル６８が移動する。この結果、ウェーハＷ
のノッチが回転する外周加工砥石８０に当接する。

【００４８】ここで、ノッチは、通常、Ｖ字状又は半円
状に形成されているので、その形状に沿って前記ノッチ
加工砥石８２が当接するように、ウェーハテーブル６８
に送りと回転が与えられる。そして、このように当接さ
せることにより、ノッチが面取りされる。なお、ここで
は、ノッチが形成されたウェーハＷについて説明した
が、オリフラ付きウェーハの場合は、外周加工砥石８０
によってオリフラの面取りを行う。すなわち、ウェーハ
Ｗのオリフラを回転する外周加工砥石８０に当接し、該
外周加工砥石８０が常にオリフラに当接するように、ウ
ェーハテーブル６８に送りと回転を与えてオリフラの面
取りを行う。

【００４９】ウェーハＷのノッチ又はオリフラの面取り
が終了すると、ノッチ加工砥石８２又は外周加工砥石８
０の回転が停止し、これと同時に、ウェーハテーブル６
８が初期位置、すなわち、センタリングユニット８８か
らウェーハＷを受け取った位置に移動する。そして、ウ
ェーハテーブル６８が初期位置に復帰すると、回収トラ
ンスファー５４が、回収位置に移動し、該ウェーハテー
ブル６８から面取り加工後のウェーハＷを受け取り、後
述する洗浄部１８に搬送する。

【００５０】以上のようにしてウェーハＷは、加工ユニ
ット４８によって面取り加工されるが、このウェーハＷ
を面取り加工する加工ユニット４８は、前記面取装置１
０の装置本体からユニットごと取り外すことができるよ
うに構成されている。具体的には、以下の構成で、加工
ユニット４８の着脱が行われる。図３に示すように、加
工ユニット４８は、前記面取装置１０の本体フレーム１
０Ａ上に設置された取付台９４上に設置されている。こ
の取付台９４には、加工ユニット４８を設置する３か所
に、図４に示すような取付溝９４Ａが形成されている。
前記加工ユニット４８は、そのベース６２下面に形成さ
れた凸部６２Ａを前記取付溝９４Ａに嵌合させることよ
り、前記取付台９４上に設置される。

【００５１】ここで、前記取付溝９４Ａは、図３中右側
部分（背面部分）が開口されており、加工ユニット４８
を取り付ける際は、この開口部から前記ベース６２の凸
部６２Ａを取付溝９４Ａに嵌入する。そして、その凸部
６２Ａを嵌入させた状態で、前記ベース６２を水平にス
ライドさせることにより、ベース６２を取付溝９４Ａに
嵌合させる。凸部６２Ａが嵌合されたベース６２は、取
付台９４上に形成されたボルト穴（図示せず）にボルト
９６、９６、…で固定され、これにより、加工ユニット
４８が、取付台９４上に固定される。

【００５２】ところで、前記加工ユニット４８は、重量
物であるので、前記取付溝９４Ａにスライドさせて取り
付ける際に、多大な労力を要する。そこで、次の機構を
用いて、ベース６２をスムーズにスライドできるように
している。図４及び図５に示すように、前記取付溝９４
Ａ内には、昇降自在な昇降ベース９８が設けられてい
る。この昇降ベース９８の両側部には、複数のコロ１０
０、１００、…が回動自在に支持されている。また、前
記取付溝９４の両側部には、複数のガイドローラ１０
２、１０２、…が回動自在に支持されている。前記加工
ユニット４８を取付台９４に取り付ける際は、そのベー
ス６２を前記コロ１００上でスライド移動させ、かつ、
そのベース６２の側部を前記ガイドローラ１０２、１０
２、…でガイドさせることにより、前記取付溝９４Ａ内
をスムーズにスライドさせることができる。

【００５３】なお、前記ベース６２をスライド移動させ
る場合は、そのベース６２の両側部に形成されたツバ部
６２Ｂ、６２Ｂが前記取付台９４の取付面９４Ｂに接触
しないように、前記ツバ部６２Ｂ、６２Ｂを前記取付面
９４Ｂから浮かせた状態でスライド移動させる。これ
は、ベース６２のツバ部６２Ｂと取付台９４の取付面９
４Ｂとが接触した状態でスライドすることによる抵抗の
増加を回避するためであり、コロ１００が取り付けられ
た昇降ベース９８を上昇させることにより、ツバ部６２
Ｂと取付面９４Ｂとの接触を回避する。

【００５４】ここで、前記昇降ベース９８は、その下面
がテーパ状に形成されており、このテーパ面に沿って、
前記昇降ベース９８の下部に配置されたくさび状のスラ
イド部材１０４を前後にスライド移動させることによ
り、昇降ベース９８を昇降移動させる。なお、前記スラ
イド部材１０４のスライドは、前記取付台９４に設置さ
れたハンドル１０６の回転操作により行う。このハンド
ル１０６は、その回転中心部にネジ棒１０８が連結され
ており、該ネジ棒１０８は、前記スライド部材１０６に
形成されたネジ穴１０４Ａに螺合されている。したがっ
て、このハンドル１０６を回転させれば、前記ネジ棒１
０８が回転し、この結果、前記スライド部材１０６が、
その回転操作に従って前後移動を行う。そして、このス
ライド部材１０６が前後移動することによって、前記昇
降ベース９８が昇降移動を行う。

【００５５】また、前記昇降ベース９８を上昇させるの
は、前記加工ユニット４８の着脱時のみであり、前記ベ
ース６２の凸部６２Ａが、取付溝９４Ａに嵌合された後
は、前記昇降ベース９８を下降させ、そのツバ部６２Ｂ
と取付面９４Ｂとを接触させてボルト９６、９６、…で
固定する。次に、前記洗浄部１８の構成について説明す
る。図１に示すように、前記洗浄部１８には、洗浄装置
１１０が設置されており、前記回収トランスファー５４
で回収されたウェーハＷは、この洗浄装置１１０に受け
渡される。この洗浄装置１１０は、洗浄液が貯留された
洗浄槽を有しており、前記回収トランスファー５４から
受け渡されたウェーハＷは、この洗浄槽内に浸漬され
て、前記加工時に付着した加工液を除去される。

【００５６】また、前記洗浄部１８には、図中Ｙ−Ｙ方
向に沿ってガイドレール１１２が配設されている。この
ガイドレール１１２上には、第１格納装置１１４がスラ
イド自在に支持されており、該第１格納装置１１４は、
図示しない駆動装置に駆動されて、前記ガイドレール１
１２上を図中Ｙ−Ｙ方向にスライド移動する。前記第１
格納装置１１４は、昇降移動自在なアーム１１４Ａを有
しており、該アーム１１４Ａの先端部には、ウェーハＷ
を吸着保持する吸着パッド１１４Ｂが設けられている。
前記洗浄装置１１０で洗浄されたウェーハＷは、この第
１格納装置１１４によって洗浄槽から取り出され、洗浄
部１８の中央に形成された受渡部に搬送される。

【００５７】次に、前記回収部２０の構成について説明
する。図１に示すように、前記回収部２０には、回収カ
セット１１６、１１６、…を設置するためのカセット設
置台１１８、１１８、…が同一直線上に６か所設置され
ている。加工及び洗浄の終了したウェーハＷは、このカ
セット設置台１１８に設置された回収カセット１１８に
格納される。

【００５８】前記カセット設置台１１８の側部には、前
記カセット設置台１１８に沿ってガイドレール１２０が
配設されている。このガイドレール１２０上には、第２
格納搬送装置１２２がスライド自在に支持されており、
該第２格納搬送装置１２２は、図示しない駆動装置に駆
動されて、前記ガイドレール１２０上を図中Ｙ−Ｙ方向
にスライド移動する。

【００５９】また、前記第２格納搬送装置１２２には、
図中Ｘ−Ｘ方向に沿ってガイド部材１２４が固定されて
いる。このガイド部材１２４には、スライダ１２４Ａが
スライド移動自在に支持されており、該スライダ１２４
Ａは、図示しない駆動装置に駆動されて、前記ガイドレ
ール１２４上を図中Ｘ−Ｘ方向にスライド移動する。こ
のスライダ１２４Ａは、昇降移動自在かつ旋回自在なア
ーム１２４Ｂを有しており、該アーム１２４Ｂの先端部
には、ウェーハＷを吸着保持する吸着パッドが設けられ
ている（図示せず）。そして、前記第１格納装置１１４
によって受渡部に搬送されてきたウェーハＷは、この第
２格納搬送装置１２２の格納スライダ１２４Ａに受け渡
され、該ウェーハＷを受け取った第２格納搬送装置１２
２は、図中Ｙ−Ｙ方向に移動して所定の回収カセット１
１６の所定の位置にウェーハＷを格納する。

【００６０】前記のごとく構成された本発明に係るウェ
ーハ面取装置の実施の形態の作用は次の通りである図１
に示すように、まず、４つある供給カセット２２、２
２、…のうち１つの供給カセットから１枚のウェーハＷ
が、第１供給搬送装置２８によって取り出される。そし
て、その取り出されたウェーハＷは、該第１供給搬送装
置２８によって、供給部１２の中央に形成された受渡部
３０に搬送される。

【００６１】前記受渡部３０に搬送されたウェーハＷ
は、第１供給搬送装置２６から第２供給搬送装置３２に
受け渡され、該第２供給搬送装置３２によって図中Ｘ−
Ｘ方向に搬送される。この第２供給搬送装置３２の移動
先には、アライメント部１４のウェーハ搬送テーブル３
６が位置しており、搬送されたウェーハＷは、このアラ
イメント部１４のウェーハ搬送テーブル３６に受け渡さ
れる。

【００６２】ここで、前記第２供給搬送装置３２によっ
て搬送されるウェーハＷは、前述したように、前記ウェ
ーハ搬送テーブル３６に受け渡される前に、エッジ検出
装置４０によって、そのウェーハエッジの通過を確認さ
れることにより、前記ウェーハ搬送テーブル３６上の所
定の位置に保持される。ウェーハ搬送テーブル３６に受
け渡されたウェーハは、当該アライメント部１４におい
て、その中心部の厚さと、外周部の厚さ測定、及び、円
周方向の位置合わせがなされ、異常が発見されなけれ
ば、該アライメント部１４の移載装置４６に受け渡され
る。

【００６３】一方、この測定過程で異常が発見された場
合は、リジェクト装置３８によって回収、保管される。
前記移載装置４６に受け渡されたウェーハは、次いで、
当該移載装置４６から加工部１６の供給トランスファー
５２に受け渡される。そして、該ウェーハＷを受け取っ
た供給トランスファー５２は、ガイドレール５０上を移
動して図１中左側の加工ユニット４８のセンタリングユ
ニット８８にウェーハＷを受け渡す（図３参照）。

【００６４】ウェーハＷを受け渡されたセンタリングユ
ニット８８は、そのウェーハＷを２個のローラ９０、９
０と１個の位置決め駒９２で挟持してセンタリングを行
い、そのセンタリングを行ったウェーハを加工ユニット
４８のウェーハテーブル６８上に載置する。そして、ウ
ェーハテーブル６８は、その載置されたウェーハＷを吸
着保持する。

【００６５】前記ウェーハテーブル６８にウェーハＷが
吸着保持されると、加工ユニット４８は、そのウェーハ
Ｗの面取り加工を開始する。一方、このウェーハＷが図
中左側の加工ユニット４８に面取り加工されている間、
同様の手順を経て次のウェーハＷが、図中中央の加工ユ
ニット４８に搬送され、そのウェーハＷの面取り加工が
開始される。そして、さらに、その次のウェーハＷが同
様の手順を経て図中右側の加工ユニット４８に搬送さ
れ、そのウェーハＷの面取り加工が開始される。

【００６６】この状態において、全ての加工ユニット４
８、４８、４８でウェーハＷの面取り加工が行われる
が、図中左側の加工ユニット４８には、一番早くウェー
ハＷの面取り加工が開始されているので、他の加工ユニ
ット４８、４８が、まだウェーハＷの面取り加工を行っ
ている間に、該加工ユニット４８では、ウェーハＷの面
取り加工が終了する。

【００６７】加工が終了すると、回収トランスファー５
４が、その加工の終了した加工ユニット４８まで移動
し、該加工ユニット４８のウェーハテーブル６８からウ
ェーハＷを受け取り、洗浄装置１１０に搬送する。洗浄
装置１１０は、搬送されたウェーハＷを、その洗浄槽内
に浸漬して洗浄し、洗浄が終了したウェーハＷは、第１
格納装置１１４によって、洗浄槽から取り出され、洗浄
部１８の中央に形成された受渡部に搬送される。そし
て、受渡部に搬送されたウェーハＷは、格納部２０の第
２格納搬送装置１２２に受け渡され、該第２格納搬送装
置１２２によって、所定の回収カセット１１６に格納さ
れる。

【００６８】一方、前記のようにして一枚目のウェーハ
Ｗ加工が終了した図中左側の加工ユニット４８は、前述
した同じ手順によって供給カセット２２からウェーハＷ
が供給され、該ウェーハＷの面取り加工が行われる。以
上のようにして各加工ユニット４８、４８、４８には、
順次ウェーハＷが供給され、面取り加工が行われる。そ
して、その加工の終了したウェーハＷは、順次回収され
るとともに、加工が終了した加工ユニット４８には、順
次新たなウェーハＷが供給されて、次々とウェーハＷが
処理されてゆく。したがって、きわめて効率的にウェー
ハＷの処理を行うことができる。

【００６９】ところで、本実施の形態のウェーハ面取装
置１０では、加工ユニット４８は、３台設置されてい
る。ここで、例えば、そのうちの１台が故障した場合に
ついて考える。通常の面取装置の場合は、その故障した
１台の加工ユニット４８の修理が完了するまで、装置全
体を停止しておかなければならない。このため、スルー
プットが著しく低下する。

【００７０】一方、本実施の形態の面取装置１０では、
各加工ユニット４８、４８、４８は、面取装置１０の本
体フレーム１０Ａから着脱することができるので、その
うちの１台が故障した場合は、次のように取り扱われ
る。まず、装置全体を一時停止し、その故障した加工ユ
ニット４８を本体フレーム１０Ａから取り外す。そし
て、その取り外した加工ユニット４８は、面取装置１０
の装置外において修理する。

【００７１】一方、故障した加工ユニット４８を取り外
された面取装置１０は、残された２台の加工ユニット４
８、４８を用いて再び運転を再開する。これにより、装
置全体の停止という事態は免れ、スループットが著しい
低下を防止することができる。なお、この際、取り外し
た加工ユニット４８にウェーハＷが供給されないよう
に、運転のプログラムを変更する必要がある。

【００７２】また、次のような取り扱いも可能である。
すなわち、予備の加工ユニットを１台ないし３台用意し
ておき、稼働中の加工ユニット４８が故障した場合は、
この予備の加工ユニットと交換する。これにより、全く
スループットを低下させることなく、面取装置１０の運
転が可能になる。このように、本実施の形態のウェーハ
面取装置１０によれば、加工ユニット４８が故障した場
合であっても、装置全体の運転を停止する必要がないの
で、効率的な面取装置１０の運転が可能になる。

【００７３】図６は、本発明に係るウェーハ面取装置の
第２の実施の形態の要部の構成を示す側面図である。第
２の実施の形態におけるウェーハ面取装置は、面取装置
の構成自体は前記第１の実施の形態で説明したウェーハ
面取装置１０と同じである。したがって、ウェーハ面取
装置の構成については、前記第１の実施の形態と同一符
号を付して、その説明は省略する。

【００７４】図６に示すように、第２の実施の形態のウ
ェーハ面取装置には、ウェーハ面取装置１０の本体フレ
ーム１０Ａに取り付ける加工ユニット４８、又は、本体
フレーム１０Ａから取り外した加工ユニット４８を載置
して搬送する搬送台車２００が備えられている。この搬
送台車２００の架台２０２上には、前記第１の実施の形
態で説明した取付台９４とほぼ同一構成、すなわち、取
付溝やスライドをスムーズにするためのコロ等が設けら
れた取付台２０４が設置されており、該取付台２０４
は、前記取付台９４と同一高さに設定されている。

【００７５】この搬送台車２００を用いて加工ユニット
４８を本体フレーム１０Ａから取り外す場合は、次の手
順により行う。図４及び図５に示すように、まず、加工
ユニット４８を固定するボルト９６、９６、…を外し、
加工ユニット４８のロックを解除する。次いで、取付台
９４に設けられたハンドル１０６を回転させて、コロ１
００、１００、…が備えられた昇降ベース９８を上昇さ
せる。この結果、加工ユニット４８は、取付台９４の取
付面９４Ｂから所定高さ浮いた状態になる。

【００７６】以上の準備ができたところで、図６に示す
ように、取り外す加工ユニット４８の真後ろに搬送台車
２００を配置する。そして、この搬送台車２００に向け
て加工ユニット４８をスライドさせ、該搬送台車２００
上に加工ユニット４８を移載する。搬送台車２００上に
移載された加工ユニット４８は、この搬送台車２００を
用いてメンテナンスルーム等に搬送されて、そこで所定
の修理を施される。

【００７７】一方、加工ユニット４８を本体フレーム１
０Ａに取り付ける場合は、次の手順により行う。まず、
面取装置１０の装置外において、加工ユニット４８を搬
送台車２００上に載置する。次に、図６に示すように、
この加工ユニット４８を載置した搬送台車２００を本体
フレーム１０Ａの加工ユニット取付位置の真後ろに移動
させる。そして、搬送台車２００をその位置に固定し、
該搬送台車２００上に載置された加工ユニット４８を本
体フレーム１０Ａに向けてスライドさせる。この結果、
加工ユニット４８は、本体フレーム１０に設置された取
付台９４上に移載されるので、移載された加工ユニット
４８をボルト９６で固定する。

【００７８】このように、ウェーハ面取装置１０に加工
ユニット着脱用の搬送台車２００を備えることにより、
交換作業をスムーズに行うことができる。なお、この搬
送台車２００は、１つの面取装置１０に複数台備えてお
くことにより、よりスムーズな交換作業を行うことがで
きる。すなわち、たとえば、３台の加工ユニット４８を
備えた面取装置１０に対して２台の搬送台車２００を備
えた場合を考える。この場合、一方の搬送台車２００に
は、交換用の新たな加工ユニット４８を載置して待機さ
せておき、他方の搬送台車２００には、何も載せないよ
うにしておく。

【００７９】そして、加工ユニット４８の交換をする場
合は、何も載せてない搬送台車２００の方を用いて、本
体フレーム１０Ａから取り外した加工ユニット４８の受
け取りを行い、取り付けは、もう一方の搬送台車２００
に載せて待機させておいた新たな加工ユニット４８を移
載して取り付ける。これにより、迅速かつスムーズに加
工ユニット４８の交換作業を行うことができる。

【００８０】また、上記搬送台車２００に次のような機
能を持たせることにより、ウェーハ面取装置１０のメン
テナンス等が容易になる。すなわち、前記搬送台車２０
０上で独立して加工ユニット４８の運転ができるように
構成する。具体的には、図７に示すように、駆動に必要
なエア供給装置、真空装置、給水装置、排水装置、制御
装置等を架台２０２内に内蔵させておき、搬送台車２０
０上に載置された加工ユニット４８と接続できるように
しておく。そして、搬送台車２００上に設置した操作盤
２０６上で加工ユニット４８の操作をできるように構成
する。

【００８１】搬送台車２００を以上にように構成するこ
とにより、別途メンテナンスルーム等に搬送する手間が
省けるとともに、作業台等に移載する手間も省け、修理
やメンテナンス等を簡単に行うことができるようにな
る。

【００８２】

【発明の効果】本発明によれば、加工部に複数設置した
加工ユニットをウェーハ面取装置の装置本体から着脱自
在に構成することにより、たとえば、そのうちの１つの
加工ユニットが故障した場合であっても、装置全体の運
転を停止する必要がなくなる。すなわち、加工ユニット
は面取装置本体から取り外しができるので、故障した場
合は、その故障した加工ユニットを面取装置本体から取
り外し、装置外で修理することにより、修理中に残りの
加工ユニットを無駄なく稼働させることができる。これ
により、スループットが高く、効率的なウェーハ面取装
置の運転を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施の形態に係るウェーハ面取装置の全
体構成を示す平面図

【図２】アライメント部の構成を示す平面図

【図３】加工ユニットの構成を示す側面図

【図４】取付台の構成を示す正面断面図

【図５】取付台の構成を示す側面断面図

【図６】第２の実施の形態に係るウェーハ面取装置の要
部の構成を示す側面図

【図７】他の実施の形態の台車の構成を示す側面図

【符号の説明】

１０…ウェーハ面取装置１０Ａ…ウェーハ面取装置の本体フレーム１２…供給部１４…アライメント部１６…加工部１８…洗浄部２０…回収部２８…第１供給搬送装置３２…第２供給搬送装置４８…加工ユニット５２…供給トランスファー５４…回収トランスファー７０…ウェーハテーブル８０…外周加工砥石８２…ノッチ加工砥石８８…センタリング装置１１０…洗浄装置１１４…第１格納搬送装置１２２…第２格納搬送装置２００…搬送台車Ｗ…ウェーハ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ウェーハが多数格納された供給カセット
からウェーハを取り出して加工部に搬送し、該加工部で
ウェーハの外周の面取り加工を行ったのち、その面取り
加工の完了したウェーハを前記加工部から取り出して、
回収カセットに格納するウェーハ面取装置において、前記加工部に前記ウェーハの面取り加工を各々独立して
行うことができる加工ユニットを複数設置するととも
に、該加工ユニットを前記ウェーハ面取装置の装置本体
から着脱自在にしたことを特徴とするウェーハ面取装
置。
【請求項２】ウェーハが多数格納された供給カセット
が設置される供給部と、面取り加工前のウェーハに所定
の前設定を行う前設定部と、ウェーハの面取り加工を行
う加工部と、面取り加工が完了したウェーハを洗浄する
洗浄部と、ウェーハを格納する格納カセットを設置する
格納部と、前記供給カセットから前記前設定部へウェー
ハを搬送する供給搬送部と、前記前設定部から前記加工
部にウェーハを搬送する加工搬送部と、前記加工部で面
取り加工が完了したウェーハを前記加工部から取り出
し、前記洗浄部へ搬送する回収搬送部と、洗浄が完了し
たウェーハを前記洗浄部から取り出して前記格納部に設
置された格納カセットに格納する格納搬送部と、からな
るウェーハ面取装置において、前記加工部に前記ウェーハの面取り加工を各々独立して
行うことができる加工ユニットを複数設置し、各加工ユ
ニットの前面から前記ウェーハの供給を行うとともに、
各加工ユニットを前記ウェーハ面取装置の装置本体背面
から着脱自在に構成したことを特徴とするウェーハ面取
装置。
【請求項３】前記加工ユニットは、相対的に上下及び
水平方向に移動可能なウェーハテーブルと砥石を有し、
前記ウェーハを前記ウューハテーブルに固定して、前記
ウェーハテーブルと前記砥石の相対的な上下方向位置を
設定したのち、前記ウェーハテーブルと前記砥石とを回
転させながら相対的に近づけることにより、前記ウェー
ハの外周の面取り加工をすることを特徴とする請求項１
記載のウェーハ面取装置。
【請求項４】前記加工ユニットは、センタリング装置
を有し、該センタリング装置は、前記供給カセットから
取り出されたウェーハを受け取ったのち、その受け取っ
たウェーハを前記ウェーハテーブルに芯出して載置する
ことを特徴とする請求項３記載のウェーハ面取装置。
【請求項５】前記ウェーハ面取装置は、予備の加工ユ
ニットを有しており、前記ウェーハ面取装置に装備され
た加工ユニットが故障した時又は前記ウェーハ面取装置
に装備された加工ユニットのメンテナンスを行う時に、
その故障又はメンテナンスを行う加工ユニットと前記予
備の加工ユニットとを交換して用いることを特徴とする
請求項１又は２記載のウェーハ面取装置。
【請求項６】前記ウェーハ面取装置は台車を有してお
り、該台車に前記ウェーハ面取装置に取り付ける加工ユ
ニットを載置するとともに、該台車に前記ウェーハ面取
装置から取り外した加工ユニットを載置することを特徴
とする請求項１又は２記載のウェーハ面取装置。
【請求項７】前記台車は、該台車上で前記加工ユニッ
トの運転を行うことができることを特徴とする請求項６
記載のウェーハ面取装置。