JPH10244601A - 薄膜ガスバリア性フィルム用の基材プラスチックフィルムの製造方法 - Google Patents
薄膜ガスバリア性フィルム用の基材プラスチックフィルムの製造方法Info
- Publication number
- JPH10244601A JPH10244601A JP9051983A JP5198397A JPH10244601A JP H10244601 A JPH10244601 A JP H10244601A JP 9051983 A JP9051983 A JP 9051983A JP 5198397 A JP5198397 A JP 5198397A JP H10244601 A JPH10244601 A JP H10244601A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- thin film
- gas barrier
- plastic film
- roughness rms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 酸素ガスバリア性、水蒸気バリア性等に優れ
た透明な薄膜ガスバリア性を提供する。 【解決手段】 プラスチックフィルムの少なくとも片面
にアンカーコート剤を塗布し、その塗布表面の粗さＲｍ
ｓを塗布前の表面の粗さＲｍｓの０．７倍以下とするこ
とを特徴とする薄膜ガスバリア性フィルム用の基材プラ
スチックフィルムの製造方法。
た透明な薄膜ガスバリア性を提供する。 【解決手段】 プラスチックフィルムの少なくとも片面
にアンカーコート剤を塗布し、その塗布表面の粗さＲｍ
ｓを塗布前の表面の粗さＲｍｓの０．７倍以下とするこ
とを特徴とする薄膜ガスバリア性フィルム用の基材プラ
スチックフィルムの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基材プラスチック
フィルム面に無機酸化物の薄膜を形成してなる薄膜ガス
バリア性フィルムにおいて基材として好適に用いられる
プラスチックフィルムの製造方法に関する。
フィルム面に無機酸化物の薄膜を形成してなる薄膜ガス
バリア性フィルムにおいて基材として好適に用いられる
プラスチックフィルムの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、プラスチックフィルムを基材
とし、その表面に酸化アルミニウム、酸化マグネシウ
ム、酸化珪素等の無機酸化物の薄膜を形成した薄膜ガス
バリア性フィルムは、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断
を必要とする物品の包装、食品や工業用品及び医薬品等
の変質を防止するため包装用途に広く利用されている。
また、薄膜ガスバリア性フィルムは、包装用途以外に
も、近年、液晶表示素子、太陽電池、電磁波シールド、
タッチパネル、ＥＬ用基板、カラーフィルター等で使用
する透明導電シートの一部などの新しい用途にも注目さ
れている。
とし、その表面に酸化アルミニウム、酸化マグネシウ
ム、酸化珪素等の無機酸化物の薄膜を形成した薄膜ガス
バリア性フィルムは、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断
を必要とする物品の包装、食品や工業用品及び医薬品等
の変質を防止するため包装用途に広く利用されている。
また、薄膜ガスバリア性フィルムは、包装用途以外に
も、近年、液晶表示素子、太陽電池、電磁波シールド、
タッチパネル、ＥＬ用基板、カラーフィルター等で使用
する透明導電シートの一部などの新しい用途にも注目さ
れている。
【０００３】そして、かかる薄膜ガスバリア性フィルム
に関し、ガスバリア性の向上などを目的とした種々の改
良検討がなされており、例えば、液晶性ポリエステルフ
ィルムの幅方向の平均粗さを規定したもの（特開平３−
１７６１２３）、二軸延伸ポリプロピレンフィルムの両
面の濡れ張力及び片面の面粗さを規定したフィルム（特
開平４−２１６８２９）、珪素酸化物が基材のプラスチ
ックフィルムの組織と混在させたフィルム（特開平４−
１１５９４０）、蒸着原料の比重及び平均粒径を規定し
たフィルム（特開平６−５７４１７、特開平７−３４２
２４）などが提案されている。また、薄膜ガスバリア性
フィルムでの主に基材フィルムと薄膜との密着性改良と
して、基材フィルムに樹脂コート又はアンカーコートを
したもの（特開平３−８６５３９、特開平３−２３１８
３８、特開平３−２７８９４６等）も多く提案されてい
る。
に関し、ガスバリア性の向上などを目的とした種々の改
良検討がなされており、例えば、液晶性ポリエステルフ
ィルムの幅方向の平均粗さを規定したもの（特開平３−
１７６１２３）、二軸延伸ポリプロピレンフィルムの両
面の濡れ張力及び片面の面粗さを規定したフィルム（特
開平４−２１６８２９）、珪素酸化物が基材のプラスチ
ックフィルムの組織と混在させたフィルム（特開平４−
１１５９４０）、蒸着原料の比重及び平均粒径を規定し
たフィルム（特開平６−５７４１７、特開平７−３４２
２４）などが提案されている。また、薄膜ガスバリア性
フィルムでの主に基材フィルムと薄膜との密着性改良と
して、基材フィルムに樹脂コート又はアンカーコートを
したもの（特開平３−８６５３９、特開平３−２３１８
３８、特開平３−２７８９４６等）も多く提案されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような方法で改良された薄膜ガスバリア性フィルムで
も、水蒸気バリア性と酸素ガスバリア性の少なくもいず
れかが所望の性能に達しないという問題、耐溶剤性が不
十分であるという問題、更には、ボイル及びレトルト等
の熱水処理後のガスバリア性が著しく低下するという問
題などがある。また、かかる問題による影響として、食
料品等を常温で長期保存することができるような高性能
ガスバリアフィルムを得るために薄膜部分が厚くなりコ
スト高になりやすいというような問題が生じている。
ような方法で改良された薄膜ガスバリア性フィルムで
も、水蒸気バリア性と酸素ガスバリア性の少なくもいず
れかが所望の性能に達しないという問題、耐溶剤性が不
十分であるという問題、更には、ボイル及びレトルト等
の熱水処理後のガスバリア性が著しく低下するという問
題などがある。また、かかる問題による影響として、食
料品等を常温で長期保存することができるような高性能
ガスバリアフィルムを得るために薄膜部分が厚くなりコ
スト高になりやすいというような問題が生じている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記実状
に鑑み、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結
果、プラスチックフィルムにコート剤を塗布した面の表
面の粗さを一定以下としたものを基材フィルムとして使
用した薄膜ガスバリア性フィルムによれば、高度な酸素
ガスバリア性及び水蒸気バリア性を有し、且つ耐溶剤性
を有し、熱水処理後もガスバリア性が低下しない極めて
良好な薄膜ガスバリア性フィルムが提供できることを見
いだし、本発明に到達した。即ち、本発明は、プラスチ
ックフィルムの少なくとも片面にアンカーコート剤を塗
布し、その塗布表面の粗さＲｍｓを塗布前の表面の粗さ
Ｒｍｓの０．７倍以下とすることを特徴とする薄膜ガス
バリア性フィルム用の基材プラスチックフィルムの製造
方法に存する。
に鑑み、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結
果、プラスチックフィルムにコート剤を塗布した面の表
面の粗さを一定以下としたものを基材フィルムとして使
用した薄膜ガスバリア性フィルムによれば、高度な酸素
ガスバリア性及び水蒸気バリア性を有し、且つ耐溶剤性
を有し、熱水処理後もガスバリア性が低下しない極めて
良好な薄膜ガスバリア性フィルムが提供できることを見
いだし、本発明に到達した。即ち、本発明は、プラスチ
ックフィルムの少なくとも片面にアンカーコート剤を塗
布し、その塗布表面の粗さＲｍｓを塗布前の表面の粗さ
Ｒｍｓの０．７倍以下とすることを特徴とする薄膜ガス
バリア性フィルム用の基材プラスチックフィルムの製造
方法に存する。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明での基材のプラスチックフィルム原料としては、
フィルムとして利用されるようなプラスチック原料であ
れば特に制限はない。具体的な例としては、エチレン、
プロピレン、ブテン等の単独重合体又は共重合体等のポ
リオレフィン（ＰＯ）系樹脂、環状ポリオレフィン等の
非晶質ポリオレフィン樹脂（ＡＰＯ）、ポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフ
タレート、（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ナイロ
ン６、ナイロン１２、共重合ナイロン等のポリアミド
（ＰＡ）系樹脂、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）樹
脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）
等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド（ＰＩ）
樹脂、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）樹脂、ポリサルホ
ン（ＰＳ）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹
脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポ
リカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリビニルブチラール
（ＰＶＢ）樹脂、ポリアリレート（ＰＡＲ）樹脂、エチ
レン−四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、三フッ
化塩化エチレン（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン−パーフ
ルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＦＥＰ）、フ
ッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル（ＰＶ
Ｆ）、パーフルオロエチレン−パーフロロプロピレン−
パーフロロビニルエーテル三元共重合体（ＥＰＥ）等の
フッ素系樹脂、ラジカル反応性不飽和化合物を有するア
クリレート化合物より成る樹脂組成物、このアクリレー
化合物とチオール基を有するメルカプト化合物より成る
樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレ
ート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリ
レート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに
溶融せしめた樹脂組成物等の光硬化性樹脂、及びこれら
の混合物などが挙げられる。なお、以上のプラスチック
原料中には、公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外
線吸収剤、可塑剤、滑剤、フィラー、着色剤等を添加す
ることができる。
本発明での基材のプラスチックフィルム原料としては、
フィルムとして利用されるようなプラスチック原料であ
れば特に制限はない。具体的な例としては、エチレン、
プロピレン、ブテン等の単独重合体又は共重合体等のポ
リオレフィン（ＰＯ）系樹脂、環状ポリオレフィン等の
非晶質ポリオレフィン樹脂（ＡＰＯ）、ポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン−２，６−ナフ
タレート、（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ナイロ
ン６、ナイロン１２、共重合ナイロン等のポリアミド
（ＰＡ）系樹脂、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）樹
脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）
等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド（ＰＩ）
樹脂、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）樹脂、ポリサルホ
ン（ＰＳ）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹
脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポ
リカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリビニルブチラール
（ＰＶＢ）樹脂、ポリアリレート（ＰＡＲ）樹脂、エチ
レン−四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、三フッ
化塩化エチレン（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン−パーフ
ルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＦＥＰ）、フ
ッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル（ＰＶ
Ｆ）、パーフルオロエチレン−パーフロロプロピレン−
パーフロロビニルエーテル三元共重合体（ＥＰＥ）等の
フッ素系樹脂、ラジカル反応性不飽和化合物を有するア
クリレート化合物より成る樹脂組成物、このアクリレー
化合物とチオール基を有するメルカプト化合物より成る
樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレ
ート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリ
レート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに
溶融せしめた樹脂組成物等の光硬化性樹脂、及びこれら
の混合物などが挙げられる。なお、以上のプラスチック
原料中には、公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外
線吸収剤、可塑剤、滑剤、フィラー、着色剤等を添加す
ることができる。
【０００７】以上のプラスチック原料から得られるフィ
ルムは、未延伸フィルムでもよいし延伸フィルムでもよ
い。また、他のプラスチックフィルムと積層されていて
もよい。かかるプラスチックフィルムは、従来公知の一
般的な方法により製造することができる。例えば、原料
樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやＴダイによ
り押し出して、急冷することにより実質的に無定型で配
向していない未延伸フィルムを製造することができる。
また、延伸フィルムは、この未延伸フィルムを一軸延
伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延
伸、チューブラー式同時二軸延伸などの従来公知の一般
的な方法により、フィルムの流れ（縦軸）方向又はフィ
ルムの流れ方向とそれに直角な（横軸）方向に延伸する
ことにより製造することができる。延伸倍率は、適宜原
料のプラスチックにより選択することができるが、縦軸
方向及び横軸方向にそれぞれ２〜１０倍が好ましい。
ルムは、未延伸フィルムでもよいし延伸フィルムでもよ
い。また、他のプラスチックフィルムと積層されていて
もよい。かかるプラスチックフィルムは、従来公知の一
般的な方法により製造することができる。例えば、原料
樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやＴダイによ
り押し出して、急冷することにより実質的に無定型で配
向していない未延伸フィルムを製造することができる。
また、延伸フィルムは、この未延伸フィルムを一軸延
伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延
伸、チューブラー式同時二軸延伸などの従来公知の一般
的な方法により、フィルムの流れ（縦軸）方向又はフィ
ルムの流れ方向とそれに直角な（横軸）方向に延伸する
ことにより製造することができる。延伸倍率は、適宜原
料のプラスチックにより選択することができるが、縦軸
方向及び横軸方向にそれぞれ２〜１０倍が好ましい。
【０００８】プラスチックフィルムの厚さは、薄膜ガス
バリア性フィルムの基材としての機械強度、可撓性、透
明性等、用途に応じ、通常５〜５００μｍ、好ましくは
１０〜２００μｍの範囲で選択される。また、フィルム
の幅や長さは特に制限はなく、適宜用途に応じて選択す
ることができる。更に、該プラスチックフィルムには、
コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電
処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による
表面処理などを行うこともできる。
バリア性フィルムの基材としての機械強度、可撓性、透
明性等、用途に応じ、通常５〜５００μｍ、好ましくは
１０〜２００μｍの範囲で選択される。また、フィルム
の幅や長さは特に制限はなく、適宜用途に応じて選択す
ることができる。更に、該プラスチックフィルムには、
コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電
処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による
表面処理などを行うこともできる。
【０００９】本発明では、以上のプラスチックフィルム
の少なくとも片面にアンカーコート剤を塗布する。アン
カーコート処理によれば、一般的に薄膜とフィルムとの
密着性を向上させることができるが、その結果として良
好なガスバリア性が発現しやすくなるという点でも望ま
しい。その具体的な方法としては、エアドクタコータ、
ロッドコータ、リバースロールコータ、グラビアコー
タ、キスコータ等による公知の方法が採用できる。この
アンカーコート処理は、基材のプラスチックフィルムの
製造途中又は製造されたプラスチックフィルムの二次加
工処理の際に実施することができる。例えば、フィルム
を二軸延伸した後にアンカーコート処理をしてもよい
し、未延伸もしくは一軸延伸の段階のフィルムをアンカ
ーコート処理を実施した後で更に延伸を行うような方法
も可能である。
の少なくとも片面にアンカーコート剤を塗布する。アン
カーコート処理によれば、一般的に薄膜とフィルムとの
密着性を向上させることができるが、その結果として良
好なガスバリア性が発現しやすくなるという点でも望ま
しい。その具体的な方法としては、エアドクタコータ、
ロッドコータ、リバースロールコータ、グラビアコー
タ、キスコータ等による公知の方法が採用できる。この
アンカーコート処理は、基材のプラスチックフィルムの
製造途中又は製造されたプラスチックフィルムの二次加
工処理の際に実施することができる。例えば、フィルム
を二軸延伸した後にアンカーコート処理をしてもよい
し、未延伸もしくは一軸延伸の段階のフィルムをアンカ
ーコート処理を実施した後で更に延伸を行うような方法
も可能である。
【００１０】アンカーコート層の厚さは、使用するプラ
スチックフィルムの表面凹凸に合わせ、通常０．００５
〜５μｍ、好ましくは０．０１〜１μｍの範囲で選ぶの
が好ましい。０．００５μｍ未満では、塗布むらが生
じ、一方、５μｍを越えても塗布層の厚さむらが生じた
り、基材フィルムとアンカーコート層との密着性が低下
したり、フィルムの滑性が低下する傾向があるので好ま
しくない。アンカーコート剤としては、ポリエステル樹
脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹
脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、
エポキシ樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコン樹脂及
びアルキルチタネート等を単独或いは２種以上を併せて
使用することができる。また、これらには従来公知の架
橋剤やシランカップリング剤、添加剤を加えることもで
きる。
スチックフィルムの表面凹凸に合わせ、通常０．００５
〜５μｍ、好ましくは０．０１〜１μｍの範囲で選ぶの
が好ましい。０．００５μｍ未満では、塗布むらが生
じ、一方、５μｍを越えても塗布層の厚さむらが生じた
り、基材フィルムとアンカーコート層との密着性が低下
したり、フィルムの滑性が低下する傾向があるので好ま
しくない。アンカーコート剤としては、ポリエステル樹
脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹
脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、
エポキシ樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコン樹脂及
びアルキルチタネート等を単独或いは２種以上を併せて
使用することができる。また、これらには従来公知の架
橋剤やシランカップリング剤、添加剤を加えることもで
きる。
【００１１】本発明は、以上のように、アンカーコート
剤をフィルム表面に塗布し、その塗布表面の粗さＲｍｓ
を塗布前の表面の粗さＲｍｓの０．７倍以下、好ましく
は０．４倍以下とすることを特徴とする薄膜ガスバリア
性フィルム用の基材プラスチックフィルムに関するが、
この０．７倍を超えるような場合は後述するガスバリア
用の薄膜が均一な厚さに形成されにくく、また、薄膜を
形成する粒子が緻密に充填が困難なので高度な酸素ガス
バリア性及び水蒸気バリア性が得られないので好ましく
ない。そして、塗布層に厚さむらがあると、塗布面に薄
膜を形成させて得た薄膜ガスバリア性フィルムの耐溶剤
性が悪くなったり、ボイル及びレトルト処理後のガスバ
リア性が低下する傾向があるので好ましくない。アンカ
ーコート剤は基材の各プラスチックフィルムの表面を侵
さないような溶剤を選択してこれに希釈し、公知の塗布
装置を用いてできるだけ均一に塗布し、更にフィルム表
面が熱の影響で劣化しないように、速やかに乾燥するこ
とが大切である。
剤をフィルム表面に塗布し、その塗布表面の粗さＲｍｓ
を塗布前の表面の粗さＲｍｓの０．７倍以下、好ましく
は０．４倍以下とすることを特徴とする薄膜ガスバリア
性フィルム用の基材プラスチックフィルムに関するが、
この０．７倍を超えるような場合は後述するガスバリア
用の薄膜が均一な厚さに形成されにくく、また、薄膜を
形成する粒子が緻密に充填が困難なので高度な酸素ガス
バリア性及び水蒸気バリア性が得られないので好ましく
ない。そして、塗布層に厚さむらがあると、塗布面に薄
膜を形成させて得た薄膜ガスバリア性フィルムの耐溶剤
性が悪くなったり、ボイル及びレトルト処理後のガスバ
リア性が低下する傾向があるので好ましくない。アンカ
ーコート剤は基材の各プラスチックフィルムの表面を侵
さないような溶剤を選択してこれに希釈し、公知の塗布
装置を用いてできるだけ均一に塗布し、更にフィルム表
面が熱の影響で劣化しないように、速やかに乾燥するこ
とが大切である。
【００１２】また、フィルム表面の粗さＲｍｓの絶対値
はフィルムを形成するプラスチック原料の種類により必
ずしも一定ではないのが現状であるが、アンカーコート
剤を塗布する前のフイルム表面のＲｍｓは通常１０ｎｍ
以下、特に１〜５ｎｍ程度の範囲にあり、アンカーコー
ト剤を塗布した後フイルム表面のＲｍｓの絶対値もフィ
ルムの種類によって相違する。本発明ではアンカーコー
ト剤の塗布を注意深く実施する必要があり、例えば、二
軸延伸ポリエステルフィルム表面にアンカーコート剤を
塗布した場合のフィルム表面のＲｍｓは好ましくは０．
７ｎｍ以下、特に好ましくは０．５ｎｍ以下とし、二軸
延伸ポリプロピレンフィルム表面にアンカ−コート剤で
塗布した場合の表面のＲｍｓは好ましくは２．５ｎｍ以
下、特に好ましくは１．５ｎｍとする。
はフィルムを形成するプラスチック原料の種類により必
ずしも一定ではないのが現状であるが、アンカーコート
剤を塗布する前のフイルム表面のＲｍｓは通常１０ｎｍ
以下、特に１〜５ｎｍ程度の範囲にあり、アンカーコー
ト剤を塗布した後フイルム表面のＲｍｓの絶対値もフィ
ルムの種類によって相違する。本発明ではアンカーコー
ト剤の塗布を注意深く実施する必要があり、例えば、二
軸延伸ポリエステルフィルム表面にアンカーコート剤を
塗布した場合のフィルム表面のＲｍｓは好ましくは０．
７ｎｍ以下、特に好ましくは０．５ｎｍ以下とし、二軸
延伸ポリプロピレンフィルム表面にアンカ−コート剤で
塗布した場合の表面のＲｍｓは好ましくは２．５ｎｍ以
下、特に好ましくは１．５ｎｍとする。
【００１３】なお、ここでの薄膜表面の粗さは、通常市
販されている原子間力顕微鏡（以下「ＡＦＭ」とい
う。）により測定したＡＦＭ凹凸像を粗さ解析により求
めた粗さＲｍｓ（自乗平均平方根粗さ）の値である。Ａ
ＦＭとしては、ＤｉｇｉｔａｌＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ
社、セイコー電子工業社 Ｔｏｐｏｍｅｔｒｉｘ社等か
ら市販されている装置をそのまま使用することができ
る。この粗さＲｍｓの測定では、Ｑ．Ｚｏｎｇ，Ｄ．Ｉ
ｎｎｉｓ，Ｋ．Ｋｊｏｌｌｅｒ ａｎｄ Ｖ．Ｂ．Ｅｌ
ｉｎｇｓ、 Ｓｕｒｆ．Ｓｃｉ．Ｌｅｔｔｅｒ，（１９
９３） Ｖｏｌ．２９０，ｐ６８８〜６９２に説明のあ
る共振モードに相当する測定モードが採用される。例え
ば、Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の装
置ＮａｎｏＳｃｏｐｅ（ｃ）を使用した場合にはタッピ
ングモードで、また、セイコー電子工業社製ＳＰＩ３７
００を使用した場合にはダイナミックフォースモードで
測定を実施するとよい。
販されている原子間力顕微鏡（以下「ＡＦＭ」とい
う。）により測定したＡＦＭ凹凸像を粗さ解析により求
めた粗さＲｍｓ（自乗平均平方根粗さ）の値である。Ａ
ＦＭとしては、ＤｉｇｉｔａｌＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ
社、セイコー電子工業社 Ｔｏｐｏｍｅｔｒｉｘ社等か
ら市販されている装置をそのまま使用することができ
る。この粗さＲｍｓの測定では、Ｑ．Ｚｏｎｇ，Ｄ．Ｉ
ｎｎｉｓ，Ｋ．Ｋｊｏｌｌｅｒ ａｎｄ Ｖ．Ｂ．Ｅｌ
ｉｎｇｓ、 Ｓｕｒｆ．Ｓｃｉ．Ｌｅｔｔｅｒ，（１９
９３） Ｖｏｌ．２９０，ｐ６８８〜６９２に説明のあ
る共振モードに相当する測定モードが採用される。例え
ば、Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の装
置ＮａｎｏＳｃｏｐｅ（ｃ）を使用した場合にはタッピ
ングモードで、また、セイコー電子工業社製ＳＰＩ３７
００を使用した場合にはダイナミックフォースモードで
測定を実施するとよい。
【００１４】表面の粗さの測定では、フィルム表面を１
μｍ×１μｍの面積を測定したＡＦＭ凹凸像についてフ
ラット処理を行った後、粗さ解析を行ってＲｍｓ粗さの
値を求める。ここに、フラット処理とは、２次元データ
につき、基準面に対して１次、２次又は３次元の関数で
傾きの補正を処理することをいい、粗さ解析により求め
た粗さＲｍｓは以下の式（１）により求めることができ
る。式（１）において、Ｚｉ＝ｆ（ｘ，ｙ）で、ｘ，ｙ
の座標は０から５１１の５１２点ずつ、即ち、Ｎ＝５１
２ｘ５１２、約２５万点での高さ（粗さ）の粗さＲｍｓ
である。
μｍ×１μｍの面積を測定したＡＦＭ凹凸像についてフ
ラット処理を行った後、粗さ解析を行ってＲｍｓ粗さの
値を求める。ここに、フラット処理とは、２次元データ
につき、基準面に対して１次、２次又は３次元の関数で
傾きの補正を処理することをいい、粗さ解析により求め
た粗さＲｍｓは以下の式（１）により求めることができ
る。式（１）において、Ｚｉ＝ｆ（ｘ，ｙ）で、ｘ，ｙ
の座標は０から５１１の５１２点ずつ、即ち、Ｎ＝５１
２ｘ５１２、約２５万点での高さ（粗さ）の粗さＲｍｓ
である。
【００１５】
【数１】 −−−（１）
【００１６】以上のようなアンカーコート処理を施した
プラスチックフィルムは、薄膜ガスバリア性フィルム用
の基材として用いる。この薄膜ガスバリア性フィルムの
薄膜層は通常は金属、非金属、亜金属の酸化物等の無機
酸化物が用いられる。具体例としては、酸化アルミニウ
ム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化
カルシウム、酸化カドミウム、酸化銀、酸化金、酸化ク
ロム、珪素酸化物、酸化コバルト、酸化ジルコニウム、
酸化スズ、酸化チタン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケ
ル、酸化白金、酸化パラジウム、酸化ビスマス、酸化マ
グネシウム、酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化バナ
ジウム、酸化バリウム等が挙げられるが、珪素酸化物、
酸化アルミニウムが、高度な酸素ガスバリア性、水蒸気
バリア性及び透明性とを兼ね備え、かつ、工業的に安価
であるので特に好ましい。かかる珪素酸化物、酸化アル
ミニウムは各々単独で使用してもよいし、混合物として
使用してもよい。なお、無機酸化物には、微量の金属、
非金属、亜金属単体やそれらの水酸化物、また、可撓性
を向上させるために適宜炭素又はフッ素が含まれていて
もよい。
プラスチックフィルムは、薄膜ガスバリア性フィルム用
の基材として用いる。この薄膜ガスバリア性フィルムの
薄膜層は通常は金属、非金属、亜金属の酸化物等の無機
酸化物が用いられる。具体例としては、酸化アルミニウ
ム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化
カルシウム、酸化カドミウム、酸化銀、酸化金、酸化ク
ロム、珪素酸化物、酸化コバルト、酸化ジルコニウム、
酸化スズ、酸化チタン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケ
ル、酸化白金、酸化パラジウム、酸化ビスマス、酸化マ
グネシウム、酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化バナ
ジウム、酸化バリウム等が挙げられるが、珪素酸化物、
酸化アルミニウムが、高度な酸素ガスバリア性、水蒸気
バリア性及び透明性とを兼ね備え、かつ、工業的に安価
であるので特に好ましい。かかる珪素酸化物、酸化アル
ミニウムは各々単独で使用してもよいし、混合物として
使用してもよい。なお、無機酸化物には、微量の金属、
非金属、亜金属単体やそれらの水酸化物、また、可撓性
を向上させるために適宜炭素又はフッ素が含まれていて
もよい。
【００１７】以上の薄膜の厚さは特に制限はなく、無機
酸化物の種類等によっても異なるが、酸素ガスバリア性
及び水蒸気バリア性、更には経済性を考慮すると、薄膜
の厚さは１０〜５０ｎｍが好ましい。更に高度な酸素ガ
スバリア性や水蒸気バリア性を得るためには薄膜の厚さ
を厚くすればよいが、薄膜の厚さが１０ｎｍ未満では薄
膜が島状になって薄膜が形成されない箇所が生ずる可能
性があり均一な膜が得られない傾向があるので余り好ま
しくない。薄膜を形成する方法としては、公知の蒸着方
法が採用できる。具体的な方法としては、抵抗加熱法、
高周波誘導加熱法、電子ビーム照射加熱法又はレーザー
加熱法による真空蒸着法、イオンプレーティング法、ス
パッタリング法、ＣＶＤ法等が採用できる。また、薄膜
を形成する蒸着材料としては、金属単体や無機酸化物又
はそれらの混合物が使用でき、金属単体の場合は、酸素
ガスを導入することにより、形成された薄膜が無機酸化
物となる。
酸化物の種類等によっても異なるが、酸素ガスバリア性
及び水蒸気バリア性、更には経済性を考慮すると、薄膜
の厚さは１０〜５０ｎｍが好ましい。更に高度な酸素ガ
スバリア性や水蒸気バリア性を得るためには薄膜の厚さ
を厚くすればよいが、薄膜の厚さが１０ｎｍ未満では薄
膜が島状になって薄膜が形成されない箇所が生ずる可能
性があり均一な膜が得られない傾向があるので余り好ま
しくない。薄膜を形成する方法としては、公知の蒸着方
法が採用できる。具体的な方法としては、抵抗加熱法、
高周波誘導加熱法、電子ビーム照射加熱法又はレーザー
加熱法による真空蒸着法、イオンプレーティング法、ス
パッタリング法、ＣＶＤ法等が採用できる。また、薄膜
を形成する蒸着材料としては、金属単体や無機酸化物又
はそれらの混合物が使用でき、金属単体の場合は、酸素
ガスを導入することにより、形成された薄膜が無機酸化
物となる。
【００１８】
【実施例】以下、本発明の内容及び効果を実施例により
更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限
り以下の例に限定されるものではない。なお、以下の実
施例におけるフィルムの測定及び評価の方法は以下の通
りである。 ＜基材フィルム表面の粗さ（粗さＲｍｓ）＞原子間力顕
微鏡（ＡＦＭ）として、セイコー電子工業製ＳＰＩ３７
００を使用し、ダイナミックフォースモードで、実施例
及び比較例での薄膜ガスバリア性フィルムの基材フィル
ム表面を１μｍ×１μｍの面積を測定したＡＦＭ凹凸像
についてフラット処理を行った後、粗さ解析を行って、
Ｒｍｓ粗さを求めた。この際、測定に用いるカンチレバ
ーは、磨耗や汚れのない状態のものを用いた。また、測
定する箇所は、フィルム中の滑剤やフィラー等による高
さ数１０ｎｍの突起及び深さ数１０ｎｍの窪みのない箇
所とした。
更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限
り以下の例に限定されるものではない。なお、以下の実
施例におけるフィルムの測定及び評価の方法は以下の通
りである。 ＜基材フィルム表面の粗さ（粗さＲｍｓ）＞原子間力顕
微鏡（ＡＦＭ）として、セイコー電子工業製ＳＰＩ３７
００を使用し、ダイナミックフォースモードで、実施例
及び比較例での薄膜ガスバリア性フィルムの基材フィル
ム表面を１μｍ×１μｍの面積を測定したＡＦＭ凹凸像
についてフラット処理を行った後、粗さ解析を行って、
Ｒｍｓ粗さを求めた。この際、測定に用いるカンチレバ
ーは、磨耗や汚れのない状態のものを用いた。また、測
定する箇所は、フィルム中の滑剤やフィラー等による高
さ数１０ｎｍの突起及び深さ数１０ｎｍの窪みのない箇
所とした。
【００１９】＜薄膜の厚さ＞実施例及び比較例により得
られた薄膜ガスバリア性フィルムの断面を透過型電子顕
微鏡（日立製作所製、Ｈ−６００型）で観察し、薄膜の
厚さを測定した。 ＜酸素透過率＞ＡＳＴＭＤ−３９８５に準拠して、酸素
透過率測定装置（モダンコントロール社製、ＯＸ−ＴＲ
ＡＮ１００）を使用し、温度２５℃、相対湿度９５％の
条件下で測定した。 ＜水蒸気透過率＞水蒸気透過率測定装置（モダンコント
ロール社製、Ｐｅｒｍａｔｒａｎ−Ｗ１）を使用して、
温度４０℃、相対湿度９０％の条件下で測定した。
られた薄膜ガスバリア性フィルムの断面を透過型電子顕
微鏡（日立製作所製、Ｈ−６００型）で観察し、薄膜の
厚さを測定した。 ＜酸素透過率＞ＡＳＴＭＤ−３９８５に準拠して、酸素
透過率測定装置（モダンコントロール社製、ＯＸ−ＴＲ
ＡＮ１００）を使用し、温度２５℃、相対湿度９５％の
条件下で測定した。 ＜水蒸気透過率＞水蒸気透過率測定装置（モダンコント
ロール社製、Ｐｅｒｍａｔｒａｎ−Ｗ１）を使用して、
温度４０℃、相対湿度９０％の条件下で測定した。
【００２０】＜ボイル処理後の酸素透過率＞（株）平山
製作所製超加速寿命試験器（レトルトフィルム試験器）
ＰＬ−３０Ａｅ・Ｒ（ｃ）型を使用し、８０℃の熱水に
薄膜ガスバリア性フィルムを３０分間浸積させた。該浸
漬処理後、フィルムを取り出し、フィルムに付着した水
をさらし布で軽く拭き取り、温度２３℃、相対湿度５０
％で１日乾燥させたものについて前記の測定法で酸素透
過率を測定した。 ＜耐溶剤性テスト＞綿棒に酢酸エチルを含浸させ、薄膜
ガスバリア性フィルムの薄膜面を上にして、縦横１０回
ずつ力を入れずにこすり、その後光学顕微鏡２００倍で
その箇所を観察し、テストをする前の観察状態とほとん
ど変化ない場合を「○」、膜に傷がついている場合を
「△」、膜が剥離している場合を「×」として評価し
た。
製作所製超加速寿命試験器（レトルトフィルム試験器）
ＰＬ−３０Ａｅ・Ｒ（ｃ）型を使用し、８０℃の熱水に
薄膜ガスバリア性フィルムを３０分間浸積させた。該浸
漬処理後、フィルムを取り出し、フィルムに付着した水
をさらし布で軽く拭き取り、温度２３℃、相対湿度５０
％で１日乾燥させたものについて前記の測定法で酸素透
過率を測定した。 ＜耐溶剤性テスト＞綿棒に酢酸エチルを含浸させ、薄膜
ガスバリア性フィルムの薄膜面を上にして、縦横１０回
ずつ力を入れずにこすり、その後光学顕微鏡２００倍で
その箇所を観察し、テストをする前の観察状態とほとん
ど変化ない場合を「○」、膜に傷がついている場合を
「△」、膜が剥離している場合を「×」として評価し
た。
【００２１】実施例１ 二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（ダイア
ホイルヘキスト（株）製、Ｈ−５００、厚さ１２μｍ）
のコロナ処理面に、イソシアネート化合物（日本ポリウ
レタン工業（株）製コロネートＬ）と飽和ポリエステル
（東洋紡績（株）製バイロン３００）を混合し、塗布層
の平均厚さ約０．１μｍで塗布して、アンカーコートを
施した。このアンカーコート処理の前後のフィルムの表
面をＡＦＭで観察したところ、塗布前のフィルムのコロ
ナ処理面の凹凸が、コート剤塗布により平坦化している
ことが明らかであった。このフィルムの塗布面に、巻取
り式真空蒸着装置を使用し、蒸着材料としてＳｉＯ（住
友シチックス（株）製）を高周波加熱方式で蒸発させ、
圧力８ｘ１０-5Ｔｏｒｒの条件下で、膜厚２５ｎｍの酸
化珪素蒸着膜を形成し、珪素酸化物の薄膜が形成された
薄膜ガスバリア性フィルムを得た。以上における基材フ
ィルムと薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−１
に示す。
ホイルヘキスト（株）製、Ｈ−５００、厚さ１２μｍ）
のコロナ処理面に、イソシアネート化合物（日本ポリウ
レタン工業（株）製コロネートＬ）と飽和ポリエステル
（東洋紡績（株）製バイロン３００）を混合し、塗布層
の平均厚さ約０．１μｍで塗布して、アンカーコートを
施した。このアンカーコート処理の前後のフィルムの表
面をＡＦＭで観察したところ、塗布前のフィルムのコロ
ナ処理面の凹凸が、コート剤塗布により平坦化している
ことが明らかであった。このフィルムの塗布面に、巻取
り式真空蒸着装置を使用し、蒸着材料としてＳｉＯ（住
友シチックス（株）製）を高周波加熱方式で蒸発させ、
圧力８ｘ１０-5Ｔｏｒｒの条件下で、膜厚２５ｎｍの酸
化珪素蒸着膜を形成し、珪素酸化物の薄膜が形成された
薄膜ガスバリア性フィルムを得た。以上における基材フ
ィルムと薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−１
に示す。
【００２２】実施例２ 実施例１において、蒸着材料をＡｌ（三菱化学（株）
製）に代え、電子ビーム加熱方式で、酸素ガスを導入し
圧力２ｘ１０-4Ｔｏｒｒに代えた他は、同様な方法で膜
厚２５ｎｍの酸化アルミニウムの薄膜が形成された薄膜
ガスバリア性フィルムを得た。以上における基材フィル
ムと薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−１に示
す。
製）に代え、電子ビーム加熱方式で、酸素ガスを導入し
圧力２ｘ１０-4Ｔｏｒｒに代えた他は、同様な方法で膜
厚２５ｎｍの酸化アルミニウムの薄膜が形成された薄膜
ガスバリア性フィルムを得た。以上における基材フィル
ムと薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−１に示
す。
【００２３】実施例３ 固有粘度０．６dl/gのポリエチレンテレフタレート樹脂
を２７０〜２９０℃でＴダイ押し出し機を使用して、溶
融、押し出させ、３０℃のキャストロールに密着急冷さ
せた後、９５℃でロール式延伸機にて縦方向に３．５倍
延伸し、一軸延伸フィルムを作製した。得られたフィル
ムを数１０ｃｍ長さに切り取り、その片面に実施例１で
使用したコート剤を同様に塗布し、卓上延伸機にて１１
０℃で未延伸方向である横方向に３．５倍延伸し、２３
０℃で熱固定処理を行った。得られた厚さ約１２μｍの
フィルムを基材として、実施例１と同様な方法で薄膜ガ
スバリア性フィルムを得た。以上における基材フィルム
と薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−１に示
す。得られた薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表
−１に示す。
を２７０〜２９０℃でＴダイ押し出し機を使用して、溶
融、押し出させ、３０℃のキャストロールに密着急冷さ
せた後、９５℃でロール式延伸機にて縦方向に３．５倍
延伸し、一軸延伸フィルムを作製した。得られたフィル
ムを数１０ｃｍ長さに切り取り、その片面に実施例１で
使用したコート剤を同様に塗布し、卓上延伸機にて１１
０℃で未延伸方向である横方向に３．５倍延伸し、２３
０℃で熱固定処理を行った。得られた厚さ約１２μｍの
フィルムを基材として、実施例１と同様な方法で薄膜ガ
スバリア性フィルムを得た。以上における基材フィルム
と薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−１に示
す。得られた薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表
−１に示す。
【００２４】比較例１ 実施例１において、基材の二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルムに塗布をせず、該フィルムのコロナ面
に薄膜を形成させた他は、同様な方法で珪素酸化物の薄
膜が形成された薄膜ガスバリア性フィルムを得た。以上
における基材フィルムと薄膜ガスバリア性フィルムの物
性結果を表−１に示す。
タレートフィルムに塗布をせず、該フィルムのコロナ面
に薄膜を形成させた他は、同様な方法で珪素酸化物の薄
膜が形成された薄膜ガスバリア性フィルムを得た。以上
における基材フィルムと薄膜ガスバリア性フィルムの物
性結果を表−１に示す。
【００２５】比較例２ 実施例１において、アンカーコート剤を、ジカルボン酸
成分としてテレフタル酸９２モル％、ソジウムスルホイ
ソフタル酸８モル％、グリコール成分としてエチレング
リコール７５モル％、ジエチレングリコール２５モル％
から成るコート剤に代え、前記の方法による塗布表面の
粗さＲｍｓが０．８０ｎｍであるフィルムを作製した他
は、同様な方法で珪素酸化物の薄膜が形成された薄膜ガ
スバリア性フィルムを得た。以上における基材フィルム
と薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−１に示
す。
成分としてテレフタル酸９２モル％、ソジウムスルホイ
ソフタル酸８モル％、グリコール成分としてエチレング
リコール７５モル％、ジエチレングリコール２５モル％
から成るコート剤に代え、前記の方法による塗布表面の
粗さＲｍｓが０．８０ｎｍであるフィルムを作製した他
は、同様な方法で珪素酸化物の薄膜が形成された薄膜ガ
スバリア性フィルムを得た。以上における基材フィルム
と薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−１に示
す。
【００２６】比較例３ 実施例３において、アンカーコート剤をイソシアネート
成分（東洋モートン（株）製ＣＡＴ−１０）とポリエス
テル成分（東洋モートン（株）製ＡＤ−５０２）を混合
したものに代えた他は、同様な方法でプラスチックフィ
ルムを得た。得られたフィルムの塗布表面を前記した方
法によりＡＦＭで観察したところ、塗布層が幅約０．１
μｍほどの間隔で不定形に凹凸を成しており、塗布面の
表面粗さＲｍｓは１．５ｎｍであった。以下、同様な方
法で珪素酸化物の薄膜が形成された薄膜ガスバリア性フ
ィルムを得た。以上における基材フィルムと薄膜ガスバ
リア性フィルムの物性結果を表−１に示す。
成分（東洋モートン（株）製ＣＡＴ−１０）とポリエス
テル成分（東洋モートン（株）製ＡＤ−５０２）を混合
したものに代えた他は、同様な方法でプラスチックフィ
ルムを得た。得られたフィルムの塗布表面を前記した方
法によりＡＦＭで観察したところ、塗布層が幅約０．１
μｍほどの間隔で不定形に凹凸を成しており、塗布面の
表面粗さＲｍｓは１．５ｎｍであった。以下、同様な方
法で珪素酸化物の薄膜が形成された薄膜ガスバリア性フ
ィルムを得た。以上における基材フィルムと薄膜ガスバ
リア性フィルムの物性結果を表−１に示す。
【００２７】
【表１】 注）表−１において、 Rms(0) は塗布後の基材フィルム表面の粗さＲｍｓを表し 、Rms(1)は塗布前の基材フィルム表面の粗さＲｍｓを表す。また、Rms(1)／ Rms (0) は、Rms(0)に対するRms(1)の比率を示す。更に、酸素透過率の単位は(cc/m2・ 24hr ・atm)、水蒸気透過率の単位は(g/m2・24hr ・atm)である。
【００２８】実施例４ 実施例１において、基材のフィルムを、二軸延伸ポリプ
ロピレンフィルム（二村三昌（株）製、ＦＯＫ、厚さ２
０μｍ）のコロナ処理面にエチレン−ビニルアルコール
共重合体樹脂（日本合成化学工業（株）製ソアノール３
０Ｌ）を塗布層の厚さ約０．５μｍで塗布したものに代
えた他は、同様な方法で珪素酸化物の薄膜が形成された
薄膜ガスバリア性フィルムを得た。以上における基材フ
ィルムと薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−２
に示す。
ロピレンフィルム（二村三昌（株）製、ＦＯＫ、厚さ２
０μｍ）のコロナ処理面にエチレン−ビニルアルコール
共重合体樹脂（日本合成化学工業（株）製ソアノール３
０Ｌ）を塗布層の厚さ約０．５μｍで塗布したものに代
えた他は、同様な方法で珪素酸化物の薄膜が形成された
薄膜ガスバリア性フィルムを得た。以上における基材フ
ィルムと薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−２
に示す。
【００２９】比較例４ 実施例１において、基材の二軸延伸ポリプロピレンフィ
ルムに塗布をせず、該フィルムのコロナ面に薄膜を形成
させた他は、同様な方法で珪素酸化物の薄膜が形成され
た薄膜ガスバリア性フィルムを得た。以上における基材
フィルムと薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−
２に示す。
ルムに塗布をせず、該フィルムのコロナ面に薄膜を形成
させた他は、同様な方法で珪素酸化物の薄膜が形成され
た薄膜ガスバリア性フィルムを得た。以上における基材
フィルムと薄膜ガスバリア性フィルムの物性結果を表−
２に示す。
【００３０】
【表２】 注）表−２において、 Rms(0) は塗布後の基材フィルム表面の粗さＲｍｓを表し 、Rms(1)は塗布前の基材フィルム表面の粗さＲｍｓを表す。また、Rms(1)／ Rms (0) は、Rms(0)に対するRms(1)の比率を示す。更に、酸素透過率の単位は(cc/m2・ 24hr ・atm)、水蒸気透過率の単位は(g/m2・24hr ・atm)である。
【００３１】
【発明の効果】本発明によるｈｏｕｈｏｕプラスチック
フィルムを基材として成る薄膜ガスバリア性フィルムは
水蒸気や酸素などに対するガスバリア性に優れる上に、
耐溶剤性や熱水処理後のガスバリア性などにおいても優
れている。かかる薄膜ガスバリア性フィルムは、他のプ
ラスチックフィルムや紙等と積層して使用したり、薄膜
の上に硬化膜層をつけて使用することができ、水蒸気や
酸素等の各種ガスの遮断を必要とする物品の包装、食品
や工業用品及び医薬品等の変質を防止するため包装用途
や、透明導電シートなどにも応用できる。
フィルムを基材として成る薄膜ガスバリア性フィルムは
水蒸気や酸素などに対するガスバリア性に優れる上に、
耐溶剤性や熱水処理後のガスバリア性などにおいても優
れている。かかる薄膜ガスバリア性フィルムは、他のプ
ラスチックフィルムや紙等と積層して使用したり、薄膜
の上に硬化膜層をつけて使用することができ、水蒸気や
酸素等の各種ガスの遮断を必要とする物品の包装、食品
や工業用品及び医薬品等の変質を防止するため包装用途
や、透明導電シートなどにも応用できる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ３２Ｂ 27/36 Ｂ３２Ｂ 27/36
Claims (7)
- 【請求項１】 プラスチックフィルムの少なくとも片面
にアンカーコート剤を塗布し、その塗布表面の粗さＲｍ
ｓを塗布前の表面の粗さＲｍｓの０．７倍以下とするこ
とを特徴とする薄膜ガスバリア性フィルム用の基材プラ
スチックフィルムの製造方法。 - 【請求項２】 塗布表面の粗さＲｍｓを塗布前の表面の
粗さＲｍｓの０．４倍以下とすることを特徴とする請求
項１の薄膜ガスバリア性フィルム用の基材プラスチック
フィルムの製造方法。 - 【請求項３】 二軸延伸ポリエステルフィルムの少なく
とも片面にアンカーコート剤を塗布し、その表面の粗さ
Ｒｍｓを０．７ｎｍ以下とすることを特徴とする薄膜ガ
スバリア性フィルム用の基材プラスチックフィルムの製
造方法。 - 【請求項４】 二軸延伸ポリプロピレンフィルムの少な
くとも片面に塗布液を塗布し、その表面の粗さＲｍｓを
２．５ｎｍ以下とすることを特徴とする薄膜ガスバリア
性フィルム用の基材プラスチックフィルムの製造方法。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかの基材プラ
スチックフィルムの塗布面に無機酸化物から成る薄膜を
形成することを特徴とする薄膜ガスバリア性フィルムの
製造方法。 - 【請求項６】 プラスチックフィルムの少なくとも片面
にアンカーコート剤を塗布し、その塗布表面の粗さＲｍ
ｓを塗布前の表面の粗さＲｍｓの０．７倍以下とし、次
いで、該プラスチックフィルム表面に無機酸化物から成
る薄膜を形成することを特徴とする薄膜ガスバリア性フ
ィルムの製造方法。 - 【請求項７】 塗布表面の粗さＲｍｓを塗布前の表面の
粗さＲｍｓの０．４倍以下とすることを特徴とする請求
項６の薄膜ガスバリア性フィルムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9051983A JPH10244601A (ja) | 1997-03-06 | 1997-03-06 | 薄膜ガスバリア性フィルム用の基材プラスチックフィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9051983A JPH10244601A (ja) | 1997-03-06 | 1997-03-06 | 薄膜ガスバリア性フィルム用の基材プラスチックフィルムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10244601A true JPH10244601A (ja) | 1998-09-14 |
Family
ID=12902104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9051983A Pending JPH10244601A (ja) | 1997-03-06 | 1997-03-06 | 薄膜ガスバリア性フィルム用の基材プラスチックフィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10244601A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001310412A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-06 | Mitsui Chemicals Inc | ガスバリアーフィルム |
| JP2002042559A (ja) * | 2000-05-19 | 2002-02-08 | Tdk Corp | 機能性膜 |
| JP2002225169A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-14 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ガスバリア性積層フィルム |
| JP2007173449A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Toray Advanced Film Co Ltd | 太陽電池モジュール用表面保護シート |
| JP2010018302A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-28 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ガスバリアフィルム、透明包装材料 |
| JP2011173356A (ja) * | 2010-02-25 | 2011-09-08 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア積層体 |
| WO2023286679A1 (ja) * | 2021-07-15 | 2023-01-19 | 東洋紡株式会社 | 無機薄膜層形成用の積層フィルム |
-
1997
- 1997-03-06 JP JP9051983A patent/JPH10244601A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001310412A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-06 | Mitsui Chemicals Inc | ガスバリアーフィルム |
| JP2002042559A (ja) * | 2000-05-19 | 2002-02-08 | Tdk Corp | 機能性膜 |
| JP4678097B2 (ja) * | 2000-05-19 | 2011-04-27 | Ｔｄｋ株式会社 | 導電膜 |
| JP2002225169A (ja) * | 2001-01-31 | 2002-08-14 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ガスバリア性積層フィルム |
| JP2007173449A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Toray Advanced Film Co Ltd | 太陽電池モジュール用表面保護シート |
| JP2010018302A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-01-28 | Toppan Printing Co Ltd | 透明ガスバリアフィルム、透明包装材料 |
| JP2011173356A (ja) * | 2010-02-25 | 2011-09-08 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア積層体 |
| WO2023286679A1 (ja) * | 2021-07-15 | 2023-01-19 | 東洋紡株式会社 | 無機薄膜層形成用の積層フィルム |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20120128969A1 (en) | Laminated polyester film | |
| US20130143033A1 (en) | Laminated polyester film | |
| EP1425170A1 (en) | Heat-stabilised poly(ethylene naphthalate) film for flexible electronic and opto-electronic devices | |
| WO2005070665A1 (ja) | ガスバリア性フィルム及びガスバリア性積層体 | |
| JPH11179836A (ja) | 蒸着プラスチックフイルム | |
| EP2450188A1 (en) | Laminated polyester film | |
| JP2005089622A (ja) | 光学用ポリエステルフィルム | |
| JPH10244601A (ja) | 薄膜ガスバリア性フィルム用の基材プラスチックフィルムの製造方法 | |
| JP4462279B2 (ja) | ガスバリア性フィルム及びガスバリア性積層体 | |
| JP2000238183A (ja) | 金属蒸着フィルム | |
| JP2001191442A (ja) | ガスバリア性に優れた積層構造体 | |
| JP3675904B2 (ja) | 薄膜ガスバリア性フィルム | |
| JP4266401B2 (ja) | 蒸着フィルム用の基材ポリエステルフィルム | |
| JP3564919B2 (ja) | 薄膜ガスバリア性フィルム | |
| JPH11216793A (ja) | 蒸着フィルム用の基材フィルム | |
| JP2003342735A (ja) | ガスバリア性フィルム | |
| JP2005305801A (ja) | 帯電防止性ガスバリア積層体 | |
| JP2006248239A (ja) | 蒸着ポリエステルフィルム | |
| JPH0839718A (ja) | 複合蒸着フィルム及びその製造方法 | |
| JP3971640B2 (ja) | バリアフィルムの製造方法 | |
| JP3817129B2 (ja) | 帯電防止性ガスバリアフィルム | |
| JP2000185375A (ja) | ガスバリア性積層フィルム | |
| JP3070702B2 (ja) | 透明ガスバリアフィルム | |
| JP3654370B2 (ja) | ガスバリアフィルム | |
| JP4783983B2 (ja) | 透明ガスバリア性積層フィルム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040130 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040130 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040130 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060412 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060516 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060919 |