JPH10221075A - 回転レーザー照射装置 - Google Patents
回転レーザー照射装置Info
- Publication number
- JPH10221075A JPH10221075A JP9040153A JP4015397A JPH10221075A JP H10221075 A JPH10221075 A JP H10221075A JP 9040153 A JP9040153 A JP 9040153A JP 4015397 A JP4015397 A JP 4015397A JP H10221075 A JPH10221075 A JP H10221075A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- pulse
- rotation
- light source
- laser light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
特に、パルスレーザーの射出タイミングと照射手段の回
転とを同期させることにより、間欠点状のマークを描写
し、視認距離を飛躍的に増大させ、作業領域も拡大する
ことのできる回転レーザー照射装置を提供することを目
的とする。 [構成] 本発明は、パルス駆動手段がパルスレーザー
光源を駆動し、照射手段が、パルスレーザー光源からの
パルスレーザー光束を被照射物に対して照射し、回転駆
動手段が照射手段を回転させ、回転検出手段が照射手段
の回転を検出する様になっており、パルス駆動手段の駆
動タイミングと回転検出手段の検出信号とに基づき、演
算処理手段が、回転駆動手段を制御して、パルスレーザ
ーの射出タイミングと照射手段の回転とを同期させる様
になっている。
Description
装置に係わり、特に、パルスレーザーの射出タイミング
と照射手段の回転とを同期させることにより、間欠点状
のマークを描写し、視認距離を飛躍的に増大させ、作業
領域も拡大することのできる回転レーザー照射装置に関
するものである。
ーザー光束を回転させて回転レーザー平面を形成し、こ
の基準平面を用いて施工を行う工法が普及している。こ
の回転レーザー平面を形成するための回転レーザー照射
装置には、昨今の半導体レーザーの技術進歩が反映さ
れ、赤色のレーザーダイオードが採用されている。この
赤色のレーザーダイオードを使用した回転レーザー照射
装置は、取扱いの容易な電池駆動が可能であり、土木建
設作業現場で広く使用されている。
は、レーザー投光器と、このレーザー投光器の光軸を中
心に回転し、前記レーザー投光器の光軸に対して90度
偏向させて照射させるためのレーザー光照射部とからな
り、このレーザー光照射部を回転させることにより、基
準平面を形成し、或いは壁面等に基準線を設定すること
ができる。
色のレーザーダイオードを使用した回転レーザー照射装
置は、半導体レーザーの出力に制限がある上、作業者の
眼に対する安全性を確保する必要性から、レーザーの照
射出力に制約があった。このため、比較的明るい作業現
場では、回転レーザー照射装置から少し離れると、回転
レーザー平面を視認することができないという問題点が
あった。
め、人間の眼の比視感度が高いグリーンレーザーの利用
も考えられる。
グリーンレーザーの利用へと転換を図ったとしても、レ
ーザー照射出力を増大させると、回転レーザー照射装置
から近距離の範囲では作業者の眼に眩しすぎ、安全性を
確保することができないという問題点が生じ、視認距離
の飛躍的な増大を実現することができず、作業領域も拡
大することができないという問題点があった。
近普及している第2次高調波発生器を利用した固体レー
ザー発生装置を採用することができるが、この固体レー
ザー発生装置は、比較的高出力のグリーンレーザーを得
ることができるが、消費電力も大きく、電池駆動では長
時間連続駆動を実施することが困難であった。
案出されたもので、パルスレーザー光源と、このパルス
レーザー光源を駆動するためのパルス駆動手段と、前記
パルスレーザー光源からのパルスレーザー光束を被照射
物に対して照射させるための照射手段と、この照射手段
を回転させるための回転駆動手段と、前記照射手段の回
転を検出するための回転検出手段と、前記パルス駆動手
段の駆動タイミングと回転検出手段の検出信号とに基づ
き、前記回転駆動手段を制御して、前記パルスレーザー
の射出タイミングと前記照射手段の回転とを同期させる
ための演算処理手段とから構成されている。
なくともレーザー結晶と出力ミラーとからなる光共振器
と、この光共振器に対してポンピングするためのポンピ
ングレーザー光源とを備えており、パルス駆動手段は、
ポンピングレーザー光源を駆動する構成にすることもで
きる。
パルスの周期Tは、τFL(蛍光寿命)に対して、 τFL>Tーτ とすることもできる。
波を発生させるための非線形光学媒質を挿入することも
できる。
間幅をTp-on とし、パルスレーザー光源の消灯時間を
Tp-off、照射手段の角速度をω「オメガ」(rad/
s)、パルスレーザーの光束の断面直径をφ、回転レー
ザー照射装置から被照射物までの距離をRとすれば、 Tp-on < φ/(R*ω) φ/(R*ω)<Tp-off となる様に、回転駆動手段が照射手段を回転させること
もできる。
ための回転検出手段は、レーザー光の射出方向を検出す
る機能も備えることもできる。
パルス駆動手段が、パルスレーザー光源を駆動し、照射
手段が、パルスレーザー光源からのパルスレーザー光束
を被照射物に対して照射し、回転駆動手段が、照射手段
を回転させ、回転検出手段が、照射手段の回転を検出す
る様になっており、パルス駆動手段の駆動タイミングと
回転検出手段の検出信号とに基づき、演算処理手段が、
回転駆動手段を制御して、パルスレーザーの射出タイミ
ングと照射手段の回転とを同期させる様になっている。
なくともレーザー結晶と出力ミラーとから共振器を構成
し、この光共振器に対して、ポンピングレーザー光源が
ポンピングする様になっており、パルス駆動手段は、ポ
ンピングレーザー光源を駆動することもできる。
スの周期Tを、τFL(蛍光寿命)に対して、 τFL>Tーτ とすることもできる。
波を発生させるための非線形光学媒質を挿入することも
できる。
時間幅をTp-on とし、パルスレーザー光源の消灯時間
をTp-offとし、照射手段の角速度をω「オメガ」(r
ad/s)、パルスレーザーの光束の断面直径をφ、回
転レーザー照射装置から被照射物までの距離をRとすれ
ば、 Tp-on < φ/(R*ω) φ/(R*ω)<Tp-off となる様に、回転駆動手段が照射手段を回転させること
もできる。
ための回転検出手段は、レーザー光の射出方向を検出す
る機能も備えることもできる。
る。
10000の構成を示す図であり、図2は、回転レーザ
ー照射装置10000を示す斜視図である。
の光学的構成及び電気的構成を説明する。
0000は、発光部115と、回転部116と、制御部
(CPU)118と、レーザー駆動部119と、モータ
駆動部120と、表示部121とから構成されている。
に該当するものである。
置1000と、コリメータレンズ126とから構成され
ており、レーザ発振装置1000から射出されるレーザ
ー光は、コリメータレンズ126により平行光とされ、
上方の回転部116に入射する様になっている。
レーザー光源に該当するものである。
れたレーザー光を、90度偏向して射出走査するもので
あり、ペンタプリズム114と、回転支持体13と、駆
動ギア16と、従動ギア17と、走査モータ15と、エ
ンコーダ129とから構成されている。なお回動部11
6は、照射手段に該当するものである。
ら入射されたレーザー光を、90度偏向させるためのも
のであり、ペンタプリズム114内で2回反射させるこ
とにより、レーザー光を90度偏向させることができ
る。
を回転させるためのもので、従動ギア17が設けられて
おり、発光部115から入射されたレーザー光を略水平
方向に回転走査させることができる。
て、ペンタプリズム114を回転させるための駆動源で
ある。走査モータ15には駆動ギア16が形成されてお
り、この駆動ギア16と従動ギア17とが噛合し、駆動
ギア16の回転駆動力が従動ギア17に伝達され、回転
支持体13を介してペンタプリズム114を回転させる
ことができる。なお、走査モータ15と駆動ギア16と
従動ギア17とは、回転駆動手段に該当するものであ
る。
9が取付られており、回転支持体13の回転状態を検出
する様になっており、エンコーダ129の検出信号を制
御部118に入力する様に構成されている。エンコーダ
129は、回転検出手段に該当するもので、本実施例で
は、レーザー光の照射方向も検出することができる。
明する。
00を示すもので、レーザー光源100と、集光レンズ
200と、レーザー結晶300と、非線形光学媒質40
0と、出力ミラー500と、レーザー駆動手段600と
から構成されている。
させるためのものであり、本実施例では半導体レーザー
が使用されている。本実施例では、レーザー光源100
が基本波を発生させるポンプ光発生装置として機能を有
する。そして、レーザー駆動手段600は、レーザー光
源100を駆動するためのものであり、本実施例では、
レーザー光源100をパルス駆動することができる。レ
ーザー光源100は、ポンピングレーザー光源に該当す
るものである。
り、光の増幅を行うためのものである。このレーザー結
晶300には、Nd3+ イオンをドープしたYAG(イ
ットリウム アルミニウム ガーネット)等が採用され
る。
側には、第1の誘電体反射膜310が形成されている。
310が形成されたレーザー結晶300に対向する様に
構成されており、出力ミラー500のレーザー結晶30
0側は、適宜の半径を有する凹面球面境の形状に加工さ
れており、第2の誘電体反射膜510が形成されてい
る。
310と、出力ミラー500とから構成された光共振器
内に非線形光学媒質400が挿入されている。
この電界が小さい場合には、分極は電界に比例するが、
レーザー光の様に強力なコヒーレント光の場合には、電
界と分極の間の比例関係が崩れ、電界の2乗、3乗に比
例する非線形的な分極成分が卓越してくる。
光波間に結合が生じ、光周波数を2倍にする高調波が発
生する。
00と出力ミラー500とから構成された光共振器内に
挿入されているので、内部型SHGと呼ばれており、変
換出力は、基本波光電力の2乗に比例するので、光共振
器内の大きな光強度を直接利用できると言う効果があ
る。
分布と光強度の関係を示したものが、図4である。図4
中に示されたデルタN(t)は、反転分布(ゲイン)を
示し、φ(t)は光強度であり、横軸は時間の経過を示
すものである。
に最初のスパイク(即ち、ファーストパルス)が立ち上
がり、最大の光強度が生じることが理解される。
は、ゲインスイッチを示す模式図であり、図5(a)
は、時間と励起強度の関係を示す図であり、図5(b)
は、時間と光強度の関係を示す図であり、図5(c)は
時間と反転分布の関係を示すものである。
力を供給すれば、ファーストパルスに対応して最大の光
強度が生じ、その後、光強度が低下し、一定の光強度に
収束するから、ファーストパルスのみ使用すると光の取
り出しが最も効率的となる。
体レーザーに対して、連続パルスの駆動電力を供給した
場合を説明する。
スと半導体レーザーから出力される光パルスとの周期及
びパルス幅は、略同一となっている。
給連続パルスの周期Tが、τFL<Tーτの関係の場合で
ある。ここでτFLは蛍光寿命であり、τはパルス幅であ
る。
ザーに対する供給連続パルスの周期Tが、τFL>Tーτ
の関係の場合である。
間に、次のパルスを半導体レーザーに印加することによ
り、残留した反転分布に新たな反転分布を加え、効果的
に最大の光強度を有する光のみを連続して発生させるこ
とができる事が理解される。
の入力パルスと、レーザー発振装置1000の出射光量
の関係を説明する。
い値電流を越えると、レーザー発振装置1000の出射
光量は非線形で増加する。従って、レーザー光源100
に与える入力パルス電流のピーク値をレーザー光源10
0の定格値とし、入力パルスのデューティ比、周期を制
御すれば、最も効率よくレーザーが発振している状態
で、レーザー光量を可変させることができる。
を図8に基づいて詳細に説明する。
器610と、タイミング部620と、定電流電源部63
0と、スイッチング部640と、電流検出部650と、
制御演算部660とから構成されている。
ックを発生させるための発振器である。
10からの基準クロックに基づいて、レーザー光源10
0を発光させる時間と周期を設定するためのものであ
る。
0に定格電流を供給するためのものであり、電流検出部
650で検出されるレーザー光源100の消費電流が常
に定格電流となる様にするためのものである。
20からの信号に基づいて、レーザー光源100に供給
する電流をスイッチングするものである。
に流れる電流を検出するためのものである。レーザー光
源100に流れる電流を検出することのできるものであ
れば、何れの電流検出手段を採用することができる。
と定電流電源部630とに制御信号を送出し、レーザー
光源100に対して所望の駆動信号を供給するためのも
のである。
発振装置1000のレーザー駆動手段600は、制御演
算部660の制御信号に基づいて、予め定められたレー
ザー光源100に対する駆動信号を形成することができ
る。
る駆動信号を詳細に説明する。
御することにより、レーザー光源100を制御駆動し、
レーザー発振装置1000の出射光量を調整するもので
ある。
動手段600で形成される第1の駆動信号を示すもの
で、第1の駆動信号は、「パルスの周期」が可変され
る。即ち、レーザー発振装置1000の出射光量を大き
くさせる場合には、図9(a)に示す様に、パルスの周
期を短くし、レーザー光源100に供給する駆動信号の
実効値を高くする。この結果、レーザー発振装置100
0の出射光量が増大する。
量を小さくさせる場合には、図9(b)に示す様に、パ
ルスの周期を長くし、レーザー光源100に供給する駆
動信号の実効値を低くする。この結果、レーザー発振装
置1000の出射光量が低下する。
レーザー光源100に供給する駆動信号を変化させるこ
とにより、レーザー発振装置1000の出射光量を調整
することができる。
は、数100KHzであるが、適宜設定可能である。
比」を制御することにより、レーザー光源100を制御
駆動し、レーザー発振装置1000の出射光量を調整す
るものである。
ー駆動手段600で形成される第2の駆動信号を示すも
ので、パルスの周期を変化させることなく、「パルスの
デューティ比」を可変させるものであり、レーザー光源
100に供給する駆動信号がONとなる時間(T1)
と、OFFとなっている時間(T2)の比であるデュー
ティ比を変化させる様になっている。
量を大きくさせる場合には、図10(a)に示す様に、
(T1)/(T1+T2)を大きくし、レーザー光源10
0に供給する駆動信号がONとなる時間を大きくするこ
とにより、レーザー発振装置1000の出射光量が増大
させることができる。
量を小さくさせる場合には、図10(b)に示す様に、
(T1)/(T1+T2)を小さくし、レーザー光源10
0に供給する駆動信号がONとなる時間を小さくするこ
とにより、レーザー発振装置1000の出射光量が低下
させることができる。
レーザー光源100に供給するための駆動信号の駆動時
間を変化させ、パルスのデューティ比を変化させること
により、レーザー発振装置1000の出射光量を調整す
ることができる。
は、数100KHzであるが、適宜設定可能である。
る回転レーザー平面について説明する。
発振装置1000が連続的なレーザー光束を発生させる
場合の例であり、このレーザー光束を回転させて射出さ
せることにより、回転レーザー平面を形成している。レ
ーザー照射装置10000から距離R離れた壁等の照射
位置では、図11(b)に示す様に、帯状の線を描画す
る。
装置10000からレーザー光のエネルギが時間的に帯
状に分散していることを意味し、距離Rが離れるに従っ
て帯状の線の明るさは低下する。
本発明の原理を示すもので、レーザー照射装置1000
0から距離R離れた壁等の照射位置では、図12(b)
に示す様に、間隔L毎に光束の断面を投影し、点状のマ
ークを描画する。図12(b)の点状のマークは、レー
ザー照射装置10000からレーザー光のエネルギが点
状に集中していること意味し、同じ光エネルギでも輝度
の高い点状間欠線を描くことができる。
Lの線上に分散する光エネルギを、点状に集中させるた
め、同じ平均出力であっても輝度の高い点状間欠線を描
くことができ、視認距離を飛躍的に増大させることがで
きる。
による走査の影響を実質的に受けない程度にパルスレー
ザーのパルス幅が短ければ、レーザー照射装置1000
0から壁等の照射位置までの距離Rが長くなるに従い、
点状のマークの間隔Lは長くなるが、点状のマークの明
るさは、距離Rとは無関係に同じとなり、結果的に視認
距離を伸ばすことができる。
13に示す様に、発光時間の間に光束の直径分だけ光束
が移動するものとすれば、
レーザー照射装置10000のパルスレーザーの発光時
間幅であり、ω(オメガ)は角速度(rad/s)、φ
は光束の断面直径、Rはレーザー照射装置10000か
ら被照射物までの距離である。
80m以上、φ=5mmとすれば、Tp-on = 1μs以
下となる。
射されて壁等に形成されたマークととマークとが連続せ
ずに、間欠的に見えるための条件としては、パルスレー
ザーの消灯時間をTp-off
129が、回転支持体13の角速度であるωを検出し、
この角速度のデータを制御部118に入力する。
れるための条件は、パルスレーザーの発光時間間隔をT
p-on-off とすると、
(mとnとは、共に整数であるとする)
回転支持体13の角速度ωを制御する。即ち制御部11
8がモータ制御部120を介して走査モータ15を制御
駆動し回転支持体13の角速度をωとなる様にPPL
(PHASE LOCK LOOP)制御を行う。
御することにより、パルスレーザーの射出タイミングと
回転部116の回転とを同期させ、間欠的な点状のマー
クを描画することができる。
限られるものではなく、角速度ωやパルスレーザーの発
光時間Tp-on の時間を変更することにより、図14に
示す様に必要に応じて変化させることもできる。
照射物までの距離が長い場合には、角速度ωや、パルス
レーザーの発光間隔時間Tp-on-off を可変し、点状の
マークを適当な間隔にすることもできる。
ー光源と、このパルスレーザー光源を駆動するためのパ
ルス駆動手段と、前記パルスレーザー光源からのパルス
レーザー光束を被照射物に対して照射させるための照射
手段と、この照射手段を回転させるための回転駆動手段
と、前記照射手段の回転を検出するための回転検出手段
と、前記パルス駆動手段の駆動タイミングと回転検出手
段の検出信号とに基づき、前記回転駆動手段を制御し
て、前記パルスレーザーの射出タイミングと前記照射手
段の回転とを同期させるための演算処理手段とから構成
されているので、分散する光エネルギを、点状に集中さ
せることができ、同じ平均出力であっても輝度の高い点
状間欠線を描くことができ、視認距離を飛躍的に増大さ
せることができるという効果がある。。
スの周期Tが、τFL(蛍光寿命)に対して、τFL>Tー
τとなっているので、ファーストパルスによる最大の光
強度のレーザー光により、光共振器をポンピングするこ
とができ、高能率にレーザー光を発振させることができ
るという効果がある。
0000の構成を説明する図である。
斜視図である。
示す図である。
度の関係を示した図である。
間と励起強度の関係を示すものである。
間と光強度の関係を示すものである。
間と反転分布の関係を示すものである。
の周期Tが、τFL<Tーτの関係の場合を説明する図で
ある。
の周期Tが、τFL>Tーτの関係の場合を説明する図で
ある。
発振装置1000の出射光量の関係を説明する図であ
る。
る図である。
る。
る。
0000の構成を説明する図である。
斜視図である。
示す図である。
度の関係を示した図である。
間と励起強度の関係を示すものである。
間と光強度の関係を示すものである。
間と反転分布の関係を示すものである。
の周期Tが、τFL<T−τの関係の場合を説明する図
である。
の周期Tが、τFL>T−τの関係の場合を説明する図
である。
発振装置1000の出射光量の関係を説明する図であ
る。
る図である。
る。
る。
Claims (6)
- 【請求項1】 パルスレーザー光源と、このパルスレー
ザー光源を駆動するためのパルス駆動手段と、前記パル
スレーザー光源からのパルスレーザー光束を被照射物に
対して照射させるための照射手段と、この照射手段を回
転させるための回転駆動手段と、前記照射手段の回転を
検出するための回転検出手段と、前記パルス駆動手段の
駆動タイミングと回転検出手段の検出信号とに基づき、
前記回転駆動手段を制御して、前記パルスレーザーの射
出タイミングと前記照射手段の回転とを同期させるため
の演算処理手段とから構成された回転レーザー照射装
置。 - 【請求項2】 パルスレーザー光源は、少なくともレー
ザー結晶と出力ミラーとからなる光共振器と、この光共
振器に対してポンピングするためのポンピングレーザー
光源とを備えており、パルス駆動手段は、ポンピングレ
ーザー光源を駆動する構成となっている請求項1記載の
回転レーザー照射装置。 - 【請求項3】 前記パルス駆動手段の駆動パルスの周期
Tは、τFL(蛍光寿命)に対して、 τFL>Tーτ となっている請求項1〜2記載の何れか1つの回転レー
ザー照射装置。(但し、τはパルス幅) - 【請求項4】 前記光共振器には、第2次高調波を発生
させるための非線形光学媒質が挿入されている請求項2
〜3記載の何れか1つの回転レーザー照射装置。 - 【請求項5】 パルスレーザー光源の発光時間幅をT
p-on とし、パルスレーザー光源の消灯時間をTp-off、
照射手段の角速度をω「オメガ」(rad/s)、パル
スレーザーの光束の断面直径をφ、回転レーザー照射装
置から被照射物までの距離をRとすれば、 Tp-on < φ/(R*ω) φ/(R*ω)<Tp-off となる様に、回転駆動手段が照射手段を回転させる請求
項1〜4記載の何れか1つの回転レーザー照射装置。 - 【請求項6】 照射手段の回転を検出するための回転検
出手段は、レーザー光の射出方向を検出する機能も備え
る請求項1〜5記載の何れか1つの回転レーザー照射装
置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04015397A JP3757344B2 (ja) | 1997-02-09 | 1997-02-09 | 回転レーザー照射装置 |
US09/019,285 US5909455A (en) | 1997-02-09 | 1998-02-05 | Rotating laser beam irradiating apparatus |
EP98102092A EP0857990B1 (en) | 1997-02-09 | 1998-02-06 | Rotating laser beam irradiating apparatus |
DE69832915T DE69832915T2 (de) | 1997-02-09 | 1998-02-06 | Rotierende Laserbeleuchtungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP04015397A JP3757344B2 (ja) | 1997-02-09 | 1997-02-09 | 回転レーザー照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10221075A true JPH10221075A (ja) | 1998-08-21 |
JP3757344B2 JP3757344B2 (ja) | 2006-03-22 |
Family
ID=12572831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP04015397A Expired - Fee Related JP3757344B2 (ja) | 1997-02-09 | 1997-02-09 | 回転レーザー照射装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5909455A (ja) |
EP (1) | EP0857990B1 (ja) |
JP (1) | JP3757344B2 (ja) |
DE (1) | DE69832915T2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010033679A (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-12 | Sony Corp | 光情報記録装置、光ピックアップ及びレーザ光出射方法 |
WO2010035814A1 (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-01 | ソニー株式会社 | 短パルス光源、レーザ光出射方法、光学装置、光ディスク装置及び光ピックアップ |
WO2010038681A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | ソニー株式会社 | 短パルス光源、レーザ光出射方法、光学装置、光ディスク装置及び光ピックアップ |
WO2010038909A1 (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-08 | ソニー株式会社 | 光ピックアップ、光情報記録方法及び光ディスク装置 |
CN101929860A (zh) * | 2009-06-17 | 2010-12-29 | 株式会社拓普康 | 旋转激光出射装置 |
JP2011187157A (ja) * | 2011-05-06 | 2011-09-22 | Sony Corp | レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法。 |
CN112639401A (zh) * | 2018-09-12 | 2021-04-09 | 罗伯特·博世有限公司 | 具有改进的激光图案投影的激光标线仪 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6144659A (en) * | 1996-12-19 | 2000-11-07 | Lucent Technologies Inc. | Telecommunication equipment support of high speed data services |
US6195385B1 (en) * | 1998-06-30 | 2001-02-27 | Cisco Systems, Inc. | HTU-C clocking from a single source |
US7266897B2 (en) * | 2004-06-21 | 2007-09-11 | Laserline Mfg., Inc. | Self-aligning, self plumbing baseline instrument |
US8684632B2 (en) | 2010-12-08 | 2014-04-01 | Laserline Mfg., Inc. | Systems and methods for laying out and installing a solar panel array |
CN113701729A (zh) * | 2021-08-03 | 2021-11-26 | 常州工学院 | 一种激光扫平仪系统 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06137869A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-05-20 | Topcon Corp | レーザポインタ |
JPH08159768A (ja) * | 1994-12-01 | 1996-06-21 | Asahi Optical Co Ltd | レーザ測量装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5350594A (en) * | 1976-10-19 | 1978-05-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Apparatus for correcting dynamic unbalance of rotary body |
US4830489A (en) * | 1986-08-20 | 1989-05-16 | Spectra-Physics, Inc. | Three dimensional laser beam survey system |
US5121160A (en) * | 1989-03-09 | 1992-06-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure method and apparatus |
DE69016598T2 (de) * | 1989-11-17 | 1995-05-24 | Topcon Corp | Laserstrahlsteuerung für Vermessungseinrichtung. |
JPH04345078A (ja) * | 1991-05-22 | 1992-12-01 | Sony Corp | レーザ光発生装置 |
JP3684248B2 (ja) * | 1995-01-11 | 2005-08-17 | 株式会社トプコン | レーザ回転照射装置 |
EP0722080B1 (en) * | 1995-01-11 | 2000-03-15 | Kabushiki Kaisha Topcon | Laser levelling device |
CN1106061C (zh) * | 1995-05-19 | 2003-04-16 | 株式会社拓普康 | 激光振荡装置 |
-
1997
- 1997-02-09 JP JP04015397A patent/JP3757344B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-02-05 US US09/019,285 patent/US5909455A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-06 EP EP98102092A patent/EP0857990B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-02-06 DE DE69832915T patent/DE69832915T2/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06137869A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-05-20 | Topcon Corp | レーザポインタ |
JPH08159768A (ja) * | 1994-12-01 | 1996-06-21 | Asahi Optical Co Ltd | レーザ測量装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010033679A (ja) * | 2008-07-30 | 2010-02-12 | Sony Corp | 光情報記録装置、光ピックアップ及びレーザ光出射方法 |
WO2010035814A1 (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-01 | ソニー株式会社 | 短パルス光源、レーザ光出射方法、光学装置、光ディスク装置及び光ピックアップ |
US8467283B2 (en) | 2008-09-29 | 2013-06-18 | Sony Corporation | Short-pulse light source, laser light emitting method, optical device, optical disk device, and light pickup |
WO2010038681A1 (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | ソニー株式会社 | 短パルス光源、レーザ光出射方法、光学装置、光ディスク装置及び光ピックアップ |
JP2010086608A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Sony Corp | 短パルス光源、レーザ光出射方法、光学装置、光ディスク装置及び光ピックアップ |
US8149661B2 (en) | 2008-09-30 | 2012-04-03 | Sony Corporation | Short-pulse light source, laser light emission method, optical device, optical disc device, and optical pickup |
WO2010038909A1 (ja) * | 2008-10-03 | 2010-04-08 | ソニー株式会社 | 光ピックアップ、光情報記録方法及び光ディスク装置 |
US8077582B2 (en) | 2008-10-03 | 2011-12-13 | Sony Corporation | Optical pickup, optical information recording method, and optical disc apparatus |
CN101929860A (zh) * | 2009-06-17 | 2010-12-29 | 株式会社拓普康 | 旋转激光出射装置 |
JP2011187157A (ja) * | 2011-05-06 | 2011-09-22 | Sony Corp | レーザ光照射装置及びレーザ光照射方法。 |
CN112639401A (zh) * | 2018-09-12 | 2021-04-09 | 罗伯特·博世有限公司 | 具有改进的激光图案投影的激光标线仪 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0857990A2 (en) | 1998-08-12 |
EP0857990B1 (en) | 2005-12-28 |
JP3757344B2 (ja) | 2006-03-22 |
US5909455A (en) | 1999-06-01 |
EP0857990A3 (en) | 1999-06-30 |
DE69832915T2 (de) | 2006-07-20 |
DE69832915D1 (de) | 2006-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH10221075A (ja) | 回転レーザー照射装置 | |
JP2682475B2 (ja) | ビームスキャン式レーザマーキング方法および装置 | |
JP4328914B2 (ja) | レーザー発振装置及びレーザー駆動方法 | |
CN1086805C (zh) | 激光器照射光检测装置 | |
US5825798A (en) | Laser oscillating apparatus and method of driving laser beam source | |
JPH1128586A (ja) | レーザマーキング装置 | |
US6980574B1 (en) | Short pulse separation laser | |
EP1180834A2 (en) | Laser and method for material processing | |
JP3731022B2 (ja) | 回転レーザー装置 | |
EP0784365B1 (en) | Apparatus and method for producing a laser beam | |
JP2004354781A (ja) | スキャナ駆動回路、レーザ加工装置及びスキャナ駆動回路の調整方法 | |
JPH09252155A (ja) | レーザー光源装置及びレーザー発光方法 | |
JP2986699B2 (ja) | Qスイッチ制御装置 | |
JPH1114358A (ja) | レーザ測量機 | |
JP2003152255A (ja) | レーザ発振装置 | |
JP3188947B2 (ja) | Qスイッチ制御装置 | |
JP3681180B2 (ja) | 固体レーザ発振装置及びその励起方法 | |
JPH08153925A (ja) | 連続励起qスイッチレーザ発振方法及びその装置 | |
JP2000252571A (ja) | レーザマーキング装置 | |
JPH0943652A (ja) | レーザー発振装置及びレーザー光源駆動方法 | |
JPH1117253A (ja) | 固体レーザ装置 | |
RU2027268C1 (ru) | Импульсный лазер | |
JPH08186311A (ja) | 固体レーザ加工装置 | |
JP2001007431A (ja) | レーザ発振方法及び装置 | |
JP2000106621A (ja) | マイクロスキャナ駆動装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 19970618 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040126 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040126 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050531 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050830 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051027 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051129 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051214 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090113 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100113 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |