JPH08153925A - 連続励起qスイッチレーザ発振方法及びその装置 - Google Patents
連続励起qスイッチレーザ発振方法及びその装置Info
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- JPH08153925A JPH08153925A JP6296603A JP29660394A JPH08153925A JP H08153925 A JPH08153925 A JP H08153925A JP 6296603 A JP6296603 A JP 6296603A JP 29660394 A JP29660394 A JP 29660394A JP H08153925 A JPH08153925 A JP H08153925A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、Qスイッチ素子の繰り返し数が変化
しても、一定のピーク強度に保持したレーザパルスを出
力する。 【構成】レーザパルス出力時に、Qスイッチ素子7に対
してQスイッチ駆動回路10から、Qスイッチ素子7の
繰り返し周波数に応じた微小な残留高周波電力を供給す
る。
しても、一定のピーク強度に保持したレーザパルスを出
力する。 【構成】レーザパルス出力時に、Qスイッチ素子7に対
してQスイッチ駆動回路10から、Qスイッチ素子7の
繰り返し周波数に応じた微小な残留高周波電力を供給す
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、音響光学Qスイッチを
用いた連続励起Qスイッチレーザ発振方法及びその装置
に関する。
用いた連続励起Qスイッチレーザ発振方法及びその装置
に関する。
【0002】
【従来の技術】図6は連続励起Qスイッチレーザ発振装
置の構成図である。集光鏡1の内部には、Nd−YAG
の固体レーザ媒質2が配置され、この固体レーザ媒質2
に対して励起ランプ3が並設されている。
置の構成図である。集光鏡1の内部には、Nd−YAG
の固体レーザ媒質2が配置され、この固体レーザ媒質2
に対して励起ランプ3が並設されている。
【0003】又、固体レーザ媒質2の長手方向側には、
レーザ共振器4を構成する高反射率ミラー5及び出力ミ
ラー6がそれぞれ配置されている。このレーザ共振器4
内、つまり高反射率ミラー5と出力ミラー6との間に
は、音響光学Qスイッチ7(以下、Qスイッチ素子と称
する)が配置されている。
レーザ共振器4を構成する高反射率ミラー5及び出力ミ
ラー6がそれぞれ配置されている。このレーザ共振器4
内、つまり高反射率ミラー5と出力ミラー6との間に
は、音響光学Qスイッチ7(以下、Qスイッチ素子と称
する)が配置されている。
【0004】このQスイッチ素子7は、Qスイッチ駆動
回路8から供給される任意の繰り返し周波数毎の高周波
数電力によりスイッチング動作するものとなっている。
なお、励起ランプ3は、励起用ランプ光源9からランプ
用電圧が印加される。
回路8から供給される任意の繰り返し周波数毎の高周波
数電力によりスイッチング動作するものとなっている。
なお、励起ランプ3は、励起用ランプ光源9からランプ
用電圧が印加される。
【0005】かかる構成であれば、励起ランプ3が点灯
すると、固体レーザ媒質2は励起される。この励起によ
り固体レーザ媒質2からの放射光は、固体レーザ媒質2
内を透過して高反射率ミラー5と出力ミラー6との間で
往復し、レーザ発振が発生する。
すると、固体レーザ媒質2は励起される。この励起によ
り固体レーザ媒質2からの放射光は、固体レーザ媒質2
内を透過して高反射率ミラー5と出力ミラー6との間で
往復し、レーザ発振が発生する。
【0006】この状態に、Qスイッチ駆動回路8からQ
スイッチ素子7に対して図7に示すような高周波電力が
供給されると、この高周波電力供給の間、レーザ共振器
4内での光損失が大きくなり、レーザ発振は停止し、固
体レーザ媒質2内の反転分布が大きくなる。
スイッチ素子7に対して図7に示すような高周波電力が
供給されると、この高周波電力供給の間、レーザ共振器
4内での光損失が大きくなり、レーザ発振は停止し、固
体レーザ媒質2内の反転分布が大きくなる。
【0007】一方、Qスイッチ駆動回路8からQスイッ
チ素子7に対する高周波電力の供給を完全に停止する
と、この停止の間、レーザ共振器4内での光損失がゼロ
となり、レーザ発振が起こる。
チ素子7に対する高周波電力の供給を完全に停止する
と、この停止の間、レーザ共振器4内での光損失がゼロ
となり、レーザ発振が起こる。
【0008】このとき、出力ミラー6を透過して得られ
るレーザパルス出力は、大きな反転分布による誘導放出
が短時間に行われるので、高いピーク強度を有するパル
ス状のレーザ光となる。
るレーザパルス出力は、大きな反転分布による誘導放出
が短時間に行われるので、高いピーク強度を有するパル
ス状のレーザ光となる。
【0009】このようにQスイッチ素子7に対する高周
波電力を完全に停止させるQスイッチング方式では、そ
のときの固体レーザ媒質2内の反転分布の大きさに応じ
てレーザパルスのピーク強度は変化する。
波電力を完全に停止させるQスイッチング方式では、そ
のときの固体レーザ媒質2内の反転分布の大きさに応じ
てレーザパルスのピーク強度は変化する。
【0010】このため、Qスイッチ素子7の繰り返し周
波数が変化すると、この繰り返し周波数に応じて固体レ
ーザ媒質2内の反転分布の大きさも変化することから、
Qスイッチ素子7の繰り返し周波数の変化に対してレー
ザパルスのピーク強度を一定値に保持することは困難で
ある。
波数が変化すると、この繰り返し周波数に応じて固体レ
ーザ媒質2内の反転分布の大きさも変化することから、
Qスイッチ素子7の繰り返し周波数の変化に対してレー
ザパルスのピーク強度を一定値に保持することは困難で
ある。
【0011】ところで、高いピーク強度を持つ連続励起
Qスイッチレーザ発振装置は、マーキング等の加工に幅
広く適用されている。このマーキング加工では、Qスイ
ッチレーザ光をマーキングパターンに従ってスキャンす
る方式が主流であり、加工仕上がりという点から、次の
2点が非常に重要となっている。
Qスイッチレーザ発振装置は、マーキング等の加工に幅
広く適用されている。このマーキング加工では、Qスイ
ッチレーザ光をマーキングパターンに従ってスキャンす
る方式が主流であり、加工仕上がりという点から、次の
2点が非常に重要となっている。
【0012】第1点は、加工物に照射されるレーザパル
スの数がマーキングするライン上で単位長さ当たり一定
値になること。第2点は、照射されるレーザパルスのピ
ーク強度が一定になることである。
スの数がマーキングするライン上で単位長さ当たり一定
値になること。第2点は、照射されるレーザパルスのピ
ーク強度が一定になることである。
【0013】しかしながら、実際のマーキングでは、高
速スキャンを行うため、スキャン速度は変化する。そこ
で、単位長さ当たりのレーザパルス数を一定に保つため
に、スキャン速度に応じてQスイッチ素子の繰り返し数
を可変しているが、繰り返し数を変化させると、上記の
通りレーザパルスのピーク強度まで変動してしまう。こ
のようにレーザパルスのピーク強度が変動すると、レー
ザ加工において良い仕上がりを得るのに大きな障害とな
ってしまう。
速スキャンを行うため、スキャン速度は変化する。そこ
で、単位長さ当たりのレーザパルス数を一定に保つため
に、スキャン速度に応じてQスイッチ素子の繰り返し数
を可変しているが、繰り返し数を変化させると、上記の
通りレーザパルスのピーク強度まで変動してしまう。こ
のようにレーザパルスのピーク強度が変動すると、レー
ザ加工において良い仕上がりを得るのに大きな障害とな
ってしまう。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】以上のようにQスイッ
チ素子の繰り返し数を変化させると、レーザパルスのピ
ーク強度も変動してしまう。そこで本発明は、Qスイッ
チ素子の繰り返し数が変化しても、一定のピーク強度に
保持したレーザパルスを出力できる連続励起Qスイッチ
レーザ発振方法及びその装置を提供することを目的とす
る。
チ素子の繰り返し数を変化させると、レーザパルスのピ
ーク強度も変動してしまう。そこで本発明は、Qスイッ
チ素子の繰り返し数が変化しても、一定のピーク強度に
保持したレーザパルスを出力できる連続励起Qスイッチ
レーザ発振方法及びその装置を提供することを目的とす
る。
【0015】
【課題を解決するための手段】請求項1によれば、レー
ザ共振器内でレーザ発振を発生させるとともにレーザ共
振器内に配置されたQスイッチ素子を繰り返し動作させ
て高いピーク強度を有するレーザパルスを出力する連続
励起Qスイッチレーザ発振方法において、Qスイッチ素
子の繰り返し動作に応動してQスイッチ素子に供給する
高周波電力を制御して上記目的を達成しようとする連続
励起Qスイッチレーザ発振方法である。
ザ共振器内でレーザ発振を発生させるとともにレーザ共
振器内に配置されたQスイッチ素子を繰り返し動作させ
て高いピーク強度を有するレーザパルスを出力する連続
励起Qスイッチレーザ発振方法において、Qスイッチ素
子の繰り返し動作に応動してQスイッチ素子に供給する
高周波電力を制御して上記目的を達成しようとする連続
励起Qスイッチレーザ発振方法である。
【0016】請求項2によれば、Qスイッチ素子の繰り
返し動作によるレーザパルス出力時に、Qスイッチ素子
に対して繰り返し周波数に応じた微小な高周波電力を供
給する。
返し動作によるレーザパルス出力時に、Qスイッチ素子
に対して繰り返し周波数に応じた微小な高周波電力を供
給する。
【0017】請求項3によれば、固体レーザ媒質と、こ
の固体レーザ媒質を励起する励起ランプと、固体レーザ
媒質からの放射光を固体レーザ媒質中に往復させてレー
ザ発振を発生するレーザ発振器と、このレーザ発振器中
に配置されたQスイッチ素子と、このQスイッチ素子を
任意の繰り返し周波数によりスイッチング動作させるQ
スイッチ駆動手段と、このQスイッチ駆動手段からQス
イッチ素子に供給する高周波数電力を、Qスイッチ素子
の繰り返し動作に応動して制御する光損失制御手段と、
を備えて上記目的を達成しようとする連続励起Qスイッ
チレーザ発振装置である。
の固体レーザ媒質を励起する励起ランプと、固体レーザ
媒質からの放射光を固体レーザ媒質中に往復させてレー
ザ発振を発生するレーザ発振器と、このレーザ発振器中
に配置されたQスイッチ素子と、このQスイッチ素子を
任意の繰り返し周波数によりスイッチング動作させるQ
スイッチ駆動手段と、このQスイッチ駆動手段からQス
イッチ素子に供給する高周波数電力を、Qスイッチ素子
の繰り返し動作に応動して制御する光損失制御手段と、
を備えて上記目的を達成しようとする連続励起Qスイッ
チレーザ発振装置である。
【0018】請求項4によれば、光損失制御手段は、レ
ーザパルス出力時に、Qスイッチ駆動手段によりQスイ
ッチ素子に供給される電力を、繰り返し周波数に応じた
微小な高周波電力に制御する。
ーザパルス出力時に、Qスイッチ駆動手段によりQスイ
ッチ素子に供給される電力を、繰り返し周波数に応じた
微小な高周波電力に制御する。
【0019】請求項5によれば、Qスイッチ駆動手段
は、Qスイッチ素子の繰り返し周波数信号を受け、この
繰り返し周波数に対応した残留高周波電力を繰り返し周
波数と残留高周波電力との対応関係から求め、レーザパ
ルスの出力時に、この残留高周波電力をQスイッチ素子
に供給する機能を有する。
は、Qスイッチ素子の繰り返し周波数信号を受け、この
繰り返し周波数に対応した残留高周波電力を繰り返し周
波数と残留高周波電力との対応関係から求め、レーザパ
ルスの出力時に、この残留高周波電力をQスイッチ素子
に供給する機能を有する。
【0020】
【作用】請求項1によれば、レーザ共振器内でレーザ発
振を発生させるとともにレーザ共振器内に配置されたQ
スイッチ素子を繰り返し動作させる場合、このQスイッ
チ素子の繰り返し動作に応動してQスイッチ素子に供給
する高周波電力を制御し、Qスイッチ素子の繰り返し数
が変化しても、一定のピーク強度のレーザパルスを出力
する。
振を発生させるとともにレーザ共振器内に配置されたQ
スイッチ素子を繰り返し動作させる場合、このQスイッ
チ素子の繰り返し動作に応動してQスイッチ素子に供給
する高周波電力を制御し、Qスイッチ素子の繰り返し数
が変化しても、一定のピーク強度のレーザパルスを出力
する。
【0021】請求項2によれば、レーザパルス出力時
に、Qスイッチ素子に対して繰り返し周波数に応じた微
小な高周波電力を供給することによりレーザ共振器内の
光損失が調整され、一定ピーク強度のレーザパルスが出
力される。
に、Qスイッチ素子に対して繰り返し周波数に応じた微
小な高周波電力を供給することによりレーザ共振器内の
光損失が調整され、一定ピーク強度のレーザパルスが出
力される。
【0022】請求項3によれば、励起ランプの点灯より
励起された固体レーザ媒質からの放射光をレーザ発振器
により固体レーザ媒質中に往復させてレーザ発振を発生
させ、このレーザ発振器中に配置されたQスイッチ素子
を任意の繰り返し周波数によりスイッチング動作させる
ことにより高いピーク強度のレーザパルスを出力する場
合、Qスイッチ駆動手段からQスイッチ素子に供給する
高周波数電力をQスイッチ素子の繰り返し動作に応動し
て制御し、レーザパルスのピーク強度を一定にする。
励起された固体レーザ媒質からの放射光をレーザ発振器
により固体レーザ媒質中に往復させてレーザ発振を発生
させ、このレーザ発振器中に配置されたQスイッチ素子
を任意の繰り返し周波数によりスイッチング動作させる
ことにより高いピーク強度のレーザパルスを出力する場
合、Qスイッチ駆動手段からQスイッチ素子に供給する
高周波数電力をQスイッチ素子の繰り返し動作に応動し
て制御し、レーザパルスのピーク強度を一定にする。
【0023】請求項4によれば、レーザパルス出力時
に、Qスイッチ駆動手段によりQスイッチ素子に供給さ
れる電力を、繰り返し周波数に応じた微小な高周波電力
に制御する。
に、Qスイッチ駆動手段によりQスイッチ素子に供給さ
れる電力を、繰り返し周波数に応じた微小な高周波電力
に制御する。
【0024】請求項5によれば、Qスイッチ素子の繰り
返し周波数信号に対応した残留高周波電力を残留高周波
電力との対応関係から求め、レーザパルスの出力時に、
この残留高周波電力をQスイッチ素子に供給する。
返し周波数信号に対応した残留高周波電力を残留高周波
電力との対応関係から求め、レーザパルスの出力時に、
この残留高周波電力をQスイッチ素子に供給する。
【0025】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。なお、図6と同一部分には同一符号を付
してその詳しい説明は省略する。図1は連続励起Qスイ
ッチレーザ発振装置の構成図である。
して説明する。なお、図6と同一部分には同一符号を付
してその詳しい説明は省略する。図1は連続励起Qスイ
ッチレーザ発振装置の構成図である。
【0026】Qスイッチ素子7には、Qスイッチ駆動回
路10が接続されている。このQスイッチ駆動回路10
は、光損失制御回路11からのQスイッチ素子7の繰り
返し周波数信号を受け、レーザパルスの出力時に、この
繰り返し周波数に対応した微小な高周波電力(以下、残
留高周波電力と称する)をQスイッチ素子7に供給する
機能を有している。
路10が接続されている。このQスイッチ駆動回路10
は、光損失制御回路11からのQスイッチ素子7の繰り
返し周波数信号を受け、レーザパルスの出力時に、この
繰り返し周波数に対応した微小な高周波電力(以下、残
留高周波電力と称する)をQスイッチ素子7に供給する
機能を有している。
【0027】ここで、残留高周波数電力値の算出過程に
ついて説明する。Qスイッチ素子7の繰り返し周波数と
残留高周波電力との対応関係は、次のような方法で実験
的に求めた。
ついて説明する。Qスイッチ素子7の繰り返し周波数と
残留高周波電力との対応関係は、次のような方法で実験
的に求めた。
【0028】Qスイッチ素子7の繰り返し周波数と、レ
ーザパルス出力時にQスイッチ駆動回路10から供給す
る残留高周波電力をパラメータとし、出力されるレーザ
パルス波形をオシロスコープにより観察する。
ーザパルス出力時にQスイッチ駆動回路10から供給す
る残留高周波電力をパラメータとし、出力されるレーザ
パルス波形をオシロスコープにより観察する。
【0029】この観察波形からレーザパルスのピーク強
度を読取り、その結果を図2に示す。すなわち、残留高
周波電力に対するレーザパルスのピーク強度が、各繰り
返し周波数20kHz、10kHz、5kHz、2kH
z、1kHzごとのピーク強度曲線A〜Eとして示され
ている。
度を読取り、その結果を図2に示す。すなわち、残留高
周波電力に対するレーザパルスのピーク強度が、各繰り
返し周波数20kHz、10kHz、5kHz、2kH
z、1kHzごとのピーク強度曲線A〜Eとして示され
ている。
【0030】このレーザパルスのピーク強度の結果か
ら、レーザパルスのピーク強度iの値に保持する場合、
Qスイッチ素子7の繰り返し周波数と残留高周波電力と
の間に満たすべき対応関係は、ピーク強度iと各ピーク
強度曲線A〜Eとの交点をとることによって求められ
る。この繰り返し周波数と残留高周波電力との対応関係
を図3に示す。
ら、レーザパルスのピーク強度iの値に保持する場合、
Qスイッチ素子7の繰り返し周波数と残留高周波電力と
の間に満たすべき対応関係は、ピーク強度iと各ピーク
強度曲線A〜Eとの交点をとることによって求められ
る。この繰り返し周波数と残留高周波電力との対応関係
を図3に示す。
【0031】従って、Qスイッチ駆動回路10は、光損
失制御回路11からのQスイッチ素子7の繰り返し周波
数信号を受け、この繰り返し周波数に対応した残留高周
波電力を図3に示す繰り返し周波数と残留高周波電力と
の対応関係から求め、レーザパルスの出力時に、この残
留高周波電力をQスイッチ素子7に供給する機能を有し
ている。
失制御回路11からのQスイッチ素子7の繰り返し周波
数信号を受け、この繰り返し周波数に対応した残留高周
波電力を図3に示す繰り返し周波数と残留高周波電力と
の対応関係から求め、レーザパルスの出力時に、この残
留高周波電力をQスイッチ素子7に供給する機能を有し
ている。
【0032】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。励起ランプ3が点灯すると、固体レーザ
媒質2は励起される。この励起により固体レーザ媒質2
からの放射光は、固体レーザ媒質2内を透過して高反射
率ミラー5と出力ミラー6との間で往復し、レーザ発振
が発生する。
いて説明する。励起ランプ3が点灯すると、固体レーザ
媒質2は励起される。この励起により固体レーザ媒質2
からの放射光は、固体レーザ媒質2内を透過して高反射
率ミラー5と出力ミラー6との間で往復し、レーザ発振
が発生する。
【0033】この状態に、Qスイッチ駆動回路8からQ
スイッチ素子7に対して、図4に示すように例えば70
Wの高周波電力が供給されると、この高周波電力供給の
間、レーザ共振器4内での光損失が大きくなり、レーザ
発振は停止し、固体レーザ媒質2内の反転分布が大きく
なる。
スイッチ素子7に対して、図4に示すように例えば70
Wの高周波電力が供給されると、この高周波電力供給の
間、レーザ共振器4内での光損失が大きくなり、レーザ
発振は停止し、固体レーザ媒質2内の反転分布が大きく
なる。
【0034】一方、光損失制御回路11は、Qスイッチ
素子7の繰り返し周波数信号をQスイッチ駆動回路10
に対して送出している。従って、次の周期にQスイッチ
駆動回路8は、光損失制御回路11からの繰り返し周波
数信号を受け、この繰り返し周波数に対応する残留高周
波電力を図3に示す対応関係から求め、この残留高周波
電力をQスイッチ素子7に供給する。
素子7の繰り返し周波数信号をQスイッチ駆動回路10
に対して送出している。従って、次の周期にQスイッチ
駆動回路8は、光損失制御回路11からの繰り返し周波
数信号を受け、この繰り返し周波数に対応する残留高周
波電力を図3に示す対応関係から求め、この残留高周波
電力をQスイッチ素子7に供給する。
【0035】すなわち、Qスイッチ素子7に供給される
電力は、70Wの高い高周波電力から繰り返し周波数に
対応する微小な残留高周波電力に切り替わる。このよう
にQスイッチ素子7に供給される電力が残留高周波電力
に切り替わると、レーザ共振器4内の光損失は低下し、
レーザ発振状態になる。
電力は、70Wの高い高周波電力から繰り返し周波数に
対応する微小な残留高周波電力に切り替わる。このよう
にQスイッチ素子7に供給される電力が残留高周波電力
に切り替わると、レーザ共振器4内の光損失は低下し、
レーザ発振状態になる。
【0036】従って、レーザ共振器4からレーザパルス
が出力される。このときの残留高周波電力は、Qスイッ
チ素子7の繰り返し周波数に応じた電力量に制御されて
いるので、出力されるレーザパルスのピーク強度は、Q
スイッチ素子7の繰り返し周波数の変化にかかわらず一
定値となる。
が出力される。このときの残留高周波電力は、Qスイッ
チ素子7の繰り返し周波数に応じた電力量に制御されて
いるので、出力されるレーザパルスのピーク強度は、Q
スイッチ素子7の繰り返し周波数の変化にかかわらず一
定値となる。
【0037】図5(a) 〜(c) はQスイッチ素子7の繰り
返し周波数1kHz、5kHz、10kHzの場合の1
レーザパルスのパルス波形を示している。これらパルス
波形からQスイッチ素子7の繰り返し周波数が変化して
も、レーザパルスのピーク強度は一定値に保持されるこ
とが分かる。
返し周波数1kHz、5kHz、10kHzの場合の1
レーザパルスのパルス波形を示している。これらパルス
波形からQスイッチ素子7の繰り返し周波数が変化して
も、レーザパルスのピーク強度は一定値に保持されるこ
とが分かる。
【0038】このように上記一実施例においては、レー
ザパルス出力時に、Qスイッチ素子7に対して繰り返し
周波数に応じた微小な残留高周波電力を供給するように
したので、レーザ共振器内の光損失が調整され、Qスイ
ッチ素子7の繰り返し周波数が変化しても一定ピーク強
度のレーザパルスを出力できる。
ザパルス出力時に、Qスイッチ素子7に対して繰り返し
周波数に応じた微小な残留高周波電力を供給するように
したので、レーザ共振器内の光損失が調整され、Qスイ
ッチ素子7の繰り返し周波数が変化しても一定ピーク強
度のレーザパルスを出力できる。
【0039】このレーザパルスのピーク強度の変更は、
図2に示すように所望のレーザパルスのピーク強度iと
各ピーク強度曲線A〜Eとの交点をとることによって図
3に示すQスイッチ素子7の繰り返し周波数と残留高周
波電力との対応関係を求め、この対応関係をQスイッチ
駆動回路10に保持させれば容易に実現できる。
図2に示すように所望のレーザパルスのピーク強度iと
各ピーク強度曲線A〜Eとの交点をとることによって図
3に示すQスイッチ素子7の繰り返し周波数と残留高周
波電力との対応関係を求め、この対応関係をQスイッチ
駆動回路10に保持させれば容易に実現できる。
【0040】従って、Qスイッチ素子7の繰り返し周波
数が変化しても一定ピーク強度のレーザパルスを出力で
きるので、レーザ加工において、良い加工仕上がりを得
る重要な2点、つまり、第1点は、加工物に照射される
レーザパルスの数がマーキングするライン上で単位長さ
当たり一定値になること、第2点は、照射されるレーザ
パルスのピーク強度が一定になること、を満足できる。
数が変化しても一定ピーク強度のレーザパルスを出力で
きるので、レーザ加工において、良い加工仕上がりを得
る重要な2点、つまり、第1点は、加工物に照射される
レーザパルスの数がマーキングするライン上で単位長さ
当たり一定値になること、第2点は、照射されるレーザ
パルスのピーク強度が一定になること、を満足できる。
【0041】なお、本発明は、上記一実施例に限定され
るものでなく次の通りに変形してもよい。例えば、Qス
イッチ7に供給する高周波電力は、出力されるレーザパ
ルスのピーク強度を検出し、このピーク強度が一定値に
保持されるようにフィードバック制御してもよい。
るものでなく次の通りに変形してもよい。例えば、Qス
イッチ7に供給する高周波電力は、出力されるレーザパ
ルスのピーク強度を検出し、このピーク強度が一定値に
保持されるようにフィードバック制御してもよい。
【0042】
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、Q
スイッチ素子の繰り返し数が変化しても、一定のピーク
強度に保持したレーザパルスを出力できる連続励起Qス
イッチレーザ発振方法及びその装置を提供できる。
スイッチ素子の繰り返し数が変化しても、一定のピーク
強度に保持したレーザパルスを出力できる連続励起Qス
イッチレーザ発振方法及びその装置を提供できる。
【図1】本発明に係わる連続励起Qスイッチレーザ発振
装置の一実施例を示す構成図。
装置の一実施例を示す構成図。
【図2】Qスイッチ素子に供給する残留高周波電力に対
するパルスピーク強度の関係を示す図。
するパルスピーク強度の関係を示す図。
【図3】Qスイッチ素子の繰り返し周波数に対する残留
高周波電力の関係を示す図。
高周波電力の関係を示す図。
【図4】Qスイッチ素子に供給する残留高周波電力を示
す図。
す図。
【図5】一定ピーク強度のレーザパルス波形を示す図。
【図6】従来装置の構成図。
【図7】Qスイッチ素子に供給する高周波電力を示す
図。
図。
2…固体レーザ媒質、3…励起ランプ、4…レーザ共振
器、5…高反射率ミラー、6…出力ミラー、7…音響光
学Qスイッチ、10…Qスイッチ駆動回路、11…光損
失制御回路。
器、5…高反射率ミラー、6…出力ミラー、7…音響光
学Qスイッチ、10…Qスイッチ駆動回路、11…光損
失制御回路。
Claims (5)
- 【請求項1】 レーザ共振器内でレーザ発振を発生させ
るとともに前記レーザ共振器内に配置されたQスイッチ
素子を繰り返し動作させて高いピーク強度を有するレー
ザパルスを出力する連続励起Qスイッチレーザ発振方法
において、 前記Qスイッチ素子の繰り返し動作に応動して前記Qス
イッチ素子に供給する高周波電力を制御することを特徴
とする連続励起Qスイッチレーザ発振方法。 - 【請求項2】 Qスイッチ素子の繰り返し動作によるレ
ーザパルス出力時に、前記Qスイッチ素子に対して前記
繰り返し周波数に応じた微小な高周波電力を供給するこ
とを特徴とする請求項1記載の連続励起Qスイッチレー
ザ発振方法。 - 【請求項3】 固体レーザ媒質と、 この固体レーザ媒質を励起する励起ランプと、 前記固体レーザ媒質からの放射光を前記固体レーザ媒質
中に往復させてレーザ発振を発生するレーザ発振器と、 このレーザ発振器中に配置されたQスイッチ素子と、 このQスイッチ素子を任意の繰り返し周波数によりスイ
ッチング動作させるQスイッチ駆動手段と、 このQスイッチ駆動手段から前記Qスイッチ素子に供給
する高周波数電力を、前記Qスイッチ素子の繰り返し動
作に応動して制御する光損失制御手段と、を具備したこ
とを特徴とする連続励起Qスイッチレーザ発振装置。 - 【請求項4】 光損失制御手段は、レーザパルス出力時
に、Qスイッチ駆動手段により前記Qスイッチ素子に供
給される電力を、繰り返し周波数に応じた微小な高周波
電力に制御することを特徴とする請求項3記載の連続励
起Qスイッチレーザ発振装置。 - 【請求項5】 Qスイッチ駆動手段は、Qスイッチ素子
の繰り返し周波数信号を受け、この繰り返し周波数に対
応した残留高周波電力を繰り返し周波数と残留高周波電
力との対応関係から求め、レーザパルスの出力時に、こ
の残留高周波電力をQスイッチ素子に供給する機能を有
することを特徴とする請求項3記載の連続励起Qスイッ
チレーザ発振装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29660394A JP3445390B2 (ja) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | マーキング加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29660394A JP3445390B2 (ja) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | マーキング加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08153925A true JPH08153925A (ja) | 1996-06-11 |
JP3445390B2 JP3445390B2 (ja) | 2003-09-08 |
Family
ID=17835694
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29660394A Expired - Fee Related JP3445390B2 (ja) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | マーキング加工装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP3445390B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0989640A2 (en) * | 1998-09-21 | 2000-03-29 | Miyachi Technos Corporation | Q-switched laser apparatus |
JP2002151777A (ja) * | 2000-11-10 | 2002-05-24 | Keyence Corp | レーザー発振器およびそのレーザーパルス制御方法 |
WO2007138884A1 (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Cyber Laser Inc. | レーザパルス発生装置及び方法並びにレーザ加工装置及び方法 |
-
1994
- 1994-11-30 JP JP29660394A patent/JP3445390B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP0989640A2 (en) * | 1998-09-21 | 2000-03-29 | Miyachi Technos Corporation | Q-switched laser apparatus |
EP0989640A3 (en) * | 1998-09-21 | 2001-08-22 | Miyachi Technos Corporation | Q-switched laser apparatus |
JP2002151777A (ja) * | 2000-11-10 | 2002-05-24 | Keyence Corp | レーザー発振器およびそのレーザーパルス制御方法 |
WO2007138884A1 (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Cyber Laser Inc. | レーザパルス発生装置及び方法並びにレーザ加工装置及び方法 |
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Publication number | Publication date |
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JP3445390B2 (ja) | 2003-09-08 |
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