JPH11238929A - Ｙａｇレーザ発振方法およびその装置 - Google Patents
Ｙａｇレーザ発振方法およびその装置Info
- Publication number
- JPH11238929A JPH11238929A JP4063698A JP4063698A JPH11238929A JP H11238929 A JPH11238929 A JP H11238929A JP 4063698 A JP4063698 A JP 4063698A JP 4063698 A JP4063698 A JP 4063698A JP H11238929 A JPH11238929 A JP H11238929A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- yag laser
- oscillation
- pulse
- voltage power
- oscillation parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 １台で冶金性，シールド性に優れ、高反射材
の加工も向上させるようにしたＹＡＧレーザ発振方法お
よびその装置を提供することにある。 【解決手段】 リアミラー５と出力ミラー１１との間に
直列に配置した連続発振部２９，３１，パルス発振部３
３，３５をそれぞれ独立に制御せしめてレーザビームを
出力せしめることを特徴とするＹＡＧレーザ発振方法
と、リアミラー５と出力ミラー１１との間に直列に連続
発振部２９，３１とパルス発振部３３，３５を配置せし
めると共に、この連続発振部，パルス発振部の個々に負
荷を与える高圧電源２３，２５を設け、この各高圧電源
を制御せしめる１つの制御装置２１を設けてなることを
特徴とするＹＡＧレーザ発振装置を提供する。
の加工も向上させるようにしたＹＡＧレーザ発振方法お
よびその装置を提供することにある。 【解決手段】 リアミラー５と出力ミラー１１との間に
直列に配置した連続発振部２９，３１，パルス発振部３
３，３５をそれぞれ独立に制御せしめてレーザビームを
出力せしめることを特徴とするＹＡＧレーザ発振方法
と、リアミラー５と出力ミラー１１との間に直列に連続
発振部２９，３１とパルス発振部３３，３５を配置せし
めると共に、この連続発振部，パルス発振部の個々に負
荷を与える高圧電源２３，２５を設け、この各高圧電源
を制御せしめる１つの制御装置２１を設けてなることを
特徴とするＹＡＧレーザ発振装置を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ＹＡＧレーザ発
振方法およびその装置に関する。
振方法およびその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のＹＡＧレーザ発振装置は、リアミ
ラーと出力ミラーとの間に励起ランプとＹＡＧロッドを
設け、励起ランプを高圧電源で作動せしめることにより
出力ミラーからレーザビームを出力せしめている。そし
て、励起ランプは特性により、パルス発振用，ＣＷ発振
（連続発振）により分かれている。
ラーと出力ミラーとの間に励起ランプとＹＡＧロッドを
設け、励起ランプを高圧電源で作動せしめることにより
出力ミラーからレーザビームを出力せしめている。そし
て、励起ランプは特性により、パルス発振用，ＣＷ発振
（連続発振）により分かれている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、レーザビー
ムを例えばワークに照射して溶接加工を行う溶接加工時
には、冶金的にＣＷ発振の方がよく、高反射材，シール
ド性はパルス発振の方がよいことが知られている。した
がって、ワークの特性により、ＣＷ発振とパルス発振を
使い分ける必要がある。そのためレーザ発振装置が２台
必要である。
ムを例えばワークに照射して溶接加工を行う溶接加工時
には、冶金的にＣＷ発振の方がよく、高反射材，シール
ド性はパルス発振の方がよいことが知られている。した
がって、ワークの特性により、ＣＷ発振とパルス発振を
使い分ける必要がある。そのためレーザ発振装置が２台
必要である。
【０００４】この発明の目的は、１台で冶金性，シール
ド性に優れ、高反射材の加工も向上させるようにしたＹ
ＡＧレーザ発振方法およびその装置を提供することにあ
る。
ド性に優れ、高反射材の加工も向上させるようにしたＹ
ＡＧレーザ発振方法およびその装置を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１によるこの発明のＹＡＧレーザ発振方法は、
リアミラーと出力ミラーとの間に直列に配置した連続発
振部，パルス発振部をそれぞれ独立に制御せしめてレー
ザビームを出力せしめることを特徴とするものである。
に請求項１によるこの発明のＹＡＧレーザ発振方法は、
リアミラーと出力ミラーとの間に直列に配置した連続発
振部，パルス発振部をそれぞれ独立に制御せしめてレー
ザビームを出力せしめることを特徴とするものである。
【０００６】請求項２によるこの発明のＹＡＧレーザ発
振装置は、リアミラーと出力ミラーとの間に直列に連続
発振部とパルス発振部を配置せしめると共に、この連続
発振部，パルス発振部の個々に負荷を与える高圧電源を
設け、この各高圧電源を制御せしめる１つの制御装置を
設けてなることを特徴とするものである。
振装置は、リアミラーと出力ミラーとの間に直列に連続
発振部とパルス発振部を配置せしめると共に、この連続
発振部，パルス発振部の個々に負荷を与える高圧電源を
設け、この各高圧電源を制御せしめる１つの制御装置を
設けてなることを特徴とするものである。
【０００７】したがって、請求項１，２によるこの発明
のＹＡＧレーザ発振方法およびその装置では、連続発振
部とパルス発振部のそれぞれの高圧電源を制御装置によ
り制御せしめることにより、レーザビームの強度を連続
とパルスを加味したものとして得られる。而して、高反
射で冶金的特性に必要なワークにレーザ加工を行うのに
有効となる。
のＹＡＧレーザ発振方法およびその装置では、連続発振
部とパルス発振部のそれぞれの高圧電源を制御装置によ
り制御せしめることにより、レーザビームの強度を連続
とパルスを加味したものとして得られる。而して、高反
射で冶金的特性に必要なワークにレーザ加工を行うのに
有効となる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて詳細に説明する。
面に基づいて詳細に説明する。
【０００９】図１を参照するに、ＹＡＧレーザ発振装置
１は、ベース３を備えており、このベース３上にリアミ
ラー５，第１ポンピングチャンバー７，第２ポンピング
チャンバー９，出力ミラー１１，シャッター１３および
入射ユニット１５が左側から適宜な間隔で順に配置され
ている。この入射ユニット１５には光ファイバー１７の
一端が接続されている。
１は、ベース３を備えており、このベース３上にリアミ
ラー５，第１ポンピングチャンバー７，第２ポンピング
チャンバー９，出力ミラー１１，シャッター１３および
入射ユニット１５が左側から適宜な間隔で順に配置され
ている。この入射ユニット１５には光ファイバー１７の
一端が接続されている。
【００１０】また、電源筐体１９を備えており、この電
源筐体１９には制御装置２１、２つの高圧電源２３，２
５および純水用冷却装置２７が左側から適宜な間隔で順
に配置され収められている。
源筐体１９には制御装置２１、２つの高圧電源２３，２
５および純水用冷却装置２７が左側から適宜な間隔で順
に配置され収められている。
【００１１】前記第１ポンピングチャンバー７内にはパ
ルス用発振部としてのＹＡＧロッド２９と励起ランプ３
１が収められている。また、第２ポンピングチャンバー
９内には連続用発振部（ＣＷ用発振部）としてのＹＡＧ
ロッド３３と励起ランプ３５が収められている。
ルス用発振部としてのＹＡＧロッド２９と励起ランプ３
１が収められている。また、第２ポンピングチャンバー
９内には連続用発振部（ＣＷ用発振部）としてのＹＡＧ
ロッド３３と励起ランプ３５が収められている。
【００１２】前記制御装置２１はシャッター１３，高圧
電源２３，２５および純水用冷却装置２７を制御せしめ
ていると共に、高圧電源２３，２５は第１，第２ポンピ
ングチャンバー７，９に収納されている励起ランプ３
１，３５にそれぞれ独立してパルス，連続電圧を与えて
いる。また、純水用冷却装置２７は第１，第２ポンピン
グチャンバー７，９をそれぞれ冷却せしめている。
電源２３，２５および純水用冷却装置２７を制御せしめ
ていると共に、高圧電源２３，２５は第１，第２ポンピ
ングチャンバー７，９に収納されている励起ランプ３
１，３５にそれぞれ独立してパルス，連続電圧を与えて
いる。また、純水用冷却装置２７は第１，第２ポンピン
グチャンバー７，９をそれぞれ冷却せしめている。
【００１３】上記構成により、制御装置２１で各高圧電
源２３，２５を別個に制御せしめることにより、励起ラ
ンプ３１，３５にパルス，連続の電圧を与えて励起ラン
プ３１，３５を経てＹＡＧロッド２９，３３を励起せし
めることで、リアミラー５と出力ミラー１１との間でレ
ーザビームが発振され、出力ミラー１１からシャッター
１３，入射ユニット１５および光ファイバー１７を経て
レーザビームが出力されることになる。
源２３，２５を別個に制御せしめることにより、励起ラ
ンプ３１，３５にパルス，連続の電圧を与えて励起ラン
プ３１，３５を経てＹＡＧロッド２９，３３を励起せし
めることで、リアミラー５と出力ミラー１１との間でレ
ーザビームが発振され、出力ミラー１１からシャッター
１３，入射ユニット１５および光ファイバー１７を経て
レーザビームが出力されることになる。
【００１４】前記ＹＡＧロッド２９，３３は同軸上で、
しかも直列に配置され、しかも、高圧電源２３，２５を
制御装置２１により制御し、励起ランプ３１，３５をそ
れぞれ同時作動せしめると、レーザ強度は一般的に図２
に示したような状態となる。
しかも直列に配置され、しかも、高圧電源２３，２５を
制御装置２１により制御し、励起ランプ３１，３５をそ
れぞれ同時作動せしめると、レーザ強度は一般的に図２
に示したような状態となる。
【００１５】そこで、ＹＡＧロッド２９，３３への熱負
荷がパルス部，ＣＷ部で大きく異なると極端な発振効率
ηの低下をもたらす為、単パルス発振時にもＣＷ部に熱
負荷をＱ（仮定値）だけかけておく必要がある。また、
逆の場合もパルス部にＱの熱負荷をかけておく。すなわ
ち、ＣＷ部とパルス部は全く別設定の負荷がかけられる
ように制御装置２１で独立して制御される。
荷がパルス部，ＣＷ部で大きく異なると極端な発振効率
ηの低下をもたらす為、単パルス発振時にもＣＷ部に熱
負荷をＱ（仮定値）だけかけておく必要がある。また、
逆の場合もパルス部にＱの熱負荷をかけておく。すなわ
ち、ＣＷ部とパルス部は全く別設定の負荷がかけられる
ように制御装置２１で独立して制御される。
【００１６】上記の点を考慮すると、単パルス部，ＣＷ
部の強度は、図３（Ａ），（Ｂ）に示すように制御され
る。したがって、図３（Ａ），（Ｂ）に示したものに基
いて制御装置２１で高圧電源２３，２５を別々に制御せ
しめることによって、図４に示したような発振も可能と
なり、特に高反射で冶金的特性も必要なワーク（材料）
にレーザ加工を行うのに有効である。
部の強度は、図３（Ａ），（Ｂ）に示すように制御され
る。したがって、図３（Ａ），（Ｂ）に示したものに基
いて制御装置２１で高圧電源２３，２５を別々に制御せ
しめることによって、図４に示したような発振も可能と
なり、特に高反射で冶金的特性も必要なワーク（材料）
にレーザ加工を行うのに有効である。
【００１７】なお、この発明は、前述した発明の実施の
形態に限定されることなく、適宜な変更を行うことによ
り、その他の態様で実施し得るものである。
形態に限定されることなく、適宜な変更を行うことによ
り、その他の態様で実施し得るものである。
【００１８】
【発明の効果】以上のごとき発明の実施の形態より理解
されるように、請求項１，２の発明によれば、連続発振
部とパルス発振部のそれぞれの高圧電源を制御装置によ
り制御せしめることにより、レーザビームの強度が連続
とパルスを加味したものとして得ることができる。而し
て、特に高反射で冶金的特性に必要なワークにレーザ加
工を行うのに有効である。
されるように、請求項１，２の発明によれば、連続発振
部とパルス発振部のそれぞれの高圧電源を制御装置によ
り制御せしめることにより、レーザビームの強度が連続
とパルスを加味したものとして得ることができる。而し
て、特に高反射で冶金的特性に必要なワークにレーザ加
工を行うのに有効である。
【図１】この発明のＹＡＧレーザ発振装置の構成図であ
る。
る。
【図２】パルス発振部とＣＷ発振部を同時に作動したと
きの一般的なレーザ強度を示すグラフである。
きの一般的なレーザ強度を示すグラフである。
【図３】（Ａ），（Ｂ）はＣＷ発振部，パルス発振部に
熱負荷をかけた単パルス（疑似），ＣＷ（疑似）のレー
ザ強度を示すグラフである。
熱負荷をかけた単パルス（疑似），ＣＷ（疑似）のレー
ザ強度を示すグラフである。
【図４】パルス発振部，ＣＷ発振部を同時に作動し、個
々に制御せしめたときのレーザ強度を示すグラフであ
る。
々に制御せしめたときのレーザ強度を示すグラフであ
る。
１ ＹＡＧレーザ発振装置 ３ ベース ５ リアミラー ７ 第１ポンピングチャンバー ９ 第２ポンピングチャンバー １１ 出力ミラー １３ シャッター １５ 入射ユニット １７ 光ファイバー １９ 電源筐体 ２１ 制御装置 ２３，２５ 高圧電源 ２７ 純水用冷却装置 ２９，３３ ＹＡＧロッド ３１，３５ 励起ランプ
Claims (2)
- 【請求項１】 リアミラーと出力ミラーとの間に直列に
配置した連続発振部，パルス発振部をそれぞれ独立に制
御せしめてレーザビームを出力せしめることを特徴とす
るＹＡＧレーザ発振方法。 - 【請求項２】 リアミラーと出力ミラーとの間に直列に
連続発振部とパルス発振部を配置せしめると共に、この
連続発振部，パルス発振部の個々に負荷を与える高圧電
源を設け、この各高圧電源を制御せしめる１つの制御装
置を設けてなることを特徴とするＹＡＧレーザ発振装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4063698A JPH11238929A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | Ｙａｇレーザ発振方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4063698A JPH11238929A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | Ｙａｇレーザ発振方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11238929A true JPH11238929A (ja) | 1999-08-31 |
Family
ID=12586055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4063698A Pending JPH11238929A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | Ｙａｇレーザ発振方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11238929A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006196645A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Institute Of Physical & Chemical Research | パルスレーザーのレーザー発振制御方法およびパルスレーザーシステム |
| JP2006196638A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Institute Of Physical & Chemical Research | パルスレーザーのレーザー発振制御方法およびパルスレーザーシステム |
-
1998
- 1998-02-23 JP JP4063698A patent/JPH11238929A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006196645A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Institute Of Physical & Chemical Research | パルスレーザーのレーザー発振制御方法およびパルスレーザーシステム |
| JP2006196638A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Institute Of Physical & Chemical Research | パルスレーザーのレーザー発振制御方法およびパルスレーザーシステム |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7088749B2 (en) | Green welding laser | |
| JP2002028795A (ja) | レーザ溶接方法及び装置 | |
| KR100884512B1 (ko) | 고-전력 Ｅｒ：ＹＡＧ 레이저 | |
| US20020009110A1 (en) | Semiconductor laser excitation solid state laser apparatus | |
| JPH11238929A (ja) | Ｙａｇレーザ発振方法およびその装置 | |
| GB2297646A (en) | Laser arrangement with selectivley activated pump sources of different powers | |
| EP1026795A2 (en) | Semiconductor laser-excitation solid-state laser oscillating device | |
| JP3681180B2 (ja) | 固体レーザ発振装置及びその励起方法 | |
| JP3445390B2 (ja) | マーキング加工装置 | |
| JP2002076479A (ja) | 固体レーザ発振器および固体レーザの発振方法 | |
| JPH0422182A (ja) | Ｑスイッチパルスレーザ出力装置 | |
| US7173954B2 (en) | Gas laser oscillation device | |
| JPS628952Y2 (ja) | ||
| JP3879953B2 (ja) | レ−ザ発振装置 | |
| JPH08191168A (ja) | Ｑスイッチレ−ザ装置 | |
| JPH08335737A (ja) | 固体レーザ装置 | |
| JP2001007431A (ja) | レーザ発振方法及び装置 | |
| US4904310A (en) | Method of generating a metal vapor in a metal vapor laser | |
| JPS61121377A (ja) | レ−ザ発振器 | |
| JPH10223950A (ja) | 連続発振可能なパルスｙａｇレーザ発振器 | |
| JPH08162702A (ja) | 固体レーザー装置 | |
| JPH05327078A (ja) | 固体レーザ装置 | |
| JPH02119281A (ja) | 固体レーザ装置 | |
| JPS5893295A (ja) | レ−ザ−発振器 | |
| JPH10163550A (ja) | 固体レーザ装置 |