JPH11238929A - Yagレーザ発振方法およびその装置 - Google Patents
Yagレーザ発振方法およびその装置Info
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- JPH11238929A JPH11238929A JP4063698A JP4063698A JPH11238929A JP H11238929 A JPH11238929 A JP H11238929A JP 4063698 A JP4063698 A JP 4063698A JP 4063698 A JP4063698 A JP 4063698A JP H11238929 A JPH11238929 A JP H11238929A
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- Japan
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- yag laser
- oscillation
- pulse
- voltage power
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 1台で冶金性,シールド性に優れ、高反射材
の加工も向上させるようにしたYAGレーザ発振方法お
よびその装置を提供することにある。 【解決手段】 リアミラー5と出力ミラー11との間に
直列に配置した連続発振部29,31,パルス発振部3
3,35をそれぞれ独立に制御せしめてレーザビームを
出力せしめることを特徴とするYAGレーザ発振方法
と、リアミラー5と出力ミラー11との間に直列に連続
発振部29,31とパルス発振部33,35を配置せし
めると共に、この連続発振部,パルス発振部の個々に負
荷を与える高圧電源23,25を設け、この各高圧電源
を制御せしめる1つの制御装置21を設けてなることを
特徴とするYAGレーザ発振装置を提供する。
の加工も向上させるようにしたYAGレーザ発振方法お
よびその装置を提供することにある。 【解決手段】 リアミラー5と出力ミラー11との間に
直列に配置した連続発振部29,31,パルス発振部3
3,35をそれぞれ独立に制御せしめてレーザビームを
出力せしめることを特徴とするYAGレーザ発振方法
と、リアミラー5と出力ミラー11との間に直列に連続
発振部29,31とパルス発振部33,35を配置せし
めると共に、この連続発振部,パルス発振部の個々に負
荷を与える高圧電源23,25を設け、この各高圧電源
を制御せしめる1つの制御装置21を設けてなることを
特徴とするYAGレーザ発振装置を提供する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、YAGレーザ発
振方法およびその装置に関する。
振方法およびその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のYAGレーザ発振装置は、リアミ
ラーと出力ミラーとの間に励起ランプとYAGロッドを
設け、励起ランプを高圧電源で作動せしめることにより
出力ミラーからレーザビームを出力せしめている。そし
て、励起ランプは特性により、パルス発振用,CW発振
(連続発振)により分かれている。
ラーと出力ミラーとの間に励起ランプとYAGロッドを
設け、励起ランプを高圧電源で作動せしめることにより
出力ミラーからレーザビームを出力せしめている。そし
て、励起ランプは特性により、パルス発振用,CW発振
(連続発振)により分かれている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、レーザビー
ムを例えばワークに照射して溶接加工を行う溶接加工時
には、冶金的にCW発振の方がよく、高反射材,シール
ド性はパルス発振の方がよいことが知られている。した
がって、ワークの特性により、CW発振とパルス発振を
使い分ける必要がある。そのためレーザ発振装置が2台
必要である。
ムを例えばワークに照射して溶接加工を行う溶接加工時
には、冶金的にCW発振の方がよく、高反射材,シール
ド性はパルス発振の方がよいことが知られている。した
がって、ワークの特性により、CW発振とパルス発振を
使い分ける必要がある。そのためレーザ発振装置が2台
必要である。
【0004】この発明の目的は、1台で冶金性,シール
ド性に優れ、高反射材の加工も向上させるようにしたY
AGレーザ発振方法およびその装置を提供することにあ
る。
ド性に優れ、高反射材の加工も向上させるようにしたY
AGレーザ発振方法およびその装置を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項1によるこの発明のYAGレーザ発振方法は、
リアミラーと出力ミラーとの間に直列に配置した連続発
振部,パルス発振部をそれぞれ独立に制御せしめてレー
ザビームを出力せしめることを特徴とするものである。
に請求項1によるこの発明のYAGレーザ発振方法は、
リアミラーと出力ミラーとの間に直列に配置した連続発
振部,パルス発振部をそれぞれ独立に制御せしめてレー
ザビームを出力せしめることを特徴とするものである。
【0006】請求項2によるこの発明のYAGレーザ発
振装置は、リアミラーと出力ミラーとの間に直列に連続
発振部とパルス発振部を配置せしめると共に、この連続
発振部,パルス発振部の個々に負荷を与える高圧電源を
設け、この各高圧電源を制御せしめる1つの制御装置を
設けてなることを特徴とするものである。
振装置は、リアミラーと出力ミラーとの間に直列に連続
発振部とパルス発振部を配置せしめると共に、この連続
発振部,パルス発振部の個々に負荷を与える高圧電源を
設け、この各高圧電源を制御せしめる1つの制御装置を
設けてなることを特徴とするものである。
【0007】したがって、請求項1,2によるこの発明
のYAGレーザ発振方法およびその装置では、連続発振
部とパルス発振部のそれぞれの高圧電源を制御装置によ
り制御せしめることにより、レーザビームの強度を連続
とパルスを加味したものとして得られる。而して、高反
射で冶金的特性に必要なワークにレーザ加工を行うのに
有効となる。
のYAGレーザ発振方法およびその装置では、連続発振
部とパルス発振部のそれぞれの高圧電源を制御装置によ
り制御せしめることにより、レーザビームの強度を連続
とパルスを加味したものとして得られる。而して、高反
射で冶金的特性に必要なワークにレーザ加工を行うのに
有効となる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて詳細に説明する。
面に基づいて詳細に説明する。
【0009】図1を参照するに、YAGレーザ発振装置
1は、ベース3を備えており、このベース3上にリアミ
ラー5,第1ポンピングチャンバー7,第2ポンピング
チャンバー9,出力ミラー11,シャッター13および
入射ユニット15が左側から適宜な間隔で順に配置され
ている。この入射ユニット15には光ファイバー17の
一端が接続されている。
1は、ベース3を備えており、このベース3上にリアミ
ラー5,第1ポンピングチャンバー7,第2ポンピング
チャンバー9,出力ミラー11,シャッター13および
入射ユニット15が左側から適宜な間隔で順に配置され
ている。この入射ユニット15には光ファイバー17の
一端が接続されている。
【0010】また、電源筐体19を備えており、この電
源筐体19には制御装置21、2つの高圧電源23,2
5および純水用冷却装置27が左側から適宜な間隔で順
に配置され収められている。
源筐体19には制御装置21、2つの高圧電源23,2
5および純水用冷却装置27が左側から適宜な間隔で順
に配置され収められている。
【0011】前記第1ポンピングチャンバー7内にはパ
ルス用発振部としてのYAGロッド29と励起ランプ3
1が収められている。また、第2ポンピングチャンバー
9内には連続用発振部(CW用発振部)としてのYAG
ロッド33と励起ランプ35が収められている。
ルス用発振部としてのYAGロッド29と励起ランプ3
1が収められている。また、第2ポンピングチャンバー
9内には連続用発振部(CW用発振部)としてのYAG
ロッド33と励起ランプ35が収められている。
【0012】前記制御装置21はシャッター13,高圧
電源23,25および純水用冷却装置27を制御せしめ
ていると共に、高圧電源23,25は第1,第2ポンピ
ングチャンバー7,9に収納されている励起ランプ3
1,35にそれぞれ独立してパルス,連続電圧を与えて
いる。また、純水用冷却装置27は第1,第2ポンピン
グチャンバー7,9をそれぞれ冷却せしめている。
電源23,25および純水用冷却装置27を制御せしめ
ていると共に、高圧電源23,25は第1,第2ポンピ
ングチャンバー7,9に収納されている励起ランプ3
1,35にそれぞれ独立してパルス,連続電圧を与えて
いる。また、純水用冷却装置27は第1,第2ポンピン
グチャンバー7,9をそれぞれ冷却せしめている。
【0013】上記構成により、制御装置21で各高圧電
源23,25を別個に制御せしめることにより、励起ラ
ンプ31,35にパルス,連続の電圧を与えて励起ラン
プ31,35を経てYAGロッド29,33を励起せし
めることで、リアミラー5と出力ミラー11との間でレ
ーザビームが発振され、出力ミラー11からシャッター
13,入射ユニット15および光ファイバー17を経て
レーザビームが出力されることになる。
源23,25を別個に制御せしめることにより、励起ラ
ンプ31,35にパルス,連続の電圧を与えて励起ラン
プ31,35を経てYAGロッド29,33を励起せし
めることで、リアミラー5と出力ミラー11との間でレ
ーザビームが発振され、出力ミラー11からシャッター
13,入射ユニット15および光ファイバー17を経て
レーザビームが出力されることになる。
【0014】前記YAGロッド29,33は同軸上で、
しかも直列に配置され、しかも、高圧電源23,25を
制御装置21により制御し、励起ランプ31,35をそ
れぞれ同時作動せしめると、レーザ強度は一般的に図2
に示したような状態となる。
しかも直列に配置され、しかも、高圧電源23,25を
制御装置21により制御し、励起ランプ31,35をそ
れぞれ同時作動せしめると、レーザ強度は一般的に図2
に示したような状態となる。
【0015】そこで、YAGロッド29,33への熱負
荷がパルス部,CW部で大きく異なると極端な発振効率
ηの低下をもたらす為、単パルス発振時にもCW部に熱
負荷をQ(仮定値)だけかけておく必要がある。また、
逆の場合もパルス部にQの熱負荷をかけておく。すなわ
ち、CW部とパルス部は全く別設定の負荷がかけられる
ように制御装置21で独立して制御される。
荷がパルス部,CW部で大きく異なると極端な発振効率
ηの低下をもたらす為、単パルス発振時にもCW部に熱
負荷をQ(仮定値)だけかけておく必要がある。また、
逆の場合もパルス部にQの熱負荷をかけておく。すなわ
ち、CW部とパルス部は全く別設定の負荷がかけられる
ように制御装置21で独立して制御される。
【0016】上記の点を考慮すると、単パルス部,CW
部の強度は、図3(A),(B)に示すように制御され
る。したがって、図3(A),(B)に示したものに基
いて制御装置21で高圧電源23,25を別々に制御せ
しめることによって、図4に示したような発振も可能と
なり、特に高反射で冶金的特性も必要なワーク(材料)
にレーザ加工を行うのに有効である。
部の強度は、図3(A),(B)に示すように制御され
る。したがって、図3(A),(B)に示したものに基
いて制御装置21で高圧電源23,25を別々に制御せ
しめることによって、図4に示したような発振も可能と
なり、特に高反射で冶金的特性も必要なワーク(材料)
にレーザ加工を行うのに有効である。
【0017】なお、この発明は、前述した発明の実施の
形態に限定されることなく、適宜な変更を行うことによ
り、その他の態様で実施し得るものである。
形態に限定されることなく、適宜な変更を行うことによ
り、その他の態様で実施し得るものである。
【0018】
【発明の効果】以上のごとき発明の実施の形態より理解
されるように、請求項1,2の発明によれば、連続発振
部とパルス発振部のそれぞれの高圧電源を制御装置によ
り制御せしめることにより、レーザビームの強度が連続
とパルスを加味したものとして得ることができる。而し
て、特に高反射で冶金的特性に必要なワークにレーザ加
工を行うのに有効である。
されるように、請求項1,2の発明によれば、連続発振
部とパルス発振部のそれぞれの高圧電源を制御装置によ
り制御せしめることにより、レーザビームの強度が連続
とパルスを加味したものとして得ることができる。而し
て、特に高反射で冶金的特性に必要なワークにレーザ加
工を行うのに有効である。
【図1】この発明のYAGレーザ発振装置の構成図であ
る。
る。
【図2】パルス発振部とCW発振部を同時に作動したと
きの一般的なレーザ強度を示すグラフである。
きの一般的なレーザ強度を示すグラフである。
【図3】(A),(B)はCW発振部,パルス発振部に
熱負荷をかけた単パルス(疑似),CW(疑似)のレー
ザ強度を示すグラフである。
熱負荷をかけた単パルス(疑似),CW(疑似)のレー
ザ強度を示すグラフである。
【図4】パルス発振部,CW発振部を同時に作動し、個
々に制御せしめたときのレーザ強度を示すグラフであ
る。
々に制御せしめたときのレーザ強度を示すグラフであ
る。
1 YAGレーザ発振装置 3 ベース 5 リアミラー 7 第1ポンピングチャンバー 9 第2ポンピングチャンバー 11 出力ミラー 13 シャッター 15 入射ユニット 17 光ファイバー 19 電源筐体 21 制御装置 23,25 高圧電源 27 純水用冷却装置 29,33 YAGロッド 31,35 励起ランプ
Claims (2)
- 【請求項1】 リアミラーと出力ミラーとの間に直列に
配置した連続発振部,パルス発振部をそれぞれ独立に制
御せしめてレーザビームを出力せしめることを特徴とす
るYAGレーザ発振方法。 - 【請求項2】 リアミラーと出力ミラーとの間に直列に
連続発振部とパルス発振部を配置せしめると共に、この
連続発振部,パルス発振部の個々に負荷を与える高圧電
源を設け、この各高圧電源を制御せしめる1つの制御装
置を設けてなることを特徴とするYAGレーザ発振装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4063698A JPH11238929A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | Yagレーザ発振方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4063698A JPH11238929A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | Yagレーザ発振方法およびその装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11238929A true JPH11238929A (ja) | 1999-08-31 |
Family
ID=12586055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4063698A Pending JPH11238929A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | Yagレーザ発振方法およびその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11238929A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006196645A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Institute Of Physical & Chemical Research | パルスレーザーのレーザー発振制御方法およびパルスレーザーシステム |
JP2006196638A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Institute Of Physical & Chemical Research | パルスレーザーのレーザー発振制御方法およびパルスレーザーシステム |
-
1998
- 1998-02-23 JP JP4063698A patent/JPH11238929A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006196645A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Institute Of Physical & Chemical Research | パルスレーザーのレーザー発振制御方法およびパルスレーザーシステム |
JP2006196638A (ja) * | 2005-01-13 | 2006-07-27 | Institute Of Physical & Chemical Research | パルスレーザーのレーザー発振制御方法およびパルスレーザーシステム |
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