JP2006196645A - パルスレーザーのレーザー発振制御方法およびパルスレーザーシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パルスレーザーからの出射光を検出し、上記検出結果に基づいて、上記出射光に含まれるパルス成分と連続成分との比が予め設定された値となるように上記パルスレーザーのレーザー発振を制御し、上記パルスレーザーから上記比でパルス成分と連続成分とを含む出射光を出射するようにしたり、パルスレーザーからの出射光を照射される対象物の状態を検出し、上記検出結果に基づいて、上記出射光に含まれるパルス成分と連続成分との比が予め設定された値となるように上記パルスレーザーのレーザー発振を制御し、上記パルスレーザーから上記比でパルス成分と連続成分とを含む出射光を出射するようにしたものである。
【選択図】 図3
Description
問題点1:外部光学素子による波長分散により出射光のパルス幅が広がる
問題点2:外部光学素子における表面反射により出射光の損失が生じる
問題点3:変調スピードが遅い
問題点4:光学系が拡大化する
問題点5:光学系のアライメントが複雑化する
という問題点1乃至5に示すような問題点があった。
なお、先行技術情報としては、以下の特許文献1乃至3を提示するが、本願発明者の調査によれば先行技術として本発明と直接関連するものは存在しておらず、これら特許文献1乃至3のいずれも本発明とは直接関連するものではなく、本発明を用いることにより特許文献1乃至3に開示された技術が大幅に改善されるものである。
次に、図1乃至2を参照しながら本発明の原理を説明するが、この図1乃至2を参照した本発明の原理の説明においては、単一のパルスレーザーからの出射光が照射される対象物として、当該出射光のパルス成分のみにより反応が生起され、連続成分では反応が生起されない光反応材料を用いるものとする。
即ち、本発明のうち請求項1に記載の発明は、パルスレーザーからの出射光を検出し、上記検出結果に基づいて、上記出射光に含まれるパルス成分と連続成分との比が予め設定された値となるように上記パルスレーザーのレーザー発振を制御し、上記パルスレーザーから上記比でパルス成分と連続成分とを含む出射光を出射するようにしたものである。
図3には、本発明の第1の実施の形態によるパルスレーザーシステムの概念構成説明図が示されている。
以下、上記した超短パルスレーザー110のレーザー共振器を構成する構成部材の位置を制御する際における具体的な制御の手法の一例について説明するが、この説明の理解を容易にするために、上記した超短パルスレーザー110のレーザー共振器が図4に示すような構成を備えているものとする。
Δy≒θx+Δz
次に、ミラーA、ミラーB、ミラーC、ミラーDおよびプリズムなどの、具体的なミラー、プリズムの駆動の手法について説明すると、
平行移動Δx、Δy、Δzについては、例えば、
・ピエゾ素子による駆動
・電動モーター(例えば、リニアモーター、ステッピングモーター、DCサーボモーター、ACモーターなどである。)による駆動
・ボイスコイルによる駆動
・静電アクチュエータによる駆動
などを適宜に選択して用いることができる。
・ピエゾ素子による駆動
・電動モーター(例えば、リニアモーター、ステッピングモーター、DCサーボモーター、ACモーターなどである。)による駆動
・ボイスコイルによる駆動
・静電アクチュエータによる駆動
などを適宜に選択して用いることができる。
次に、図7には、本発明の第2の実施の形態によるパルスレーザーシステムの概念構成説明図が示されている。
以下、上記した超短パルスレーザー110のレーザー共振器を構成する構成部材の外形の形状を制御する際における具体的な制御の手法の一例について説明する。
次に、図9には、本発明の第3の実施の形態によるパルスレーザーシステムの概念構成説明図が示されている。
次に、図10には、本発明の第4の実施の形態によるパルスレーザーシステムの概念構成説明図が示されている。
次に、図11には、本発明の第5の実施の形態によるパルスレーザーシステムの概念構成説明図が示されている。
次に、図12には、本発明の第6の実施の形態によるパルスレーザーシステムの概念構成説明図が示されている。
従って、パルスレーザーシステム600によれば、対象物10への出射光Lの照射に伴う対象物10の状態の変化に応じて出射光Lにおけるパルス成分とCW成分との比を変化させながら、出射光Lを対象物10に照射することができ、出射光Lのパルス成分により対象物10における出射光Lの照射領域に光反応を生起することが可能となって、対象物10に対して光加工や光記録を行うことができるようになる。
次に、図13には、本発明の第7の実施の形態によるパルスレーザーシステムの概念構成説明図が示されている。
次に、図14には、本発明の第8の実施の形態によるパルスレーザーシステムの概念構成説明図が示されている。
次に、図15には、本発明の第9の実施の形態によるパルスレーザーシステムの概念構成説明図が示されている。
次に、図16には、本発明の第10の実施の形態によるパルスレーザーシステムの概念構成説明図が示されている。
なお、上記した実施の形態は、以下の(1)乃至(6)に示すように変形することができるものである。
100、200、300、400、500、600、700、800、900、1000 パルスレーザーシステム
110 超短パルスレーザー
112、212 エンドミラー
114 出射側ミラー
116 レーザー媒質
118 アクチュエーター
120 ビームスプリッター
122 光検出器
124 制御回路
126 入力装置
302 外部共振器
402 反射率可変ミラー
402a 面
502 レーザー
504 ビームスプリッター
622 状態検出器
624 制御回路
Claims (13)
- パルスレーザーからの出射光を検出し、
前記検出結果に基づいて、前記出射光に含まれるパルス成分と連続成分との比が予め設定された値となるように前記パルスレーザーのレーザー発振を制御し、
前記パルスレーザーから前記比でパルス成分と連続成分とを含む出射光を出射する
ことを特徴とするパルスレーザーのレーザー発振制御方法。 - パルスレーザーからの出射光を照射される対象物の状態を検出し、
前記検出結果に基づいて、前記出射光に含まれるパルス成分と連続成分との比が予め設定された値となるように前記パルスレーザーのレーザー発振を制御し、
前記パルスレーザーから前記比でパルス成分と連続成分とを含む出射光を出射する
ことを特徴とするパルスレーザーのレーザー発振制御方法。 - 請求項1または2のいずれか1項に記載のパルスレーザーのレーザー発振制御方法において、
前記パルスレーザーは、超短パルスレーザーまたは短パルスレーザーである
ことを特徴とするパルスレーザーのレーザー発振制御方法。 - 少なくとも一対のミラーを構成部材として有して構成されるレーザー共振器と前記レーザー共振器の前記一対のミラーの間に配置されたレーザー媒質とを有するパルスレーザーと、
前記パルスレーザーからの出射光を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果に基づいて、前記出射光に含まれるパルス成分と連続成分との比が予め設定された値となるように前記パルスレーザーのレーザー発振を制御する制御手段と
を有することを特徴とするパルスレーザーシステム。 - 少なくとも一対のミラーを構成部材として有して構成されるレーザー共振器と前記レーザー共振器の前記一対のミラーの間に配置されたレーザー媒質とを有するパルスレーザーと、
前記パルスレーザーからの出射光を照射される対象物の状態を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果に基づいて、前記出射光に含まれるパルス成分と連続成分との比が予め設定された値となるように前記パルスレーザーのレーザー発振を制御する制御手段と
を有することを特徴とするパルスレーザーシステム。 - 請求項4または5のいずれか1項に記載のパルスレーザーシステムにおいて、
前記制御手段は、前記レーザー共振器の少なくともいずれか一つの構成部材の位置を制御してレーザー発振を制御する
ことを特徴とするパルスレーザーシステム。 - 請求項4または5のいずれか1項に記載のパルスレーザーシステムにおいて、
前記制御手段は、前記レーザー共振器の前記一対のミラーの少なくともいずれか一方の位置を制御してレーザー発振を制御する
ことを特徴とするパルスレーザーシステム。 - 請求項4または5のいずれか1項に記載のパルスレーザーシステムにおいて、
前記制御手段は、前記レーザー共振器の少なくともいずれか一つの構成部材の外形の形状を制御してレーザー発振を制御する
ことを特徴とするパルスレーザーシステム。 - 請求項4または5のいずれか1項に記載のパルスレーザーシステムにおいて、
前記制御手段は、前記レーザー共振器の前記一対のミラーの少なくともいずれか一方の反射面の形状を制御してレーザー発振を制御する
ことを特徴とするパルスレーザーシステム。 - 請求項4または5のいずれか1項に記載のパルスレーザーシステムにおいて、
前記レーザー共振器の外部に前記レーザー共振器からの出射光を増幅する増幅手段を有し、
前記制御手段は、前記増幅手段を制御してレーザー発振を制御する
ことを特徴とするパルスレーザーシステム。 - 請求項4または5のいずれか1項に記載のパルスレーザーシステムにおいて、
前記レーザー共振器の外部に前記レーザー共振器内へ光を入射する入射手段を有し、
前記制御手段は、前記入射手段を制御してレーザー発振を制御する
ことを特徴とするパルスレーザーシステム。 - 請求項4または5のいずれか1項に記載のパルスレーザーシステムにおいて、
前記制御手段は、前記パルスレーザーの環境を変化してレーザー発振を制御する
ことを特徴とするパルスレーザーシステム。 - 請求項4、5、6、7、8、9、10、11または12のいずれか1項に記載のパルスレーザーシステムにおいて、
前記パルスレーザーは、超短パルスレーザーまたは短パルスレーザーである
ことを特徴とするパルスレーザーシステム。
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JP2005006188A JP2006196645A (ja) | 2005-01-13 | 2005-01-13 | パルスレーザーのレーザー発振制御方法およびパルスレーザーシステム |
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Family Applications (1)
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2005
- 2005-01-13 JP JP2005006188A patent/JP2006196645A/ja active Pending
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