JP2000252571A - レーザマーキング装置 - Google Patents

レーザマーキング装置

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JP2000252571A
JP2000252571A JP11055618A JP5561899A JP2000252571A JP 2000252571 A JP2000252571 A JP 2000252571A JP 11055618 A JP11055618 A JP 11055618A JP 5561899 A JP5561899 A JP 5561899A JP 2000252571 A JP2000252571 A JP 2000252571A
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laser
switch
oscillation
waveform
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JP11055618A
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Shuya Matsuyama
修也 松山
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Fuji Electric Co Ltd
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Fuji Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】低い繰返しパルスでピークパワーを抑えたレー
ザパルス発振し浅い加工深さで視認性の良いマーキング
を行うレーザマーキング装置を提供する。 【解決手段】Qスイッチ15をレーザ発振光軸上に有する
レーザ発振器1と、Qスイッチ15を制御しレーザピーク
出力を制御する制御装置2と、レーザ発振器1から出射
されるレーザ光2Gを走査してマーキングを行うマーキン
グ制御手段6と、を備えてなるレーザマーキング装置に
おいて、制御装置2は、レーザ発振出力間隔を制御する
発振周波数fとその発振周波数fの1サイクルにおける
発振時間T2とQスイッチ15の励振波形の波尾が予め定め
られた減衰特性で減衰する減衰時間Tdとを設定する設定
手段21を備え、この発振波形2CをQスイッチ励起周波数
2Dで変調した波形でQスイッチ15を励起する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂などの素材の
ごく表面のみに視認性の良いマーキングを行う、特に、
ICパッケージなどの封止材として使用される樹脂に、
任意のロゴや文字などをマーキングするレーザマーキン
グ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図4において、従来技術のレーザマーキ
ング装置は、Qスイッチ15をレーザ発振光軸上に有する
レーザ発振器1と、このQスイッチ15を制御しレーザピ
ーク出力を制御する制御装置5と、このレーザ発振器1
から出射されるレーザ光2Mを走査してマーキングを行う
マーキング制御手段6と、を備えて構成される。
【0003】図示例では、レーザ発振器1は、YAG(Y
3Al3O12:イットリウム・アルミニウム・ガーネット) に
Nd3+イオンをドープし、Y3+ イオンと置換することによ
り活性イオンとした結晶で構成されるYAGロッド11
と、このYAGロッド11を光励起するランプ12と、この
YAGロッド11の両端面側に配置されレーザ光の共振回
路を構成する90%反射型のミラー13と、100 %反射型の
ミラー14と、YAGロッド11とミラー13、14の光軸上に
配置されるQスイッチ15と、から構成される。
【0004】かかる構成により、レーザ発振器1は、光
軸上に配置されるQスイッチ15が励起されているとき
は、点線で図示されるレーザ光の光往復路の共振回路が
このQスイッチ15によって遮断されるので、ランプ12か
ら得られる光エネルギーはYAGロッド11内に光励起エ
ネルギーとして蓄積される。
【0005】次に、Qスイッチ15を開くと、YAGロッ
ド11の光軸上に点線で図示される共振回路が形成され、
YAGロッド11上の共振光に比例してYAGロッド11内
に蓄積された励起エネルギーが共振光と同一位相、同一
波長の光エネルギーとしてYAGロッド11内に放出さ
れ、この光が更に共振回路の共振光となり、爆発的にY
AGロッド11内のレーザ光は増大し、90%ミラー13から
レーザ光2Mが放出される。即ち、この状態では、レーザ
発振器1はパルス発振を生じ、ピークパワーを放出する
ことができる。
【0006】制御装置5は、レーザ発振の主パルス出力
間隔を制御する発振周波数f(=1/T1)と、その発振周波数
fの1サイクルにおける発振時間T2と、を設定しパルス
出力2Aを出力する設定手段51と、Qスイッチ15を励起す
る正弦波発振器22と、この正弦波発振器22の出力2Dをパ
ルス出力2Aでスイッチングするスイッチ素子53と、この
スイッチ素子53の出力を電力増幅しQスイッチ15を励起
する電力増幅器25と、を備えて構成される。
【0007】かかる構成における制御装置5の動作を図
4を併用して図5を説明する。図5において、横軸に時
間軸を、縦軸に各部に出力波形を図示する。制御装置5
の設定手段21は、レーザ発振の主パルス出力間隔を制御
する発振周波数f(=1/T1) とその発振周波数fの1サイ
クルにおける発振時間T2とを有するパルス出力2Aを出力
する。実施例では24MHz の正弦波出力を有する正弦波発
振器22の出力2Dを上記パルス出力2Aでスイッチングする
ことによりスイッチ素子53の出力2Kを得る。このスイッ
チ素子53の出力2Kを電力増幅器25で電力増幅(2L)してQ
スイッチ15を開閉制御する。
【0008】かかる構成で発生したレーザ出力2Gは、光
軸調整ミラー61、ビームエキスパンダ62、スキャナ63、
fθレンズ64、ガルバノメータ65からなるマーキング制
御手段6を制御して、レーザビーム(レーザ出力)2Gを
被加工物、例えば、ICパッケージなどの封止材として
使用される樹脂などの素材の表面を走査してごく表面に
任意のロゴや文字などをマーキングを行うことができ
る。
【0009】この様な従来技術によるレーザマーキング
装置として、特開平8-141758「ビームスキャン式レーザ
マーキング方法および装置」が開示されている。図6に
おいて、この開示されたレーザマーキング方法の例によ
れば、図6の(B) に図示されるQスイッチ制御信号を発
振周波数20kHz,OFF 発振時間80μsec で制御すると、図
6の(C) に図示される様にレーザ発振出力2Mは主パルス
P1, 副パルスP2が発生する。また、図7において、Qス
イッチを制御する制御信号が低い発振周波数fで OFFに
する発振時間T2が10μsec では、ピークパワーの高い主
パルスP1のみが発生し、図7の(A) に図示される様に加
工深さが50〜100 μm に達する深い気化蒸発部6Aが発生
する。他方、レーザ発振周波数を20kHz で発振時間T2を
50μsecあるいは80μsec に選択すると、レーザ発振出
力2Mは主パルスP1と副パルスP2が発生し、図7の(B),
(C) に図示される様に浅い気化蒸発部6Bと変色層6bある
いは浅い気化蒸発部6Cと変色層6cが発生する。レーザ発
振周波数を 5〜50kHz の範囲で発振時間T2を20〜200 μ
sec の範囲内で、素材のごく表面のみに視認性の良いマ
ーキングができることが開示されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】この様に、従来技術に
よるレーザマーキング装置は、レーザ発振器内に設置さ
れるQスイッチの発振周波数と発振時間T2とを適切に選
択して制御することにより、浅い加工深さで視認性の良
いマーキングを行うことができる。
【0011】一般的にQスイッチ素子を駆動する高周波
電力はON-OFFの2値動作で駆動されるが(実際上は回路
時定数などにより数十μsec のOFF 時間特性を持つてい
るが) 、このON-OFFの2値動作で 0.1〜10kHz 程度の低
い繰り返しパルスで加工を行うと、ピークパワーの高い
レーザパルスが発振され、被加工物の深い部分にまで熱
的影響を及ぼし、樹脂の封止機能を損ねると言う問題が
ある。
【0012】本発明は上記の点にかんがみてなされたも
のであり、その目的は前記した課題を解決して、低い繰
り返しパルスで加工を行っても、ピークパワーを抑えた
レーザパルス発振することができ、浅い加工深さで視認
性の良いマーキングを行うことができるレーザマーキン
グ装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明においては、Qスイッチ式CW励起YAGレー
ザ発振器と、このQスイッチを制御しレーザピーク出力
を制御する制御装置と、このレーザ発振器から出射され
るレーザ光を走査してマーキングを行うマーキング制御
手段と、を備えてなるレーザマーキング装置において、
制御装置は、レーザ発振出力間隔を制御する発振周波数
と、その発振周波数の1サイクルにおける発振時間と、
Qスイッチの励振波形の波尾が予め定められた減衰特性
で減衰する減衰時間と、を設定する設定手段を備え、こ
の発振波形をQスイッチ励起周波数で変調した波形でQ
スイッチを励起するものとする。
【0014】かかる構成により、Qスイッチの励振波形
の波尾が予め定められた減衰特性で減衰し、励振パワー
で約20〜30%に減衰すると、レーザ発振器はレーザ光の
放出を開始し始め、YAGロッド内に蓄積された励起エ
ネルギの一部がレーザ光として放出が始まる。このレー
ザ光放出開始の初期の段階では、レーザ光の共振回路上
の光リークが少ないので、この光リークが始まってから
のQスイッチの励振波形の減衰特性を制御することによ
って、YAGロッド内に蓄積された励起エネルギの一部
を低いパワーレベルのレーザ光として放出することがで
きる。この結果、レーザ発振出力間隔を制御する発振周
波数が低くても、ピークパワーを抑えたレーザパルス発
振をさせることができる。
【0015】また、制御装置は、パルス発振周波数とこ
のパルス発振周波数の1サイクルにおける発振時間とパ
ルス発振波形の波尾が予め定められた減衰特性で降下す
る減衰時間とを設定する設定手段と、波形成形器と、Q
スイッチを励起する正弦波発振器と、乗算器と、電力増
幅器と、を備えて構成することができる。
【0016】かかる構成により、設定手段で設定された
矩形波パルス出力を波形成形器で波尾が予め定められた
減衰時間で減衰する波形に成形し、この成形波形と正弦
波発振器出力とを乗算器で乗算し、電力増幅器で増幅し
て、波尾が減衰特性を有する波形でQスイッチを励起す
ることができる。また、波形成形器は、設定手段で設定
された矩形波パルス出力を遅延させる遅延回路と、セレ
クタ回路と、を備えて構成することができる。
【0017】かかる構成により、設定手段で設定された
矩形波パルス出力と、この矩形波パルス出力を遅延回路
で遅延した出力と、の大きい方の出力をセレクタ回路で
選択することにより、波尾が予め定められた減衰時間で
減衰する波形を形成することができる。
【0018】また、セレクタ回路は、2個の演算増幅器
と、この演算増幅器の出力回路を同一方向の極性でダイ
オードを介して接続して出力とし、この出力を演算増幅
器の負の入力端子に帰還し、演算増幅器の正の入力端子
に設定手段で設定された矩形波パルス出力および減衰時
間が設定される遅延回路出力を接続して構成することが
できる。
【0019】
【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施例としての
レーザマーキング装置を説明する要部構成図、図2は制
御装置の各部信号波形およびレーザパルス波形図、図3
は一実施例としての波形成形器の回路図であり、図4〜
図7に対応する同一部材には同じ符号が付してある。
【0020】図1において、レーザマーキング装置は、
Qスイッチ15をレーザ発振光軸上に有するレーザ発振器
1と、このQスイッチ15を制御しレーザピーク出力を制
御する制御装置2と、このレーザ発振器1から出射され
るレーザ光2Gを走査してマーキングを行うマーキング制
御手段6と、を備えて構成される。また、制御装置2
は、レーザ発振出力の間隔を制御する発振周波数fと,
その発振周波数fの1サイクルにおける発振時間T2と,
Qスイッチ15の励振波形2Fの波尾が予め定められた減衰
特性で減衰する減衰時間Tdと,を設定する設定手段21を
備え、この発振波形2CをQスイッチ15を励起する正弦波
発振器24の出力2Dで変調した波形2Eおよびこの波形を電
力増幅器25で増幅した波形2FでQスイッチ15を励起す
る。
【0021】かかる構成により、制御装置2は設定手段
21の発振周波数f(周期T1=1/f)および発振時間T2で
定まる矩形波パルス出力2Aを出力し、波形成形器23はこ
の矩形波パルス出力2Aを受けて波尾が予め定められた減
衰特性(減衰時間Td)で減衰する出力2Cを出力する。こ
の設定手段21の発振周波数f,発振時間T2, 波尾減衰時
間Tdを設定することにより、低い繰り返しパルスで加工
を行っても、ピークパワーを抑えたレーザパルスを発振
することができ、浅い加工深さで視認性の良いマーキン
グ処理を行うことができる。
【0022】
【実施例】図1、図2を併用して説明する。図1に図示
するレーザマーキング装置は、Qスイッチ15をレーザ発
振光軸上に有するレーザ発振器1と、このQスイッチ15
を制御しレーザピーク出力を制御する制御装置2と、こ
のレーザ発振器1から出射されるレーザ光2Gを走査して
マーキングを行うマーキング制御手段6と、を備えて構
成される。また、制御装置2は、レーザ発振出力の間隔
を制御する発振周波数fと, その発振周波数fの1サイ
クルにおける発振時間T2と, Qスイッチ15の励振波形2F
の波尾が予め定められた減衰特性で減衰する減衰時間Td
と, を設定し矩形波パルス2Aを出力する設定手段21と、
波形成形器23と、Qスイッチを高周波数で励起する正弦
波発振器22(実施例では24MHz の発振周波数)と、乗算
器24と、電力増幅器25と、を備えて構成される。
【0023】かかる構成において、制御装置2の動作を
図1を併用して図2を説明する。図2において、横軸に
時間軸を、縦軸に各部に出力波形およびレーザ光出力を
図示する。制御装置2は、設定手段21の発振周波数f
(周期T1=1/f)および発振時間T2で定まる矩形波パル
ス出力2Aを出力し、この矩形波パルス出力2Aは波形成形
器23で波尾が予め定められた減衰特性(減衰時間Td)で
減衰する波形2Cに成形され、この成形された波形2Cと高
周波正弦波発振器22の出力2Dとを乗算器24で乗算して変
調された変調出力2Eを得る。この変調出力2Eは電力増幅
器25で増幅して高周波電力2F得る。この高周波電力2Fは
Qスイッチ15を励起する。
【0024】このQスイッチ15を励起する高周波電力の
励振波形2Fの波尾が、励振パワーで約20〜30%に減衰す
ると、レーザ発振器1はレーザ光2Gの放出を開始する。
即ち、レーザ発振器1の光軸上に配置されるQスイッチ
15が充分なる電力で励起されているときは、レーザ光2G
の共振回路を形成する光往復路(ミラー13,14 に挟まれ
た点線で図示される光路)がこのQスイッチ15によって
遮断されているが、Qスイッチ15の励振パワーが約20〜
30%の励振パワーに減衰すると、このQスイッチ15によ
って遮断されていた光の一部がレーザ光の共振回路を形
成する光往復路上へと光リークが始まり、YAGロッド
11内に蓄積された励起エネルギの一部がレーザ光2Gとし
て放出される。このレーザ光2Gの放出開始の初期の段階
では、レーザ光2Gの共振回路上の光リークは少ないもの
であるので、この光リークが始まってからのQスイッチ
15の励振波形の減衰特性を制御することによって、YA
Gロッド11内に蓄積された励起エネルギの一部を低いパ
ワーレベルのレーザ光2Gとして放出することができる。
この結果、レーザ光2Gの発振出力の間隔を制御する発振
周波数fが低くても、ピークパワーを抑えたレーザパル
ス発振させることができる。図2の2Gにかかるレーザ光
2Gの発振出力波形を太い実線で図示する。この図示例
は、レーザ発振時間T2が比較的大きいとき(例えば200
μsec )、主パルスP1と副パルスP2が発生し、細線で図
示した高周波電力の励振波形2Fの波尾の減衰時間Tdが短
いときと較べて、ピークパワーを抑えたレーザパルスを
発振させることができる。
【0025】一実施例では、発振周波数f= 5〜50kHz,
発振時間Td=数十から 200μsec,減衰時間Td=数十から
200μsec の範囲で、加工深さが 2〜10μm 程度の良好
な加工を行うことができた。
【0026】次に、図3により波形成形器23を説明す
る。図3の(A) において、波形成形器23は、2Aを入力端
子とし, 2Cを出力端子とする抵抗35とダイオード33から
なる第1の直列回路と、この第1の直列回路に並列に接
続されダイオード33と同一極性に配置される抵抗36とダ
イオード34からなる第2の直列回路と、この第2の直列
回路の抵抗36とダイオード34の共通点に容量37を接続し
て負のバイアス電圧(-Vc) に接続し, 抵抗36と容量37で
遅れ回路を形成して、構成される。
【0027】かかる構成において、入力端子2A-0V 間に
入力された電圧信号は、0Vを基準とし入力端子2Aに正の
パルス電圧を印加したとき、このパルス電圧は第1の直
列回路を介して直ちに出力端子2C-0V 間に出力される。
一方、第2の直列回路は抵抗36と容量37からなる遅れ回
路を介して容量37に充電された電圧が出力されることと
なるが、第1の直列回路の出力電圧より低い間はダイオ
ード34でブロックされて出力されることはない。即ち、
この状態では、第1の直列回路を介して入力電圧が直ち
に出力端子2C-0V 間に出力される。
【0028】次に、入力端子2Aに印加された正のパルス
電圧が0Vになったとき、第1の直列回路は直ちに0Vにな
るが、第2の直列回路は容量37に充電された電圧が出力
され、この電圧が0Vより大であるので、今度はダイオー
ド33がブロック作用をし、第1の直列回路出力0Vをブロ
ックし、容量37に充電された電圧が出力される。そして
容量37に充電された電圧は、抵抗36を介して放電され、
最終的には容量37の充電電圧はVcとなる。このバイアス
電圧Vcを適切に選ぶことにより、この容量37で遅延され
て減衰する減衰特性は比較的直線性のよい特性を得るこ
とができる。即ち、抵抗36と容量37とバイアス電圧-Vc
とが遅延回路を形成し、ダイオード33、34がセレクタ回
路を構成する。
【0029】また、図3の(B) は図3の(A) の特性を改
善したものである。即ち、波形成形器23の負荷が高イン
ピーダンスのときは、負荷回路に流れる電流によるダイ
オード33または34の電圧降下による誤差は無いが、例え
ば、乗算器24の入力インピーダンスが低いときは、周囲
温度の変化により、僅かであるが、Qスイッチ15の励起
電圧の変動要因となる恐れがある。図3の(B) はかかる
特性の変動を改善したものである。
【0030】図3の(B) において、セレクタ回路は、演
算増幅器31、32とダイオード33、34とで構成される。演
算増幅器31、32の正の入力端子(+) には、それぞれ抵抗
35あるいは遅延回路出力である容量37の充電電圧が入力
され、演算増幅器31、32の負の入力端子(-) には、セレ
クタ回路出力2Cが負帰還され、ダイオード33、34はそれ
ぞれ演算増幅器31、32の出力回路に接続されて構成され
る。
【0031】かかる構成により、ダイオード33、34の特
性は、演算増幅器31、32の作用により、理想化ダイオー
ドとして構成でき、図3の(A) の温度による特性の影響
を除去することができる。即ち、抵抗35を介して入力さ
れた入力電圧と、抵抗36と容量37とバイアス電圧-Vc と
からなる遅延回路出力電圧と、はセレクタ回路の出力電
圧2Cとそれぞれ演算増幅器31、32で比較され、セレクタ
回路の出力電圧2Cより低い方(例えば、正のパルス電圧
印加時では遅延回路出力電圧が低い)の回路が、演算増
幅器32の負の入力端子(-) の方が正の入力端子(+) より
も大きいので、この演算増幅器32の出力が負出力とな
り、この演算増幅器32に接続されるダイオード34はブロ
ック状態となる。従って、このときの出力電圧2Cは、演
算増幅器31の入力電圧をフォローアップし、演算増幅器
31の出力電圧は入力電圧と負荷電流によるダイオード33
の順方向電圧降下分を補償する値となる。従って、セレ
クタ回路の出力電圧2Cの出力はこの場合は入力電圧と一
致する。
【0032】また、正のパルス電圧が0Vになったとき
は、抵抗35を介した入力電圧の方が低いので、演算増幅
器31の負の入力端子(-) の方が正の入力端子(+) よりも
大きくなり、この演算増幅器31の出力が負出力となり、
この演算増幅器31に接続されるダイオード33がブロック
状態となる。従って、このときの出力電圧2Cは、演算増
幅器32の入力電圧(容量37の充電電圧)をフォローアッ
プし、演算増幅器32の出力電圧はこの充電電圧と負荷電
流によるダイオード33の順方向電圧降下分とを補償する
値となる。従って、セレクタ回路の出力電圧2Cの出力は
この場合は遅延回路の充電電圧と一致する。そして、抵
抗36と容量37とバイアス電圧-Vc とからなるこの遅延回
路の充電電圧は抵抗36を介して放電され、この放電特性
はバイアス電圧-Vc により、比較的直線性の良いところ
使用することができる。
【0033】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、Qス
イッチを励起する励振波形の波尾に減衰特性をもたせ、
Qスイッチを急峻にオフさせず、徐々にオフさせること
により、レーザ光を緩和発振させ、レーザ光のピークパ
ワーを抑えたレーザパルス出力を得ることができる。こ
の結果、低い繰り返しパルスで加工を行っても、浅い加
工深さで視認性の良いマーキングを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例としてのレーザマーキング装
置の要部構成図
【図2】制御装置の各部信号波形およびレーザパルス波
形図
【図3】一実施例としての波形成形器の回路図
【図4】従来技術によるレーザマーキング装置の要部構
成図
【図5】従来技術による制御装置の各部信号波形および
レーザパルス波形図
【図6】他の従来技術による制御信号とレーザパルス波
形図
【図7】加工特性を説明する説明図
【符号の説明】
1 レーザ発振器 11 YAGロッド 12 ランプ 13,14 ミラー 15 Qスイッチ 2,5 制御装置 21,51 設定手段 22 正弦波発振器 23 波形成形器 24 乗算器 25 電力増幅器 2A 矩形波パルス出力 2C 波形成形出力 2D 正弦波発振器出力 2E 乗算器出力 2F2L 電力増幅器出力 2G,2M レーザ光 2K スイッチング出力 31,32 演算増幅器 33,34 ダイオード 35,36 抵抗 37 容量 53 スイッチ素子 6 マーキング手段 61 光軸調整ミラー 62 ビームエキスパンダ 63 スキャナ 64 fθレンズ 65 ガルバノメータ f 発振周波数 T1 発振周期 T2 発振時間 Td 減衰時間 -Vc バイアス電圧 P1 主パルス P2 副パルス

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】Qスイッチ式CW励起YAGレーザ発振器
    と、このQスイッチを制御しレーザピーク出力を制御す
    る制御装置と、このレーザ発振器から出射されるレーザ
    光を走査してマーキングを行うマーキング制御手段と、
    を備えてなるレーザマーキング装置において、 制御装置は、レーザ発振出力間隔を制御する発振周波数
    と、その発振周波数の1サイクルにおける発振時間と、
    Qスイッチの励振波形の波尾が予め定められた減衰特性
    で減衰する減衰時間と、を設定する設定手段を備え、こ
    の発振波形をQスイッチ励起周波数で変調した波形でQ
    スイッチを励起する、 ことを特徴とするレーザマーキング装置。
  2. 【請求項2】請求項1に記載のレーザマーキング装置に
    おいて、 制御装置は、パルス発振周波数と,このパルス発振周波
    数の1サイクルにおける発振時間と,パルス発振波形の
    波尾が予め定められた減衰特性で降下する減衰時間とを
    設定する設定手段と、波形成形器と、Qスイッチを励起
    する正弦波発振器と、乗算器と、電力増幅器と、を備
    え、 設定手段で設定された矩形波パルス出力を波形成形器で
    波尾が予め定められた減衰時間で減衰する波形に成形
    し、この成形波形と正弦波発振器出力とを乗算器で乗算
    し、電力増幅器で増幅して、Qスイッチを励起する、 ことを特徴とするレーザマーキング装置。
  3. 【請求項3】請求項2に記載のレーザマーキング装置に
    おいて、 波形成形器は、設定手段で設定された矩形波パルス出力
    を遅延させる遅延回路と、セレクタ回路と、を備え、 設定手段で設定された矩形波パルス出力と、この矩形波
    パルス出力を遅延回路で遅延した出力と、の大きい方の
    出力をセレクタ回路で選択する、 ことを特徴とするレーザマーキング装置。
  4. 【請求項4】請求項3に記載のレーザマーキング装置に
    おいて、 セレクタ回路は、2個の演算増幅器と、この演算増幅器
    の出力回路を同一方向の極性でダイオードを介して接続
    して出力とし、この出力を演算増幅器の負の入力端子に
    帰還し、演算増幅器の正の入力端子に設定手段で設定さ
    れた矩形波パルス出力および減衰時間が設定される遅延
    回路出力を接続する、 ことを特徴とするレーザマーキング装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002252402A (ja) * 2001-02-21 2002-09-06 Keyence Corp レーザ発振器およびそのレーザパルス制御方法
JP2002252403A (ja) * 2001-02-21 2002-09-06 Keyence Corp レーザ発振器およびそのレーザパルス制御方法
JP2008142725A (ja) * 2006-12-07 2008-06-26 Nippon Steel Corp レーザ加工装置及び加工方法
KR101191707B1 (ko) 2011-02-23 2012-10-16 주식회사 이피코 펄스 레이저 구동시스템

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