JPH10208976A - チップ状電子部品及びその製造方法 - Google Patents

チップ状電子部品及びその製造方法

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JPH10208976A
JPH10208976A JP967197A JP967197A JPH10208976A JP H10208976 A JPH10208976 A JP H10208976A JP 967197 A JP967197 A JP 967197A JP 967197 A JP967197 A JP 967197A JP H10208976 A JPH10208976 A JP H10208976A
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JP
Japan
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film
electronic component
external electrode
electrode
chip
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Pending
Application number
JP967197A
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English (en)
Inventor
Hiroya Shigemoto
広也 重本
Kazuyuki Shibuya
和行 渋谷
Yukio Ono
幸夫 大野
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Taiyo Yuden Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Yuden Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 外部電極と内部電極の導電性及び熱衝撃等に
対する耐久性に優れ、精度,信頼性に優れたチップ状電
子部品及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 内部電極21を備える略直方体形状の素
体20と、この素体20の内部電極21が露出する第1
の面及びこの第1の面に隣接する第2の面に亘ってそれ
らの所定部位に外部電極30を形成してなるチップ状電
子部品において、前記外部電極30の膜厚が、第2の面
における外部電極30の端部から第1の面方向に増加す
るとともに、第2の面における外部電極端部の表面と第
2の面とがなす角度θが所定の角度以下とする。これに
より、外部電極30と内部電極21との導電性を確保し
つつ素体20にクラック等が発生したり外部電極30が
素体20から剥離することを防止することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、積層コンデンサ等
のチップ状電子部品及びその製造方法に関し、特に外部
電極の形状及びその形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のチップ状電子部品は、セラミック
焼結体等からなる素体と、この素体内部に設けられた内
部電極と導通接続する外部電極を素体表面に形成する。
この外部電極の形成方法としては、銀、ニッケル等を主
成分とする導電性ペーストを塗布して乾燥させ、これを
焼き付けることにより外部電極を形成するディップ法等
の厚膜法や、銀,ニッケル等の金属粒子を素体表面に被
着させる真空蒸着法,スパッタ法等により外部電極を形
成する薄膜法が用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来のチップ状電子部品は、ディップ法等の膜厚法を
用いて製造すると、特に超小型のチップ状電子部品にお
いては膜厚が厚すぎる場合があり、このチップ状電子部
品を回路基板上にセットして半田付けすると、その際の
熱衝撃及び半田による応力等の影響によりクラック等が
発生し、チップ状電子部品の精度、信頼性、耐久性等が
低下するという難点がある。
【0004】また、通常、チップ状電子部品は、一つの
外部電極が複数の面に亘って形成されるものであり、内
部電極と導通接続する面においては両電極の導電性を確
保すべく外部電極の膜厚が所定の厚さ以上であることが
望ましく、一方、これ以外の面においては前述したよう
に半田付け等の際の熱衝撃等を考慮して外部電極の膜厚
は薄く形成することが望ましい。さらに、外部電極の端
部表面と外部電極を形成する素体表面のなす角度が大き
いものであると、外部電極が剥離しやすいものとなり、
かかる剥離によって空気中の水分が浸入して耐久性等が
低下するため、前記角度は小さいものが望ましい。従っ
て、従来の蒸着法,スパッタ法等の薄膜法によって外部
電極を形成すると、かかる薄膜法の特徴により外部電極
の膜厚が同一面において均一に形成されるため、外部電
極と内部電極の導電性を確保しつつ半田付け等の際のク
ラック等の発生の防止及び外部電極の剥離の防止を実現
することが困難であり、これによって製造されたチップ
状電子部品は精度,耐久性,信頼性等が低いものであっ
た。
【0005】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、外部電極と内部電極
の導電性及び熱衝撃等に対する耐久性に優れ、精度,信
頼性に優れたチップ状電子部品及びその製造方法を提供
することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明は、内部電極を備える略直方体形状
の素体と、この素体の内部電極が露出する第1の面及び
この第1の面に隣接する第2の面に亘ってそれらの所定
部位に外部電極を形成してなるチップ状電子部品におい
て、前記外部電極の膜厚が、第2の面における外部電極
の端部から第1の面方向に増加するとともに、第2の面
における外部電極端部の表面と第2の面とがなす角度が
所定の角度以下である、ことをその特徴とする。
【0007】この発明によれば、素体の内部電極が露出
する第1の面における外部電極は、第2の面におけるも
のよりも膜厚が厚く形成されているので、内部電極と外
部電極との高い接合性及び導電性を確保することができ
る。一方で、第2の面における外部電極は、第1の面に
おけるものよりも膜厚が薄く形成されているので、この
チップ状電子部品を回路基板上へ半田付けする際等にお
いても、クラック等の発生を防止することができる。さ
らに、外部電極は、第2の面において端部にいくほど膜
厚が薄く形成されているので、外部電極が素体から剥離
することを防止することができる。
【0008】また、請求項2の発明は、内部電極を備え
る略直方体形状の素体に、内部電極が露出する第1の面
及びこの第1の面に隣接する第2の面に亘ってそれらの
所定部位に薄膜法を用いて成膜材料粒子を照射して外部
電極を被着形成してなるチップ状電子部品の製造方法に
おいて、前記成膜材料粒子の照射に対して第2の面にお
ける前記所定部位の一部が影となるように成膜調整部材
を設けることにより、第2の面の前記所定部位の成膜速
度を調整して外部電極を形成する、ことをその特徴とす
る。
【0009】この発明によれば、前記第2の面において
成膜材料粒子の照射に対して成膜調整部材の影となる部
分においても、成膜材料粒子が成膜調整部材から回り込
んで素体に被着することとなり、第2の面における外部
電極の膜厚を、影とならない部分から影となる部分へと
ゆるやかに薄く形成することができる。従って、この発
明によって製造されたチップ状電子部品は、回路基板上
への半田付けの際等におけるクラック等の発生を防止す
ることができる。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態について図
1及び図2を参照して説明する。図1は本発明の一実施
の形態にかかるチップ状電子部品としての積層電子部品
の斜視図であり、図2は図1におけるA線断面図であ
る。図において、10は積層電子部品であり、内部電極
21と絶縁体層22とを交互に積層したのちに焼成して
なる素体20の側面に一対の外部電極30を形成したも
のである。
【0011】素体20に設けられた内部電極21はパラ
ジウム、銀、パラジウムと銀の合金等を主成分とする導
電性ペーストを焼成したものからなり、また、絶縁体層
22はグリーンシートを焼成したセラミック焼結体から
なる。内部電極21はその端部を素体20の側面20a
に露出し、この露出部を外部電極30と導通接続してい
る。素体20は、この内部電極21と絶縁体層22を積
層してなるものであり、その形状は略直方体形状をな
し、バレル研磨等によりその角が落とされているもので
ある。
【0012】外部電極30は素体20の側面20aから
側面20aに隣接する一対の側面20bに亘り前記内部
電極20の露出部を被覆するように所定の幅をもって形
成されている。外部電極30の膜厚は、図2に示すよう
に、その形成部位によって異なるものであり、素体20
の内部電極21が露出する側面20aにおける膜厚D3
と、側面20aと側面20bが接する縁部における膜厚
D2と、側面20bにおける膜厚D1が、D1<D2<
D3という関係になる。また、側面20bにおける膜厚
D1は、その端部に近づくほど薄く形成されており、側
面20bと端部における外部電極30表面が交差する角
度θは所定の角度以下となっている。ここで、この角度
θを大きくすると外部電極30が素体20から剥離しや
すくなるため、角度θは40度以下であることが望まし
く、さらに望ましくは20度以下である。
【0013】この積層電子部品10によれば、素体20
の内部電極21が露出する側面20aおける外部電極3
0は、側面20bにおけるものよりも膜厚が厚く形成さ
れているので、内部電極21と外部電極30との高い接
合性及び導電性を確保することができる。一方で、側面
20bにおける外部電極30は、側面20aにおけるも
のよりも膜厚が薄く形成されているので、この積層電子
部品10を回路基板上へ半田付け等する際にも、素体2
0にかかる応力が少なくクラック等の発生を防止するこ
とができる。さらに、外部電極30は、側面20bにお
いて端部にいくほど膜厚が薄く形成されているので、外
部電極30が素体20から剥離することを防止すること
ができる。従って、この積層電子部品10は、外部電極
30と内部電極21の導電性及び熱衝撃等に対する耐久
性に優れ、精度,信頼性に優れたものとなる。
【0014】次に、この積層電子部品10の製造方法に
ついて図3乃至図6を参照して説明する。まず、内部電
極21と絶縁体層22とを積層してなる積層チップを焼
成した後にバレル研磨を行って素体20を製造するが、
その製造方法については従来の技術によるものと変わら
ないため、ここでは説明を省略する。
【0015】この素体20に外部電極30を形成するに
は、それぞれ板状体である成膜調整部材41,42,4
3及び保持具44から構成される成膜用治具40を用い
て、真空蒸着法やスパッタ法等の薄膜法により銀、ニッ
ケル、クロム、アルミニウム、銅等の金属粒子たる成膜
材料粒子Mを素体20の表面に被着させることにより行
う。
【0016】この成膜用治具40は、図3乃至図5に示
すように、各部材を厚さ方向に積み重ねて形成されてお
り、保持具44を中心として、その上下に外側に向かっ
て成膜調整部材43,42,41の順番でこれらを積層
している。
【0017】また、この成膜用治具40は、その内部に
素体20を収容することができるように各部材に孔が設
けられている。即ち、保持具44には、その幅及び長さ
が素体20の側面20aの幅及び長さよりも僅かに長い
孔44aが設けられており、この保持具44に隣接する
成膜調整部材43には、前記保持具44の孔44aの幅
及び長さよりも僅かに小さい孔43aが設けられてい
る。さらに、この成膜調整部材43に隣接する成膜調整
部材42には、前記成膜調整部材43の孔43aと対応
する孔42aが設けられており、この孔42aの両側辺
の中央部は側面20aの幅方向に長さαだけ張り出して
開口することにより略十文字形状となっている。この一
対の張り出した部分の幅は、素体20の側面20aの形
成しようとする外部電極30の幅と同じものとなってい
る。さらに、この成膜調整部材42に隣接し成膜用治具
40の最も外側に配置される成膜調整部材41は、その
両端が前記成膜調整部材42の孔42aの張り出し部と
対応し、さらに、この一対の張り出し部に亘って開口し
ているものである。
【0018】これら部材の厚さは、成膜調整部材42,
43及び保持具44を重ね合わせた時の厚さが素体20
の側面20bの高さと同じになるように設定されてい
る。また、成膜調整部材42の厚さβ2は、素体20の
側面20bに形成する外部電極30の高さとほぼ同じに
設定されている。
【0019】この成膜用治具40によれば、成膜調整部
材42,43及び保持具44を重ね合わせて、これらに
設けられた孔に素体20をセットし、さらに成膜調整部
材41を重ね合わせると、素体20の側面のうち外部電
極30を形成しようとする部位のみが露出することにな
る。
【0020】尚、これらの成膜用治具40の材質として
は、一般的には、ステンレス、タングステン、モリブデ
ン等の金属が用いられるが、成膜材料粒子Mの照射時に
高熱となることによって生ずる熱膨張等により精度を維
持するのが困難であることを考慮すると、熱膨張率の小
さいセラミックを用いるのが望ましい。
【0021】この成膜用治具40を用いて素体20に外
部電極30を形成するには、成膜用治具40の孔に素体
20をセットした後に、この成膜用治具40を成膜装置
にセットする。ここで、成膜用治具40は、成膜材料粒
子Mの発射源が成膜調整部材41の孔41aの長手方向
で、素体20の側方斜めに配置されるようにセットす
る。次に、この発射源から成膜用治具40から露出して
いる素体20の側面に前記金属材料たる成膜材料粒子M
を照射して被着させる。最後に、この成膜用治具40を
成膜装置より取り出し、この成膜治具40より外部電極
30が形成された素体20を取り出して積層電子部品1
0が製造される。
【0022】ここで、図6に示すように、成膜材料粒子
Mを成膜用治具40を照射する際の、素体20の側面2
0aとの入射角度ψ,成膜調整部材42の厚さβ2,成
膜調整部材41の厚さβ1,これらの張り出し部の長さ
αは、その入射角度ψによって成膜調整部材41の端部
と素体20の側面20bを直線で結ぶと、この直線が外
部電極30を形成する端部から高さdの位置にぶつかる
ように設定されている。即ち、この交点よりも側面20
bの中心方向においては、光学的には、成膜材料粒子M
の発射源に対して成膜調整部材41の影となるものであ
る。しかしながらこの影の部分にも成膜材料粒子Mが回
り込んで付着し、しかも回り込んで付着する粒子量は直
接付着する量よりも少ないため、第2の面における外部
電極30の膜厚は、この影とならない部分から影の部分
へと薄く形成され、影の部分の端部で最も薄く形成され
こととなる(図2参照)。尚、入射角度ψの値は、素体
20の側面20bと成膜調整部材43とのギャップgと
の関係で、30〜60度が適当である。
【0023】このチップ状電子部品の製造方法によれ
ば、入射角ψ、成膜調整部材42の孔42aの張り出し
部の長さα、成膜調整部材42の厚さβ2及び成膜調整
部材41の厚さβ1を適宜調整することにより、素体2
0の側面20bにおいて影となる高さdを調整して素体
20の側面20bにおける成膜材料粒子の付着速度を調
整し、側面20bに形成される外部電極30の膜厚を側
面20aにおける膜厚よりも薄く、しかも外部電極30
は端部に近づくに従って膜厚が薄く形成することができ
る。
【0024】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によるチッ
プ状電子部品によれば、外部電極と内部電極との接合性
及び導電性が高く、また、回路基板上への半田付けの際
にも熱衝撃等に強くクラック等が発生せず、さらに、外
部電極が素体から剥離しにくいものとなるため、精度,
耐久性,信頼性を向上することができる。
【0025】また、本発明によるチップ状電子部品の製
造方法によれば、外部電極と内部電極との接合性及び導
電性が高く、また、回路基板上への半田付けの際にも熱
衝撃等に強くクラック等が発生せず、さらに、外部電極
が素体から剥離しにくく、従って、精度,耐久性,信頼
性が向上したチップ状電子部品を製造することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】チップ状電子部品を示す斜視図
【図2】図1におけるA線断面図
【図3】チップ状電子部品の製造方法を説明する図
【図4】図3におけるA線断面図
【図5】図3におけるB線断面図
【図6】図4の一部を拡大した図
【符号の説明】
10…積層電子部品、20…素体、30…外部電極、4
0…成膜用治具、41,42,43…成膜調整部材、4
4…保持具

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 内部電極を備える略直方体形状の素体
    と、この素体の内部電極が露出する第1の面及びこの第
    1の面に隣接する第2の面に亘ってそれらの所定部位に
    外部電極を形成してなるチップ状電子部品において、 前記外部電極の膜厚が、第2の面における外部電極の端
    部から第1の面方向に増加するとともに、 第2の面における外部電極端部の表面と第2の面とがな
    す角度が所定の角度以下である、 ことを特徴とするチップ状電子部品。
  2. 【請求項2】 内部電極を備える略直方体形状の素体
    に、内部電極が露出する第1の面及びこの第1の面に隣
    接する第2の面に亘ってそれらの所定部位に薄膜法を用
    いて成膜材料粒子を照射して外部電極を被着形成してな
    るチップ状電子部品の製造方法において、 前記成膜材料粒子の照射に対して第2の面における前記
    所定部位の一部が影となるように成膜調整部材を設ける
    ことにより、第2の面の前記所定部位の成膜速度を調整
    して外部電極を形成する、 ことを特徴とするチップ状電子部品の製造方法。
JP967197A 1997-01-22 1997-01-22 チップ状電子部品及びその製造方法 Pending JPH10208976A (ja)

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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20030121