JPH10158135A - 口腔用組成物 - Google Patents

口腔用組成物

Info

Publication number
JPH10158135A
JPH10158135A JP8334922A JP33492296A JPH10158135A JP H10158135 A JPH10158135 A JP H10158135A JP 8334922 A JP8334922 A JP 8334922A JP 33492296 A JP33492296 A JP 33492296A JP H10158135 A JPH10158135 A JP H10158135A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dextranase
sodium
hydroxy
group
salts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8334922A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiaki Kobayashi
利彰 小林
Kenji Kaneko
憲司 金子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lion Corp
Original Assignee
Lion Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lion Corp filed Critical Lion Corp
Priority to JP8334922A priority Critical patent/JPH10158135A/ja
Publication of JPH10158135A publication Critical patent/JPH10158135A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Medicines That Contain Protein Lipid Enzymes And Other Medicines (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 デキストラナーゼの安定性に優れ、高い歯垢
形成抑制効果が長期間にわたって発揮される口腔用組成
物を得る。 【解決手段】 デキストラナーゼと下記一般式(1)で
示されるヒドロキシ−2−ピリドン誘導体又はその塩と
を併用して配合する。 【化1】 (但し、式中R1、R2はそれぞれ水素原子又は水酸基で
あり、R1、R2の少なくとも1つは水酸基である。ま
た、R3、R4、R5はそれぞれ水素原子又は一価の有機
基である。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、デキストラナーゼ
の安定性に優れ、長期間にわたって高い歯垢形成抑制効
果が発揮される口腔用組成物に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
デキストラナーゼは歯垢形成抑制効果を有することが知
られており、このデキストラナーゼを配合した口腔用組
成物が特許第782154号等に提案されている。
【0003】しかしながら、デキストラナーゼは、酵素
であるためにその取り扱いが難しく、その性質上口腔用
組成物中で不安定になり易いという問題がある。
【0004】そこで、口腔用組成物中でのデキストラナ
ーゼの安定性を維持するため、種々の提案がなされてお
り、デキストラナーゼの安定化のためにアルキロイルザ
ルコシネートを併用した口腔用組成物などが提案されて
いる(特開昭56−123910号公報記載)。また、
デキストラナーゼは水酸化アルミニウムを研磨剤とする
口腔用組成物においては安定である(特公昭62−34
008号公報)が、例えばリン酸カルシウムを使用した
口腔用組成物においては、デキストラナーゼの安定性の
低下を回避することは従来技術では困難であり、より有
効なデキストラナーゼの安定化技術の開発が望まれる。
【0005】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、デキストラナーゼの安定性に優れ、長期間にわたっ
て高い歯垢形成抑制効果が発揮される口腔用組成物を提
供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結
果、デキストラナーゼと下記一般式(1)で示されるヒ
ドロキシ−2−ピリドン誘導体又はその塩とを併用する
ことにより、長期間にわたってデキストラナーゼを極め
て安定に維持することができ、デキストラナーゼ由来の
高い歯垢形成抑制効果が発揮される口腔用組成物が得ら
れること、特に研磨剤としてリン酸カルシウムなどを配
合した場合でもデキストラナーゼを安定に維持すること
が可能であることを知見し、本発明をなすに至った。
【0007】
【化2】 (但し、式中R1、R2はそれぞれ水素原子又は水酸基で
あり、R1、R2の少なくとも1つは水酸基である。ま
た、R3、R4、R5はそれぞれ水素原子又は一価の有機
基である。)
【0008】従って、本発明は、デキストラナーゼと上
記式(1)で示されるヒドロキシ−2−ピリドン誘導体
又はその塩とを併用してなることを特徴とする口腔用組
成物を提供する。
【0009】以下、本発明につき更に詳細に説明する
と、本発明の口腔用組成物は、練歯磨、液状歯磨、液体
歯磨等の歯磨類、洗口剤、塗布剤、マウスウォッシュ、
歯科用パスタ等として調製できるもので、デキストラナ
ーゼとヒドロキシ−2−ピリドン誘導体又はその塩を含
有するものである。
【0010】ここで、デキストラナーゼとしては、公知
のものを使用することができ、また、その配合量は、通
常口腔用組成物1g当たり0.5〜500単位(ここ
で、単位とはデキストランを基質として反応を行った場
合、1分当たりグルコース1μmolに相当する遊離還
元糖を生じる酵素量をいい、この単位を新単位とする
と、旧単位との単位換算は、旧2000u/g=新1
7.49u/gである)、特に1.5〜200単位が好
適である。配合量が0.5単位に満たないと満足な歯垢
形成抑制効果が得られない場合があり、500単位を超
えると歯垢形成抑制効果は殆んど変化がなくなる。
【0011】次に、ヒドロキシ−2−ピリドン誘導体
は、下記一般式(1)で示されるものである。
【0012】
【化3】 (但し、式中R1、R2はそれぞれ水素原子又は水酸基で
あり、R1、R2の少なくとも1つは水酸基である。ま
た、R3、R4、R5はそれぞれ水素原子又は一価の有機
基である。)
【0013】上記式(1)において、R1、R2はそれぞ
れ水素原子又は水酸基であり、R1、R2の少なくとも1
つは水酸基である。
【0014】また、R3、R4、R5はそれぞれ水素原子
又は一価の有機基であり、一価の有機基としては、炭素
数1〜18の酸素原子、硫黄原子、SO基などが介在し
てもよい直鎖状又は環状の炭化水素基を挙げることがで
き、例えばアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、ビシクロアルキル基、シクロアルキル−アルキル
基、アリール基、アラルキル基、アリールアルケニル
基、アリールオキシアルキル基、アリールメルカプトア
ルキル基、ベンズヒドリル基、フェニルスルホニルアル
キル基、フリル基、フリルアルケニル基等を挙げること
ができるが、具体的には炭素数1〜18のメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基等のアルキ
ル基、炭素数2〜18のエチニル基、プロピニル基、ブ
チニル基等のアルケニル基、炭素数3〜18のシクロプ
ロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等のシク
ロアルキル基やシクロアルキル−アルキル基、ベンジル
基が好ましい。
【0015】なお、上記式(1)のヒドロキシ−2−ピ
リドン誘導体は、1−ヒドロキシ−2−ピリドン、ある
いは3−ヒドロキシ−2−ピリドン骨格を有するもので
あるが、各々互変異性体が存在する。1−ヒドロキシ−
2−ピリドン骨格の場合は、2−ヒドロキシピリジン
N−オキシド骨格等が異性体として存在し、3−ヒドロ
キシ−2−ピリドン骨格の場合は、2,3−ジヒドロキ
シピリジン骨格等が存在する。本発明では、上記式
(1)のヒドロキシ−2−ピリドン誘導体として、これ
らの異性体も使用することができる。
【0016】また、上記式(1)のヒドロキシ−2−ピ
リドン誘導体は、適当な塩基を用いた塩として使用する
ことも可能である。塩の形態としては、ナトリウム、カ
リウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、
亜鉛、銅、アルミニウム、ランタン、鉄、錫等の一価又
は多価の金属塩アンモニウム塩、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチ
レンジアミン、ヒドロキシルアミン等のアミン類との
塩、アルギニン、リジン等の塩基性アミノ酸との塩、塩
基アミノ酸を含む塩基性ペプチドや塩基性蛋白質との塩
等が広く利用可能であり、薬学的に許容できる範囲から
適宜選択できる。
【0017】上記式(1)のヒドロキシ−2−ピリドン
誘導体又はその塩の配合量は、組成物全体の0.01〜
10%、特に0.02〜5%が好ましく、0.01%に
満たないと満足な効果が得られない場合があり、10%
を超えると変色が目立つ。
【0018】本発明の口腔用組成物は、その剤型に応
じ、上記必須成分に加えて任意成分としてその他の添加
剤を配合できる。
【0019】歯磨類の場合は、例えば研磨剤、粘稠剤、
粘結剤、界面活性剤、甘味剤、防腐剤、デキストラナー
ゼ以外の各種有効成分、色素、香料等を配合でき、これ
ら成分と水とを混合して製造することができる。ここ
で、研磨剤としては、シリカゲル、沈降シリカ、アルミ
ノシリケート、ジルコノシリケート等のシリカ系研磨
剤、第2リン酸カルシウム2水和物及び無水和物、ピロ
リン酸カルシウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウ
ム、アルミナ、炭酸マグネシウム、第3リン酸マグネシ
ウム、ゼオライト、ケイ酸ジルコニウム、第3リン酸カ
ルシウム、ハイドロキシアパタイト、第4リン酸カルシ
ウム、第8リン酸カルシウム、合成樹脂系研磨剤等が挙
げられるが、特に沈降シリカ、水酸化アルミニウム等が
好適に使用される。
【0020】これら研磨剤の配合量は、組成物全体の2
〜60%、特に8〜45%とすることが好ましい。
【0021】粘稠剤としては、グリセリン、ソルビッ
ト、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、
キシリット、マルチット、ラクチット等、粘結剤として
は、カルボキシメチルセルロースナトリウム、ヒドロキ
シエチルセルロース、カラギーナン、カーボポール、グ
アガム、モンモリロナイト、ゼラチン等、界面活性剤と
しては、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、非
イオン性界面活性剤等を配合し得、具体的にはラウリル
硫酸ナトリウム、α−オレフィンスルホン酸ナトリウ
ム、N−アシルサルコシネート、N−アシルグルタメー
ト、2−アルキル−N−カルボキシメチル−N−ヒドロ
キシエチルイミダゾリニウムベタイン、N−アシルタウ
レート、ショ糖脂肪酸エステル、アルキロールアマイ
ド、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、
プルロニック等、甘味剤としては、サッカリンナトリウ
ム、ステビオサイド、ステビアエキス、パラメトキシシ
ンナミックアルデヒド、ネオヘスペリジルヒドロカルコ
ン、ペリラルチン等、防腐剤としては、パラ安息香酸エ
ステル、安息香酸ナトリウム等、各種有効成分として
は、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化第1
錫、フッ化ストロンチーム、モノフルオロリン酸ナトリ
ウム等のフッ化物、正リン酸のカリウム塩、ナトリウム
塩等の水溶性リン酸化合物、アラントインクロルヒドロ
キシアルミニウム、ヒノキチオール、アスコルビン酸、
塩化リゾチーム、グリチルリチン酸及びその塩類、塩化
ナトリウム、トラネキサム酸、イプシロンアミノカプロ
ン酸、酢酸dl−トコフェロール、α−ビサボロール、
イソプロピルメチルフェノール、クロロヘキシジン塩
類、塩化セチルピリジニウム、アズレン、グリチルレチ
ン酸、銅クロロフィリンナトリウム、グルコン酸銅等の
銅化合物、乳酸アルミニウム、塩化ストロンチウム、硝
酸カリウム、ベルベリン、ヒドロキサム酸及びその誘導
体、トリポリリン酸ナトリウム、ゼオライト、デキスト
ラナーゼ、ムタナーゼ、アミラーゼ、メトキシエチレ
ン、無水マレイン酸共重合体、ポリビニルピロリドン、
エピジヒドロコレステリン、塩化ベンゼトニウム、ジヒ
ドロコレステロール、トリクロロカルバニリド、クエン
酸亜鉛、トウキ軟エキス、オウバクエキス、チョウジ、
ローズマリー、オウゴン、ベニバナ等の抽出物、香料と
しては、l−メントール、カルボン、アネトール、リモ
ネン等のテルペン類又はその誘導体等、着色剤として
は、青色1号、黄色4号、二酸化チタン等が例示され
る。なお、これら成分の配合量は、通常量とすることが
できる。
【0022】本発明の口腔用組成物を収容する容器の材
質は特に制限されず、通常、口腔用組成物に使用される
容器を使用できる。具体的には、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン等の
プラスチック容器等が使用できる。
【0023】
【発明の効果】本発明の口腔用組成物は、デキストラナ
ーゼの安定性に優れ、高い歯垢形成抑制効果が長期間発
揮されるもので、各種剤型に調製して幅広く使用するこ
とができる。
【0024】
【実施例】以下、実験例及び実施例を示して本発明を具
体的に説明するが、本発明は下記実施例に制限されるも
のではない。なお、各例中の%はいずれも重量%であ
り、デキストラナーゼの単位は、特記しない限り新単位
である。
【0025】〔実験例〕下記によりに示す組成の歯磨組
成物を調製し、40℃で1ヶ月保存後、デキストラナー
ゼの活性を下記方法で測定した。結果を表1に示す。 組成: リン酸カルシウム 45% ソルビット 35 ラウリル硫酸ナトリウム 1.5 カラギーナン 1.0 サッカリンナトリウム 0.1 プロピレングリコール 5 香料 1.0 デキストラナーゼ 17.49u/g歯磨 表1に示す成分 表1に示す量 (式(1)のヒドロキシ−2−ピリドン誘導体又はその塩) 水 残部 計 100.0%
【0026】デキストラナーゼの活性測定法:歯磨0.
6gを正確に量り、アルブミン−0.1Mリン酸塩緩衝
液15mlを添加して振盪攪拌を行い、デキストラナー
ゼを抽出する。更に、3000回転で10分遠心分離を
行った上澄み液を試料溶液とする。
【0027】予めデキストラン溶液2mlを試験管に正
確に量り、40℃の恒温水槽に10分間放置する。この
試験管に予め恒温にした試料溶液1mlを正確に加え、
直ちに振り混ぜた後、恒温水槽に放置する。試料を加え
てから正確に10分後、2N硫酸0.5mlを素早く加
え、恒温水槽より取り出し振り混ぜる。フェノールフタ
レイン試液1滴を加えて水酸化ナトリウム試液で中和
し、銅試液5mlを正確に振り混ぜる。
【0028】別に空試験用として、デキストラン溶液2
mlを正確に量り、上記の恒温水槽中に約10分間放置
した後、2N硫酸溶液0.5mlを加え、水酸化ナトリ
ウム試液で中和し、銅試液5mlを正確に加えて振り混
ぜた後、フェノールフタレイン試液1滴を加え、水酸化
ナトリウム試液で中和し、銅試液5mlを正確に加えて
振り混ぜる。
【0029】別にブドウ糖標準溶液1ml、2mlをそ
れぞれ同型の試験管に正確に量り、水4ml、3mlを
それぞれ加えてから更に銅試液5mlを正確に加えて振
り混ぜる。ブドウ糖の空試験用として同型の試験管に水
5mlを取り、銅試液5mlを正確に加えて振り混ぜ
る。
【0030】全ての試験管にガラス玉を乗せ、水浴中で
20分間加熱した後、直ちに流水で冷却後、上記の恒温
水槽に入れ、沈澱が管底に溜まるまで10分以上静置す
る。
【0031】試験管を恒温水槽から取り出し、ヨウ化カ
リウム溶液2mlを静かに加え、直ちに2N硫酸溶液
1.5mlを素早く加えた後、液がかっ色透明になるま
でかき混ぜる。0.005Nチオ硫酸ナトリウム溶液に
て滴定する(指示薬:デンプン試液)。下記式に従っ
て、歯磨1g中のデキストラナーゼの単位を測定した。
結果を表1に示す。
【0032】
【数1】
【0033】表1の結果より、デキストラナーゼと上記
式(1)のヒドロキシ−2−ピリドン誘導体又はその塩
とを併用すると、長期間にわたってデキストラナーゼ残
存率を維持でき、デキストラナーゼ活性が安定に保たれ
ることが確認された。
【0034】
【表1】
【0035】 〔実施例1〕歯磨 水酸化アルミニウム 45% ソルビット 30 ラウリル硫酸ナトリウム 0.8 アルギン酸ナトリウム 0.6 サッカリンナトリウム 0.1 ゼラチン 0.2 ラウリン酸ジエターノルアミド 1.6 プロピレングリコール 5 香料 1.0 デキストラナーゼ 17.49u/g歯磨 ラウロイルサルコシンナトリウム 0.3 ピロクトンオラミン 0.1 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.5 0.1%青色1号 0.8水 残 計 100.0%
【0036】 〔実施例2〕歯磨 炭酸カルシウム 45% ソルビット 25 ラウリル硫酸ナトリウム 1.5 カルボキシメチルセルロース(CMC) 1.2 サッカリンナトリウム 0.1 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.5 プロピレングリコール 5 香料 1.0 デキストラナーゼ 50.0u/g歯磨 ラウロイルサルコシンナトリウム 0.3 ピロクトンオラミン 5.0水 残 計 100.0%
【0037】 〔実施例3〕歯磨 第二リン酸カルシウム 50% カラギーナン 1 ソルビット 25 CMC 1 ラウロイルサルコシンナトリウム 0.3 ラウリル硫酸ナトリウム 1.0 サッカリンナトリウム 0.2 無水ケイ酸 3 香料 1.0 デキストラナーゼ 87.45u/g歯磨 1−ヒドロキシ−2−ピリドン 0.3水 残 計 100.0%
【0038】 〔実施例4〕歯磨 シリカ 17% キサンタンガム 0.5 アルギン酸ナトリウム 0.3 ソルビット 65 ラウロイルサルコシンナトリウム 0.3 ラウリル硫酸ナトリウム 1.0 サッカリンナトリウム 0.2 無水ケイ酸 3 香料 1.0 デキストラナーゼ 1.50u/g歯磨 (旧単位:171.5u/g) 1−ヒドロキシ−2−ピリドン 3.0水 残 計 100.0%
【0039】 〔実施例5〕歯磨 第二リン酸カルシウム 45% プロピレングリコール 4 ソルビット 24 カラギーナン 0.2 CMC 0.8 ラウロイルサルコシンナトリウム 0.3 ラウリル硫酸ナトリウム 1.2 サッカリンナトリウム 0.2 無水ケイ酸 3 香料 1.0 グリチルリチン酸ジカリウム 0.05 トラネキサム酸 0.05 デキストラナーゼ 26.24u/g歯磨 (旧単位:3000u/g) 1−ヒドロキシ−3,4−ジメチル−6−ベンジル −2−ピリドン 1.0水 残 計 100.0%
【0040】 〔実施例6〕歯磨 水酸化アルミニウム 40% CMC 1.3 グリセリン 20 ミリストイルサルコシンナトリウム 0.1 ラウリル硫酸ナトリウム 1.0 サッカリンナトリウム 0.02 無水ケイ酸 3 香料 1.0 デキストラナーゼ 150u/g歯磨 (旧単位:17152.7u/g) 1−ヒドロキシ−3,4−ジメチル−6−ベンジル −2−ピリドン 3.0水 残 計 100.0%
【0041】 〔実施例7〕歯磨 第二リン酸カルシウム 45% プロピレングリコール 3 ソルビット 30 カラギーナン 0.2 CMC 0.8 ラウロイルサルコシンナトリウム 0.3 ラウリル硫酸ナトリウム 1.2 サッカリンナトリウム 0.2 無水ケイ酸 2 香料 1.0 ビタミンE 0.5 グリチルレチン酸 0.05 トラネキサム酸 0.05 オウバクエキス 0.05 デキストラナーゼ 87.45u/g歯磨 (旧単位:10000u/g) 3−ヒドロキシ−2−ピリドン 0.3水 残 計 100.0%
【0042】 〔実施例8〕歯磨 炭酸カルシウム 30% CMC 1.3 ソルビット 20 ミリストイルサルコシンナトリウム 0.1 ラウリル硫酸ナトリウム 1.0 サッカリンナトリウム 0.02 無水ケイ酸 3 香料 1.0 塩化ナトリウム 10 デキストラナーゼ 250u/g歯磨 (旧単位:28587.8u/g) 3−ヒドロキシ−2−ピリドン 3.0水 残 計 100.0%
【0043】 〔実施例9〕歯磨 シリカ 18% ソルビット 50 グリセリン 18 ラウリル硫酸ナトリウム 2 キサンタンガム 0.5 サッカリンナトリウム 0.1 ゼラチン 0.2 ラウリン酸ジエタノールアミド 1 プロピレングリコール 2 香料 1.3 エイコセノール 0.3 ラウロイルサルコシンナトリウム 0.5 フッ化ナトリウム 0.2 0.1%緑色3号 0.8 ラウリン酸デカグリセリル 0.5 デキストラナーゼ 437.30u/g歯磨 (旧単位:50000u/g) ピロクトンオラミン 0.01水 残 計 100.0%
【0044】 〔実施例10〕歯磨 シリカ 13% ソルビット 55 グリセリン 18 ラウリル硫酸ナトリウム 1 キサンタンガム 0.3 サッカリンナトリウム 0.1 ゼラチン 0.2 ラウリン酸ジエタノールアミド 1 プロピレングリコール 2 香料 1.3 グリチルリチン酸ジカリウム 0.05 フッ化ナトリウム 0.2 0.1%青色1号 0.8 ラウリン酸デカグリセリル 0.5 無水硫酸ナトリウム 0.3 デキストラナーゼ 4.37u/g歯磨 (旧単位:500u/g) ピロクトンオラミン 5.0水 残 計 100.0%
【0045】 〔実施例11〕歯磨 シリカ 18% ソルビット 50 グリセリン 18 ラウリル硫酸ナトリウム 1 キサンタンガム 0.3 サッカリンナトリウム 0.1 ゼラチン 0.2 ラウリン酸ジエタノールアミド 1 プロピレングリコール 2 香料 1.3 エイコセノール 0.3 ラウロイルサルコシンナトリウム 0.5 フッ化ナトリウム 0.2 0.1%緑色3号 0.8 ラウリン酸デカグリセリル 0.5 デキストラナーゼ 262.35u/g歯磨 (旧単位:30000u/g) 3−ヒドロキシ−2−ピリドン 0.1水 残 計 100.0%
【0046】 〔実施例12〕歯磨 シリカ 13% ソルビット 55 グリセリン 18 ラウリル硫酸ナトリウム 1 キサンタンガム 0.3 サッカリンナトリウム 0.1 無水硫酸ナトリウム 0.3 ラウリン酸ジエタノールアミド 1 プロピレングリコール 2 ナトリウムピリチオン 0.01 香料 1.3 グリチルリチン酸ジカリウム 0.05 フッ化ナトリウム 0.2 0.1%青色1号 0.8 ラウリン酸デカグリセリル 0.5 デキストラナーゼ 50u/g歯磨 ピロクトンオラミン 0.01水 残 計 100.0%
【0047】 〔実施例13〕洗口剤 変性エタノール 18% ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油 2 グリセリン 10 パルミトイルサルコシンナトリウム 0.1 クエン酸 0.01 クエン酸3ナトリウム 0.3 香料 0.5 ピロクトンオラミン 0.005 フッ化ナトリウム 0.08 デキストラナーゼ 175u/g洗口剤 (旧単位:2001.1u/g) 0.1%緑色201号 0.8水 残 計 100.0%
【0048】 〔実施例14〕マウスウォッシュ 90%エタノール 18% ポリオキシエチレン(80)ソルビタン モノタウレート 2 香料 1.2 ピロクトンオラミン 0.01 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.1 ミリストイルサルコシンナトリウム 0.05 デキストラナーゼ 0.5u/gマウスウォッシュ 0.1%黄色4号 1.0水 残 計 100.0%
【0049】 〔実施例15〕トローチ アラビアガム 6% ブドウ糖 36 パラチノース 36 香料 1.3 モノフルオロリン酸ナトリウム 0.05 ピロクトンオラミン 0.1 デキストラナーゼ 100u/gトローチ水 残 計 100.0%
【0050】 〔実施例16〕歯科用パスタ ヒドロキシエチルセルロース 3% カラギーナン 1 ソルビット 40 ショ糖パルミチン酸モノエステル 2 ラウロイルサルコシンナトリウム 0.3 乳酸アルミニウム 3 0.1%黄色5号 0.8 サッカリンナトリウム 0.1 香料 1.0 ピロクトンオラミン 0.02 デキストラナーゼ 300u/gパスタ水 残 計 100.0%

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 デキストラナーゼと下記一般式(1)で
    示されるヒドロキシ−2−ピリドン誘導体又はその塩と
    を併用してなることを特徴とする口腔用組成物。 【化1】 (但し、式中R1、R2はそれぞれ水素原子又は水酸基で
    あり、R1、R2の少なくとも1つは水酸基である。ま
    た、R3、R4、R5はそれぞれ水素原子又は一価の有機
    基である。)
JP8334922A 1996-11-29 1996-11-29 口腔用組成物 Pending JPH10158135A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8334922A JPH10158135A (ja) 1996-11-29 1996-11-29 口腔用組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8334922A JPH10158135A (ja) 1996-11-29 1996-11-29 口腔用組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10158135A true JPH10158135A (ja) 1998-06-16

Family

ID=18282747

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8334922A Pending JPH10158135A (ja) 1996-11-29 1996-11-29 口腔用組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10158135A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001342122A (ja) * 2000-06-02 2001-12-11 Lion Corp 口腔用組成物

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001342122A (ja) * 2000-06-02 2001-12-11 Lion Corp 口腔用組成物
JP4585086B2 (ja) * 2000-06-02 2010-11-24 ライオン株式会社 口腔用組成物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH09286712A (ja) 口腔用組成物
JP2002020253A (ja) 口腔用組成物
JPH11130642A (ja) 口腔用組成物
JP2006347986A (ja) 口腔用組成物
JPH0788292B2 (ja) 口腔用組成物
JP3189549B2 (ja) 口腔用組成物
JPH10158135A (ja) 口腔用組成物
JP4723067B2 (ja) 口腔用組成物用基剤及び口腔用組成物
JP4761014B2 (ja) 口腔用組成物
JP6960382B2 (ja) 練歯磨組成物
JP7076748B2 (ja) 口腔用組成物
JPH1112144A (ja) 液体口腔用組成物
JPH0377168B2 (ja)
JP2004051535A (ja) 口腔用組成物
JPH10158132A (ja) 口腔用組成物
JP3486930B2 (ja) 口腔用組成物
JP2015218150A (ja) 歯磨組成物
JP3451865B2 (ja) 口腔用組成物
JPWO2018043717A1 (ja) 口腔用組成物
JP7034612B2 (ja) 口腔用組成物
JPH10330230A (ja) 口腔用組成物及び抗菌性の増強方法
JPH09110662A (ja) 口臭除去剤及び口腔用組成物
JP2004059563A (ja) 象牙質知覚過敏用口腔用組成物
JPH0881344A (ja) 口腔用組成物
JPH0720854B2 (ja) 口腔用組成物

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040203